CN114994816A - 一种反光膜及反光膜的植珠方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开的一种反光膜及反光膜的植珠方法，植珠方法，包括：在基膜表面涂布胶黏剂，形成湿胶层，其中，湿胶层的厚度为玻璃微珠粒径的15％‑35％；通过胶辊和钢辊将珠槽内玻璃微珠植入湿胶层；通过吸珠单元对湿胶层表面进行风力吸珠处理，去除湿胶层表面多余的玻璃微珠；对湿胶层烘干处理，使湿胶层转变为干胶层，其中，干胶层的厚度为玻璃微珠粒径的10％‑30％。本申请首先控制湿胶层的厚度和溶剂量等参数，减少在湿胶层上粘附杂珠的现象；其次，珠槽、玻璃微珠和基膜均经过除静电处理，减少出现浮珠的现象；最后，在将湿胶层烘干固化处理之前，通过吸珠单元去除湿胶层表面的杂珠和浮珠，这样，制备得到表面没有杂珠、浮珠的干胶层。
Description
技术领域
本申请属于反光膜制备工艺技术领域，尤其涉及一种反光膜及反光膜的植珠方法。
背景技术
反光膜是一种能够有效地对入射光进行反射的膜结构，因此，被广泛应用于交通警示标贴、路面状况警示标贴等场景中。反光膜中起到反射作用的核心结构是植入在反射膜基膜内的玻璃微珠，其中，将玻璃微珠植入在反射膜的基膜的方法称为植珠方法。
在一种实现方式中，反射膜的植珠方法可以通过以下步骤实现：先在基膜上涂布胶层，然后将玻璃微珠植入胶层内，最后将植入玻璃微珠的胶层烘干。
但是，这种植珠方法中存在如下技术难题：采用植珠胶对玻璃微珠进行植珠操作时，植珠胶在辊压过程中容易受到挤压而溢出，溢出的胶水会粘结上多余的杂珠；此外，在将玻璃微珠植入基膜时，因静电吸附等原因会在基膜出现大量浮珠。杂珠和浮珠的存在，不仅需要在后道工序花费大量的人力、物力去去除，还容易导致反光膜表面易刮花、亮度不均匀，影响反光膜的性能。
发明内容
为解决上述技术问题，本申请提供一种反光膜及反光膜的植珠方法。
第一方面，本申请提供一种反光膜的植珠方法，所述植珠方法基于植珠装置实现，所述植珠装置包括顺次设置的植珠单元、吸珠单元和烘干单元，其中，所述植珠单元包括配合的胶辊和钢辊，以及珠槽；所述珠槽用于盛装玻璃微珠；所述植珠方法，包括：在基膜表面涂布胶黏剂，形成湿胶层，其中，所述湿胶层的厚度为玻璃微珠粒径的15％-35％；通过所述胶辊和所述钢辊将珠槽内玻璃微珠植入所述湿胶层，其中，所述珠槽、所述玻璃微珠和所述基膜均连接有除静电装置；通过所述吸珠单元对所述湿胶层表面进行风力吸珠处理，去除所述湿胶层表面多余的玻璃微珠；对所述湿胶层烘干处理，使所述湿胶层转变为干胶层，其中，所述干胶层的厚度为所述玻璃微珠粒径的10-30％。
在一种可实现方式中，所述吸珠单元包括沿所述植珠单元向所述烘干单元传输方向分布的至少一个吸珠管；所述吸珠管的吸风口朝向所述湿胶层表面方向、且与所述湿胶层表面成105°±10°的夹角。
在一种可实现方式中，所述吸珠管的吸风口横跨在所述湿胶层表面的宽度方向，其中，所述湿胶层表面的宽度方向是指与所述植珠单元向所述烘干单元传输方向的垂直方向。
在一种可实现方式中，所述在基膜表面涂布胶黏剂，形成湿胶层，包括：在基膜表面涂布胶黏剂；控制涂布有所述胶黏剂的基膜，按照预设升温策略，由第一预设温度预烘干至第二预设温度，使得到的所述湿胶层内含溶剂量为25％-50％，其中，所述第二预设温度大于所述第一预设温度。
在一种可实现方式中，所述预烘干时长为2-3分钟，所述第一预设温度位40℃，所述第二预设温度为80℃。
在一种可实现方式中，对所述湿胶层烘干处理的烘干温度为135℃，烘干时间为3-7分钟。
