CN114752775B - 一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料及其制备方法 - Google Patents

一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及超薄镍带制备技术领域，具体是涉及一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料及其制备方法；所述镍基材料为带状镍基材料，宽度为1～10mm，厚度为0.03～0.08mm；所述带状镍基材料的硬度为软态70～100HV；所述带状镍基材料的侧边弯曲度为0.5～2.5mm/m；制备方法包括：S1、第一次熔融态提纯；S2、第二次固相提纯；S3、热轧处理；S4、表面处理；S5、冷轧；S6、钟罩式光亮退火；S7、精冷轧；S8、连续光亮退火；S9、涂覆透明导电膜；本发明提供的镍基带材具有高纯度、高精度、低电阻且耐腐蚀抗氧化的特点。

Description

一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料及其制备方法
技术领域
本发明涉及超薄镍带制备技术领域，具体是涉及一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料及其制备方法。
背景技术
纯镍在许多酸性和碱性的环境中都表现出良好的耐蚀性，多被应用在还原性介质中；镍的特点是耐碱性介质的腐蚀，如苛性钾，苛性钠等，因此被广泛应用于离子膜烧碱工艺；与其它大多数的金属相比，镍在干燥的氟中的耐蚀性良好。镍还成功应用于常温到540℃的干燥氯气和氯化氢中；也可应用在静止的氢氟酸溶液；另外镍具有较高的抗蚀功能，还拥有磁致伸缩性及磁性、高传热性、高导电性、低气体量及低蒸气压力等特点；具有良好的点焊性能，拉伸张力高，操作方便，电阻率低可通过50A以上电流，主要用于制造镍氢电池，锂电池，组合电池等动力电池。
现有技术生产镍基带材的精度低，镍基带材的厚度精准度差；含杂质含量高，生产的镍基带材纯度低，电阻值较高。
发明内容
本发明解决的技术问题是：提供一种制备高纯度、高精度、低电阻且耐腐蚀抗氧化的镍基带材。
本发明的技术方案是：一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料，所述镍基材料为带状镍基材料，宽度为1～10mm，厚度为0.03～0.08mm；所述带状镍基材料的硬度为软态70～100HV；所述带状镍基材料的侧边弯曲度为0.5～2.5mm/m；
所述带状镍基材料的电阻率小于0.068Ω·mm2/m；
所述带状镍基材料的镍含量大于99.98％；
所述带状镍基材料的硫含量为0.0001～0.0009％，磷含量为0.0001～0.0008％，铅含量为0.0001～0.0007％；余下为少量不可避免的杂质；
所述带状镍基材料表面覆有透明导电膜；所述透明导电膜包括柔性基底层，保护层，以及设置在所述柔性基底层、保护层之间的导电层；
所述柔性基底层为PDMS薄膜；
所述导电层为厚度为150～200nm的氧化铟锡层以及厚度为60～80nm的碳纳米管层；所述氧化铟锡层采用磁控溅射工艺均匀涂覆在PDMS薄膜上；所述碳纳米管层采用喷涂工艺均匀喷涂在氧化铟锡层上；
所述保护层为氧化石墨烯薄膜。
上述高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，包括以下步骤：
S1、第一次熔融态提纯
准备镍板；采用真空蒸馏提纯法将镍板熔融，利用镍与杂质的蒸气压差和挥发速度差对镍第一次提纯处理，在熔融态提纯处理的同时采用磁力搅拌对熔融态的镍进行搅拌，保温时间38～70min；然后制备圆柱镍材，并冷却至60～80℃；
S2、第二次固相提纯
将圆柱镍材，水平固定在密闭空腔内，对密闭空腔抽真空，充入惰性保护气体；然后在圆柱镍材两端通电，根据镍的相转变规律，将圆柱镍材加热至0.6～0.9Tm，其中Tm为镍的熔点；持续加热时间为60～120min；利用离子迁移作用对圆柱镍材进行第二次固相提纯；
然后将靠近通电阴极的圆柱镍材端部切除，其中切除长度为圆柱镍材长度的12～28％；剩余得到高纯镍材；
S3、热轧处理
将步骤S2得到的高纯镍材加热至1100～1260℃，经过7～11个道次，热轧至厚度为5.5～6.0mm的镍板坯；
