CN114995078A - 电子照相图像形成设备和处理盒 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及电子照相图像形成设备和处理盒。提供一种电子照相图像形成设备，其中抑制了在电子照相感光构件中形成的条纹状条带。电子照相图像形成设备包括具有保护层的电子照相感光构件和用于供给显影剂的显影剂承载构件。保护层包含含有芳香环和酯基的固化物，通过衰减全反射傅里叶变换红外光谱法，当基于芳香环的C＝C伸缩振动的峰面积由S1表示时，基于酯基的C＝O伸缩振动的峰面积由S2表示时，面积比S1/S2为0.10～0.27，并且显影剂承载体的转速D1与电子照相感光构件的转速D2的转速比D1/D2为0.80～1.20。

Description

电子照相图像形成设备和处理盒
技术领域
本发明涉及电子照相图像形成设备和处理盒。
背景技术
迄今为止，为了改进图像品质和耐久性，已经对要安装在电子照相图像形成设备(以下有时称为“电子照相设备”)上的电子照相感光构件进行了广泛的研究。其一个例子为在电子照相感光构件(以下有时简称为“感光构件”)的表面上使用具有丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基的自由基聚合性单体的聚合物以改进耐磨耗性(机械耐久性)的研究。然而，当使用自由基聚合性单体的聚合物时，虽然耐磨耗性提高，但可能会出现条纹状图像缺陷。具体地，在图像中在与感光构件的长轴方向相同的方向上出现大量条纹状图像缺陷。
在美国专利申请公开No.2015/185642中，描述了一种通过形成保护层来改进感光构件的耐磨耗性的技术，该保护层是通过聚合具有丙烯酰氧基也具有三芳基胺结构的单体和具有丙烯酰氧基但不具有三芳基胺结构的单体而获得的。此外，在日本专利申请特开No.2020-3072中，关于所谓的条带，即在与感光构件的长轴方向相同的方向上的条纹状不均匀，在齿轮的啮合周期中产生的变形和振动得以抑制以使由图像形成部中的变形和振动引起的位置波动最小化，从而抑制条带的出现。此外，在日本专利申请特开No.2004-287371中，描述了通过将具有特定烷基氨基的三芳基胺化合物引入到感光构件的表面层中并限制其厚度来抑制条带出现的技术。
发明内容
在显影剂承载构件和感光构件中，当显影剂承载构件和感光构件之间的距离以及显影剂承载构件和感光构件中的每一个的旋转速度由于在图像形成部中的变形和振动的影响而改变时，存在于显影剂承载构件和感光构件的表面层之间的显影剂受到的摩擦的大小改变。由于摩擦大小的改变引起的显影剂的带电量改变，转移到感光构件表面的显影剂的量变得不均匀，并且出现条带，结果在图像中出现条纹状不均匀。
然而，本发明的发明人已经发现，即使当图像形成部中的变形和振动最小化时，也不能抑制条带的发生。
鉴于上述情况，本发明的发明人着眼于用作感光构件的表面层的保护层的组成与显影剂承载构件和感光构件的表面层之间的圆周速度差之间的关系，结果发现了存在减轻条带的构造，从而完成了本发明。
本发明的目的是提供一种其中抑制条带的出现的电子照相图像形成设备和/或处理盒。
上述目的通过下述本发明来实现。即，根据本发明的第一实施方案，提供了一种电子照相图像形成设备，其包括：电子照相感光构件，其为可旋转的且包括作为表面层的保护层；充电单元，其构造成形成与所述电子照相感光构件接触的充电部并且在所述充电部中给所述电子照相感光构件的表面充电；曝光单元，其构造成用曝光光照射所述电子照相感光构件的表面；和显影剂承载构件，其构造成供给使所述电子照相感光构件的表面带电的显影剂，其中所述保护层包含含有具有聚合性官能团的单体的组合物的固化物，并且所述固化物至少包含芳香环和酯基，在通过使用锗作为内部反射元件和45°作为入射角的测量条件由衰减全反射傅里叶变换红外光谱法测量获得的所述电子照相感光构件的表面的光谱的峰面积中，当基于所述芳香环的C＝C伸缩振动的在1,530cm-1～1,470cm-1的峰面积由S1表示，并且基于所述酯基的C＝O伸缩振动的在1,770cm-1～1,700cm-1的峰面积由S2表示时，S1与S2的面积比S1/S2为0.10～0.27，并且所述显影剂承载构件的转速D1与所述电子照相感光构件的转速D2的转速比D1/D2为0.80～1.20。
此外，根据本发明的第二实施方案，提供了一种处理盒，其包括：电子照相感光构件，其为可旋转的且包括作为表面层的保护层，和显影剂承载构件，其构造成供给使所述电子照相感光构件的表面带电的显影剂；以及选自以下中的至少一个单元：充电单元，其构造成形成与所述电子照相感光构件接触的充电部并且在所述充电部中给表面充电；和清洁单元，其构造成清洁所述表面，所述处理盒一体化支承所述电子照相感光构件、所述显影剂承载构件和所述至少一个单元，并且为可拆卸地安装至电子照相设备的主体，其中所述保护层包含含有具有聚合性官能团的单体的组合物的固化物，并且所述固化物至少包含芳香环和酯基，在通过使用锗作为内部反射元件和45°作为入射角的测量条件由衰减全反射傅里叶变换红外光谱法测量获得的所述电子照相感光构件的表面的光谱的峰面积中，当基于所述芳香环的C＝C伸缩振动的在1,530cm-1～1,470cm-1的峰面积由S1表示，并且基于所述酯基的C＝O伸缩振动的在1,770cm-1～1,700cm-1的峰面积由S2表示时，S1与S2的面积比S1/S2为0.10～0.27，并且构造所述显影剂承载构件和所述电子照相感光构件，使得所述显影剂承载构件的转速D1与所述电子照相感光构件的转速D2的转速比D1/D2为0.80～1.20。
根据本发明，可以提供一种其中长时间抑制条带的出现的电子照相图像形成设备和/或处理盒。
本发明的进一步特征将参照附图从以下示例性实施方案的描述中变得显而易见。
附图说明
图1为示出本发明的电子照相设备和处理盒各自的示意性构造的实例的图。
具体实施方式
现在，通过示例性实施方案详细描述本发明。如本文所用，术语“(甲基)丙烯酰氧基”是指丙烯酰氧基和/或甲基丙烯酰氧基。
本发明的发明人推测本发明的电子照相图像形成设备和/或处理盒对条带出现的抑制效果如下所述。
作为增加条带出现的因素，给出了酯基相对于感光构件表面上的芳香环的量。设想如下。在感光构件表面上的酯基相对于芳香环的比例大的情况下，当在显影剂承载构件和感光构件之间摩擦显影剂时，大量的电荷从酯基转移到显影剂中所含的调色剂，摩擦的大小改变，调色剂从显影剂承载构件到感光构件表面的承载量受到影响。因此，认为承载在感光构件表面上的调色剂的量的差异导致条纹状阴影，即图像中的条带。
因此，在本发明中，设定酯基相对于电子照相感光构件表面上的芳香环的量，使得在通过使用锗作为内部反射元件和45°作为入射角的测量条件由衰减全反射傅里叶变换红外光谱法测量获得的光谱的峰面积中，当基于芳香环的C＝C伸缩振动的在1,530cm-1～1,470cm-1的峰面积由S1表示，并且基于酯基的C＝O伸缩振动的在1,770cm-1～1,700cm-1的峰面积由S2表示时，S1与S2的面积比S1/S2为0.10～0.27。
此外，当面积比S1/S2落入上述范围内时，显影剂承载构件的转速D1与电子照相感光构件的转速D2的转速比D1/D2为0.80～1.20，可以充分抑制条带的出现。
与酯基相比，芳香环不太可能将电荷转移到调色剂。当面积比S1/S2小于0.10时，酯基相对于芳香环比较丰富，因此不能充分抑制条带的出现。