在一种可实现方式中，还包括：在所述干胶层上刮制聚焦层；在所述聚焦层上制作反射层。
在一种可实现方式中，所述基膜为PET、丙烯酸酯、聚酯或UV树脂材料中的任一种。
在一种可实现方式中，所述基膜的厚度至少为50μm。
第二方面，本申请提供一种反光膜，所述反光膜采用如第一方面任一所述的反光膜的植珠方法制备而成。
综上，本申请提供的一种反光膜及反光膜的植珠方法，首先控制湿胶层的厚度和溶剂量等参数，减少在湿胶层上粘附杂珠的现象；其次，在通过胶辊和钢辊将珠槽内玻璃微珠植入湿胶层时，珠槽、玻璃微珠和基膜均经过除静电处理，减少出现浮珠的现象；最后，在将湿胶层烘干固化处理之前，通过吸珠单元进一步去除湿胶层表面的杂珠和浮珠，这样，制备得到表面没有杂珠、浮珠的干胶层。进一步的，基于制备得到的表面洁净的干胶层，后续可以直接在该干胶层上刮制聚焦层，以及在聚焦层上制作反射层、粘胶层和剥离层等。其中，基于上述干胶层制备得到的聚焦层表观不发花、亮度均匀，适用于高端产品需求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种植珠装置的结构示意图；
图2为本申请实施例提供的一种吸珠单元的俯视图；
图3为本申请实施例提供的一种吸珠管侧视图；
图4为本申请实施例提供的一种反光膜的植珠方法的工艺流程图。
附图标说明
10-植珠单元，20-吸珠单元，30-烘干单元，40-收卷单元；
101-胶辊，102-钢辊，103-珠槽，201-吸珠管，202-吸气泵，203-吸风口；
100-基膜，200-湿胶层，300-玻璃微珠，400-干胶层。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请实施例提供一种反光膜的植珠方法，该方法基于植珠装置实现。基于该植珠装置，本申请实施例提供的一种反光膜的植珠方法，可以解决杂珠、浮珠难以去除的技术问题。
下面首先结合附图对本申请实施例提供的植珠装置进行说明。
如图1所示，本申请实施提供的植珠装置，包括顺次设置的植珠单元10、吸珠单元20和烘干单元30。
植珠单元10包括胶辊101、钢辊102和珠槽103，其中，胶辊101和钢辊102珠槽103互相配合，以将珠槽103内玻璃微珠植入基膜的湿胶层内。
本申请对胶辊101和钢辊102的结构不进行限定，只要能够通过辊压的方式植入玻璃微珠即可。例如，胶辊101和钢辊102是两个非同轴相向转动的滚筒状结构，其中，胶辊101具有光滑的表面，钢辊102具有阵列排布的凹槽，其中，凹槽的尺寸与玻璃微珠的尺寸相适配。
经过植珠单元10处理后的基膜，还需要经过烘干单元30烘干处理，以使玻璃微珠固化在基膜上。本申请在植珠单元10和烘干单元30之间还设置有吸珠单元20，吸珠单元20可以通过风力将基膜上的杂珠、浮珠在玻璃微珠被固化在基膜上之前去除。
本申请对吸珠单元20的结构不进行限定，在一种可实现方式中，如图2所示，本申请中吸珠单元20包括至少一个吸珠管201，其中，每个吸珠管201均与吸气泵202连接，吸气泵202为吸珠管201提供吸风动力。
如果吸珠单元20包括多个吸珠管201，多个吸珠管201可以在沿植珠单元10向烘干单元30传输方向分布。这样，可以在基膜由植珠单元10向烘干单元30方向传输的过程中，通过吸珠单元20中的多个吸珠管201，去除附着在基膜上的杂珠、浮珠。