S4、表面处理
先对步骤S3得到的镍板材进行滚磨处理；然后采用去离子水进行清洗；
S5、冷轧
对清洗后的镍板材进行5～7道次的冷轧，得到厚度为1.8～2.8mm的镍带坯料；
S6、钟罩式光亮退火
对步骤S5得到的镍带坯料进行钟罩式光亮退火，先在680～750℃下保温50～160min，然后在830～980℃下保温90～150min；
S7、精冷轧
将经过钟罩式光亮退火得到的镍带坯料进行7～9道次的高精度冷轧制；得到厚度为0.03～0.08mm的镍基带材；
S8、连续光亮退火
对步骤S7得到的镍基带材进行连续光亮退火，得到退火处理后的高纯镍基带材；
S9、涂覆透明导电膜
在步骤S8得到的退火处理后的高纯镍基带材表面依次涂覆柔性基底层、氧化铟锡层、碳纳米管层、保护层，得到成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料；
其中采用磁控溅射工艺涂覆氧化铟锡层，采用喷涂工艺喷涂碳纳米管层。
进一步地，所述步骤S8在退火前使用氮气以150～180m3/h的流量对镍基带材进行吹扫；
在连续式光亮热处理炉中对镍基带材进行三阶段连续退火处理，镍基带材依次通过第一阶段退火处理、第二阶段退火处理、第三阶段退火处理；镍基带材走速为0.5～2m/min；
其中，第一阶段退火温度为650～700℃，第二阶段退火温度为700～800℃，第三阶段为800～1050℃；
第一阶段退火长度：第二阶段退火长度：第三阶段退火长度比例为1:1:2；通过控制退火温度有效降低高纯镍基带材的硬度，提高塑性，减少高纯镍基带材的残余应力，提高组织和成分的均匀化。
进一步地，在步骤S4表面处理前对得到的镍板坯按照目标宽度进行第一次分切处理；
在步骤S8连续光亮退火前对镍基带材按照目标宽度进行第二次分切处理；通过进行两次分切处理能够有效控制高纯镍基带材的宽度，得到目标宽度的高纯镍基带材。
进一步地，对步骤S9得到的成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料进行平整处理后进行卷取；其中卷取的张应力为10～12MPa；通过设置合适的卷取张应力得到弯曲度较小的高品质成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料。
进一步地，采用超声波对步骤S5得到的镍带坯料进行探伤检测。超声探伤的底波反射损失低于或等于50％，通过剪切高纯镍带中检测信号异常的部位，提高镍带坯料产品质量，最终确保成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的整体强度。
进一步地，步骤S7中，高精度冷轧制中道次压下量控制范围为3～5％；通过控制道次压下量，确保能够得到厚度为0.03～0.08mm的镍基带材。
进一步地，步骤S2第二次固相提纯时对圆柱镍材通电的电流密度为80A/m2～170A/m2；通过对通电的电流密度进行控制使得圆柱镍材在固相得到提纯；镍金属离子在电场力的作用下受到静电力，基于金属离子与杂质迁移速率的不同，实现杂质元素在圆柱镍材内的重新分布，硫、磷等杂质向向一端富集，另一端的圆柱镍材纯度相应得到提高。
进一步地，对步骤S2切除的圆柱镍材废料进行收集然后再次返回至步骤S1进行循环处理；通过对圆柱镍材废料进行收集，将杂质镍块二次去杂提纯，实现废镍的回收；使有限的资源得到回收利用，减少废料的堆放，改善工业环境，降低污染的程度，拓宽原料的来源。
本发明的有益效果是：本发明提供了一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料及其制备方法；镍基带材具有高纯度、低电阻、高精度的特点；镍含量大于99.98％，电阻率小于0.068Ω·mm2/m；本发明通过在镍基带材上附着透明导电薄膜能够对镍基带材进行有效保护，防止镍基带材制备动力电池是由于反复充放电导致对镍基带材的损害，提高其使用安全性与寿命。
本发明提供的镍基材料制备方法通过采用真空蒸馏提纯法将镍板熔融，利用镍与杂质的蒸气压差和挥发速度差对镍第一次提纯处理；然后对圆柱镍材进行通电，利用离子迁移作用对圆柱镍材进行第二次固相提纯；得到高纯度的镍基材料，能够有效去除去杂质；本方法便于实施，可靠性、实用性强；通过冷轧、精冷轧以及分切处理能够有效控制高纯镍基带材的产品精度。