与芳香环相比，酯基更可能吸收外部振动和冲击。当面积比S1/S2大于0.27时，形成更容易吸收外部振动和冲击的表面层的酯基的含量变得相对小于芳香环的含量。结果，不能吸收图像形成部的一部分的振动和冲击，并且不能充分抑制条带的出现。优选面积比S1/S2落入0.14～0.17的范围内，因为可以进一步抑制条带的出现。
当本发明的转速比D1/D2小于0.80时，调色剂在显影剂承载构件和感光构件之间的摩擦力增强，并且电荷从保护层表面到调色剂的转移增强。因此，感光构件的带电性降低，并且在纯白打印期间图像可能具有起雾和条带。当转速比D1/D2大于1.20时，与转速比D1/D2小于0.80的情况一样，在纯白打印期间在打印图像中出现起雾。此外，条带的出现进一步增加。认为其原因如下所述。显影剂承载部件的转速D1与感光部件的转速D2相比变得相对更快，结果图像形成部中的振动和旋转偏转变大。优选转速比D1/D2为0.80～0.95，因为可以进一步抑制条带的出现。
即使当处理速度高时，也可以获得本发明的对条带出现的抑制效果。例如，当处理速度为60张/分钟以上时，图像形成部的变形和振动变大，因此迄今一直认为不能抑制条带的出现。然而，在本发明的构造中，即使当处理速度为60张/分钟以上时，与使用处理速度低于60张/分钟的电子照相图像形成设备和/或处理盒的情况一样，也可以获得抑制条带的出现的图像。
为了抑制电荷从感光构件转移到调色剂，还在调色剂侧进行了研究。然而，虽然根据调色剂的外部添加剂的种类而获得了对条带出现的抑制效果，但不能获得影响由本发明的构造获得的对条带出现的抑制效果的效果。
[电子照相感光构件]
电子照相感光构件包括支承体、形成在支承体上的感光层和形成在感光层上的作为表面层的保护层。
电子照相感光构件的制造方法是例如涉及以下的方法：制备用于稍后描述的各层的涂布液；以所需的层顺序施涂液体；和干燥液体。在这种情况下，涂布液的施涂方法的实例包括浸涂、喷涂、喷墨涂布、辊涂、模涂、刮刀涂布、帘式涂布、线棒涂布、环涂。其中，从效率和生产性的观点来看，优选浸涂。
现在，描述支承体和各层。
<支承体>
支承体优选为具有导电性的导电性支承体。另外，支承体的形状的实例包括圆筒状、带状、片状。其中，优选圆筒状支承体。此外，支承体的外表面可以进行例如电化学处理例如阳极化等以形成氧化膜、喷砂处理或切削处理。优选金属、树脂、玻璃等作为支承体的材料。
金属的实例包括铝、铁、镍、铜、金、不锈钢及其合金。在这些金属中，支承体优选为使用铝的铝支承体。支承体更优选为在其外表面上具有氧化膜的铝合金。氧化膜的存在能够抑制从支承体注入电荷，因此对在高湿环境下的黑点出现的抑制效果增强。
此外，可以通过涉及例如将树脂或玻璃与导电性材料混合或涂布的处理来赋予树脂或玻璃导电性。
<导电层>
导电层可以形成在支承体上。导电层的形成可以隐藏支承体表面的瑕疵和不均匀，并控制光在支承体表面的反射。
优选导电层包含导电性颗粒和树脂。
用于导电性颗粒的材料是例如金属氧化物、金属或炭黑。
金属氧化物的实例包括氧化锌、氧化铝、氧化铟、氧化硅、氧化锆、氧化锡、氧化钛、氧化镁、氧化锑和氧化铋。金属的实例包括铝、镍、铁、镍铬合金、铜、锌和银。
其中，优选使用金属氧化物作为导电性颗粒，特别地，更优选使用氧化钛、氧化锡和氧化锌。
当金属氧化物用作导电性颗粒时，金属氧化物的表面可以用硅烷偶联剂等处理，或者金属氧化物可以掺杂有诸如磷或铝的元素或其氧化物。
此外，每个导电性颗粒可以是具有芯颗粒和涂布颗粒的涂层的层叠构造。芯颗粒的实例包括氧化钛、硫酸钡和氧化锌。涂布层例如是如氧化锡等金属氧化物。
另外，当使用金属氧化物作为导电性颗粒时，其体积平均粒径优选为1nm以上且500nm以下，更优选为3nm以上且400nm以下。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、丙烯酸系树脂、有机硅树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂和醇酸树脂。
另外，导电层可以进一步含有如硅油、树脂颗粒、或氧化钛等遮蔽剂(concealingagent)。
导电层的平均厚度优选为1μm以上且50μm以下，特别优选为3μm以上且40μm以下。
可以通过制备包含上述材料和溶剂的导电层用涂布液、形成其涂膜并干燥该涂膜来形成导电层。用于涂布液的溶剂的实例包括醇类溶剂、亚砜类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂和芳烃类溶剂。作为将导电性颗粒分散在导电层用涂布液中的分散方法，给出使用油漆搅拌机、砂磨机、球磨机、液体碰撞式高速分散机的方法。
<底涂层>
底涂层可以形成在支承体或导电层上。底涂层的形成可以改进层之间的粘合功能以赋予电荷注入抑制功能。
优选底涂层包含树脂。另外，底涂层可以通过聚合含有具有聚合性官能团的单体的组合物而形成为固化膜。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、丙烯酸系树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、聚乙烯酚醛树脂、醇酸树脂、聚乙烯醇树脂、聚环氧乙烷树脂、聚环氧丙烷树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、纤维素树脂。
具有聚合性官能团的单体的聚合性官能团的实例包括异氰酸酯基、封端异氰酸酯基、羟甲基、烷基化羟甲基、环氧基、金属醇盐基、羟基、氨基、羧基、硫醇基、羧酸酐基和碳-碳双键基团。
此外，为了改进电特性，底涂层可以进一步包含电子输送物质、金属氧化物、金属、导电性高分子等。其中，优选使用电子输送物质和金属氧化物。
电子输送物质的实例包括醌化合物、酰亚胺化合物、苯并咪唑化合物、亚环戊二烯基化合物、芴酮化合物、呫吨酮化合物、二苯甲酮化合物、氰基乙烯基化合物、卤代芳基化合物、噻咯化合物和含硼化合物。具有聚合性官能团的电子输送物质可以用作电子输送物质并与上述具有聚合性官能团的单体共聚以形成作为固化膜的底涂层。
金属氧化物的实例包括氧化铟锡、氧化锡、氧化铟、氧化钛、氧化锌、氧化铝和二氧化硅。金属的实例包括金、银和铝。
此外，底涂层可以进一步包含添加剂。
底涂层的平均厚度优选为0.1μm以上且50μm以下，更优选0.2μm以上且40μm以下，特别优选0.3μm以上且30μm以下。
底涂层可以通过制备含有上述材料和溶剂的底涂层用涂布液、形成其涂膜、干燥和/或固化该涂膜来形成。用于涂布液的溶剂的实例包括醇类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂和芳烃类溶剂。
<感光层>
电子照相感光构件的感光层主要分为(1)层叠型感光层和(2)单层型感光层。(1)层叠型感光层具有包含电荷产生物质的电荷产生层和包含电荷输送物质的电荷输送层。(2)单层型感光层具有包含电荷产生物质和电荷输送物质两者的感光层。
(1)层叠型感光层
层叠型感光层具有电荷产生层和电荷输送层。
(1-1)电荷产生层
优选电荷产生层包含电荷产生物质和树脂。
电荷产生物质的实例包括偶氮颜料、苝颜料、多环醌颜料、靛蓝颜料和酞菁颜料。其中，优选偶氮颜料和酞菁颜料。在酞菁颜料中，优选氧钛酞菁颜料、氯镓酞菁颜料和羟基镓酞菁颜料。