本申请对每个吸珠管201的结构也不进行限定，在一种可实现方式中，如图2和图3所示，吸珠管201为长条管状结构，在吸珠管201的长度方向上开有预设宽度的开口，作为吸风口203。在工作时，吸风口203朝向基膜方向、且与基膜的传输方向的夹角α呈105°±10°，这样可以避免吸珠管201与基膜表面垂直形成真空状态，从而提高吸力。
如图1所示，在烘干单元30之后，本申请提供的植珠装置还可以包括收卷单元40，收卷单元40用于将玻璃微珠固化在基膜上后的结构进行收卷操作。
下面结合附图对本申请实施例提供的反光膜的植珠方法进行说明。
如图4所示，本申请实施例提供的反光膜的植珠方法，包括以下步骤：
步骤S1、在基膜100表面涂布胶黏剂，形成湿胶层200，其中，所述湿胶层200的厚度为玻璃微珠300粒径的15％-35％。
基膜100是制备反光膜的基础材料，基膜100为植珠提供载体。本申请对基膜100的材料不进行限定，基膜100可以为PET、丙烯酸酯、聚酯或UV树脂中的一种或多种材料。
为便于后续在基膜100上进行涂布、热压等操作，基膜100的厚度可以在50μm以上，例如，基膜100的厚度为50μm、60μm或70μm。
本申请对胶黏剂的种类不进行限定，例如，胶黏剂采用溶剂型胶水。
本申请通过限制湿胶层200的厚度，可以防止在将玻璃微珠300植入湿胶层200时，发生溢胶现象，这样，可以极大地减轻在湿胶层200上粘附杂珠的问题。
此处需要说明的是，本申请实施例中杂珠是指粘附在湿胶层200上的多余的玻璃微珠；浮珠是指由于静电吸附作用，在植入湿胶层200上的玻璃微珠上层叠的多余的玻璃微珠。
为了进一步减轻在湿胶层200上粘附杂珠的问题，本申请可以通过以下步骤形成湿胶层200：首先，在基膜100表面涂布胶黏剂；然后，控制涂布有胶黏剂的基膜100，按照预设升温策略，由第一预设温度预烘干至第二预设温度，使得到的湿胶层200内含溶剂量为25％-50％，其中，第二预设温度大于第一预设温度。
其中，按照预设升温策略，从第一预设温度逐渐预烘干至第二预设温度，可以使胶黏剂中溶剂逐渐挥发，从而可以制备得到表面平整的湿胶层200。
本申请对预设升温策略不进行限定，例如，预设升温策略可以是采用固定的升温速率，控制由40℃逐渐预烘干至80℃的时间为3分钟。
完成预烘干处理后，湿胶层200处于半干状态，这种状态下的湿胶层200不易粘附杂珠。
本申请中溶剂量是指湿胶层中溶剂占湿胶层中溶剂和溶质总量的百分比。
步骤S2、通过胶辊101和钢辊102将珠槽103内玻璃微珠300植入湿胶层200，其中，珠槽103、玻璃微珠300和基膜100均连接有除静电装置。
如图1所示，从形成有湿胶层200的基膜100的起始位置，进入胶辊101和钢辊102之间进行植珠操作。其中，珠槽103为湿胶层200提供玻璃微珠300，随着胶辊101和钢辊102的转动，从珠槽103进入钢辊102上的玻璃微珠300粘附在经过的湿胶层200上，相配合的胶辊101将粘附在湿胶层200上的玻璃微珠300压入湿胶层200内。
需要说明的是，上述步骤S2是发生杂珠和浮珠现象的主要步骤，由于本申请实施例在步骤S1中，通过控制湿胶层200的厚度、溶剂量等，可以减轻在湿胶层200上粘附杂珠的问题。为进一步减轻浮珠现象，本申请实施例在步骤S2中，珠槽103、玻璃微珠300和基膜100均连接有除静电装置。
本申请中珠槽103、玻璃微珠300和基膜100连接的除静电装置可以相同，也可以不同，本申请对此不进行限定。