附图说明
图1是本发明制备方法的工艺流程图；
具体实施方式
实施例1
一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料，所述镍基材料为带状镍基材料，宽度为10mm，厚度为0.08mm；所述带状镍基材料的硬度为软态100HV；所述带状镍基材料的侧边弯曲度为2.5mm/m；
所述带状镍基材料的电阻率为0.053Ω·mm2/m；
所述带状镍基材料的镍含量为99.986％；
所述带状镍基材料的硫含量为0.0009％，磷含量为0.0008％，铅含量为0.0007％；余下为少量不可避免的杂质。
所述带状镍基材料表面覆有透明导电膜；所述透明导电膜包括柔性基底层，保护层，以及设置在所述柔性基底层、保护层之间的导电层；
所述柔性基底层为PDMS薄膜；所述导电层为厚度为150nm的氧化铟锡层以及厚度为60nm的碳纳米管层；所述氧化铟锡层采用磁控溅射工艺均匀涂覆在PDMS薄膜上；所述碳纳米管层采用喷涂工艺均匀喷涂在氧化铟锡层上；所述保护层为氧化石墨烯薄膜。
实施例2
一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料，所述镍基材料为带状镍基材料，宽度为5mm，厚度为0.05mm；所述带状镍基材料的硬度为软态85HV；所述带状镍基材料的侧边弯曲度为1.5mm/m；
所述带状镍基材料的电阻率为0.041Ω·mm2/m；
所述带状镍基材料的镍含量大于99.988％；
所述带状镍基材料的硫含量为0.0005％，磷含量为0.0004％，铅含量为0.0004％；余下为少量不可避免的杂质；
所述带状镍基材料表面覆有透明导电膜；所述透明导电膜包括柔性基底层，保护层，以及设置在所述柔性基底层、保护层之间的导电层；
所述柔性基底层为PDMS薄膜；所述导电层为厚度为200nm的氧化铟锡层以及厚度为80nm的碳纳米管层；所述氧化铟锡层采用磁控溅射工艺均匀涂覆在PDMS薄膜上；所述碳纳米管层采用喷涂工艺均匀喷涂在氧化铟锡层上；所述保护层为氧化石墨烯薄膜。
实施例3
一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料，所述镍基材料为带状镍基材料，宽度为1mm，厚度为0.03mm；所述带状镍基材料的硬度为软态70HV；所述带状镍基材料的侧边弯曲度为0.5mm/m；
所述带状镍基材料的电阻率为0.045Ω·mm2/m；
所述带状镍基材料的镍含量为99.985％；
所述带状镍基材料的硫含量为0.0001％，磷含量为0.0001％，铅含量为0.0001％；余下为少量不可避免的杂质；
所述带状镍基材料表面覆有透明导电膜；所述透明导电膜包括柔性基底层，保护层，以及设置在所述柔性基底层、保护层之间的导电层；
所述柔性基底层为PDMS薄膜；所述导电层为厚度为180nm的氧化铟锡层以及厚度为70nm的碳纳米管层；所述氧化铟锡层采用磁控溅射工艺均匀涂覆在PDMS薄膜上；所述碳纳米管层采用喷涂工艺均匀喷涂在氧化铟锡层上；所述保护层为氧化石墨烯薄膜。
实施例4
一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，包括以下步骤：
S1、第一次熔融态提纯
准备镍板；采用真空蒸馏提纯法将镍板熔融，利用镍与杂质的蒸气压差和挥发速度差对镍第一次提纯处理，在熔融态提纯处理的同时采用磁力搅拌对熔融态的镍进行搅拌，保温时间54min；然后制备圆柱镍材，并冷却至70℃；
S2、第二次固相提纯
将圆柱镍材，水平固定在密闭空腔内，对密闭空腔抽真空，充入惰性保护气体；然后在圆柱镍材两端通电，根据镍的相转变规律，将圆柱镍材加热至0.8Tm，其中Tm为镍的熔点；持续加热时间为90min；利用离子迁移作用对圆柱镍材进行第二次固相提纯；第二次固相提纯时对圆柱镍材通电的电流密度为120A/m2。
然后将靠近通电阴极的圆柱镍材端部切除，其中切除长度为圆柱镍材长度的20％；剩余得到高纯镍材；
S3、热轧处理
将步骤S2得到的高纯镍材加热至1180℃，经过9个道次，热轧至厚度为5.8mm的镍板坯；对得到的镍板坯按照目标宽度进行第一次分切处理；
S4、表面处理
对步骤S3第一次分切处理得到的镍板材进行滚磨处理；然后采用去离子水进行清洗；
S5、冷轧
对清洗后的镍板材进行7道次的冷轧，得到厚度为2.3mm的镍带坯料；