电荷产生层中的电荷产生物质的含量相对于电荷产生层的总质量优选为40质量％以上且85质量％以下，更优选为60质量％以上且80质量％以下。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、丙烯酸系树脂、有机硅树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、聚乙烯醇树脂、纤维素树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、聚氯乙烯树脂。其中，更优选聚乙烯醇缩丁醛树脂。
此外，电荷产生层可以进一步包含添加剂，例如抗氧化剂或UV吸收剂。其具体实例包括受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物和二苯甲酮化合物。
电荷产生层的平均厚度优选为0.1μm以上且1μm以下，更优选0.15μm以上且0.4μm以下。
电荷产生层可以通过制备包含上述材料和溶剂的电荷产生层用涂布液、形成其涂膜、干燥该涂膜来形成。用于涂布液的溶剂的实例包括醇类溶剂、亚砜类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂和芳烃类溶剂。
(1-2)电荷输送层
优选电荷输送层包含电荷输送物质和树脂。
电荷输送物质的实例包括多环芳族化合物、杂环化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、烯胺化合物、联苯胺化合物、三芳基胺化合物和具有衍生自这些物质各自的基团的树脂。其中，优选三芳基胺化合物和联苯胺化合物，因为这些化合物各自具有高的对黑点出现的抑制效果。
电荷输送层中的电荷输送物质的含量相对于电荷输送层的总质量优选为25质量％以上且70质量％以下，更优选为30质量％以上且55质量％以下。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂和聚苯乙烯树脂。其中，优选聚碳酸酯树脂和聚酯树脂。作为聚酯树脂，特别优选聚芳酯(polyarylate)树脂。
电荷输送物质与树脂之间的含量比(质量比)优选为4:10～20:10，更优选为5:10～12:10。
此外，电荷输送层可以包含添加剂，例如抗氧化剂、UV吸收剂、增塑剂、流平剂、滑动性赋予剂或耐磨耗性改进剂。其具体实例包括受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物、二苯甲酮化合物、硅氧烷改性树脂、硅油、氟树脂颗粒、聚苯乙烯树脂颗粒、聚乙烯树脂颗粒、二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒和氮化硼颗粒。
电荷输送层的平均厚度为5μm以上且50μm以下，更优选8μm以上且40μm以下，特别优选10μm以上且30μm以下。
电荷输送层可以通过制备包含上述材料和溶剂的电荷输送层用涂布液、形成其涂膜、干燥该涂膜来形成。用于涂布液的溶剂的实例包括醇类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂和芳烃类溶剂。在这些溶剂中，优选醚类溶剂或芳烃类溶剂。
(2)单层型感光层
单层型感光层可以通过制备包含电荷产生物质、电荷输送物质、树脂和溶剂的感光层用涂布液，形成其涂膜，干燥该涂膜来形成。电荷产生物质、电荷输送物质和树脂的实例与“(1)层叠型感光层”部分中的那些材料相同。
<保护层>
保护层是作为感光构件的表面层的层，包含含有具有聚合性官能团的单体的组合物的固化物。用于聚合具有聚合性官能团的单体和固化组合物的反应的实例包括热聚合反应、光聚合反应和辐射聚合反应。
具有聚合性官能团的单体的实例包括具有链聚合性官能团例如(甲基)丙烯酰氧基或苯乙烯基的化合物，以及具有顺序聚合性官能团例如羟基的化合物、烷氧基甲硅烷基或异氰酸酯基的化合物。固化物至少包含芳香环和酯基，因此优选的是，组合物中所含的具有聚合性官能团的单体具有(甲基)丙烯酰氧基和芳香环。(甲基)丙烯酰氧基和芳香环可以包含在一种具有聚合性官能团的单体中，或者(甲基)丙烯酰氧基和芳香环可以分别包含在不同种类的具有聚合性官能团的单体中。另外，固化物中的芳香环和酯基也可以不衍生自具有聚合性官能团的单体。芳香环和酯基可以不引入到具有衍生自具有聚合性官能团的单体的结构的聚合物中，只要芳香环和酯基即使在感光构件长期使用后仍存在于保护层中，并且面积比S1/S2不变即可。
当具有聚合性官能团的单体为具有电荷输送性的化合物时，优选使用上述电荷输送物质，具有上述电荷输送物质骨架的聚合性单体和/或其低聚物。例如，给出了具有如(甲基)丙烯酰氧基或苯乙烯基等链聚合性官能团的电荷输送物质，具有如羟基、烷氧基甲硅烷基和异氰酸酯基等顺序聚合性官能团的电荷输送物质，及其低聚物。从电荷输送能力的观点来看，更优选使用在同一分子中同时具有电荷输送物质骨架和(甲基)丙烯酰氧基的化合物作为具有聚合性官能团的单体。
作为在同一分子中具有电荷输送物质骨架和(甲基)丙烯酰氧基的化合物，例如，优选由结构式OCL-1～OCL-7表示的化合物，所述化合物各自具有三芳基胺结构作为电荷输送物质骨架。
Figure BDA0003523387380000121
Figure BDA0003523387380000131
为了提高保护层的耐磨耗性，优选保护层除了衍生自具有电荷输送物质骨架的聚合性单体的结构之外，还具有衍生自不具有电荷输送物质骨架的单体的结构。
此外，认为当保护层具有衍生自例如由结构式(1)表示的化合物或由结构式(2)表示的化合物等具有大体积结构的单体的结构时，保护层中的酯基的聚集得以抑制，因此对条带出现的抑制效果进一步增强。
Figure BDA0003523387380000132
在结构式(1)中，R1、R5和R9中的至少两个表示各自具有(甲基)丙烯酰氧基的基团，并且不表示各自具有(甲基)丙烯酰氧基的基团的R1、R5和R9、以及R2～R4、R6～R8、R10～R12各自表示氢原子或甲基。
Figure BDA0003523387380000133
在结构式(2)中，R211和R224各自表示具有(甲基)丙烯酰氧基的基团，并且R212～R223各自表示氢原子或甲基。
在式(1)和(2)中，具有(甲基)丙烯酰氧基的基团的实例包括由选自结构式L-1～L-5中的一个结构式表示的基团。
Figure BDA0003523387380000141
在结构式(L-1)～(L-5)中，*表示与另一结构的键合部位，A1和A2各自表示氢原子、由结构式(L-1)表示的基团或由结构式(L-2)表示的基团，B表示氢原子或甲基。
在由结构式(1)表示的化合物和由结构式(2)表示的化合物中，具有(甲基)丙烯酰氧基的基团可以包含电荷输送物质骨架。这种基团的实例包括具有结合了由L-1～L-5表示的基团的三芳基胺结构的基团。
在保护层中的固化物中，优选的是，衍生自具有电荷输送物质骨架的聚合性单体的结构与衍生自不具有电荷输送物质骨架的聚合性单体的结构之间的质量比(衍生自具有电荷输送物质骨架的聚合性单体的结构：衍生自不具有电荷输送物质骨架的聚合性单体的结构)为7:93～50:50。另外，当面积比S1/S2为0.10～0.27时，在保护层表面上的芳香环数与酯基之间的摩尔比(芳香环:酯基)为1:1.28～1:16.95。因此，优选设计组合物使得作为保护层用涂布液的组合物中所含的芳香环数与酯基之间的摩尔比落入上述范围内。