其中，玻璃微珠300在进入胶辊101和钢辊102之间之前，存放在珠槽103内，该珠槽103中装有用于待进入植株阶段的大量玻璃微珠。本申请实施例中，在玻璃微珠300进入植株阶段之前经过除静电处理，以避免玻璃微珠300本身具有静电。本申请对对玻璃微珠300除静电处理的除静电装置的结构不进行限定。在一种可实现方式中，可以在盛放玻璃微珠300的珠槽103中，放置用于除静电的导电线，同时，珠槽103也连接除静电装置，这样可以将玻璃微珠300上的静电导走；在另一种可实现方式中，还可以在珠槽103内放入水，将大量玻璃微珠浸置于水中，这样，玻璃微珠300上便不会带有静电。其中，珠槽103一般是金属结构，因此，可以将用于去除珠槽103上静电的除静电装置连接在能够与珠槽103形成电导通的任何位置。
对于基膜100，可以将基膜100中背向湿胶层200的表面与除静电装置连接。
步骤S3、通过吸珠单元20对湿胶层200表面进行风力吸珠处理，去除湿胶层200表面多余的玻璃微珠。
本申请实施例中充分利用基膜100由植珠单元10向烘干单元30传输的路径及时间，在该传输路径上设置吸珠单元20，以在湿胶层200固化之前，将附着在湿胶层200上的杂珠、浮珠去除。
在实施步骤S3时，可以控制吸珠单元20中的吸珠管201紧贴湿胶层200，但不向湿胶层200施压。其中，吸珠管201的吸风口203横跨在湿胶层200表面的宽度方向，湿胶层200表面的宽度方向是指与植珠单元10向烘干单元30传输方向的垂直方向。并且，吸珠管201的吸风口203朝向湿胶层200表面方向、且与湿胶层200表面成105°±10°的夹角。这样，可以在基膜100向烘干单元30传输的路径上就将杂珠、浮珠去除，进而不需要烘干后增加去除杂珠、浮珠等操作。
需要说明的是，上述仅以在湿胶层200表面一侧设置吸珠管201为例进行示例性说明，并不表示对吸珠管201位置的限定，例如，在基膜100背向湿胶层200的一面也可设置吸珠管201，这样，可以吸附基膜100两个表面上的杂珠、浮珠。
步骤S4、对湿胶层200烘干处理，使湿胶层200转变为干胶层400，其中，干胶层400的厚度为玻璃微珠300粒径的10％-30％。
上述步骤S4对湿胶层200烘干处理后，湿胶层200固化，湿胶层200转变为干胶层400。本申请对烘干处理的烘干温度、烘干时间等不进行限定。例如：烘干温度可以为135℃，烘干时间可以为3-7分钟。
综上，本申请实施例提供的反光膜的植珠方法，首先控制湿胶层200的厚度和溶剂量等参数，减少在湿胶层200上粘附杂珠的现象；其次，在通过胶辊101和钢辊102将珠槽103内玻璃微珠300植入湿胶层300时，珠槽103、玻璃微珠300和基膜100均经过除静电处理，减少出现浮珠的现象；最后，在将湿胶层200烘干固化处理之前，通过吸珠单元20进一步去除湿胶层200表面的杂珠和浮珠，这样，制备得到表面没有杂珠、浮珠的干胶层400。
基于制备得到的表面洁净的干胶层400，后续可以直接在该干胶层400上刮制聚焦层，以及在聚焦层上制作反射层、粘胶层和剥离层等。其中，基于上述干胶层400制备得到的聚焦层表观不发花、亮度均匀，适用于高端产品需求。
此外，由于采用本申请实施例提供的反光膜的植珠方法，极大地减少了杂珠和浮珠，不需要在后道工序中额外进行除珠的操作，因此，采用本申请的植珠方法的生产效率和良率得到了提高。
以下通过实验数据，对本申请实施例提供的反光膜的植珠方法的优势进行说明。
第一组实验
本申请第一组实验中，实验例一采用本申请实施例提供的反光膜的植珠方法，制备得到干胶层，在干胶层上刮制聚焦层；在聚焦层上制作反射层，得到反光膜。第一组实验中其余实验例和对比例，在实验例一中其他参数不变的条件下，调整湿胶层的厚度，以确定湿胶层厚度对制备得到的反光膜的影响，具体实验参数参见表1。
表1第一组实验参数及实验结果
第二组实验
本申请第二组实验中，实验例四采用本申请实施例提供的反光膜的植珠方法，制备得到干胶层，在干胶层上刮制聚焦层；在聚焦层上制作反射层，得到反光膜。第二组实验中其余实验例和对比例，在实验例四中其他参数不变的条件下，调整湿胶层溶剂量，以确定湿胶层溶剂量对制备得到的反光膜的影响，具体实验参数参见表2。
表2第二组实验参数及实验结果
第三组实验
本申请第三组实验中，实验例七采用本申请实施例提供的反光膜的植珠方法，制备得到干胶层，在干胶层上刮制聚焦层；在聚焦层上制作反射层，得到反光膜。第三组实验中其余实验例和对比例，在实验例七中其他参数不变的条件下，调整植珠方法步骤，具体实验参数参见表3。
表3第三组实验参数及实验结果
需要说明的是，上述第一组实验、第二组实验和第三组实验中，反光膜的逆反射系数可以使用逆反射仪检测得到。
根据上述第一组实验可知，当控制湿胶层厚度占玻璃微珠粒径的比值在15％-35％时，制备得到的干胶层表面没有杂珠、浮珠，对应制备得到的反射膜的逆反射系数在75-80d/lx/m2；而当湿胶层厚度占玻璃微珠粒径的比值超过35％时，制备得到的干胶层表面有杂珠、浮珠，对应制备得到的反射膜的逆反射系数下降至65-70d/lx/m2。
根据上述第二组实验可知，当控制湿胶层的溶剂量在25％-50％时，制备得到的干胶层表面没有杂珠、浮珠，对应制备得到的反射膜的逆反射系数在75-80d/lx/m2；当湿胶层的溶剂量超过50％时，虽然制备得到的干胶层表面也没有杂珠、浮珠，但是，当湿胶层的溶剂量超过50％时，对应制备得到的干胶层厚度占玻璃微珠粒径的比值降至9％-10％，对应得到的反射膜的逆反射系数下降至65-70d/lx/m2。
根据上述第三组实验可知，对于采用相同湿胶层厚度、湿胶层溶剂量、干胶层厚度的反光膜，在制备过程中，对珠槽、微珠和基膜都经过除静电处理，并且经过吸珠单元处理，制备得到的干胶层表面没有杂珠、浮珠，对应得到的反射膜的逆反射系数能够达到80d/lx/m2；而在制备过程中，未经过对珠槽、微珠和基膜都经过除静电处理，和/或，未经过吸珠单元处理，制备得到的干胶层表面有杂珠、浮珠，对应得到的反射膜的逆反射系数降至70-75d/lx/m2。
综上可知，采用本申请实施例提供的反光膜的植株方法制备得到的反光膜的逆反射系数能够达到80d/lx/m2，表观不发花、亮度均匀，满足高端产品需求。
本申请实施例还提供一种反光膜，采用本申请实施例提供的反光膜的植珠方法制备而成。其中，反光膜包括依次层叠的基膜100和干胶层400，其中，干胶层400内植入有玻璃微珠300，干胶层400的厚度为玻璃微珠300粒径的10％-30％。进一步的，本申请实施例提供的反光膜在玻璃微珠300表面还可以依次层叠有聚焦层、反射层、粘胶层和剥离层等。
实施例一
本申请实施例一提供的反光膜的植珠方法，包括以下步骤：
在厚度为75μm的PET上进一步涂布厚度约为50μm的聚酯材料，得到基膜，在基膜上继续涂布胶黏剂。
将涂布有胶黏剂的基膜进行预烘干处理，其中，预烘干处理过程中预烘干温度由40℃逐渐升温至80℃，并控制在2-3分钟完成预烘干处理，得到湿胶层，其中，湿胶层内溶剂量为25％，湿胶层的厚度为玻璃微珠粒径的15％。
玻璃微珠会在胶辊和钢辊压力大约2-5kg下，深陷湿胶层中，并能够在湿胶层上整齐排列，不溢胶，亦无带胶微珠杂乱排列(即无杂珠)。其中，玻璃微珠、基膜和珠槽均与除静电装置连接。
