CN114790553B - 一种电化学体系中吲哚c-2位二氟甲基化修饰的方法 - Google Patents
一种电化学体系中吲哚c-2位二氟甲基化修饰的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114790553B CN114790553B CN202210205116.3A CN202210205116A CN114790553B CN 114790553 B CN114790553 B CN 114790553B CN 202210205116 A CN202210205116 A CN 202210205116A CN 114790553 B CN114790553 B CN 114790553B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- indole
- electrode
- mmol
- difluoromethylation
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 68
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 36
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 230000004048 modification Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 238000012986 modification Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 52
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 27
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 claims abstract description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- -1 tetrabutylammonium tetrafluoroborate Chemical compound 0.000 claims description 34
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 25
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 24
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 24
- WRYSLFYACKIPNN-UHFFFAOYSA-M sodium;difluoromethanesulfinate Chemical group [Na+].[O-]S(=O)C(F)F WRYSLFYACKIPNN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 22
- WGHUNMFFLAMBJD-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O.CC[N+](CC)(CC)CC WGHUNMFFLAMBJD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 5
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- JPNJEGBRCLLKMC-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1-(2h-pyrimidin-1-yl)indole Chemical compound C1=CC2=CC(Br)=CC=C2N1N1CN=CC=C1 JPNJEGBRCLLKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims description 3
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 claims description 3
- KBLZDCFTQSIIOH-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC KBLZDCFTQSIIOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229940076286 cupric acetate Drugs 0.000 claims description 2
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 claims description 2
- XTUSEBKMEQERQV-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;hydrate Chemical compound O.CC(C)O XTUSEBKMEQERQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 abstract description 2
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 20
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 20
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 20
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 20
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 19
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 19
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 16
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 5
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000806 fluorine-19 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N methylphosphonyl difluoride Chemical group CP(F)(F)=O PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004071 biological effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009509 drug development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000011987 methylation Effects 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002547 new drug Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
- C25B3/01—Products
- C25B3/09—Nitrogen containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
- C25B3/01—Products