S6、钟罩式光亮退火
对步骤S5得到的镍带坯料进行钟罩式光亮退火，先在710℃下保温100min，然后在830℃下保温120min；
S7、精冷轧
将经过钟罩式光亮退火得到的镍带坯料进行8道次的高精度冷轧制；得到厚度为0.06mm的镍基带材；对镍基带材按照目标宽度进行第二次分切处理；高精度冷轧制中道次压下量控制范围为4％；
S8、连续光亮退火
在退火前使用氮气以180m3/h的流量对镍基带材进行吹扫；
在连续式光亮热处理炉中对镍基带材进行三阶段连续退火处理，镍基带材依次通过第一阶段退火处理、第二阶段退火处理、第三阶段退火处理；镍基带材走速为0.5m/min；
其中，第一阶段退火温度为700℃，第二阶段退火温度为800℃，第三阶段为1050℃；
第一阶段退火长度：第二阶段退火长度：第三阶段退火长度比例为1:1:2
S9、涂覆透明导电膜
在步骤S8得到的退火处理后的高纯镍基带材表面依次涂覆柔性基底层、氧化铟锡层、碳纳米管层、保护层，得到成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料；
其中采用磁控溅射工艺涂覆氧化铟锡层，采用喷涂工艺喷涂碳纳米管层。
对得到的成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料进行平整处理后进行卷取；其中卷取的张应力为11MPa。
实施例5
一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，包括以下步骤：
S1、第一次熔融态提纯
准备镍板；采用真空蒸馏提纯法将镍板熔融，利用镍与杂质的蒸气压差和挥发速度差对镍第一次提纯处理，在熔融态提纯处理的同时采用磁力搅拌对熔融态的镍进行搅拌，保温时间38min；然后制备圆柱镍材，并冷却至60℃；
S2、第二次固相提纯
将圆柱镍材，水平固定在密闭空腔内，对密闭空腔抽真空，充入惰性保护气体；然后在圆柱镍材两端通电，根据镍的相转变规律，将圆柱镍材加热至0.6Tm，其中Tm为镍的熔点；持续加热时间为60min；利用离子迁移作用对圆柱镍材进行第二次固相提纯；第二次固相提纯时对圆柱镍材通电的电流密度为80A/m2。
然后将靠近通电阴极的圆柱镍材端部切除，其中切除长度为圆柱镍材长度的12％；剩余得到高纯镍材；
S3、热轧处理
将步骤S2得到的高纯镍材加热至1100℃，经过7个道次，热轧至厚度为5.5mm的镍板坯；对得到的镍板坯按照目标宽度进行第一次分切处理；
S4、表面处理
对步骤S3第一次分切处理得到的镍板材进行滚磨处理；然后采用去离子水进行清洗；
S5、冷轧
对清洗后的镍板材进行5道次的冷轧，得到厚度为1.8mm的镍带坯料；
S6、钟罩式光亮退火
对步骤S5得到的镍带坯料进行钟罩式光亮退火，先在680℃下保温50min，然后在830℃下保温90min；
S7、精冷轧
将经过钟罩式光亮退火得到的镍带坯料进行7道次的高精度冷轧制；得到厚度为0.03mm的镍基带材；对镍基带材按照目标宽度进行第二次分切处理；高精度冷轧制中道次压下量控制范围为3％；
S8、连续光亮退火
在退火前使用氮气以150m3/h的流量对镍基带材进行吹扫；
在连续式光亮热处理炉中对镍基带材进行三阶段连续退火处理，镍基带材依次通过第一阶段退火处理、第二阶段退火处理、第三阶段退火处理；镍基带材走速为2m/min；
其中，第一阶段退火温度为650℃，第二阶段退火温度为700℃，第三阶段为800℃；
第一阶段退火长度：第二阶段退火长度：第三阶段退火长度比例为1:1:2
S9、涂覆透明导电膜
在步骤S8得到的退火处理后的高纯镍基带材表面依次涂覆柔性基底层、氧化铟锡层、碳纳米管层、保护层，得到成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料；
其中采用磁控溅射工艺涂覆氧化铟锡层，采用喷涂工艺喷涂碳纳米管层。
对得到的成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料进行平整处理后进行卷取；其中卷取的张应力为10MPa。
实施例6
一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，包括以下步骤：
S1、第一次熔融态提纯
