CN114887577B - 一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，涉及化工反应釜技术领域。为了解决现有反应釜内壁、搅拌叶上附着有杂质，传统的浸泡和冲刷方式无法将反应釜内壁上较厚的杂质刮除，没有固定的刮除机构，导致固体杂质长时间附着在反应釜内壁和搅拌叶上的问题。一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，包括有底座上设置有反应釜本体，底座上设置有伸入反应釜本体的搅拌机构，搅拌机构上设置有杂质去除机构，杂质去除机构上设置有加压清理机构。本发明通过搅拌机构对反应釜本体内的二乙基甲苯二胺原料进行混合，通过杂质去除机构实现了更好的杂质去除效果，通过加压清理机构对反应釜内壁进行逐层清理。

Description

一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜

技术领域

本发明涉及化工反应釜技术领域，尤其涉及一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜。

背景技术

二乙基甲苯二胺室温下为浅黄至红棕色透明有氨味的液体，微溶于水，其主要用途为固化剂、抗氧剂、扩链剂、润滑剂等，二乙基甲苯二胺的制作过程为，一般将二乙基甲苯二胺加入到反应釜内，通过搅拌混合等方式生成二乙基甲苯二胺溶液。

在二乙基甲苯二胺的制作过程中，由于其制作过程需要加入芳胺催化剂，而芳胺催化剂和制作过程中的芳胺衍生物会影响二乙基甲苯二胺溶液的纯度，为此通常会加入反应液来提高二乙基甲苯二胺溶液的纯度，加入的反应液导致反应釜内壁、搅拌叶上附着有杂质，传统的浸泡和冲刷方式无法将反应釜内壁上较厚的杂质刮除，且搅拌叶上的杂质没有固定的刮除机构，导致固体杂质长时间附着在反应釜内壁和搅拌叶上，对后续二乙基甲苯二胺的搅拌制备造成影响。

针对现有技术的不足之处，我们提出一种基于气压原理的二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜。

发明内容

本发明的目的在于克服反应釜内壁、搅拌叶上附着有杂质，传统的浸泡和冲刷方式无法将导致反应釜内壁上较厚的杂质刮除，且搅拌叶上的杂质没有固定的刮除机构，导致固体杂质长时间附着在反应釜内壁和搅拌叶上，对后续二乙基甲苯二胺的生成造成影响的问题，为此我们提供了一种基于气压原理的二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜。

本发明的技术实施方案为：一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，包括有底座，底座上设置有反应釜本体，反应釜本体内的上部直径大于其下部的直径，反应釜本体上表面设置有进料口，反应釜本体下表面设置有第一出液口，反应釜本体内表面的下部设置为圆柱凸起，反应釜本体的圆柱凸起上设置有第二出液口，进料口、第一出液口和第二出液口内均设置有电磁阀，反应釜本体外侧面设置有控制台，反应釜本体内的下部设置有过滤网，过滤网的内侧部套设在反应釜本体的圆柱凸起上，底座上设置有伸入反应釜本体的搅拌机构，搅拌机构上设置有杂质去除机构，杂质去除机构用于搅拌机构上杂质的清理，搅拌机构和杂质去除机构配合，用于二乙基甲苯二胺溶液的搅拌，杂质去除机构上设置有加压清理机构，搅拌机构通过杂质去除机构带动加压清理机构进行加压操作，并通过加压清理机构解除对搅拌机构的限位，使搅拌机构贴合反应釜本体，对反应釜本体内壁杂质逐层清理，进料口、第一出液口和第二出液口上的电磁阀均与控制台电连接，搅拌机构和杂质去除机构均与控制台电连接。

作为本发明的一种优选技术方案，反应釜本体的内壁分别设置有三个条形凸起，反应釜本体的三个条形凸起内侧面均设置为弧面，用于二乙基甲苯二胺溶液的搅拌，反应釜本体上的三个条形凸起位于其内直径小的内壁上，过滤网的外侧部与反应釜本体三个条形凸起的下表面接触。

作为本发明的一种优选技术方案，过滤网设置为向内下凹陷锥面，过滤网的外侧部高于内侧部，用于固体杂质的排出。

作为本发明的一种优选技术方案，搅拌机构包括有伺服电机，伺服电机固接在底座上，伺服电机与控制台电连接，伺服电机的输出轴端固接有转筒，转筒的内部设置有第一空腔，固定套筒左右对称设置有两个，两个固定套筒的内侧部分别与转筒外表面的下部固接，两个固定套筒分别与第一空腔连通，两个固定套筒内分别滑动设置有第一滑杆，两个第一滑杆外表面外部的直径分别与相邻固定套筒外表面的直径相等，两个第一滑杆的内侧部分别设置有两个上下对称的凸块，两个第一滑杆内侧部的两个凸块上均开设有通孔，两个固定套筒内侧面的中部分别开设有两个上下对称的滑槽，两个第一滑杆上的两个凸块分别与相邻固定套筒上的滑槽滑动连接，两个第一滑杆的外端分别固接有搅拌杆，第一滑杆和搅拌杆配合，用于二乙基甲苯二胺的混合。