- C25B3/05—Heterocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
- C25B3/01—Products
- C25B3/11—Halogen containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
- C25B3/20—Processes
- C25B3/29—Coupling reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
Abstract
本发明公开了一种电化学体系中吲哚C‑2位二氟甲基化修饰的方法，包括将式(1)所示化合物和二氟甲基试剂、铜催化剂、电解质溶解于溶剂中，再将电极插入到反应溶液中，接通恒定电流搅拌反应，得到C‑2位二氟甲基化修饰的吲哚衍生物(2)；其中，R1为H或者C1‑C3烷基、R2为H或者卤素。本发明采用电化学反应体系，无需添加额外的化学氧化还原剂，具有极高的电子转移效率，并且具有反应条件温和、产物产率高、化学选择性好等优点，更加符合当今社会绿色可持续发展的宗旨。
Description
技术领域
本发明属于绿色化工合成领域，具体涉及一种电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法。
背景技术
吲哚及其衍生物具有独特的结构特征、多样的生物活性和巨大的药用价值，在医药、农药、功能材料领域有着广泛的应用。近年来针对吲哚母核的合成和功能化修饰一直被广泛的关注。随着有机氟化学的兴起，将功能性的含氟基团引入到重要的药物和功能性母核对新药的研发和改性具有十分重要的推动作用。由于C-F键与C-H键相似，但相较于C-H键，C-F键更稳定且具有更好的亲脂性，强吸电子的多氟基团更能降低药物分子的电子云密度，改善药代动力学性质，因此将含氟基团引入功能分子已成为药物开发前阶段的必要手段。由于二氟甲基独特的结构使其具有弱酸性，可以建立氢键相互作用，从而提高生物活性化合物的结合选择性；其次其电子结构与醇，氨基等相似可以作为生物电子等排体用于药物的开发。因此将二氟甲基引入到吲哚母核中对含吲哚类药物结构的改性具有重要的指导意义。
近年来，将二氟结构引入吲哚的方法相对较少而且在已报道的方法中大都使用贵金属催化，都使用了一些如银类添加剂和强氧化剂等对环境不太友好且昂贵的试剂。因此，开发一类实用有效且对环境友好的方法将二氟甲基引入吲哚是非常有价值的。
发明内容
发明目的：为了解决现有技术存在的环境污染问题和产物产率低、反应选择性差、能耗大等问题，本发明提供一种乐电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，
技术方案：为了达到上述发明问题，本发明采取的技术方案如下：
一种电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，包括将式(1)所示化合物和二氟甲基试剂、铜催化剂、电解质溶解于溶剂中，再将电极插入到反应溶液中，接通恒定电流搅拌反应，得到C-位二氟甲基化修饰的吲哚衍生物(2)；
其中，R1为H或者C1-C3烷基、R2为H或者卤素。
优选的，所述式(1)所示化合物选自N-嘧啶吲哚、N-1-嘧啶基-3-甲基吲哚、N-1-嘧啶基-4-氯吲哚或N-1-嘧啶基-5-溴吲哚；所述二氟甲基试剂选自二氟甲基亚磺酸钠；所述式(1)所示化合物与二氟甲基化试剂的摩尔比为1:1～1:3，更优选摩尔比为1:2。
优选的，所述铜催化剂为氯化亚铜、溴化亚铜、碘化亚铜、氧化亚铜、氯化铜和乙酸铜中的任意一种，更优选氯化铜；所述式(1)所示化合物与铜催化剂的摩尔比为10:1～20:1，更优选摩尔比为10:1。
优选的，所述电解质为四丁基四氟硼酸铵、四丁基六氟磷酸铵、四丁基高氯酸铵、四丁基氟化铵、四乙基高氯酸铵和四乙基四氟硼酸铵中的任意一种，更优选为四乙基高氯酸铵；所述式(1)所示化合物与电解质的摩尔比为1:1～3:1，更优选摩尔比为2:1。
优选的，所述溶剂为乙腈、1,2-二氯乙烷、N,N-二甲基甲酰胺、水、甲醇和六氟异丙醇中的一种或几种的混合溶剂，更优乙腈与水的混合溶剂，两者体积比为8:2。
优选的，所述恒定电流控制在4～10mA，更优选为8mA。采用的直流电源的规格为5A，30V；
优选的，所述电极包括阳极和阴极，阳极为石墨棒电极、铂电极、不锈钢电极中的一种，更优选为石墨棒电极；阴极为石墨棒电极、铂电极、不锈钢电极中的一种，更优选为铂电极。
优选的，所述反应的温度为室温，反应时长为2～6h，更优选为4h。
有益效果：与现有技术相比，本发明采用电化学合成方法，以电流作为电子转移介质无需外源氧化剂，并且具有反应条件温和、产物产率高、化学选择性好等优点，更加符合当今社会绿色可持续发展的宗旨；本发明得到的C-位二氟甲基化修饰吲哚产率高达95％左右。
附图说明
图1为本发明的反应机理图。
图2为实施例1得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的1H NMR谱图。
图3为实施例1得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的19F NMR谱图。
图4为实施例1得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的13C NMR谱图。
图5为实施例18得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的1H NMR谱图。
图6为实施例18得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的19F NMR谱图。
图7为实施例18得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的13C NMR谱图。
图8为实施例19得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的1H NMR谱图。
图9为实施例19得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的19F NMR谱图。
图10为实施例19得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的13C NMR谱图。
图11为实施例20得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的1H NMR谱图。
图12为实施例20得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的19F NMR谱图。
图13为实施例20得到的C-2位二氟甲基化修饰吲哚的13C NMR谱图。
具体实施方式
根据下述实施例，可以更好地理解本发明。然而，本领域的技术人员容易理解，实施例所描述的内容仅用于说明本发明，而不应当也不会限制权利要求书中所详细描述的本发明。
实施例转化率通过HPLC测得，数据见表1，以反应底物N-嘧啶吲哚(0.5mmol)为1当量。
实施例1
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率95％。1H NMR(400MHz,CDCl3)δ8.75(d,J＝4.8Hz,2H),8.68(d,J＝8.5Hz,1H),7.96–7.66(m,2H),7.41(t,J＝7.8Hz,1H),7.29(t,J＝7.5Hz,1H),7.17–7.10(m,2H).19FNMR(376MHz,CDCl3)δ-113.78(s,2F).13C NMR(100MHz,CDCl3)δ158.02,157.57,137.29,133.14(t,J＝28.9Hz),128.04,125.21,122.68,121.62,116.99,115.76,110.63(t,J＝236.5Hz),109.13(t,J＝6.8Hz).HRMS(ESI-TOF)m/z Calcd for C13H9F2N3[M+H]+:246.0837,found:246.0830.