准备镍板；采用真空蒸馏提纯法将镍板熔融，利用镍与杂质的蒸气压差和挥发速度差对镍第一次提纯处理，在熔融态提纯处理的同时采用磁力搅拌对熔融态的镍进行搅拌，保温时间70min；然后制备圆柱镍材，并冷却至80℃；
S2、第二次固相提纯
将圆柱镍材，水平固定在密闭空腔内，对密闭空腔抽真空，充入惰性保护气体；然后在圆柱镍材两端通电，根据镍的相转变规律，将圆柱镍材加热至0.9Tm，其中Tm为镍的熔点；持续加热时间为120min；利用离子迁移作用对圆柱镍材进行第二次固相提纯；第二次固相提纯时对圆柱镍材通电的电流密度为170A/m2。
然后将靠近通电阴极的圆柱镍材端部切除，其中切除长度为圆柱镍材长度的28％；剩余得到高纯镍材；
S3、热轧处理
将步骤S2得到的高纯镍材加热至1260℃，经过11个道次，热轧至厚度为6.0mm的镍板坯；对得到的镍板坯按照目标宽度进行第一次分切处理；
S4、表面处理
对步骤S3第一次分切处理得到的镍板材进行滚磨处理；然后采用去离子水进行清洗；
S5、冷轧
对清洗后的镍板材进行7道次的冷轧，得到厚度为2.8mm的镍带坯料；
S6、钟罩式光亮退火
对步骤S5得到的镍带坯料进行钟罩式光亮退火，先在750℃下保温160min，然后在980℃下保温150min；
S7、精冷轧
将经过钟罩式光亮退火得到的镍带坯料进行8道次的高精度冷轧制；得到厚度为0.08mm的镍基带材；对镍基带材按照目标宽度进行第二次分切处理；高精度冷轧制中道次压下量控制范围为5％；
S8、连续光亮退火
在退火前使用氮气以170m3/h的流量对镍基带材进行吹扫；
在连续式光亮热处理炉中对镍基带材进行三阶段连续退火处理，镍基带材依次通过第一阶段退火处理、第二阶段退火处理、第三阶段退火处理；镍基带材走速为1.5m/min；
其中，第一阶段退火温度为680℃，第二阶段退火温度为760℃，第三阶段为900℃；
第一阶段退火长度：第二阶段退火长度：第三阶段退火长度比例为1:1:2
S9、涂覆透明导电膜
在步骤S8得到的退火处理后的高纯镍基带材表面依次涂覆柔性基底层、氧化铟锡层、碳纳米管层、保护层，得到成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料；
其中采用磁控溅射工艺涂覆氧化铟锡层，采用喷涂工艺喷涂碳纳米管层。
对得到的成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料进行平整处理后进行卷取；其中卷取的张应力为12MPa。
实施例7
与实施例4不同的是：
采用超声波对步骤S5得到的镍带坯料进行探伤检测。当超声探伤设备量平底孔直径为1.5mm，底波反射损失低于或等于50％，通过剪切去除高纯镍带中检测信号异常的部位，提高镍带坯料产品质量，最终确保成品高纯镍基带材的整体强度。
对步骤S2切除的圆柱镍材废料进行收集，然后再次返回至步骤S1进行循环处理；通过对圆柱镍材废料进行收集，将杂质镍块二次去杂提纯，实现废镍的回收；使有限的资源得到回收利用，减少废料的堆放，改善工业环境，降低污染的程度，拓宽原料的来源。

Claims (10)

1.一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料，其特征在于，所述镍基材料为带状镍基材料，宽度为1～10mm，厚度为0.03～0.08mm；所述带状镍基材料的硬度为软态70～100HV；所述带状镍基材料的侧边弯曲度为0.5～2.5mm/m；
所述带状镍基材料的电阻率小于0.068Ω·mm2/m；
所述带状镍基材料的镍含量大于99.98％；
所述带状镍基材料的硫含量为0.0001～0.0009％，磷含量为0.0001～0.0008％，铅含量为0.0001～0.0007％；余下为少量不可避免的杂质；
所述带状镍基材料表面覆有透明导电膜；所述透明导电膜包括柔性基底层，保护层，以及设置在所述柔性基底层、保护层之间的导电层；
所述柔性基底层为PDMS薄膜；
所述导电层为厚度为150～200nm的氧化铟锡层以及厚度为60～80nm的碳纳米管层；所述氧化铟锡层采用磁控溅射工艺均匀涂覆在PDMS薄膜上；所述碳纳米管层采用喷涂工艺均匀喷涂在氧化铟锡层上；
所述保护层为氧化石墨烯薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、第一次熔融态提纯