作为本发明的一种优选技术方案，两个搅拌杆分别设置为菱形，用于反应釜本体内壁杂质的去除。

作为本发明的一种优选技术方案，杂质去除机构包括有L形板，L形板固接在反应釜本体的上表面，L形板的上部固接有电动推杆，反应釜本体上表面开设有通孔，电动推杆的伸缩部位于反应釜本体的通孔内，电动推杆的伸缩端固接有第一限位板，转筒的上部开设有两个左右对称的第一通孔，第一限位板的左部转动设置有滑动套筒，滑动套筒套设在转筒外侧面的上部，滑动套筒的下部开设有两个左右对称的第二通孔，滑动套筒的内侧面开设有两个上下对称的环形槽，滑动套筒的两个环形槽内分别设置有密封环，两个密封环套设在转筒外侧面，矩形套筒左右对称设置有两个，两个矩形套筒的内侧部分别与滑动套筒外侧面的下部固接，两个矩形套筒内分别开设有第二空腔，第二空腔为矩形，两个第二空腔分别与相邻的第二通孔连通，两个矩形套筒内分别滑动设置有矩形滑杆，两个矩形滑杆的内侧部分别设置有两个上下对称的凸块，两个矩形滑杆内侧部的两个凸块上均开设有通孔，两个矩形套筒内侧面的左右两部分别开设有两个上下对称的滑槽，两个矩形滑杆上的两个凸块分别与相邻矩形套筒上的滑槽滑动连接，两个矩形滑杆的外端分别固接有第一滑动套，两个第一滑动套分别套设在相邻的搅拌杆上并与其适配，滑动套筒的下表面设置有清理组件，清理组件用于转筒外侧面、两个固定套筒外侧面和两个第一滑杆外侧面的清理，矩形滑杆和第一滑动套配合，用于两个搅拌杆上杂质的去除。

作为本发明的一种优选技术方案，清理组件包括有第一弹簧，第一弹簧的一端固接在滑动套筒的下表面，第一弹簧的另一端固接有第二滑动套，第一弹簧套设在转筒上，两个第一滑杆的外侧分别套设有第三滑动套，过滤网与两个第三滑动套有间距，两个第三滑动套的上部分别与相邻的第二滑动套之间铰接有连接杆，第二滑动套、第三滑动套和连接杆配合，用于转筒、两个固定套筒和两个第一滑杆上杂质的去除。

作为本发明的一种优选技术方案，第一滑动套和第三滑动套均为两个滑套和若干个支杆连接而成的组件，用于辅助两个搅拌杆、两个固定套筒和两个第一滑杆上杂质的去除。

作为本发明的一种优选技术方案，加压清理机构包括有螺纹套，螺纹套转动式连接在反应釜本体上表面的中部，螺纹套内螺纹连接有螺杆，螺杆上部的左侧固接有凸块，反应釜本体上表面的右侧设置有限位块，限位块位于螺杆的左侧，限位块的右侧面开设有滑槽，螺杆上的凸块与限位块的滑槽滑动连接，螺杆的下表面固接有第一推杆，第一推杆的下部贯穿转筒的上部并与其滑动连接，转筒上部的左侧开设有通气孔，转筒内的上部开设有环形槽，第一推杆的下端固接有活塞，活塞位于转筒的环形槽内且不与其内壁接触，活塞的直径与转筒的内径相等，活塞的下表面固接有第二推杆，第二推杆位于转筒内，滑动套筒的上表面固接有第二限位板，第二限位板套设在转筒的上部并与其滑动连接，第一限位杆左右对称设置有两个，两个第一限位杆的下端分别与第二限位板固接，螺纹套下部开设有两个左右对称的通孔，两个第一限位杆分别与螺纹套的通孔配合，第二推杆的下端设置有限位组件，限位组件用于两个第一滑杆的限位，第一推杆和活塞配合，用于转筒内压强的增大。

作为本发明的一种优选技术方案，限位组件包括有限位套筒，限位套筒固接在第二推杆的下端，限位套筒内滑动设置有推盘，推盘的下表面固接有第二滑杆，第二滑杆的下部贯穿限位套筒的下部并与其滑动连接，推盘与限位套筒之间固接有第二弹簧，第二弹簧套设在第二滑杆上，第二滑杆的下部转动设置有U形架，U形架的左右两端分别设置为倾斜面，两个第一滑杆的内侧部分别固接有第二限位杆，两个第二限位杆的内侧部分别开设有矩形滑槽，U形架的左右两端分别与相邻第二限位杆的矩形滑槽限位配合，第二滑杆、第二弹簧、U形架和第二限位杆配合，用于两个第一滑杆的限位。

本发明的突出优点如下所示：本发明通过搅拌机构中的两个第一滑杆分别带动相邻的搅拌杆转动，对反应釜本体内的二乙基甲苯二胺原料进行混合，帮助二乙基甲苯二胺的生产，通过杂质去除机构中的两个第一滑动套分别对相邻搅拌杆上的杂质进行刮除，两个第三滑动套分别对相邻固定套筒和第一滑杆上的杂质进行刮除，实现了更好的杂质去除效果，通过两个搅拌杆逐渐与反应釜本体内壁上的杂质接触，并且搅拌杆对反应釜本体内壁上杂质的挤压力逐渐增大，对反应釜本体内壁上的杂质逐层刮除，实现了更好的杂质去除效果，在两个搅拌杆对反应釜本体内的三个条形凸起进行杂质去除时，两个搅拌杆会对向运动，转筒内压强增大，对反应釜本体内的三个条形凸起上杂质的刮取力度增大，实现了更好的杂质去除效果。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图。

图2为本发明的立体结构部分剖面图。

图3为本发明搅拌机构的立体结构部分剖面图。

图4为本发明A处放大的立体结构示意图。

图5为本发明杂质去除机构的立体结构部分剖面图。

图6为本发明B处放大的立体结构示意图。

图7为本发明加压清理机构的立体结构部分剖面图。

图8为本发明C处放大的立体结构示意图。

图9为本发明D处放大的立体结构示意图。

主要附图标记说明：1-底座，2-反应釜本体，201-进料口，202-第一出液口，203-第二出液口，3-控制台，4-过滤网，5-搅拌机构，501-伺服电机，502-转筒，5021-第一空腔，5022-第一通孔，503-固定套筒，504-第一滑杆，505-搅拌杆，6-杂质去除机构，601-L形板，602-电动推杆，603-第一限位板，604-滑动套筒，6041-第二通孔，605-密封环，606-矩形套筒，6061-第二空腔，607-矩形滑杆，608-第一滑动套，609-第一弹簧，610-第二滑动套，611-第三滑动套，612-连接杆，7-加压清理机构，701-螺纹套，702-螺杆，703-限位块，704-第一推杆，705-活塞，706-第二推杆，707-第二限位板，708-第一限位杆，709-限位套筒，710-推盘，711-第二滑杆，712-第二弹簧，713-U形架，714-第二限位杆。

具体实施方式

以下将以图示及详细说明清除说明本发明的精神，如熟悉此技术人员在了解本发明的实施例后，当可由本发明所教示的技术，加以改变及修饰，其并不脱离本发明的精神与范围。

实施例1

一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，如图1和图2所示，包括有底座1，底座1上通过螺栓连接有反应釜本体2，反应釜本体2内的上部直径大于其下部的直径，反应釜本体2上表面设置有进料口201，反应釜本体2下表面设置有第一出液口202，反应釜本体2内表面的下部设置为圆柱凸起，反应釜本体2的圆柱凸起上设置有第二出液口203，进料口201、第一出液口202和第二出液口203内均设置有电磁阀，进料口201、第一出液口202和第二出液口203内的电磁阀均与控制台3电连接，反应釜本体2外侧面设置有控制台3，反应釜本体2内的下部设置有过滤网4，过滤网4的内侧部套设在反应釜本体2的圆柱凸起上，反应釜本体2的内壁分别设置有三个条形凸起，反应釜本体2的三个条形凸起内侧面均设置为弧面，用于二乙基甲苯二胺溶液的搅拌，增加了反应釜本体2内二乙基甲苯二胺原料的混合，实现了更好的混合效果，反应釜本体2上的三个条形凸起位于其内直径小的内壁上，过滤网4的外侧部与反应釜本体2三个条形凸起的下表面接触，过滤网4设置为向内下凹陷锥面，过滤网4的外侧部高于内侧部，用于固体杂质的排出，使得反应釜本体2的杂质在排出时会向中部聚拢，实现了更好的杂质排出效果，底座1上设置有伸入反应釜本体2的搅拌机构5，搅拌机构5上设置有杂质去除机构6，杂质去除机构6用于搅拌机构5上杂质的清理，实现了更好的杂质去除效果，搅拌机构5和杂质去除机构6配合，用于二乙基甲苯二胺溶液的搅拌，杂质去除机构6上设置有加压清理机构7，搅拌机构5通过杂质去除机构6带动加压清理机构7进行加压操作，并通过加压清理机构7解除对搅拌机构5的限位，使搅拌机构5贴合反应釜本体2，对反应釜本体2内壁杂质逐层清理，对反应釜本体内的三个条形凸起上杂质的刮取力度增大，实现了更好的杂质去除效果，搅拌机构5和杂质去除机构6均与控制台3电连接。

当需要使用本反应釜进行二乙基甲苯二胺生产时，操作人员首先通过控制台3将进料口201内的电磁阀打开，随后通过进料口201将二乙基甲苯二胺的原料加入反应釜本体2内，然后操作人员通过控制台3将进料口201内的电磁阀关闭，随后，操作人员通过控制台3启动搅拌机构5，搅拌机构5启动杂质去除机构6，搅拌机构5和杂质去除机构6配合，对反应釜本体2内的二乙基甲苯二胺原料进行搅拌混合，辅助二乙基甲苯二胺的生成，由于反应釜本体2的内壁分别设置有三个条形凸起，反应釜本体2的三个条形凸起内侧面均设置为弧面，使得二乙基甲苯二胺原料在反应釜本体2内转动的过程中，与反应釜本体2内的三个条形凸起接触，从而使二乙基甲苯二胺原料流态变化，实现了更好的混合效果，当二乙基甲苯二胺生成后，操作人员通过控制台3将搅拌机构5停止，同时杂质去除机构6停止，在二乙基甲苯二胺生成的过程中，会产生各种固体杂质，固体杂质会附着在反应釜本体2内壁及搅拌机构5上，随后，操作人员通过控制台3将第一出液口202内的电磁阀打开，反应釜本体2内的二乙基甲苯二胺从第一出液口202排出，反应釜本体2内的部分杂质被过滤网4拦截，当反应釜本体2内的二乙基甲苯二胺全部排出后，操作人员通过控制台3将第一出液口202内的电磁阀关闭。