实施例2
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(0.5mmol，69.04mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率87％。
实施例3
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.5mmol，207.14mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率95％。
实施例4
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化亚铜(0.05mmol,4.95mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率80％。
实施例5
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、乙酸铜(0.05mmol,9.98mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率88％。
实施例6
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四丁基高氯酸铵(0.25mmol，85.50mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率91％。
实施例7
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基四氟硼酸铵(0.25mmol，54.27mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率84％。
实施例8
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.125mmol，28.72mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率82％。
实施例9
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.5mmol，114.86mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率93％。
实施例10
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂DMF(10mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率75％。
实施例11
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/甲醇(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率79％。
实施例12
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(7mL)/水(3mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率89％。
实施例13
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(9mL)/水(1mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率92％。
实施例14
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在10mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率94％。
实施例15
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在6mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率87％。
表1 N-1-嘧啶基-2-二氟甲基-吲哚的收率
实施例16
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以铂电极作为阳极，石墨棒电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率77％。
实施例17
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-嘧啶吲哚(0.5mmol,97.54mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，不锈钢电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率70％。
实施例18
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-1-嘧啶基-3-甲基吲哚(0.5mmol,104.55mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率97％。1H NMR(400MHz,CDCl3)δ8.76(d,J＝4.8Hz,2H),8.52(d,J＝8.4Hz,1H),7.96–7.63(m,2H),7.39(t,J＝7.7Hz,1H),7.30(t,J＝7.4Hz,1H),7.13(t,J＝4.8Hz,1H),2.56(t,J＝3.3Hz,3H).19F NMR(376MHz,CDCl3)δ-110.66(s,2F).13C NMR(100MHz,CDCl3)δ158.13,157.72,136.37,129.80,127.58(d,J＝27.7Hz),125.49,122.31,119.75(t,J＝2.8Hz),119.49,116.84,115.10,111.93(t,J＝234.7Hz),9.24.HRMS(ESI-TOF)m/z Calcd for C14H11F2N3[M+H]+:260.0994,found:260.0987.
实施例19
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-1-嘧啶基-4-氯吲哚(0.5mmol,114.52mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率92％。1H NMR(400MHz,CDCl3)δ8.76(d,J＝4.8Hz,2H),8.56(d,J＝7.7Hz,1H),7.94–7.62(m,1H),7.33–7.26(m,2H),7.25(s,1H),7.17(t,J＝4.8Hz,1H).19F NMR(376MHz,CDCl3)δ-114.18(s,2F).13C NMR(100MHz,CDCl3)δ158.13,157.33,137.86,133.72(t,J＝29.1Hz),126.89,126.79,125.77,122.41,117.47,114.42,110.32(t,J＝237.1Hz),107.20(t,J＝7.0Hz).HRMS(ESI-TOF)m/z Calcd for C13H8ClF2N3[M+H]+:280.0448,found:280.0442.
实施例20
在配有电极的50mL玻璃瓶中，依次加入N-1-嘧啶基-5-溴吲哚(0.5mmol,136.50mg)、二氟甲基亚磺酸钠(1.0mmol，138.07mg)、氯化铜(0.05mmol,6.72mg)、电解质四乙基高氯酸铵(0.25mmol，57.43mg)与反应溶剂乙腈(8mL)/水(2mL)；以石墨棒电极作为阳极，铂电极作为阴极与直流电源连接，室温下在8mA的恒定电流中搅拌反应4h；反应完成后，水洗、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、浓缩、硅胶柱层析分离纯化得到目标C-2位二氟甲基修饰的吲哚产物，产率90％。1H NMR(400MHz,CDCl3)δ8.76(d,J＝4.8Hz,2H),8.57(d,J＝9.0Hz,1H),7.93–7.62(m,2H),7.46(d,J＝10.9Hz,1H),7.18(t,J＝4.8Hz,1H),7.06(s,1H).19F NMR(376MHz,CDCl3)δ-114.13(s,2F).13C NMR(100MHz,CDCl3)δ158.12,157.31,135.95,134.63–133.55(m),129.71,128.03,124.08,117.47,117.33,115.86,110.30(t,J＝236.9Hz),108.26(t,J＝6.9Hz).HRMS(ESI-TOF)m/z Calcd for C13H8BrF2N3[M+H]+:323.9942,found:323.9938.
