CN115044893A - 一种铜箔加工用防氧化处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及铜箔加工领域，为了解决现有的防氧化处理装置对铜箔的防氧化效果不均匀的问题，公开了一种铜箔加工用防氧化处理装置，包括壳体，壳体的内部设置有限位辊；壳体的底部设置有钝化液；分隔板。本发明使用时搅动部件对钝化液进行搅动，保证钝化液浓度均匀，对铜箔的防氧化处理效果均匀，同时高浓度钝化液进料管和进水管向预混合壳体内注入高浓度钝化液和水，转轴带动活动板水平转动，当上料过渡孔的开口与高浓度钝化液进料管和进水管的开口对齐时，高浓度钝化液进料管和进水管内的高浓度钝化液和水注入预混合壳体内进行预混合，保证在使用过程，壳体内的钝化液浓度始终保持在所需范围内，保证防氧化处理的效果均匀。

Description

一种铜箔加工用防氧化处理装置
技术领域
本发明涉及铜箔加工技术领域，尤其涉及一种铜箔加工用防氧化处理装置。
背景技术
铜箔是一种阴质性电解材料，沉淀于电路板基底层上的一层薄的、连续的金属箔，它作为PCB的导电体。它容易粘合于绝缘层，接受印刷保护层，腐蚀后形成电路图样。
铜箔在加工时需要经过防氧化的处理，以形成膜层，避免铜箔直接与空气接触，现有的防氧化处理装置对铜箔的防氧化效果不均匀的问题。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种铜箔加工用防氧化处理装置。
为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：
一种铜箔加工用防氧化处理装置，包括壳体，壳体的内部设置有限位辊，用于对铜箔进行限位；壳体的底部设置有钝化液，用于对经过壳体底部的铜箔进行表面钝化处理；分隔板，用于对壳体的内部空间进行分隔，还包括搅动机构，用于对壳体底部的钝化液进行搅动；所述搅动机构包括活动设置的转轴，转轴延伸至壳体内的一端安装有搅动部件；用于驱动转轴转动的驱动部件；高浓度钝化液进料管和进水管，用于向壳体内高浓度钝化液和水，保证壳体内钝化液的浓度；还包括预混合壳体，用于对注入壳体内的高浓度钝化液和水进行预先混合；转轴的侧面安装有活动板，活动板的侧面间隔开设有上料过渡孔，当上料过渡孔的开口与高浓度钝化液进料管和进水管的开口对齐时，高浓度钝化液进料管和进水管内的高浓度钝化液和水注入预混合壳体内；延伸管，用于将预混合壳体内混合后的钝化液导入壳体内。
优选的，还包括阻流机构，用于对预混合壳体内的钝化液进行分层、阻流；所述阻流机构包括安装在预混合壳体内部的阻流隔板，阻流隔板上开设有穿孔；穿孔的开口交错分布在相邻两个阻流隔板的圆周处和圆心处。
优选的，所述转轴的侧面安装有预搅动部件，用于对相邻两个阻流隔板之间的高浓度钝化液和水进行预先搅动；延伸管位于预混合壳体内的开口位置位于阻流隔板的顶部。
优选的，还包括活动机构，用于对上料过渡孔的内部进行搅动；所述活动机构包括安装在阻流隔板侧面的第一磁性部件；还包括通过安装机构活动安装在上料过渡孔内的升降杆，升降杆的侧面安装有侧翼，升降杆靠近阻流隔板的一端安装有第二磁性部件。
优选的，所述安装机构包括开设在上料过渡孔侧面的安装槽，安装槽的内部通过安装弹簧安装有安装部件；安装部件延伸至上料过渡孔内的一端与升降杆的侧面连接。
优选的，还包括烘干机构，用于对防氧化处理后的铜箔进行烘干；所述烘干机构包括烘干壳体，烘干壳体内注有惰性气体；加热部件，用于对经过烘干壳体内的铜箔进行烘干。
优选的，还包括吸尘机构，用于对进入壳体内的铜箔进行吸尘处理。
优选的，所述吸尘机构包括中空的吸尘壳体，吸尘壳体的侧面开设有空腔；吸尘壳体的内部开设有吸尘孔；吸尘泵，用于对空腔内抽气。