通过吸珠单元去除湿胶层表面的杂珠、浮珠。吸珠单元中的吸珠管紧贴湿胶层，但不施压湿胶层、且吸珠管的吸风口朝向湿胶层表面方向、且与湿胶层表面成105°±10°的夹角，确保靠吸风动力将静电浮珠去除。其中，吸气泵的参数为风压22kpa，风量165m3/h，功率1100W以上。
经过吸珠处理的基膜，在135℃下，烘干3-7分钟，湿胶层固化转为干胶层，其中，干胶层的厚度为微珠粒径的10％。
经过本申请实施例上述步骤制备得到的干胶层表面洁净，没有杂珠、浮珠。
本说明书中各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，尤其是反光膜对应的实施例部分可以参见反光膜的植珠方法部分。
以上结合具体实施方式和范例性实例对本申请进行了详细说明，不过这些说明并不能理解为对本申请的限制。本领域技术人员理解，在不偏离本申请精神和范围的情况下，可以对本申请技术方案及其实施方式进行多种等价替换、修饰或改进，这些均落入本申请的范围内。本申请的保护范围以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种反光膜的植珠方法，其特征在于，所述植珠方法基于植珠装置实现，所述植珠装置包括顺次设置的植珠单元、吸珠单元和烘干单元，其中，所述植珠单元包括配合的胶辊和钢辊，以及珠槽；所述珠槽用于盛装玻璃微珠；
所述植珠方法，包括：
在基膜表面涂布胶黏剂，形成湿胶层，其中，所述湿胶层的厚度为玻璃微珠粒径的15％-35％；
通过所述胶辊和所述钢辊将珠槽内玻璃微珠植入所述湿胶层，其中，所述珠槽、所述玻璃微珠和所述基膜均连接有除静电装置；
通过所述吸珠单元对所述湿胶层表面进行风力吸珠处理，去除所述湿胶层表面多余的玻璃微珠；
对所述湿胶层烘干处理，使所述湿胶层转变为干胶层，其中，所述干胶层的厚度为所述玻璃微珠粒径的10-30％。
2.根据权利要求1所述的植珠方法，其特征在于，所述吸珠单元包括沿所述植珠单元向所述烘干单元传输方向分布的至少一个吸珠管；
所述吸珠管的吸风口朝向所述湿胶层表面方向、且与所述湿胶层表面成105°±10°的夹角。
3.根据权利要求2所述的植珠方法，其特征在于，所述吸珠管的吸风口横跨在所述湿胶层表面的宽度方向，其中，所述湿胶层表面的宽度方向是指与所述植珠单元向所述烘干单元传输方向的垂直方向。
4.根据权利要求1所述的植珠方法，其特征在于，所述在基膜表面涂布胶黏剂，形成湿胶层，包括：
在基膜表面涂布胶黏剂；
控制涂布有所述胶黏剂的基膜，按照预设升温策略，由第一预设温度预烘干至第二预设温度，使得到的所述湿胶层内含溶剂量为25％-50％，其中，所述第二预设温度大于所述第一预设温度。
5.根据权利要求4所述的植珠方法，其特征在于，所述预烘干时长为2-3分钟，所述第一预设温度位40℃，所述第二预设温度为80℃。
6.根据权利要求1所述的植珠方法，其特征在于，对所述湿胶层烘干处理的烘干温度为135℃，烘干时间为3-7分钟。
7.根据权利要求1所述的植珠方法，其特征在于，还包括：
在所述干胶层上刮制聚焦层；
在所述聚焦层上制作反射层。
8.根据权利要求1所述的植珠方法，其特征在于，所述基膜为PET、丙烯酸酯、聚酯或UV树脂材料中的任一种。
9.根据权利要求1所述的植珠方法，其特征在于，所述基膜的厚度至少为50μm。
10.一种反光膜，其特征在于，所述反光膜采用如权利要求1-9任一所述的反光膜的植珠方法制备而成。
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