本发明提供了一种电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，具体实现该技术方案的方法和途径很多，以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。本实施例中未明确的各组成部分均可用现有技术加以实现。
Claims (6)
1.一种电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，其特征在于，包括将式(1)所示化合物和二氟甲基试剂、铜催化剂、电解质溶解于溶剂中，再将电极插入到反应溶液中，接通恒定电流搅拌反应，得到C-2位二氟甲基化修饰的吲哚衍生物(2)；
其中，R1为H或者C1-C3烷基、R2为H或者卤素；
所述二氟甲基试剂选自二氟甲基亚磺酸钠；所述铜催化剂为氯化亚铜、溴化亚铜、碘化亚铜、氧化亚铜、氯化铜和乙酸铜中的任意一种；所述电解质为四丁基四氟硼酸铵、四丁基六氟磷酸铵、四丁基高氯酸铵、四丁基氟化铵、四乙基高氯酸铵和四乙基四氟硼酸铵中的任意一种；所述溶剂为乙腈、1,2-二氯乙烷、N,N-二甲基甲酰胺、水、甲醇和六氟异丙醇中的一种或几种的混合溶剂。
2.根据权利要求1所述的电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，其特征在于，所述式(1)所示化合物选自N-嘧啶吲哚、N-1-嘧啶基-3-甲基吲哚、N-1-嘧啶基-4-氯吲哚或N-1-嘧啶基-5-溴吲哚；所述式(1)所示化合物与二氟甲基化试剂的摩尔比为1:1～1:3。
3.根据权利要求1所述的电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，其特征在于，所述式(1)所示化合物与电解质的摩尔比为1:1～3:1。
4.根据权利要求1所述的电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，其特征在于，所述恒定电流控制在4～10mA。
5.根据权利要求1所述的电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，其特征在于，所述电极包括阳极和阴极，阳极为石墨棒电极、铂电极、不锈钢电极中的一种；阴极为石墨棒电极、铂电极、不锈钢电极中的一种。
6.根据权利要求1所述的电化学体系中吲哚C-2位二氟甲基化修饰的方法，其特征在于，所述反应的温度为室温，反应时长为2～6h。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210205116.3A CN114790553B (zh) | 2022-03-02 | 2022-03-02 | 一种电化学体系中吲哚c-2位二氟甲基化修饰的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210205116.3A CN114790553B (zh) | 2022-03-02 | 2022-03-02 | 一种电化学体系中吲哚c-2位二氟甲基化修饰的方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114790553A CN114790553A (zh) | 2022-07-26 |
| CN114790553B true CN114790553B (zh) | 2023-11-14 |
Family
ID=82460135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210205116.3A Active CN114790553B (zh) | 2022-03-02 | 2022-03-02 | 一种电化学体系中吲哚c-2位二氟甲基化修饰的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114790553B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117265556A (zh) * | 2023-10-09 | 2023-12-22 | 上海陶术生物科技有限公司 | 1,3-二芳巯基中氮茚衍生物的电化学制备方法和应用 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111364057A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-07-03 | 中国药科大学 | 一种利用电化学微通道反应装置连续制备c-3位多氟甲基取代香豆素的方法 |
| CN112301370A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-02-02 | 湖南科技学院 | 一种1,3-二甲基-3-二氟乙基-2-氧化吲哚化合物的电化学合成方法 |
| CN112410809A (zh) * | 2020-11-12 | 2021-02-26 | 南京工业大学 | 一种利用电化学微通道反应装置电催化吲哚合成含氟喹啉酮类化合物的方法 |
-
2022
- 2022-03-02 CN CN202210205116.3A patent/CN114790553B/zh active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111364057A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-07-03 | 中国药科大学 | 一种利用电化学微通道反应装置连续制备c-3位多氟甲基取代香豆素的方法 |