优选的，还包括驱动辊，用于驱动铜箔在壳体和烘干壳体内匀速移动。
本发明的有益效果为：
使用时分隔板对壳体的内部进行分隔，壳体的底部设置有钝化液，分隔板减少钝化液与空气的接触，钝化液对经过壳体底部的铜箔进行钝化防氧化处理，同时驱动部件驱动转轴转动，搅动部件对钝化液进行搅动，保证钝化液浓度均匀，对铜箔的防氧化处理效果均匀，同时高浓度钝化液进料管和进水管向预混合壳体内注入高浓度钝化液和水，转轴带动活动板水平转动，当上料过渡孔的开口与高浓度钝化液进料管和进水管的开口对齐时，高浓度钝化液进料管和进水管内的高浓度钝化液和水注入预混合壳体内进行预混合，且随着高浓度钝化液进料管和进水管向预混合壳体内注入高浓度钝化液和水，预混合壳体内预混合后的钝化液经延伸管注入壳体内，保证在使用过程，壳体内的钝化液浓度始终保持在所需范围内，保证防氧化处理的效果均匀。
附图说明
图1为本发明实施例提出的一种铜箔加工用防氧化处理装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提出的一种铜箔加工用防氧化处理装置的预混合壳体和阻流机构结构示意图；
图3为本发明实施例提出的一种铜箔加工用防氧化处理装置的图2中A处结构示意图。
图中：1-壳体、2-吸尘机构、21-吸尘壳体、22-吸尘孔、23-吸尘泵、3-分隔板、4-搅动机构、41-搅动部件、42-转轴、43-驱动部件、5-预混合壳体、6-高浓度钝化液进料管、7-进水管、8-烘干机构、81-加热部件、82-烘干壳体、9-阻流机构、91-穿孔、92-阻流隔板、10-活动板、12-活动机构、121-第一磁性部件、122-第二磁性部件、123-升降杆、124-侧翼、13-安装机构、131-安装槽、132-安装弹簧、133-安装部件、14-上料过渡孔、15-延伸管、16-预搅动部件、17-驱动辊。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1至图3，一种铜箔加工用防氧化处理装置，包括壳体1，壳体1的内部设置有限位辊，用于对铜箔进行限位；壳体1的底部设置有钝化液，用于对经过壳体1底部的铜箔进行表面钝化处理；分隔板3，用于对壳体1的内部空间进行分隔，还包括搅动机构4，用于对壳体1底部的钝化液进行搅动；所述搅动机构4包括活动设置的转轴42，转轴42延伸至壳体1内的一端安装有搅动部件41；用于驱动转轴42转动的驱动部件43；高浓度钝化液进料管6和进水管7，用于向壳体1内高浓度钝化液和水，保证壳体1内钝化液的浓度；还包括预混合壳体5，用于对注入壳体1内的高浓度钝化液和水进行预先混合；转轴42的侧面安装有活动板10，活动板10的侧面间隔开设有上料过渡孔14，当上料过渡孔14的开口与高浓度钝化液进料管6和进水管7的开口对齐时，高浓度钝化液进料管6和进水管7内的高浓度钝化液和水注入预混合壳体5内；延伸管15，用于将预混合壳体5内混合后的钝化液导入壳体1内。
使用时分隔板3对壳体1的内部进行分隔，壳体1的底部设置有钝化液，分隔板3减少钝化液与空气的接触，钝化液对经过壳体1底部的铜箔进行钝化防氧化处理，同时驱动部件43驱动转轴42转动，搅动部件41对钝化液进行搅动，保证钝化液浓度均匀，对铜箔的防氧化处理效果均匀，同时高浓度钝化液进料管6和进水管7向预混合壳体5内注入高浓度钝化液和水，转轴42带动活动板10水平转动，当上料过渡孔14的开口与高浓度钝化液进料管6和进水管7的开口对齐时，高浓度钝化液进料管6和进水管7内的高浓度钝化液和水注入预混合壳体5内进行预混合，且随着高浓度钝化液进料管6和进水管7向预混合壳体5内注入高浓度钝化液和水，预混合壳体5内预混合后的钝化液经延伸管15注入壳体1内，保证在使用过程，壳体1内的钝化液浓度始终保持在所需范围内，保证防氧化处理的效果均匀。