随后，操作人员控制台3将进料口201内的电磁阀打开，并将清洗液加入反应釜本体2内，清洗液加入完成后，操作人员通过控制台3将进料口201内的电磁阀关闭，杂质去除机构6的初始状态为搅拌机构5清理模式，随后，操作人员通过控制台3启动杂质去除机构6对搅拌机构5上的固体杂质进行清理，当搅拌机构5上的固体杂质清理完成后，操作人员通过控制台3将杂质去除机构6关闭，随后，操作人员通过控制台3启动杂质去除机构6，将杂质去除机构6的搅拌机构5清理模式调整为反应釜本体2内壁清理模式，当模式切换完成后，操作人员通过控制台3启动搅拌机构5，在搅拌机构5启动的过程中，搅拌机构5通过杂质去除机构6带动加压清理机构7进行加压操作，同时加压清理机构7解除对搅拌机构5的限位，随后，搅拌机构5和杂质去除机构6配合对反应釜本体2内壁的杂质逐层刮取，实现了更好的杂质去除效果，在二乙基甲苯二胺与反应釜本体2内的三个条形凸起接触的过程中，反应釜本体2内的三个条形凸起处的杂质堆积量相对于其他无凸出部分的杂质堆积量更多，在搅拌机构5对反应釜本体2内的三个条形凸起进行杂质去除时，搅拌机构5对反应釜本体2内的三个条形凸起上杂质的刮取力度增大，实现了更好的杂质去除效果，当反应釜本体2内壁的杂质被刮取后，搅拌机构5重新被加压清理机构7限位，操作人员通过控制台3将搅拌机构5停止，在搅拌机构5对反应釜本体2内壁杂质刮取的过程中，搅拌机构5上会附着部分杂质，操作人员通过控制台3启动杂质去除机构6，将杂质去除机构6的反应釜本体2内壁清理模式调整为搅拌机构5清理模式，随后，操作人员通过控制台3启动杂质去除机构6对搅拌机构5上附着的部分杂质进行清除，然后，操作人员通过控制台3将第二出液口203内的电磁阀打开，反应釜本体2的杂质随清洗液排出，随后，操作人员通过控制台3将第一出液口202内的电磁阀打开，将位于过滤网4下方的清洗液从第一出液口202排出，由于过滤网4设置为向内凹陷，过滤网4的外侧部高于内侧部，使得反应釜本体2的杂质在排出时会向中部聚拢，实现了更好的杂质排出效果，操作人员通过控制台3将第一出液口202和第二出液口203内的电磁阀都关闭后，本反应釜使用完成。

实施例2

在实施例1的基础之上，如图3和图4所示，搅拌机构5包括有伺服电机501，伺服电机501焊接在底座1上，伺服电机501与控制台3电连接，伺服电机501的输出轴端固接有转筒502，转筒502的内部设置有第一空腔5021，转筒502外表面的下部连通有两个左右对称的固定套筒503，两个固定套筒503分别与第一空腔5021连通，两个固定套筒503内分别滑动设置有第一滑杆504，两个第一滑杆504外表面外部的直径分别与相邻固定套筒503外表面的直径相等，方便后续的杂质清理，两个第一滑杆504的内侧部分别设置有两个上下对称的凸块，用于第一滑杆504的限位，两个第一滑杆504内侧部的两个凸块上均开设有通孔，用于平衡气压，两个固定套筒503内侧面的中部分别开设有两个上下对称的滑槽，两个第一滑杆504上的两个凸块分别与相邻固定套筒503上的滑槽滑动连接，两个第一滑杆504的外端分别固接有搅拌杆505，两个搅拌杆505分别设置为菱形，用于反应釜本体2内壁杂质的去除，两个固定套筒503分别带动相邻的第一滑杆504转动，两个第一滑杆504分别带动相邻的搅拌杆505转动，两个固定套筒503、两个第一滑杆504和两个搅拌杆505对二乙基甲苯二胺进行混合搅拌。

如图5和图6所示，杂质去除机构6包括有L形板601，L形板601固接在反应釜本体2上表面的右部，L形板601的上部通过螺栓连接有电动推杆602，反应釜本体2上表面开设有通孔，电动推杆602的伸缩部位于反应釜本体2的通孔内，电动推杆602的伸缩端焊接有第一限位板603，转筒502的上部开设有两个左右对称的第一通孔5022，第一限位板603的左部转动设置有滑动套筒604，滑动套筒604套设在转筒502外侧面的上部，滑动套筒604的下部开设有两个左右对称的第二通孔6041，第一限位板603带动滑动套筒604向上移动，两个第二通孔6041逐渐与相邻的第一通孔5022连通，滑动套筒604的内侧面开设有两个上下对称的环形槽，滑动套筒604的两个环形槽内分别设置有密封环605，用于两个第二通孔6041的密封，两个密封环605套设在转筒502外侧面，矩形套筒606左右对称设置有两个，两个矩形套筒606的内侧部分别与滑动套筒604外侧面的下部焊接，两个矩形套筒606内分别开设有第二空腔6061，第二空腔6061为矩形，两个第二空腔6061分别与相邻的第二通孔6041连通，两个矩形套筒606内分别滑动设置有矩形滑杆607，两个矩形滑杆607的内侧部分别设置有两个上下对称的凸块，用于矩形滑杆607的限位，两个矩形滑杆607内侧部的两个凸块上均开设有通孔，用于平衡气压，两个矩形套筒606内侧面的左右两部分别开设有两个上下对称的滑槽，两个矩形滑杆607上的两个凸块分别与相邻矩形套筒606上的滑槽滑动连接，两个矩形滑杆607的外端分别固接有第一滑动套608，两个第一滑动套608分别套设在相邻的搅拌杆505上并与其适配，两个第一滑动套608分别对相邻搅拌杆505上的杂质进行刮除，滑动套筒604的下表面设置有清理组件，清理组件用于转筒502外侧面、两个固定套筒503外侧面和两个第一滑杆504外侧面的清理。

如图5和图6所示，清理组件包括有第一弹簧609，第一弹簧609的一端焊接在滑动套筒604的下表面，第一弹簧609的另一端焊接有第二滑动套610，第一弹簧609套设在转筒502上，两个第一滑杆504的外侧分别套设有第三滑动套611，第一滑动套608和第三滑动套611均为两个滑套和若干个支杆连接而成的组件，用于辅助两个搅拌杆505、两个固定套筒503和两个第一滑杆504上杂质的去除，使得两个连接杆612初始状态成一定角度，便于第二滑动套610带动两个第三滑动套611做远离移动，同时，两个滑套的设计，能将两个搅拌杆505以及两个固定套筒503和第一滑杆504上的杂质刮除，实现了更好的杂质去除效果，过滤网4与两个第三滑动套611有间距，两个第三滑动套611的上部分别与相邻的第二滑动套610之间铰接有连接杆612，第二滑动套610通过两个连接杆612分别带动相邻的第三滑动套611远离移动，两个第三滑动套611分别对相邻固定套筒503和第一滑杆504上的杂质进行刮除。

如图7-图9所示，加压清理机构7包括有螺纹套701，螺纹套701转动式连接在反应釜本体2上表面的中部并与其转动连接，螺纹套701内螺纹连接有螺杆702，螺杆702上部的左侧焊接有凸块，反应釜本体2上表面的右侧设置有限位块703，限位块703位于螺杆702的左侧，限位块703的右侧面开设有滑槽，螺杆702上的凸块与限位块703的滑槽滑动连接，螺杆702的下表面固接有第一推杆704，第一推杆704的下部贯穿转筒502的上部并与其滑动连接，转筒502上部的左侧开设有通气孔，用于第一空腔5021内平衡气压，转筒502内的上部开设有环形槽，第一推杆704的下端固接有活塞705，活塞705位于转筒502的环形槽内且不与其内壁接触，活塞705的直径与转筒502的内径相等，活塞705向下移动，第一空腔5021内的压强逐渐将两个第一滑杆504远离移动和两个矩形滑杆607远离移动，两个搅拌杆505逐渐与反应釜本体2内壁上的杂质接触，并且两个搅拌杆505对反应釜本体2内壁上杂质的挤压力逐渐增大，对反应釜本体2内壁上的杂质逐层刮除，实现了更好的杂质去除效果，活塞705的下表面固接有第二推杆706，第二推杆706位于转筒502内，滑动套筒604的上表面固接有第二限位板707，第二限位板707套设在转筒502的上部并与其滑动连接，第一限位杆708左右对称设置有两个，两个第一限位杆708的下端分别与第二限位板707固接，螺纹套701下部开设有两个左右对称的通孔，两个第一限位杆708分别与螺纹套701的通孔配合，第二限位板707带动两个第一限位杆708向上移动，当两个第一限位杆708进入相邻螺纹套701的通孔内时，杂质去除机构6的反应釜本体2内壁清理模式切换完成，第二推杆706的下端设置有限位组件，限位组件用于两个第一滑杆504的限位。

如图9所示，限位组件包括有限位套筒709，限位套筒709固接在第二推杆706的下端，限位套筒709内滑动设置有推盘710，推盘710的下表面固接有第二滑杆711，第二滑杆711的下部贯穿限位套筒709的下部并与其滑动连接，推盘710与限位套筒709之间焊接有第二弹簧712，第二弹簧712套设在第二滑杆711上，第二滑杆711的下部转动设置有U形架713，U形架713的左右两端分别设置为倾斜面，两个第一滑杆504的内侧部分别通过螺栓连接有第二限位杆714，两个第二限位杆714的内侧部分别开设有矩形滑槽，U形架713的左右两端分别与相邻第二限位杆714的矩形滑槽限位配合，由于两个第二限位杆714分别受U形架713的限位，使得两个第一滑杆504无法滑动，在对二乙基甲苯二胺搅拌的过程中，两个第一滑杆504和两个矩形滑杆607均处于稳固状态，确保搅拌过程的稳定性。

当需要进行二乙基甲苯二胺生产时，操作人员首先通过控制台3将进料口201内的电磁阀打开，随后通过进料口201将二乙基甲苯二胺的原料加入反应釜本体2内，加入的二乙基甲苯二胺原料的液面应低于反应釜本体2内的三个条形凸起的上端面，然后操作人员通过控制台3将进料口201内的电磁阀关闭，随后，操作人员通过控制台3启动伺服电机501，伺服电机501带动转筒502转动，转筒502带动两个固定套筒503转动，两个固定套筒503分别带动相邻的第一滑杆504转动，两个第一滑杆504分别带动相邻的搅拌杆505转动，此时两个搅拌杆505不与反应釜本体2内壁接触，两个搅拌杆505分别带动相邻的第一滑动套608转动，两个第一滑动套608分别带动相邻的矩形滑杆607转动，两个矩形滑杆607分别带动相邻的矩形套筒606转动，两个矩形套筒606带动滑动套筒604转动，滑动套筒604与转筒502同步转动，两个第一滑杆504分别带动相邻的第二限位杆714转动，两个第二限位杆714带动U形架713转动，同时，由于在搅拌机构5清理模式下螺杆702无法转动，第一推杆704、活塞705、第二推杆706、限位套筒709、推盘710、第二滑杆711和第二弹簧712均无法转动，由于二乙基甲苯二胺的液面低于两个第一滑动套608，两个第一滑动套608不与二乙基甲苯二胺接触，主要进行搅拌的为两个固定套筒503、两个第一滑杆504、搅拌杆505和转筒502，因此两个固定套筒503、两个第一滑杆504、搅拌杆505和转筒502以及反应釜本体2内壁上均有固体杂质残留，由于反应釜本体2的内壁分别设置有三个条形凸起，反应釜本体2的三个条形凸起内侧面均设置为弧面，使得二乙基甲苯二胺原料在反应釜本体2内转动的过程中，与反应釜本体2内的三个条形凸起接触，从而使二乙基甲苯二胺原料流态变化，实现了更好的混合效果。

在转筒502转动的过程中，两个矩形套筒606、两个矩形滑杆607和两个第一滑动套608主要起到支撑两个搅拌杆505的作用，此时，由于两个密封环605的密封作用，使得两个第二通孔6041分别和相邻的第二空腔6061形成密封环境，两个矩形滑杆607无法滑动，同时由于两个第二限位杆714分别受U形架713的限位，使得两个第一滑杆504无法滑动，在对二乙基甲苯二胺搅拌的过程中，两个第一滑杆504和两个矩形滑杆607均处于稳固状态，确保搅拌过程的稳定性，当二乙基甲苯二胺生成后，操作人员通过控制台3将伺服电机501关闭，伺服电机501的输出轴转动为整圈转动，随后，操作人员通过控制台3将第一出液口202内的电磁阀打开，反应釜本体2内的二乙基甲苯二胺从第一出液口202排出，反应釜本体2内的部分杂质被过滤网4拦截，当反应釜本体2内的二乙基甲苯二胺全部排出后，操作人员通过控制台3将第一出液口202内的电磁阀关闭。

随后，操作人员控制台3将进料口201内的电磁阀打开，并将清洗液加入反应釜本体2内，清洗液加入完成后，操作人员通过控制台3将进料口201内的电磁阀关闭，杂质去除机构6的初始状态为搅拌机构5清理模式，也就是两个第一限位杆708未插入螺纹套701的通孔内，转筒502内的气压部处于密封状态，随后，操作人员通过控制台3启动电动推杆602，电动推杆602带动第一限位板603向下移动，第一限位板603带动滑动套筒604向下移动，滑动套筒604带动两个矩形套筒606向下移动，两个矩形套筒606分别带动相邻的矩形滑杆607向下移动，两个矩形滑杆607分别带动相邻的第一滑动套608向下移动，同时，滑动套筒604通过第一弹簧609带动第二滑动套610向下移动，第二滑动套610通过两个连接杆612带动相邻的第三滑动套611远离移动，当两个第三滑动套611远离后，第二滑动套610向下滑动与两个固定套筒503上表面接触后受其阻挡，第二滑动套610和滑动套筒604对转筒502外侧面的固体杂质进行清理，此时，第一弹簧609被压缩，滑动套筒604继续向下移动，当两个第一滑动套608分别移动到相邻搅拌杆505的下部时，此时，两个第三滑动套611分别位于相邻第一滑杆504的外侧部，随后，操作人员通过控制台3将电动推杆602停止，两个第一滑动套608分别对相邻搅拌杆505上的杂质进行刮除，两个第三滑动套611分别对相邻固定套筒503和第一滑杆504上的杂质进行刮除，由于第一滑动套608和第三滑动套611均为两个滑套和若干个支杆连接而成的组件，使得两个连接杆612初始状态成一定角度，便于第二滑动套610带动两个第三滑动套611做远离移动，同时，两个滑套的设计，能将两个搅拌杆505以及两个固定套筒503和第一滑杆504上的杂质刮除，实现了更好的杂质去除效果。

随后，操作人员通过控制台3启动杂质去除机构6，将杂质去除机构6的搅拌机构5清理模式调整为反应釜本体2内壁清理模式，也就是两个第一限位杆708未插入相邻螺纹套701的通孔内，操作人员通过控制台3启动电动推杆602，电动推杆602带动第一限位板603向上移动，第一限位板603带动滑动套筒604向上移动，滑动套筒604带动第二限位板707向上移动，第二限位板707带动两个第一限位杆708向上移动，当两个第一限位杆708进入相邻螺纹套701的通孔内时，操作人员通过控制台3将电动推杆602停止，此时，两个第二通孔6041分别与相邻的第一通孔5022连通，模式切换完成，随后，操作人员通过控制台3启动伺服电机501，伺服电机501带动转筒502转动，同时，滑动套筒604通过第二限位板707带动两个第一限位杆708转动，两个第一限位杆708带动螺纹套701转动，螺纹套701带动螺杆702向下移动，螺杆702通过第一推杆704带动活塞705向下移动，活塞705向下移动后将第一空腔5021封堵，随着活塞705的继续向下移动，第一空腔5021内气压逐渐增大，同时，两个第二通孔6041内压强逐渐增大，活塞705带动第二推杆706向下移动，第二推杆706带动限位套筒709向下移动，限位套筒709通过推盘710带动第二滑杆711向下移动，第二滑杆711带动U形架713向下移动，随后，U形架713将两个第二限位杆714的限位解除，此时，第一空腔5021内的压强逐渐将两个第一滑杆504远离移动和两个矩形滑杆607远离移动，两个搅拌杆505逐渐与反应釜本体2内壁上的杂质接触，并且两个搅拌杆505对反应釜本体2内壁上杂质的挤压力逐渐增大，对反应釜本体2内壁上的杂质逐层刮除，实现了更好的杂质去除效果，在两个搅拌杆505对反应釜本体2内壁上的杂质刮除的过程中，两个第一滑动套608位于反应釜本体2内的上部不与其内壁接触，由于两个搅拌杆505分别设置为菱形，菱形的一边与反应釜本体2内壁的杂质接触，实现了更好的杂质去除效果。

在二乙基甲苯二胺与反应釜本体2内的三个条形凸起接触的过程中，反应釜本体2内的三个条形凸起处的杂质堆积量相对于其他无凸出部分的杂质堆积量更多，在两个搅拌杆505对反应釜本体2内的三个条形凸起进行杂质去除时，两个搅拌杆505会相对运动，转筒502内压强增大，对反应釜本体2内的三个条形凸起上杂质的刮取力度增大，实现了更好的杂质去除效果，当反应釜本体2内壁的杂质被刮取后，操作人员通过控制台3启动伺服电机501反向转动，伺服电机501带动转筒502反向转动，此时，螺纹套701带动螺杆702向上移动，活塞705向上移动使得第一空腔5021内的压强降低，两个搅拌杆505逐渐相对移动，对反应釜本体2内壁的杂质进行反向刮除，在活塞705向上移动的过程中，两个第二限位杆714的内侧面挤压U形架713，U形架713向下移动，第二弹簧712被拉伸，当U形架713的两端重新进入相邻第二限位杆714的矩形限位槽内时，第二弹簧712复位，两个第二限位杆714被限位，随后，操作人员通过控制台3将伺服电机501停止，在两个搅拌杆505对反应釜本体2内壁杂质刮取的过程中，两个搅拌杆505上会附着部分杂质，操作人员通过控制台3启动杂质去除机构6，将杂质去除机构6的反应釜本体2内壁清理模式调整为搅拌机构5清理模式，随后，操作人员通过控制台3启动杂质去除机构6对搅拌机构5上附着的部分杂质进行清除，然后，操作人员通过控制台3将第二出液口203内的电磁阀打开，反应釜本体2的杂质随清洗液排出，由于过滤网4设置为向内凹陷，过滤网4的外侧部高于内侧部，使得反应釜本体2的杂质在排出时会向中部聚拢，实现了更好的杂质排出效果，操作人员通过控制台3将第一出液口202和第二出液口203内的电磁阀都关闭后，本反应釜使用完成。

而且本发明所揭露如上的各实施例中，并非用以限定本发明，任何熟悉此技术者，在部脱离本发明的精神和范围内，可作何种的更动与润饰，因此本发明的保护范围应以附上的权利要求所界定的为准。

Claims (7)

1.一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，其中包括有底座（1），底座（1）上设置有反应釜本体（2），反应釜本体（2）内的上部直径大于其下部的直径，反应釜本体（2）上表面设置有进料口（201），反应釜本体（2）下表面设置有第一出液口（202），反应釜本体（2）内表面的下部设置为圆柱凸起，反应釜本体（2）的圆柱凸起上设置有第二出液口（203），进料口（201）、第一出液口（202）和第二出液口（203）内均设置有电磁阀，反应釜本体（2）外侧面设置有控制台（3），反应釜本体（2）内的下部设置有过滤网（4），过滤网（4）的内侧部套设在反应釜本体（2）的圆柱凸起上，其特征是，还包括有搅拌机构（5），搅拌机构（5）设置在底座（1）上，搅拌机构（5）上部位于反应釜本体（2）内，搅拌机构（5）上设置有杂质去除机构（6），杂质去除机构（6）用于搅拌机构（5）上杂质的清理，搅拌机构（5）和杂质去除机构（6）配合，用于二乙基甲苯二胺溶液的搅拌，杂质去除机构（6）上设置有加压清理机构（7），搅拌机构（5）通过杂质去除机构（6）带动加压清理机构（7）进行加压操作，并通过加压清理机构（7）解除对搅拌机构（5）的限位，使搅拌机构（5）贴合反应釜本体（2），对反应釜本体（2）内壁杂质逐层清理，进料口（201）、第一出液口（202）和第二出液口（203）上的电磁阀均与控制台（3）电连接，搅拌机构（5）和杂质去除机构（6）均与控制台（3）电连接；

其中搅拌机构（5）包括有伺服电机（501），伺服电机（501）固接在底座（1）上，伺服电机（501）与控制台（3）电连接，伺服电机（501）的输出轴端固接有转筒（502），转筒（502）的内部设置有第一空腔（5021），固定套筒（503）左右对称设置有两个，两个固定套筒（503）的内侧部分别与转筒（502）外表面的下部固接，两个固定套筒（503）分别与第一空腔（5021）连通，两个固定套筒（503）内分别滑动设置有第一滑杆（504），两个第一滑杆（504）外表面外部的直径分别与相邻固定套筒（503）外表面的直径相等，两个第一滑杆（504）的内侧部分别设置有两个上下对称的凸块，两个第一滑杆（504）内侧部的两个凸块上均开设有通孔，两个固定套筒（503）内侧面的中部分别开设有两个上下对称的滑槽，两个第一滑杆（504）上的两个凸块分别与相邻固定套筒（503）上的滑槽滑动连接，两个第一滑杆（504）的外端分别固接有搅拌杆（505），第一滑杆（504）和搅拌杆（505）配合，用于二乙基甲苯二胺的混合；