| CN112301370A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-02-02 | 湖南科技学院 | 一种1,3-二甲基-3-二氟乙基-2-氧化吲哚化合物的电化学合成方法 |
| CN112410809A (zh) * | 2020-11-12 | 2021-02-26 | 南京工业大学 | 一种利用电化学微通道反应装置电催化吲哚合成含氟喹啉酮类化合物的方法 |
Non-Patent Citations (4)
| Title |
|---|
| Direct C2-trifluoromethylation of indole derivatives catalyzed by copper acetate;Ryo Shimizu等;《Tetrahedron Letters》;第51卷;第5947–5949页 * |
| Electrochemical-Oxidation-Promoted Direct N‑ortho-Selective Difluoromethylation of Heterocyclic N‑Oxides;Dong Zhang等;《Org. Lett.》;第24卷;第1434−1438页 * |
| The copper(II)-catalyzed and oxidant-promoted regioselective C-2 difluoromethylation of indoles and pyrroles;Dong Zhang等;《Chem. Commun.》;第56卷;第8119-8122页 * |
| 基于Langlois 试剂的吲哚选择性三氟甲基化研究;郑燕霞等;《南昌师范学院学报( 综合)》;第40卷(第6期);第24-27页 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114790553A (zh) | 2022-07-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111364057B (zh) | 一种利用电化学微通道反应装置连续制备c-3位多氟甲基取代香豆素的方法 | |
| CN111690947B (zh) | 三氟甲基化芳基酰胺衍生物的电化学合成方法 | |
| CN111560624B (zh) | 一种利用微通道反应装置连续制备异苯并呋喃类化合物的方法 | |
| CN106906486B (zh) | 3-溴-2-苯基-咪唑并[1,2-α]吡啶类衍生物的电化学合成方法 | |
| CN114790553B (zh) | 一种电化学体系中吲哚c-2位二氟甲基化修饰的方法 | |
| CN111235598B (zh) | 一种利用微反应装置连续电合成螺[4.5]三烯酮的方法 | |
| CN107828236A (zh) | 一种以酰肼为锚固基团的锌卟啉染料敏化剂及其制备方法 | |
| CN110284149A (zh) | 中环内酰胺类化合物的合成方法 | |
| CN114892187B (zh) | 一种电化学合成咪唑类多环芳香族化合物的方法 | |
| CN113481524B (zh) | 一种电化学合成3-三氟甲基香豆素化合物的制备方法 | |
| CN112695337B (zh) | 一种采用电化学微通道连续制备1-（甲基磺酰基）-2-（苯基乙炔基）苯的方法 | |
| CN114438523B (zh) | 一种绿色高效的苯并噻吩类化合物电化学合成方法 | |
| CN113981477B (zh) | 一种一锅两步法电氧化环合制备哒嗪类化合物的方法 | |
| CN113584507B (zh) | 一种利用微反应装置连续电合成磺酰化异吲哚啉酮的方法 | |
| CN111575731B (zh) | 电化学合成c5、c7二卤化喹啉酰胺衍生物的方法 | |
| CN112239871B (zh) | 一种利用电化学微通道反应装置连续制备c-2位氯取代喹啉的方法 | |
| CN113930793A (zh) | 一种利用电化学微通道反应装置制备3-甲基-5-溴甲基吡啶溴酸盐的方法 | |
| CN114182273A (zh) | 一种三氟甲基菲啶化合物的合成方法 | |
| CN114409609B (zh) | 一种磺酰基取代的4,5,6,7-四氢-1,3-氧氮杂环庚烷的制备方法 | |
| CN115044923B (zh) | 一种利用电化学反应制备2-芳基-3-硫氰基-苯并噻吩的方法 | |
| CN111592489B (zh) | 喹啉酰胺的喹啉骨架选择性c5卤化的方法 | |
| CN115142077B (zh) | 电化学微通道反应装置在1,2-炔基迁移反应中的应用 | |
| CN112708902B (zh) | 一种电化学合成吲哚类化合物的方法 | |
| CN115261896B (zh) | 一种4’-烷胺基苯甲基-3-咪唑并[1,2-a]吡啶类衍生物的合成方法 | |
| CN117924194A (zh) | 一种7-硫氰喹喔啉酮类化合物及其合成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |