CN115056329B - 一种陶罐上釉系统及方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及陶瓷加工设备的技术领域，具体公开了一种陶罐上釉系统及方法，包括工作间，工作间的内壁竖直固定有第一滑轨，第一滑轨竖直滑动连接有支撑架，支撑架还竖直固定连接有若干挡板，挡板阵列在上釉机构的外围；支撑架上固定连接有第一驱动电机，第一驱动电机的输出端连接有用于对陶罐内壁上釉的上釉机构；上釉机构的转动方向垂直于水平面。本发明的目的在于提供一种陶罐上釉系统及方法，以解决大型陶罐在上釉容易受到外来异物干扰的技术问题。

Description

一种陶罐上釉系统及方法

技术领域

本发明涉及陶瓷加工设备的技术领域，具体公开了一种陶罐上釉系统及方法。

背景技术

大型的陶罐由泥土制作而成，陶罐分段拼接成型后需要对陶罐的内壁进行上釉，传统的上釉方式常采用人工上釉，效率较低，且上釉均匀性较差。

为解决此问题，中国发明专利公开了（公开号：CN112959477A）大型陶罐上釉机构，包括支撑板、移转单元和上釉单元，支撑板与移转单元连接；上釉单元呈碗状，且上釉单元包括若干上釉部，每个上釉部均包括涂覆块和弹性件，涂覆块的一端与支撑板转动连接，涂覆块通过弹性件与移转单元连接，涂覆块内设有空腔，涂覆块的外侧壁设有与空腔连通的孔隙；每块涂覆块上均设有与相邻涂覆块相匹配的卡块和卡槽，卡槽的侧壁上倾斜设有盲孔，盲孔用于放置加固钉。

上述方案虽然能够实现对大型陶罐上釉的目的，但是由于实际上釉生产过程中，陶罐始终暴露在裸露的空间，这就容易导致在上釉搅拌的过程中容易出现外来异物（例如飘荡的尘土）落入陶罐的内部，最终导致上釉后产品表面的不均匀出现凹凸不平的问题，严重影响产品上釉的质量。

发明内容

本发明的目的在于提供一种陶罐上釉系统及方法，以解决大型陶罐在上釉容易受到外来异物干扰的技术问题。

为了达到上述目的，本发明的基础方案为：一种陶罐上釉系统，包括工作间，工作间的内壁竖直固定有第一滑轨，第一滑轨竖直滑动连接有支撑架，支撑架还竖直固定连接有若干挡板，挡板阵列在上釉机构的外围；支撑架上固定连接有第一驱动电机，第一驱动电机的输出端连接有用于对陶罐内壁上釉的上釉机构；第一驱动电机的转动轴心垂直于水平面。

本基础方案的工作原理和有益效果在于：本技术方案利用工作间以提供对陶罐上釉的空间，工作间具有阻隔效果高，便于工作人员在上釉过程中操作管理的技术优势。本技术方案还利用第一滑轨与支撑架之间的滑动连接关系，以达到支撑架高度调节的技术效果。工作人员通过对支撑架的高度位置调节。本技术方案利用挡板能够实现在上釉过程中隔离阻挡的作用，工作人员仅需要将待上釉的陶罐放置在上釉机构的正下方，接着控制支撑架进行高度位置上的下降。支撑架在下降的过程中上釉机构伸入陶罐的内部，同时挡板也随之下降使整个陶罐均落入在挡板围合空间的内部。最后工作人员通过控制第一驱动电机实现对上釉机构驱动转动的作用，实现上釉机构均匀涂抹陶罐内壁的技术效果。

相比于现有技术，本技术方案能够在上釉机构工作的过程中利用挡板实现对陶罐遮盖的作用，有效降低外来异物进入陶罐内部的风险，提高陶罐上釉的质量。

进一步，所述工作间的底部还设有第二滑轨，所述第二滑轨上设有用于承载陶罐的支撑台，所述支撑台底部转动连接有转动轮，所述转动轮配合于所述第二滑轨。

有益效果：本技术方案通过增设第二滑轨以及支撑台之间的相互配合，以便于实现对陶罐在工作间内部的自由移动。相比于人力搬运陶罐，本技术方案能够有效节约人力，提高搬运转送效率。

进一步，所述支撑台顶部开设有定位槽，所述定位槽同所述挡板的底端滑动连接；所述定位槽内竖直滑动连接有定位杆，所述支撑台开有用于容纳所述定位杆自由滑动的通孔，所述定位杆延伸于所述支撑台的下方，所述定位杆顶端与定位槽底部之间固定连接有压簧，所述工作间的底部开设有同所述定位杆配合的定位盲孔，所述定位盲孔底部固定连接有用于控制第一驱动电机电源供电的压力开关。