由结构式(1)表示的化合物的实例包括由M-1和M-2表示的化合物。此外，由结构式(2)表示的化合物的实例包括由M-3和M-4表示的化合物。此外，不具有电荷输送物质骨架的单体的实例包括由M-5～M-7表示的化合物。由M-1～M-4表示的化合物也是各自不具有电荷输送物质骨架的单体。
Figure BDA0003523387380000151
Figure BDA0003523387380000161
保护层可以包含添加剂，例如抗氧化剂、UV吸收剂、增塑剂、流平剂、滑动性赋予剂或耐磨耗性改进剂。其具体实例包括受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物、二苯甲酮化合物、硅氧烷改性树脂、硅油、氟树脂颗粒、聚苯乙烯树脂颗粒、聚乙烯树脂颗粒、二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒、氮化硼颗粒、氧化钛、氧化锌、氧化锡和氧化铟。
保护层的平均厚度优选为0.5μm以上且10μm以下，更优选1μm以上且7μm以下。另外，可以研磨保护层，只要不损害本发明的效果即可。
保护层可以通过制备为包含上述材料和溶剂的保护层用涂布液的组合物、形成其涂膜、干燥和/或固化该涂膜而形成为该组合物的固化物。用于涂布液的溶剂的实例包括醇类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、亚砜类溶剂、酯类溶剂和芳烃类溶剂。
此外，为了提高防水性或抑制因带电引起的放电产物的粘附，优选保护层包含具有疏水性的硅氧烷结构的化合物。认为当保护层包含具有硅氧烷结构的化合物时，可以减少水或放电产物渗入保护层中。
此外，当保护层包含具有硅氧烷结构的化合物时，可以进一步抑制条带的出现。
感光构件的耐磨耗性优异，因此具有硅氧烷结构的化合物即使在感光构件长时间使用之后也可以继续存在于保护层的表面上。
具有硅氧烷结构的化合物的优选实例包括由Toagosei Co.,Ltd.制造的GS-101、US-450、US-270和US-380，并且硅氧烷链包含在具有与(甲基)丙烯酰氧基结合的部位的化合物中。
保护层表面上的硅元素的优选比例通过X射线光电子能谱法获得。当保护层表面上的硅元素浓度、碳元素浓度、氧元素浓度和氮元素浓度的总和设定为100原子％时，该比例为5～20原子％。当该比例落入上述范围内时，可以进一步抑制条带的出现。
当硅元素的比例小于5原子％时，酯基不会被具有硅氧烷结构的化合物充分遮蔽，结果对条带出现的抑制效果小。此外，当硅元素的比例大于20原子％时，感光构件的表面变得光滑，显影剂承载构件的转速D1与电子照相感光构件的转速D2的转速比D1/D2中倾向于出现不均匀，结果对条带出现的抑制效果小。
当作为保护层用涂布液的组合物中所含的具有硅氧烷结构的化合物的量相对于具有电荷输送物质骨架的聚合性单体的质量和不具有电荷输送物质骨架的聚合性单体的质量的总和设定为1质量％以上且20质量％以下时，保护层表面上的硅元素的比例可以为5～20原子％。
<调色剂>
本发明中使用的调色剂没有特别限制。例如，给出了包含由重均分子量为5,000以上且50,000以下的苯乙烯-丙烯酸系树脂形成的调色剂颗粒的调色剂。调色剂颗粒可以包含着色材料、脱模剂和在已知调色剂颗粒中所含的其它组分。调色剂颗粒的平均粒径不限于此，但优选为6.0μm～10.0μm。
<显影剂>
可以将外部添加剂添加到调色剂中以改进和稳定调色剂的带电性从而形成显影剂。
例如，以下外部添加剂可以用作外部添加剂。
例如，给出了：如偏二氟乙烯细粉末、聚四氟乙烯细粉末等氟系树脂粉末；如湿法二氧化硅和干法二氧化硅等二氧化硅微粒、氧化钛微粒和氧化铝微粒；用如硅烷化合物、钛偶联剂、或硅油等疏水化剂对微粒进行表面处理而得到的疏水化微粒；如氧化锌和氧化锡等氧化物；如钛酸锶、钛酸钡、钛酸钙、锆酸锶、锆酸钙等复合氧化物；如碳酸钙和碳酸镁等碳酸盐化合物。其中，优选二氧化硅微粒、氧化钛微粒、钛酸锶。
外部添加剂的形状的实例包括球形和棒状。其中，从带电性的稳定性的观点来看，优选棒状。
作为用于混合调色剂和外部添加剂的混合机，例如，给出FM混合机(由NipponCoke and Engineering Co.,Ltd.制造)、超级混合器(由Kawata Mfg.Co.,Ltd.制造)、NOBILTA(由Hosokawa Micron Corporation制造)和混杂器(hybridizer)(由NaraMachinery Co.,Ltd.制造)。
[电子照相设备和处理盒]
此外，根据本发明第一实施方案的电子照相设备的特征在于包括上述电子照相感光构件、充电单元、曝光单元和作为显影单元的显影剂承载构件。
根据本发明第二实施方案的处理盒的特征在于一体化支承上述电子照相感光构件，以及选自充电单元；显影单元；和清洁单元中的至少一个单元，并且为可拆卸地安装在电子照相设备的主体上。
在图1中示出包括具有电子照相感光构件的处理盒11的电子照相设备的示意性构造的实例。
具有圆筒状的电子照相感光构件1可绕轴2旋转并且以预定圆周速度沿箭头所示方向被旋转驱动。通过用于形成与电子照相感光构件1接触的充电部的充电单元3，将电子照相感光构件1的表面充电至预定的正或负电位。在图1中，示出了基于辊型充电构件的辊充电系统，但也可以采用诸如注入充电系统的充电系统。电子照相感光构件1的带电表面用来自曝光单元(未示出)的曝光光4照射，因此在其上形成对应于目标图像信息的静电潜像。形成在电子照相感光构件1的表面上的静电潜像通过显影剂承载构件13供给存储在显影单元5中的调色剂(显影剂)而显影，并且在电子照相感光构件1的表面上形成调色剂图像。形成在电子照相感光构件1的表面上的调色剂图像通过转印单元6而转印到转印材料7上。将已转印调色剂图像的转印材料7传送到定影单元8，进行用于定影调色剂图像的处理，并打印输出到电子照相设备的外部。电子照相设备可以包括清洁单元9，用于去除沉积物，例如转印后残留在电子照相感光构件1的表面上的调色剂。清洁单元优选为包含聚氨酯树脂的清洁刮板。此外，可以使用所谓的无清洁器系统，用于利用显影单元等去除沉积物，而不需要单独配置清洁单元。电子照相设备可以包括用来自预曝光单元(未示出)的预曝光光10对电子照相感光构件1的表面进行除电处理的除电机构。此外，可以配置诸如导轨等的引导单元12，用于将根据本发明的一个方面的处理盒11可拆卸地安装到电子照相设备的主体上。
构造显影剂承载构件13的转速D1使得可以通过改变用于旋转显影剂承载构件13的电机的电流值来改变旋转数。利用这种构造，可以调整转速比D1/D2。已知的显影剂承载构件可以用作显影剂承载构件13。
根据本发明的一个实施方案的电子照相设备可以是例如激光束打印机、LED打印机、复印机、传真机及其多功能外围设备。
[实施例]
下面通过实施例和比较例更详细地描述本发明。本发明决不限于以下实施例，在不脱离本发明的主旨的情况下可以进行各种变更。在以下实施例的描述中，除非另有说明，“份”是指质量。
<显影剂的生产>
[树脂分散液A的生产]
Figure BDA0003523387380000201
将上述原料预先混合并溶解以制备溶液(a)。单独地，将7份非离子表面活性剂(产品名：NOVONIL，由Sanyo Chemical Industries,Ltd.制造)和10份阴离子表面活性剂(产品名：NEOGEN R，由DKS Co.,Ltd.制造)溶解在520份离子交换水以制备溶液(b)。将溶液(a)和溶液(b)放入烧瓶中，分散乳化，缓慢混合10分钟。进一步，将70份的溶解有2.5份过硫酸铵的离子交换水添加至所得物，进行氮置换。然后，在搅拌混合液的同时，在油浴中加热混合液直至内容物达到70℃，原样地继续乳液聚合6小时。之后，将反应液冷却至室温，获得了体积平均粒径为152nm、玻璃化转变温度为55℃、峰均分子量为20,000的树脂分散液A。
[着色剂分散液A的生产]
着色剂C.I.颜料蓝15:3 70份
阴离子表面活性剂(产品名：NEOGEN，由DKS Co.,Ltd.制造) 3份
离子交换水 400份
将上述原料混合溶解，然后使用均质机(Ultra-Turrax，由IKA制造)分散，获得其中分散有体积平均粒径为150nm的着色剂的着色剂分散液A。
[脱模剂分散液A的生产]
聚乙烯蜡(产品名：POLYWAX 655，由Toyo Petrolite Co.,Ltd.制造，熔点：93℃)100份
阴离子表面活性剂(产品名：Pionin A-45-D，由Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制造): 2份
离子交换水 500份
将上述原料混合溶解，然后使用均质机(Ultra-Turrax，由IKA制造)分散，然后用压力喷射均化器进行分散处理，获得了其中分散有体积平均粒径为280nm的由聚乙烯蜡制成的脱模剂微粒的脱模剂分散液A。
[显影剂1的生产例]
Figure BDA0003523387380000211
Figure BDA0003523387380000221
将上述原料在圆底不锈钢烧瓶中使用均质器(产品名：Ultra-Turrax T50，由IKA制造)混合分散以制备混合液。然后，将混合液在加热用油浴中边搅拌边加热至50℃，在50℃保持20分钟，形成聚集颗粒。用光学显微镜观察获得的聚集颗粒的一部分，发现了聚集颗粒的体积平均粒径为约7.0μm。
将50份树脂分散液A缓慢加入到其中形成有聚集颗粒的液体中，将所得物进一步在50℃下加热并搅拌20分钟以获得聚集颗粒分散液A。用光学显微镜观察获得的聚集颗粒分散液A，发现了聚集颗粒的体积平均粒径为约7.3μm。
接下来，向聚集颗粒分散液A中添加6份作为阴离子表面活性剂的十二烷基苯磺酸钠(产品名：NEOGEN SC，由DKS Co.,Ltd.制造)，将混合物加热至97℃，照原样保持7小时，从而使聚集颗粒彼此熔合。之后，将所得物以1.0℃/分钟的降温速度冷却至45℃，过滤，然后用离子交换水充分洗涤，进一步通过400目筛过滤。用库尔特计数器测量熔合聚集颗粒的体积平均粒径为7.4μm。将所得物用真空干燥器干燥以获得调色剂颗粒1。
将基于100份二氧化硅粉末用18份硅油处理的一次粒径为6nm的疏水性二氧化硅细粉3.2份，通过用10份异丁基三甲氧基硅烷在甲苯中处理针状氧化钛(FTL-100，由Ishihara Sangyo Co.,Ltd.制造)、然后将所得物过滤、干燥、分级获得的作为氧化钛细粉的疏水性氧化钛0.9份，和各自的一次粒径为330nm的PMMA球状树脂微粒0.1份添加到100份获得的调色剂颗粒1中，并通过使用亨舍尔混合器混合所得物以获得显影剂1。
[显影剂2的生产例]
除了将针状氧化钛的量变更为1.1份以外，通过与显影剂1的生产例相同的方法获得显影剂2。
[显影剂3的生产例]
苯乙烯-丙烯酸系树脂A的生产
Figure BDA0003523387380000231
将上述原料在氮气气氛下置于具有回流冷凝器、搅拌器和氮气导入管的反应容器中。将容器内的原料混合物加热至110℃，以200rpm搅拌10小时。进一步，将加热温度升温至140℃，进行6小时聚合反应。蒸馏除去溶剂(甲苯)，获得了重均分子量(Mw)为26,000、玻璃化转变温度为73℃的苯乙烯-丙烯酸系树脂A。
Figure BDA0003523387380000232
将上述原料用亨舍尔混合器(产品名：Model FM-75，由Mitsui Miike ChemicalEngineering Machinery,Co.,Ltd.制造)充分混合，然后在设置为125℃的温度的双螺杆混炼机(产品名：Model PCM-30，由Ikegai Ironworks Corp.制造)中混炼。将所得混炼产物逐渐冷却至室温。之后，将所得物用切碎机粗粉碎，通过使用喷射流的细粉碎机粉碎，并进行空气分级以生产体积平均粒径为8.5μm的调色剂颗粒3。
将用15.0质量％异丁基三甲氧基硅烷表面处理过的针状氧化钛(产品名：FTL-100，由Ishihara Sangyo Co.,Ltd.制造)0.6份和用20.0质量％六甲基二硅氮烷表面处理过的一次颗粒的数均粒径为16nm的疏水性二氧化硅微粒1.8份添加到98.2份获得的调色剂颗粒3中，并将所得物用亨舍尔混合器(产品名：Model FM-75，由Mitsui Miike ChemicalEngineering Machinery,Co.,Ltd.制造)混合以获得显影剂3。
[显影剂4的生产例]
除了在显影剂3的生产例中将针状氧化钛的添加量变更为0.9份以外，以与显影剂3的生产例相同的方式获得显影剂4。
[显影剂5的生产例]
除了在显影剂1的生产例中将针状氧化钛变更为用15.0质量％异丁基三甲氧基硅烷表面处理过的氧化钛微粒(KR-310，由Titan Kogyo,Ltd.制造)以外，以与显影剂1的生产例相同的方式获得显影剂5。
[显影剂6的生产例]
除了在显影剂3的生产例中将用15.0质量％异丁基三甲氧基硅烷表面处理过的针状氧化钛变更为用15.0质量％异丁基三甲氧基硅烷表面处理过的氧化钛微粒(KR-310，由Titan Kogyo,Ltd.制造)以外，以与显影剂3的生产例相同的方式获得显影剂6。
<电子照相感光构件的支承体和各层的涂布液的生产>
支承体的制备
将其表面已被粗切削的由外径为24mm、长为257mm、厚为0.9mm的铝合金(JIS-A3003，铝合金)形成的圆筒安装在NC车床上，用金刚石烧结刀头进行刀头切削加工以便使其外径为23.97mm、表面粗糙度Ra(S80)为0.02μm，同时金刚石烧结刀头与元件管的抵接角度在0°和3°之间改变，从而生产支承体。在以下条件下进行刀头切削加工：车床的主轴旋转数设定为3,000rpm，刀头的移动速度(刀头进给速度)利用重复增加和降低进给速度的程序来改变，以便在0.340mm/转和0.360mm/转之间的以每1.5mm加工距离0.005mm/转改变进给速度。
测量支承体的外周面上的ΔL为50μm。
如上所述，利用使用“Surfcom 1400D”(由Tokyo Seimitsu Co.,Ltd.制造)按照JIS1994标准在测量长度为4.0mm、长波长截止λc为0.8mm(高斯)、测量速度为0.3mm/sec的测量条件下进行的粗糙度测量获得的在支承体的外周面的中央附近的轮廓曲线测量ΔL。
另外，Ra(S80)是通过使用“Surfcom 1400D”(由Tokyo Seimitsu Co.,Ltd.制造)按照JIS′01标准在测量长度为4.0mm、长波长截止λc为0.8mm(高斯)、短波长截止λs为80μm、测量速度为0.3mm/sec的测量条件下进行的粗糙化测量在支承体的外周面中央附近获得的算术平均粗糙度Ra。
底涂层用涂布液的制备