准备镍板；采用真空蒸馏提纯法将镍板熔融，利用镍与杂质的蒸气压差和挥发速度差对镍第一次提纯处理，在熔融态提纯处理的同时采用磁力搅拌对熔融态的镍进行搅拌，保温时间38～70min；然后制备圆柱镍材，并冷却至60～80℃；
S2、第二次固相提纯
将圆柱镍材，水平固定在密闭空腔内，对密闭空腔抽真空，充入惰性保护气体；然后在圆柱镍材两端通电，根据镍的相转变规律，将圆柱镍材加热至0.6～0.9Tm，其中Tm为镍的熔点；持续加热时间为60～120min；利用离子迁移作用对圆柱镍材进行第二次固相提纯；
然后将靠近通电阴极的圆柱镍材端部切除，其中切除长度为圆柱镍材长度的12～28％；剩余得到高纯镍材；
S3、热轧处理
将步骤S2得到的高纯镍材加热至1100～1260℃，经过7～11个道次，热轧至厚度为5.5～6.0mm的镍板坯；
S4、表面处理
先对步骤S3得到的镍板材进行滚磨处理；然后采用去离子水进行清洗；
S5、冷轧
对清洗后的镍板材进行5～7道次的冷轧，得到厚度为1.8～2.8mm的镍带坯料；
S6、钟罩式光亮退火
对步骤S5得到的镍带坯料进行钟罩式光亮退火，先在680～750℃下保温50～160min，然后在830～980℃下保温90～150min；
S7、精冷轧
将经过钟罩式光亮退火得到的镍带坯料进行7～9道次的高精度冷轧制；得到厚度为0.03～0.08mm的镍基带材；
S8、连续光亮退火
对步骤S6得到的镍基带材进行连续光亮退火，得到退火处理后的高纯镍基带材；
S9、涂覆透明导电膜
在步骤S8得到的退火处理后的高纯镍基带材表面依次涂覆柔性基底层、氧化铟锡层、碳纳米管层、保护层，得到成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料；
所述保护层为氧化石墨烯薄膜；
其中采用磁控溅射工艺涂覆氧化铟锡层，采用喷涂工艺喷涂碳纳米管层。
3.根据权利要求2所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，所述步骤S8在退火前使用氮气以150～180m3/h的流量对镍基带材进行吹扫；
在连续式光亮热处理炉中对镍基带材进行三阶段连续退火处理，镍基带材依次通过第一阶段退火处理、第二阶段退火处理、第三阶段退火处理；镍基带材走速为0.5～2m/min；
其中，第一阶段退火温度为650～700℃，第二阶段退火温度为700～800℃，第三阶段为800～1050℃；
第一阶段退火长度：第二阶段退火长度：第三阶段退火长度比例为1:1:2。
4.根据权利要求2所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，在步骤S4表面处理前对得到的镍板坯按照目标宽度进行第一次分切处理；
在步骤S8连续光亮退火前对镍基带材按照目标宽度进行第二次分切处理。
5.根据权利要求2所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，对步骤S9得到的成品高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料进行平整处理后进行卷取；其中卷取的张应力为10～12MPa。
6.根据权利要求2所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，采用超声波对步骤S5得到的镍带坯料进行探伤检测。
7.根据权利要求2所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，步骤S7中，高精度冷轧制中道次压下量控制范围为3～5％。
8.根据权利要求2所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，步骤S2第二次固相提纯时对圆柱镍材通电的电流密度为80A/m2～170A/m2。
9.根据权利要求2所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，对步骤S2切除的圆柱镍材废料进行收集，然后再次返回至步骤S1进行循环处理。
10.根据权利要求2所述的一种高纯低电阻耐腐蚀抗氧化镍基材料的制备方法，其特征在于，步骤S2第二次固相提纯时对圆柱镍材通电的电流密度为180A/m2。
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