有益效果：本技术方案利用定位槽与挡板之间的滑动连接关系，以实现对支撑台位置精准定位的技术效果，便于工作人员根据定位槽与挡板之间的配合来确认陶罐位于上釉机构的正下方。同时本技术方案还利用定位杆的滑动作用，实现将定位杆插入工作间的定位盲孔内，进而同时实现对支撑台固定的作用，避免支撑台发生水平移动。本技术方案还通过在定位盲孔的底部增设压力开关，以达到只有在支撑台稳定固定且上釉机构同时放入陶罐的正中心时，第一驱动电机才能够驱动上釉机构进行上釉工作，进而达到精准确认位置关系的技术效果。

进一步，所述支撑台上螺栓固定有用于驱动所述转动轮转动的第二驱动电机。

有益效果：本技术方案通过增设第二驱动电机，以实现对支撑台移动过程中驱动的作用。

进一步，所述上釉机构包括有上釉部，所述上釉部的顶端固定连接有中心轴，所述中心轴竖直转动连接于所述支撑架。

有益效果：本技术方案利用中心轴在支撑架的转动连接，以实现对上釉部转动的传动作用。

进一步，所述第一驱动电机的输出轴同轴固定连接有第一齿轮，所述中心轴同轴固定连接有第二齿轮，所述第一齿轮与第二齿轮相互啮合。

有益效果：本技术方案通过利用第一齿轮与第二齿轮的相互啮合作用，以便于第一驱动电机能够更加稳定高效地对上釉机构进行驱动转动。

进一步，所述挡板为矩形挡板，且相邻挡板之间固定连接。

有益效果：本技术方案利用矩形挡板，以便于能够对陶罐进行完整遮挡的技术效果。

进一步，所述挡板为透明玻璃材质。

有益效果：本技术方案通过采用透明玻璃材质的挡板，以便于工作人员能够从外部直观地观察陶罐的上釉状况。

进一步，所述挡板的最底端低于所述上釉机构的最底端。

有益效果：本技术方案通过限定挡板与上釉机构底端的相对位置关系，以确保挡板能够有效对上釉机构工作的过程起到阻挡遮盖的作用。

进一步， 一种陶罐上釉方法，S1,将待上釉的陶罐放置在支撑台上；

S2，将支撑台沿第二导轨移动至上釉机构的正下方；

S3，控制支撑架高度下降，直至挡板插入定位槽的最低端；

S4，启动第一驱动电机，第一驱动电机带动上釉机构进行上釉。

附图说明

图1为本发明实施例一的一种陶罐上釉系统及方法的结构示意图；

图2为本发明实施例一的一种陶罐上釉系统及方法的正视剖示图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式进一步详细说明：

说明书附图中的附图标记包括：工作间1、第一滑轨2、支撑架3、挡板4、上釉机构5、第一驱动电机6、第一齿轮7、第二齿轮8、中心轴9、第二滑轨10、支撑台11、转动轮12、定位槽13、定位杆14、压簧15、定位盲孔16、压力开关17、陶罐18。

实施例一

基本如附图1与附图2所示：一种陶罐上釉系统，包括工作间1，工作间1的内壁竖直固定有第一滑轨2，第一滑轨2竖直滑动连接有支撑架3，支撑架3还竖直固定连接有四张挡板4，挡板4分别分布在上釉机构5的四个方向的外围。挡板4为透明玻璃材质的矩形挡板4，且相邻挡板4之间固定连接。支撑架3上固定连接有第一驱动电机6，第一驱动电机6的输出轴同轴固定连接有第一齿轮7。支撑架3在相邻第一齿轮7的一侧转动连接有中心轴9。中心轴9的轴心垂直于水平面，中心轴9还同轴键连接固定有第二齿轮8，第一齿轮7与第二齿轮8相互啮合。中心轴9的底端同轴固定连接有用于对陶罐18内壁上釉的上釉机构5。挡板4的最底端低于上釉机构5的最底端。

工作间1的底部还水平螺栓固定有第二滑轨10。第二滑轨10上设有用于承载陶罐18的支撑台11，支撑台11的顶部为平面。支撑台11底部转动连接有转动轮12，转动轮12滑动配合于第二滑轨10。支撑台11上还螺栓固定有第二驱动电机，第二驱动电机用于驱动转动轮12转动。

支撑台11顶部在左右两侧分别开设有定位槽13，定位槽13能够同挡板4竖直自由滑动连接。定位槽13内竖直滑动连接有定位杆14。支撑台11在定位槽13的底部开有用于容纳定位杆14自由滑动的通孔，定位杆14延伸于支撑台11的下方。定位杆14顶端与定位槽13底部之间还固定连接有压簧15，压簧15在自由状态下时，定位杆14的底端埋设在支撑台11的内部。工作间1的底面开设有同定位杆14配合的定位盲孔16，定位盲孔16底部固定连接有用于控制第一驱动电机6电源供电的压力开关17。定位杆14插入定位盲孔16内时，支撑台11位于上釉机构5的正下方。

具体实施方式如下：首先，工作人员将待上釉的陶罐18放置在支撑台11上。

接着工作人员通过控制第二驱动电机，以实现控制支撑台11的水平移动。支撑台11利用转动轮12在第二导轨上移动，直至待上釉的陶罐18移动至上釉机构5的正下方。

接着，工作人员控制支撑架3高度，使支撑架3的高度逐渐降低，在此过程中上釉机构5伸入陶罐18的内部，同时四个挡板4围合的空间也将陶罐18包裹。直至挡板4插入定位凹槽中，挡板4进入定位凹槽后推动定位杆14竖直向下运动，定位杆14的移动对压簧15进行挤压，同时定位杆14的顶端也从支撑台11内伸出并插入工作间1地面的定位盲孔16内。最终定位杆14的底端抵触至压力开关17并触发，压力开关17被触发后向打开第一驱动电机6的电源开关，进而使第一驱动电机6能够通电工作。

最后，操作人员启动第一驱动电机6，第一驱动电机6带动利用第一齿轮7转动带动第二齿轮8以及中心轴9转动，中心轴9的转动带动上釉机构5进行周向转动，进而最终达到上釉的技术效果。

以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

Claims (8)

1.一种陶罐上釉系统，其特征在于：包括工作间，所述工作间的内壁竖直固定有第一滑轨，所述第一滑轨竖直滑动连接有支撑架，所述支撑架还竖直固定连接有若干挡板，所述挡板阵列在上釉机构的外围；所述支撑架上固定连接有第一驱动电机，所述第一驱动电机的输出端连接有用于对陶罐内壁上釉的上釉机构；所述第一驱动电机的转动轴心垂直于水平面；

所述工作间的底部还设有第二滑轨，所述第二滑轨上设有用于承载陶罐的支撑台，所述支撑台底部转动连接有转动轮，所述转动轮配合于所述第二滑轨；

所述支撑台顶部开设有定位槽，所述定位槽同所述挡板的底端滑动连接；所述定位槽内竖直滑动连接有定位杆，所述支撑台开有用于容纳所述定位杆自由滑动的通孔，所述定位杆延伸于所述支撑台的下方，所述定位杆顶端与定位槽底部之间固定连接有压簧，所述工作间的底部开设有同所述定位杆配合的定位盲孔，所述定位盲孔底部固定连接有用于控制第一驱动电机电源供电的压力开关。

2.根据权利要求1所述的一种陶罐上釉系统，其特征在于：所述支撑台上螺栓固定有用于驱动所述转动轮转动的第二驱动电机。

3.根据权利要求1所述的一种陶罐上釉系统，其特征在于：所述上釉机构包括有上釉部，所述上釉部的顶端固定连接有中心轴，所述中心轴竖直转动连接于所述支撑架。

4.根据权利要求3所述的一种陶罐上釉系统，其特征在于：所述第一驱动电机的输出轴同轴固定连接有第一齿轮，所述中心轴同轴固定连接有第二齿轮，所述第一齿轮与第二齿轮相互啮合。

5.根据权利要求1所述的一种陶罐上釉系统，其特征在于：所述挡板为矩形挡板，且相邻挡板之间固定连接。

6.根据权利要求5所述的一种陶罐上釉系统，其特征在于：所述挡板为透明玻璃材质。

7.根据权利要求1所述的一种陶罐上釉系统，其特征在于：所述挡板的最底端低于所述上釉机构的最底端。

8.一种陶罐上釉方法，采用如权利要求1所述的系统，其特征在于：

S1，将待上釉的陶罐放置在支撑台上；

S2，将支撑台沿第二导轨移动至上釉机构的正下方；

S3，控制支撑架高度下降，直至挡板插入定位槽的最低端；

S4，启动第一驱动电机，第一驱动电机带动上釉机构进行上釉。