如下所述制备用于形成底涂层的涂布液。平均一次粒径为40nm的金红石型氧化钛(产品名：TTO55N，由Ishihara Sangyo Kaisha,Ltd.制造)和相对于氧化钛为3质量％的甲基二甲氧基硅烷(产品名：TSL8117，由Toshiba Silicone Co.,Ltd.制造)在亨舍尔混合器中混合以提供表面处理过的氧化钛。之后，用球磨机将表面处理过的氧化钛分散在甲醇/1-丙醇的质量比为7/3的混合溶剂中，制备表面处理过的氧化钛的分散浆料。
将获得的分散浆料、甲醇/1-丙醇/甲苯的混合溶剂以及由式(D)所示的ε-己内酰胺/式(E)所示的双(4-氨基-3-甲基环己基)甲烷/式(F)所示的六亚甲基二胺/式(G)所示的十亚甲基二甲酸/式(H)所示的十八亚甲基二甲酸以组成摩尔比60％/15％/5％/15％/5％形成的共聚聚酰胺的丸粒边加热边搅拌混合以使聚酰胺丸粒溶解。之后，进行超声波分散处理以制备用于形成底涂层的涂布液，该涂布液含有质量比为3/1的表面处理过的氧化钛/共聚聚酰胺，在由甲醇/1-丙醇/甲苯以质量比7/1/2形成的混合溶剂中的固体成分浓度为18.0％。
Figure BDA0003523387380000261
电荷产生层用涂布液的制备
将作为电荷产生物质的在CuKα特征X射线衍射中的布拉格角(2θ±0.2°)为27.3°处具有强峰的Y型氧钛酞菁晶体10份和4-甲氧基-将4-甲基-2-戊酮150份放入使用直径各自为1mm的玻璃珠的砂磨机中，用砂砾研磨机进行粉碎分散处理1.5小时。接下来，通过将5份聚缩醛树脂(产品名：S-LEC BX-1，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)溶解于100份4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮中而得到的溶液105份加入砂磨机中，并且将所得混合物进行分散处理0.5小时。之后，将250份1,2-二甲氧基乙烷进一步添加到砂磨机中以制备电荷产生层用涂布液。
在以下条件下进行X射线衍射的测量。
[粉末X射线衍射测量]
使用的测量装置：由Rigaku Corporation制造的X射线衍射仪RINT-TTR II
X射线管：铜
管电压：50KV
管电流：300mA
扫描方法：2θ/θ扫描
扫描速度：4.0°/分钟
采样间隔：0.02°
起始角(2θ)：5.0°
停止角(2θ)：40.0°
附件：标准样品架
过滤器：未使用
入射单色器：使用
计数器单色器：未使用
发散狭缝：开启
发散垂直限位狭缝：10.00mm
散射狭缝：开启
接收狭缝：开启
平板单色仪：使用
计数器：闪烁计数器
电荷输送层用涂布液的制备
将10份由结构式(CTM-1)表示的电荷输送物质(空穴输送物质)和10份具有由结构式(PC-1)和结构式(PC-2)表示的共聚单元的聚碳酸酯树脂(PC-1/PC-2＝90/10，Mv＝40,000)溶解在55份甲苯和45份四氢呋喃的混合溶剂中以制备电荷输送层用涂布液。
Figure BDA0003523387380000281
保护层用涂布液1的制备
·由结构式(OCL-4)表示的化合物 6.09份
·由结构式(M-5)表示的化合物 6.41份
·由结构式(I)表示的1-羟基环己基苯基酮 1.00份
将上述原料与72份2-丙醇和8份四氢呋喃的混合溶剂混合并搅拌以制备保护层用涂布液1。
Figure BDA0003523387380000282
保护层用涂布液2的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物的量变更为3.55份和将由结构式(M-5)表示的化合物的量变更为8.95份以外，以与保护层用涂布液1的制备相同的方式制备保护层用涂布液2。
保护层用涂布液3的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物的量变更为5.00份和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为7.50份由结构式(M-6)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液3。
保护层用涂布液4的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物的量变更为3.59份和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为8.91份由结构式(M-6)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液4。
保护层用涂布液5的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物的量变更为0.96份和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为11.54份由结构式(M-6)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液5。
保护层用涂布液6的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为6.25份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为6.25份由结构式(M-1)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液6。
保护层用涂布液7的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为3.50份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为9.00份由结构式(M-1)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液7。
保护层用涂布液8的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为3.50份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为9.00份由结构式(M-3)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液8。
保护层用涂布液9的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为2.19份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为10.30份由结构式(M-1)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液9。
保护层用涂布液10的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为2.25份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为10.25份由结构式(M-1)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液10。
保护层用涂布液11的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为3.13份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为9.38份由结构式(M-1)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液11。
保护层用涂布液12的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为3.31份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为9.19份由结构式(M-1)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液12。
保护层用涂布液13的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为3.33份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为9.18份由结构式(M-3)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液13。
保护层用涂布液14的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为3.13份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为9.38份由结构式(M-1)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备保护层用涂布液14。
保护层用涂布液15的制备
向保护层用涂布液14中添加0.13份硅氧烷改性丙烯酸系化合物(产品名：US-270，由Toagosei Co.,Ltd.制造)，接着搅拌以制备保护层用涂布液15。
保护层用涂布液16的制备
向保护层用涂布液11中添加0.13份硅氧烷改性丙烯酸系化合物(产品名：US-270，由Toagosei Co.,Ltd.制造)，接着搅拌以制备保护层用涂布液16。
保护层用涂布液17的制备
向保护层用涂布液11中添加0.83份硅氧烷改性丙烯酸系化合物(产品名：US-270，由Toagosei Co.,Ltd.制造)，接着搅拌以制备保护层用涂布液17。
保护层用涂布液18的制备
向保护层用涂布液11中添加0.08份硅氧烷改性丙烯酸系化合物(产品名：US-270，由Toagosei Co.,Ltd.制造)，接着搅拌以制备保护层用涂布液18。
保护层用涂布液19的制备
向保护层用涂布液11中添加1.12份硅氧烷改性丙烯酸系化合物(产品名：US-270，由Toagosei Co.,Ltd.制造)，接着搅拌以制备保护层用涂布液19。
比较保护层用涂布液1的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物变更为0.56份由结构式(OCL-1)表示的化合物和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为11.94份由结构式(M-1)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备比较保护层用涂布液1。
比较保护层用涂布液2的制备
除了将由结构式(OCL-4)表示的化合物的量变更为6.25份和将由结构式(M-5)表示的化合物变更为6.25份由结构式(M-6)表示的化合物以外，以与保护层用涂布液1中相同的方式制备比较保护层用涂布液2。
<电子照相感光构件的生产>
感光构件1的生产
将上述制备的底涂层用涂布液通过浸涂施涂在支承体上，在100℃下干燥10分钟，由此形成厚度为2.0μm的底涂层。
将上述制备的电荷产生层用涂布液通过浸涂施涂在获得的底涂层上，并在100℃下干燥10分钟，从而形成厚度为0.15μm的电荷产生层。
将上述制备的电荷输送层用涂布液通过浸涂施涂在获得的电荷产生层上，并在120℃下干燥30分钟，从而形成厚度为16.0μm的电荷输送层。
通过浸涂将保护层用涂布液1施涂到获得的电荷输送层上以形成涂膜，并将所得涂膜在50℃下干燥6分钟。之后，通过使用无电极灯H灯泡(由Heraeus制造)，在灯强度为0.6W/cm2的条件下用UV光照射涂膜10秒，同时在300Rpm的速度下旋转支承体(待照射的物体)。接下来，将涂膜自然冷却至其温度变为25℃，然后在其温度变为125℃这样的条件下将涂膜进行加热处理1小时，从而形成厚度为3μm的保护层。因此，生产了感光构件1。
使用所生产的感光构件1，在以下条件下确认保护层中是否存在衍生自由结构式(1)表示的化合物的结构和衍生自由结构式(2)表示的化合物的结构。
通过用剃刀刮擦来剥离感光构件1的保护层，并测量保护层的质量。将剥离的保护层浸渍在氯仿中，通过超声波设备照射超声波1小时。之后，取出不溶于氯仿中的组分，干燥而获得残渣，按照以下的程序通过热解-GCMS测量残渣。将TMAH甲基化剂和残渣混合，将混合物用热分解设备(产品名：JPS-700，由Japan Analytical Industry Co.,Ltd.制造)进行热分解，获得试样。然后，将试样引入GCMS(产品名：ISQ(FOCUS GC)，由Thermo FisherScientific制造)并进行分析。另外，对于未与TMAH甲基化剂混合的残渣单独也以相同方式进行热分解和GCMS分析。
在上述测量中，检测到三苯胺结构和(甲基)丙烯酰氧基。另外，在不使用TMAH甲基化剂的分析中，确认是否含有衍生自由结构式(1)表示的化合物的结构或衍生自由结构式(2)表示的化合物的结构。确认出感光构件1的保护层不包含衍生自结构式(1)表示的化合物的结构和衍生自由结构式(2)表示的化合物的结构。
<面积比S1/S2的测量>
在以下条件下，通过衰减全反射傅里叶变换红外光谱法在600cm-1～4,000cm-1测量在所生产的感光构件1的纵向中心位置处的表面的红外光谱谱图，并且确定面积比S1/S2。
(测量条件)
设备：FT/IR-420(由JASCO Corporation制造)
辅助设备：ATR设备
内部反射元件(IRE)：Ge
入射角：45度
扫描次数：32
对于获得的光谱，S1和S2通过以下方法确定。
(1)在1,530cm-1～1,470cm-1的每个测量点与用直线连接1,530cm-1和1,470cm-1的基线之间的差异计算为峰面积S1。
(测量精度：1cm-1)
(2)在1,770cm-1～1,700cm-1的每个测量点与用直线连接1,770cm-1和1,700cm-1的基线之间的差异计算为峰面积S2。
(测量精度：1cm-1)
<感光构件表面上的硅元素比例的测量>
通过X射线光电子能谱法(ESCA)测量感光构件表面上的硅元素的丰度(原子％)。将感光构件1固定，使用锯从感光构件的长度方向的中央位置切出每边测量为10mm的部分，以用作测量试样。测量条件如下所述。
设备名称：VersaProbeII
激发X射线：AlKα，光电子脱出角：45°
X射线：100μm 25W 15kV 100μm点分析
电子中和枪：20μA、1V离子中和枪：7mA、10V
通过能量：58.70eV，步长：0.125eV
扫描次数：C：10次，O：10次，Si：30次，N：30次
感光构件2～19及比较感光构件1和2的生产
除了如表1所示改变感光构件1中的保护层用涂布液以生产感光构件以外，以与感光构件1相同的方式生产感光构件2～19和比较感光构件1和2。