其中杂质去除机构（6）包括有L形板（601），L形板（601）固接在反应釜本体（2）的上表面，L形板（601）的上部固接有电动推杆（602），反应釜本体（2）上表面开设有通孔，电动推杆（602）的伸缩部位于反应釜本体（2）的通孔内，电动推杆（602）的伸缩端固接有第一限位板（603），转筒（502）的上部开设有两个左右对称的第一通孔（5022），第一限位板（603）的左部转动设置有滑动套筒（604），滑动套筒（604）套设在转筒（502）外侧面的上部，滑动套筒（604）的下部开设有两个左右对称的第二通孔（6041），滑动套筒（604）的内侧面开设有两个上下对称的环形槽，滑动套筒（604）的两个环形槽内分别设置有密封环（605），两个密封环（605）套设在转筒（502）外侧面，矩形套筒（606）左右对称设置有两个，两个矩形套筒（606）的内侧部分别与滑动套筒（604）外侧面的下部固接，两个矩形套筒（606）内分别开设有第二空腔（6061），第二空腔（6061）为矩形，两个第二空腔（6061）分别与相邻的第二通孔（6041）连通，两个矩形套筒（606）内分别滑动设置有矩形滑杆（607），两个矩形滑杆（607）的内侧部分别设置有两个上下对称的凸块，两个矩形滑杆（607）内侧部的两个凸块上均开设有通孔，两个矩形套筒（606）内侧面的左右两部分别开设有两个上下对称的滑槽，两个矩形滑杆（607）上的两个凸块分别与相邻矩形套筒（606）上的滑槽滑动连接，两个矩形滑杆（607）的外端分别固接有第一滑动套（608），两个第一滑动套（608）分别套设在相邻的搅拌杆（505）上并与其适配，滑动套筒（604）的下表面设置有清理组件，清理组件用于转筒（502）外侧面、两个固定套筒（503）外侧面和两个第一滑杆（504）外侧面的清理，矩形滑杆（607）和第一滑动套（608）配合，用于两个搅拌杆（505）上杂质的去除；

其中加压清理机构（7）包括有螺纹套（701），螺纹套（701）转动式连接在反应釜本体（2）上表面的中部，螺纹套（701）内螺纹连接有螺杆（702），螺杆（702）上部的左侧固接有凸块，反应釜本体（2）上表面的右侧设置有限位块（703），限位块（703）位于螺杆（702）的左侧，限位块（703）的右侧面开设有滑槽，螺杆（702）上的凸块与限位块（703）的滑槽滑动连接，螺杆（702）的下表面固接有第一推杆（704），第一推杆（704）的下部贯穿转筒（502）的上部并与其滑动连接，转筒（502）上部的左侧开设有通气孔，转筒（502）内的上部开设有环形槽，第一推杆（704）的下端固接有活塞（705），活塞（705）位于转筒（502）的环形槽内且不与其内壁接触，活塞（705）的直径与转筒（502）的内径相等，活塞（705）的下表面固接有第二推杆（706），第二推杆（706）位于转筒（502）内，滑动套筒（604）的上表面固接有第二限位板（707），第二限位板（707）套设在转筒（502）的上部并与其滑动连接，第一限位杆（708）左右对称设置有两个，两个第一限位杆（708）的下端分别与第二限位板（707）固接，螺纹套（701）下部开设有两个左右对称的通孔，两个第一限位杆（708）分别与螺纹套（701）的通孔配合，第二推杆（706）的下端设置有限位组件，限位组件用于两个第一滑杆（504）的限位，第一推杆（704）和活塞（705）配合，用于转筒（502）内压强的增大。

2.如权利要求1所述的一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，所述反应釜本体（2）的内壁分别设置有三个条形凸起，反应釜本体（2）的三个条形凸起内侧面均设置为弧面，用于二乙基甲苯二胺溶液的搅拌，反应釜本体（2）上的三个条形凸起位于其内直径小的内壁上，过滤网（4）的外侧部与反应釜本体（2）三个条形凸起的下表面接触。

3.如权利要求1所述的一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，其中过滤网（4）设置为向下凹陷锥面，过滤网（4）的外侧部高于内侧部，用于固体杂质的排出。

4.如权利要求1所述的一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，其中两个搅拌杆（505）分别设置为菱形，用于反应釜本体（2）内壁杂质的去除。

5.如权利要求4所述的一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，其中清理组件包括有第一弹簧（609），第一弹簧（609）的一端固接在滑动套筒（604）的下表面，第一弹簧（609）的另一端固接有第二滑动套（610），第一弹簧（609）套设在转筒（502）上，两个第一滑杆（504）的外侧分别套设有第三滑动套（611），过滤网（4）与两个第三滑动套（611）有间距，两个第三滑动套（611）的上部分别与相邻的第二滑动套（610）之间铰接有连接杆（612），第二滑动套（610）、第三滑动套（611）和连接杆（612）配合，用于转筒（502）、两个固定套筒（503）和两个第一滑杆（504）上杂质的去除。

6.如权利要求5所述的一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，其中第一滑动套（608）和第三滑动套（611）均为两个滑套和若干个支杆连接而成的组件，用于辅助两个搅拌杆（505）、两个固定套筒（503）和两个第一滑杆（504）上杂质的去除。

7.如权利要求6所述的一种二乙基甲苯二胺生产用具有杂质分离功能的反应釜，其中限位组件包括有限位套筒（709），限位套筒（709）固接在第二推杆（706）的下端，限位套筒（709）内滑动设置有推盘（710），推盘（710）的下表面固接有第二滑杆（711），第二滑杆（711）的下部贯穿限位套筒（709）的下部并与其滑动连接，推盘（710）与限位套筒（709）之间固接有第二弹簧（712），第二弹簧（712）套设在第二滑杆（711）上，第二滑杆（711）的下部转动设置有U形架（713），U形架（713）的左右两端分别设置为倾斜面，两个第一滑杆（504）的内侧部分别固接有第二限位杆（714），两个第二限位杆（714）的内侧部分别开设有矩形滑槽，U形架（713）的左右两端分别与相邻第二限位杆（714）的矩形滑槽限位配合，第二滑杆（711）、第二弹簧（712）、U形架（713）和第二限位杆（714）配合，用于两个第一滑杆（504）的限位。

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