作为本发明的一种优选实施例，还包括阻流机构9，用于对预混合壳体5内的钝化液进行分层、阻流；所述阻流机构9包括安装在预混合壳体5内部的阻流隔板92，阻流隔板92上开设有穿孔91；穿孔91的开口交错分布在相邻两个阻流隔板92的圆周处和圆心处。
作为本发明的一种优选实施例，转轴42的侧面安装有预搅动部件16，用于对相邻两个阻流隔板92之间的高浓度钝化液和水进行预先搅动；延伸管15位于预混合壳体5内的开口位置位于阻流隔板92的顶部，阻流隔板92对预混合壳体5内的钝化液进行分层，钝化液在穿孔91流动至预混合壳体5顶部的过程中，转轴42带动预搅动部件16对钝化液进行搅动，使得流动至预混合壳体5顶部并经延伸管15注入壳体1内的钝化液已有效预混合，有效避免高浓度钝化液和水直接经延伸管15注入壳体1内的情况。
作为本发明的一种优选实施例，还包括活动机构12，用于对上料过渡孔14的内部进行搅动；所述活动机构12包括安装在阻流隔板92侧面的第一磁性部件121；还包括通过安装机构13活动安装在上料过渡孔14内的升降杆123，升降杆123的侧面安装有侧翼124，升降杆123靠近阻流隔板92的一端安装有第二磁性部件122，在升降杆123随活动板10水平转动时，第二磁性部件122间隔靠近和远离第一磁性部件121，升降杆123和侧翼124在第二磁性部件122与第一磁性部件121之间的磁吸作用下往复升降活动，对上料过渡孔14开口处的钝化液进行搅动，保证上料过渡孔14内残留的高浓度钝化液和水能够有效参与预混合。
作为本发明的一种优选实施例，安装机构13包括开设在上料过渡孔14侧面的安装槽131，安装槽131的内部通过安装弹簧132安装有安装部件133；安装部件133延伸至上料过渡孔14内的一端与升降杆123的侧面连接。
作为本发明的一种优选实施例，还包括烘干机构8，用于对防氧化处理后的铜箔进行烘干；所述烘干机构8包括烘干壳体82，烘干壳体82内注有惰性气体；加热部件81，用于对经过烘干壳体82内的铜箔进行烘干，加热部件81对铜箔表面的钝化液进行加热烘干处理，烘干壳体82内的惰性气体避免烘干过程中铜箔与氧气接触。
作为本发明的一种优选实施例，加热部件81为加热电阻板。
作为本发明的一种优选实施例，还包括吸尘机构2，用于对进入壳体1内的铜箔进行吸尘处理。
作为本发明的一种优选实施例，吸尘机构2包括中空的吸尘壳体21，吸尘壳体21的侧面开设有空腔；吸尘壳体21的内部开设有吸尘孔22；吸尘泵23，用于对空腔内抽气，待防氧化处理的铜箔经吸尘壳体21的内部上料至壳体1内，同时吸尘泵23对空腔内进行抽气，通过吸尘孔22对铜箔的两侧进行吸尘。
作为本发明的一种优选实施例，还包括驱动辊17，用于驱动铜箔在壳体1和烘干壳体82内匀速移动。
使用时分隔板3对壳体1的内部进行分隔，壳体1的底部设置有钝化液，分隔板3减少钝化液与空气的接触，钝化液对经过壳体1底部的铜箔进行钝化防氧化处理，同时驱动部件43驱动转轴42转动，搅动部件41对钝化液进行搅动，保证钝化液浓度均匀，对铜箔的防氧化处理效果均匀，同时高浓度钝化液进料管6和进水管7向预混合壳体5内注入高浓度钝化液和水，转轴42带动活动板10水平转动，当上料过渡孔14的开口与高浓度钝化液进料管6和进水管7的开口对齐时，高浓度钝化液进料管6和进水管7内的高浓度钝化液和水注入预混合壳体5内进行预混合，且随着高浓度钝化液进料管6和进水管7向预混合壳体5内注入高浓度钝化液和水，预混合壳体5内预混合后的钝化液经延伸管15注入壳体1内，保证在使用过程，壳体1内的钝化液浓度始终保持在所需范围内，保证防氧化处理的效果均匀；阻流隔板92对预混合壳体5内的钝化液进行分层，钝化液在穿孔91流动至预混合壳体5顶部的过程中，转轴42带动预搅动部件16对钝化液进行搅动，使得