表1
Figure BDA0003523387380000351
<安装在图像形成设备上>
[实施例1～35和比较例1～5]
将表2所示的各感光构件安装在电子照相图像形成设备上。
激光束打印机(产品名称：HP Color LaserJet Enterprise M653dn，由Hewlett-Packard Company制造)的改造机器用作电子照相图像形成设备。将电子照相图像形成设备改造成能够调整显影剂承载构件和感光构件的转速和处理速度。在显影剂承载构件上的调色剂的承载量调整为恒定的，另外，调整充电电位和在实黑输出时的图像曝光光量。因而，在恒定充电电位(-600V)和恒定曝光电位(-150V)下进行评价。
首先，将电子照相图像形成设备和感光构件在温度为23℃、湿度为50％RH的环境下放置24小时以上。然后，将感光构件安装在电子照相图像形成设备的青色处理盒上。
半色调图像(其中在垂直于电子照相感光构件的旋转方向的方向上以2点的间隔绘制具有1点宽度的线的图像)连续输出在100张A4尺寸的普通纸上。
基于表3所示的等级，通过目视观察100张进行评价。结果如表2所示。
通过使用鼓的一周的长度为75.36mm和显影剂承载构件的一周的长度为37.68mm来计算D1/D2。
D1/D2＝(D1×37.68)/(D2×75.36)
表2
Figure BDA0003523387380000371
表3
Figure BDA0003523387380000381
[比较例6]
除了将支承体改变为表面已被粗切的外径为30mm、长度为254mm的支承体以外，以与感光构件16相同的方式生产比较感光构件3。
激光束打印机(产品名称：MS812，由Lexmark制造)的改造机器用作电子照相图像形成设备。将电子照相图像形成设备改造成能够调整充电电位和在实黑输出时的图像曝光光量，并且在恒定充电电位(-600V)和恒定曝光电位(-150V)下进行评价。
首先，将电子照相图像形成设备和感光构件在温度为23℃、湿度为50％RH的环境下放置24小时以上。然后，将比较感光构件3安装在电子照相图像形成设备的青色处理盒上。
半色调图像(其中在垂直于电子照相感光构件的旋转方向的方向上以2点的间隔绘制具有1点宽度的线的图像)在转速比D1/D2为143％的条件下连续输出在100张A4尺寸的普通纸上。
基于表3所示的等级，通过目视观察100张进行评价。结果如表4所示。
表4
Figure BDA0003523387380000391
虽然已参考示例性的实施方案描述了本发明，但将理解本发明不局限于所公开的示例性的实施方案。所附权利要求的范围应符合最宽泛的解释，以涵盖所有此类变型以及等同的结构和功能。

Claims (8)

1.一种电子照相图像形成设备，其特征在于，包括：
电子照相感光构件，其为可旋转的且包括在感光层上形成的作为表面层的保护层；
充电单元，其构造成形成与所述电子照相感光构件接触的充电部并且在所述充电部中给所述电子照相感光构件的表面充电；
曝光单元，其构造成用曝光光照射所述电子照相感光构件的表面；和
显影剂承载构件，其构造成供给使所述电子照相感光构件的表面带电的显影剂，
其中所述保护层包含含有具有聚合性官能团的单体的组合物的固化物，并且所述固化物至少包含芳香环和酯基，
在通过使用锗作为内部反射元件和45°作为入射角的测量条件由衰减全反射傅里叶变换红外光谱法测量获得的所述电子照相感光构件的表面的光谱的峰面积中，当基于所述芳香环的C＝C伸缩振动的在1,530cm-1～1,470cm-1的峰面积由S1表示，并且基于所述酯基的C＝O伸缩振动的在1,770cm-1～1,700cm-1的峰面积由S2表示时，S1与S2的面积比S1/S2为0.10～0.27，并且
其中所述显影剂承载构件的转速D1与所述电子照相感光构件的转速D2的转速比D1/D2为0.80～1.20。
2.根据权利要求1所述的电子照相图像形成设备，其中所述具有聚合性官能团的单体包括选自由以下结构式(1)所示的化合物；和由以下结构式(2)所示的化合物中的至少一种：
Figure FDA0003523387370000011
其中，在结构式(1)中，R1、R5和R9中的至少二者表示各自具有(甲基)丙烯酰氧基的基团，并且不表示各自具有(甲基)丙烯酰氧基的基团的R1、R5和R9、以及R2～R4、R6～R8和R10～R12各自表示氢原子或甲基；
Figure FDA0003523387370000021
其中，在结构式(2)中，R211和R224各自表示具有(甲基)丙烯酰氧基的基团，R212～R223各自表示氢原子或甲基。
3.根据权利要求2所述的电子照相图像形成设备，其中所述具有(甲基)丙烯酰氧基的基团各自包括由选自结构式(L-1)～(L-5)中的一个结构式表示的基团：
Figure FDA0003523387370000022
Figure FDA0003523387370000031
其中，在结构式(L-1)～(L-5)中，*表示键合部位，A1和A2各自表示氢原子、由结构式(L-1)所示的基团、或由结构式(L-2)所示的基团，并且B表示氢原子或甲基。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的电子照相图像形成设备，其中所述面积比S1/S2为0.14～0.17。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的电子照相图像形成设备，其中，在所述电子照相感光构件的表面的X射线光电子能谱中，当将硅元素的浓度、碳元素的浓度、氧元素的浓度和氮元素的浓度的总和设定为100原子％时，所述硅元素的浓度为5～20原子％。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的电子照相图像形成设备，其中所述转速比D1/D2为0.80～0.95。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的电子照相图像形成设备，其中所述电子照相图像形成设备的处理速度为每分钟60张以上。
8.一种处理盒，其特征在于，包括：
电子照相感光构件，其为可旋转的且包括作为表面层的保护层，和显影剂承载构件，其构造成供给使所述电子照相感光构件的表面带电的显影剂；以及
选自以下中的至少一个单元：充电单元，其构造成形成与所述电子照相感光构件接触的充电部并且在所述充电部中给表面充电；和清洁单元，其构造成清洁所述表面，
所述处理盒一体化支承所述电子照相感光构件、所述显影剂承载构件和所述至少一个单元，并且为可拆卸地安装至电子照相设备的主体，
其中所述保护层包含含有具有聚合性官能团的单体的组合物的固化物，并且所述固化物至少包含芳香环和酯基，
在通过使用锗作为内部反射元件和45°作为入射角的测量条件由衰减全反射傅里叶变换红外光谱法测量获得的所述电子照相感光构件的表面的光谱的峰面积中，当基于所述芳香环的C＝C伸缩振动的峰面积由S1表示，并且基于所述酯基的C＝O伸缩振动的峰面积由S2表示时，S1与S2的面积比S1/S2为0.10～0.27，并且
构造所述显影剂承载构件和所述电子照相感光构件，使得所述显影剂承载构件的转速D1与所述电子照相感光构件的转速D2的转速比D1/D2为0.80～1.20。
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