流动至预混合壳体5顶部并经延伸管15注入壳体1内的钝化液已有效预混合，有效避免高浓度钝化液和水直接经延伸管15注入壳体1内的情况；在升降杆123随活动板10水平转动时，第二磁性部件122间隔靠近和远离第一磁性部件121，升降杆123和侧翼124在第二磁性部件122与第一磁性部件121之间的磁吸作用下往复升降活动，对上料过渡孔14开口处的钝化液进行搅动，保证上料过渡孔14内残留的高浓度钝化液和水能够有效参与预混合；加热部件81对铜箔表面的钝化液进行加热烘干处理，烘干壳体82内的惰性气体避免烘干过程中铜箔与氧气接触；待防氧化处理的铜箔经吸尘壳体21的内部上料至壳体1内，同时吸尘泵23对空腔内进行抽气，通过吸尘孔22对铜箔的两侧进行吸尘。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种铜箔加工用防氧化处理装置，包括壳体，壳体的内部设置有限位辊，用于对铜箔进行限位；壳体的底部设置有钝化液，用于对经过壳体底部的铜箔进行表面钝化处理；分隔板，用于对壳体的内部空间进行分隔，其特征在于，还包括搅动机构，用于对壳体底部的钝化液进行搅动；
所述搅动机构包括活动设置的转轴，转轴延伸至壳体内的一端安装有搅动部件；用于驱动转轴转动的驱动部件；
高浓度钝化液进料管和进水管，用于向壳体内高浓度钝化液和水，保证壳体内钝化液的浓度；
还包括预混合壳体，用于对注入壳体内的高浓度钝化液和水进行预先混合；
转轴的侧面安装有活动板，活动板的侧面间隔开设有上料过渡孔，当上料过渡孔的开口与高浓度钝化液进料管和进水管的开口对齐时，高浓度钝化液进料管和进水管内的高浓度钝化液和水注入预混合壳体内；
延伸管，用于将预混合壳体内混合后的钝化液导入壳体内。
2.根据权利要求1所述的一种铜箔加工用防氧化处理装置，其特征在于，还包括阻流机构，用于对预混合壳体内的钝化液进行分层、阻流；
所述阻流机构包括安装在预混合壳体内部的阻流隔板，阻流隔板上开设有穿孔；
穿孔的开口交错分布在相邻两个阻流隔板的圆周处和圆心处。
3.根据权利要求2所述的一种铜箔加工用防氧化处理装置，其特征在于，所述转轴的侧面安装有预搅动部件，用于对相邻两个阻流隔板之间的高浓度钝化液和水进行预先搅动；
延伸管位于预混合壳体内的开口位置位于阻流隔板的顶部。
4.根据权利要求3所述的一种铜箔加工用防氧化处理装置，其特征在于，还包括活动机构，用于对上料过渡孔的内部进行搅动；
所述活动机构包括安装在阻流隔板侧面的第一磁性部件；
还包括通过安装机构活动安装在上料过渡孔内的升降杆，升降杆的侧面安装有侧翼，升降杆靠近阻流隔板的一端安装有第二磁性部件。
5.根据权利要求4所述的一种铜箔加工用防氧化处理装置，其特征在于，所述安装机构包括开设在上料过渡孔侧面的安装槽，安装槽的内部通过安装弹簧安装有安装部件；
安装部件延伸至上料过渡孔内的一端与升降杆的侧面连接。
6.根据权利要求1所述的一种铜箔加工用防氧化处理装置，其特征在于，还包括烘干机构，用于对防氧化处理后的铜箔进行烘干；
所述烘干机构包括烘干壳体，烘干壳体内注有惰性气体；
加热部件，用于对经过烘干壳体内的铜箔进行烘干。
7.根据权利要求1所述的一种铜箔加工用防氧化处理装置，其特征在于，还包括吸尘机构，用于对进入壳体内的铜箔进行吸尘处理。
8.根据权利要求7所述的一种铜箔加工用防氧化处理装置，其特征在于，所述吸尘机构包括中空的吸尘壳体，吸尘壳体的侧面开设有空腔；
吸尘壳体的内部开设有吸尘孔；
吸尘泵，用于对空腔内抽气。
9.根据权利要求8所述的一种铜箔加工用防氧化处理装置，其特征在于，还包括驱动辊，用于驱动铜箔在壳体和烘干壳体内匀速移动。
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