CN1146883C

CN1146883C - 光头设备

Info

Publication number: CN1146883C
Application number: CNB001069810A
Authority: CN
Inventors: 麻田润一; 见; 西胁表见; 一; 高桥雄一; 治; 长岛贤治; 昭; 松宫宽昭; 齐藤阳一; 雄; 百尾和雄
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1999-04-23
Filing date: 2000-04-24
Publication date: 2004-04-21
Anticipated expiration: 2020-04-24
Also published as: JP2001176122A; KR100370790B1; CN1323392C; US6674709B1; US20040071072A1; CN1271931A; US6914870B2; CN1560842A; JP4309019B2; KR20000071779A

Abstract

用少量部件的简单构造来实现具有高频响应性的光量控制和校正半导体激光器的像散差。从半导体激光器(101)输出的光束通过光反射元件(107)使其周边光束进入前光监视光电检测器(103)。把光反射元件的反射面做成变形非球面，以提供高频响应性。把光反射元件放置得倾斜一预定角度，以补偿半导体激光器的像散差。此外，把光电检测器沿这样的方向放置，从而使反射光(108)被弯折，减小了调整光反射元件时它的平移量。

Description

光头设备

技术领域

本发明涉及进行光信息记录媒体的记录和再现的光头设备。

背景技术

一般说来，可重写型光盘必须监视至光盘记录表面的入射光量，从而确保以高的准确度记录信号的质量。由于这个原因，使用只再现光头中用的激光器芯片的后端面的光输出来监视光量的系统的准确度不高，因此必须使用从激光芯片的前端面辐射的光(下面称为“前光”(anterior light))来监视光量。

另一方面，虽然光盘作为大容量信息存储器引人注目，光头设备需要顾及高速记录或再现的要求。为满足这一要求，必须提高半导体激光器光源的调制速度，与此同时改进上述前光监视的响应性(responsivity)。

下面将结合附图说明传统的光拾取。图14示出传统的光头设备的概略结构的一例。从半导体激光器光源801辐射出的发散光束802通过平行板803(它放置得与光轴斜交)，并且由准直透镜804变为平行光束805。

此准直光束805被偏振分束器806部分地反射，并进入光电探测器809。光束810(准直光束805的主要部分)通过偏振分束器806，并且由1/4波片811转变为圆偏振光束，然后通过安装在操作机构812上的物镜813会聚入光盘814。

被光盘814反射的光束通过物镜813，并且被1/4波片811转变为线偏振光束(该光束与半导体激光器光源801的输出辐射光束的偏振面正交)，并进入偏振分束器806。

因为进入偏振分束器806的入射光束的偏振面与光路的开头的一半是正交的，因此入射光束被偏振分束器806反射，被全息元件815衍射，分支为正1级衍射光817和负1级衍射光818，以入射光的光轴作为对称轴，然后由检测透镜816会聚，分别进入信号检测器820和821，以检测诸如聚焦和跟踪信号的控制信号，以及RF(射频)信号。

另一方面，光电检测器809(它检测被偏振分束器806反射的光)起着半导体激光器光源801的输出光量监视器的作用。

这里，将说明把平行板803放置在半导体激光器光源801和准直透镜804之间，并与入射光束的光轴斜交的原因。一般，就用作光头设备的光源的半导体激光器而言，从光学特性的观点来看，半导体激光器元件901的振荡光束的模式腰部(mode waist)在半导体结合面(composition plane)(X-Z平面)和与其正交的面(Y-Z平面)之间是不同的，如图15所示。

即，虽然模式腰部是这样一点，它在垂直面(Y-Z平面)内与镜面902一致，但它是在本地激光器元件901的活性层903内的一点，即，在结合面(X-Z平面)内从镜面902算起进入谐振器内一定深度的一点。

因此，振荡光束的收敛点(converging point)在结合面(X-Z平面)和与其正交的面(Y-Z平面)之间是不同的，因此产生了在光学上所谓的“像散差”(astigmaticdifference)。

当产生像散差时，光束的光点畸变为一个平坦的沿垂直方向或水平方向拉长的光点。因此，光束的光点覆盖了光盘的相邻的记录光道，造成信号特性劣化的问题。

由于这个原因，在图14中，沿反方向以预定的角度放置平行板803，以校正从半导体激光器801辐射的光束的像散。

此外，校正光束的像散的另一种建议的方法是，通过在激光光束的相同光路中插入柱面透镜来抵消像散。

发明内容

上述传统的光头设备存在下列问题：

一般，当在可重写型光盘上记录信号时，必需确保在光盘上有足够的光功率，因此必须保证光头的光利用效能。

然而，上述传统的例子的结构不进行光束整形，因此，由于涉及物镜设计的缘故，在外部区域舍弃了一部分的光，这意味着光量的损耗。

此外，在有效孔径内的光束的一部分被反射，并且被光电检测器809用来监视光量，这格外增加了损耗。为避免这一点，降低要被引至光量检测器的光量和提高在有效孔径内的光量将使监视信号的信噪比(S/N ratio)变坏。

此外，提高激光器调制的速度要求改进前光监视器本身的响应性。由于这个原因，最好减小光电检测器的受光面积，并且输入会聚光束，以提高光检测的响应频率特性。

然而，光电检测器对过度会聚的光束曝光将增加检测器的单位面积的光强，增大在检测器的受光面上的载流子密度(它然后变为饱和)使载流子的移动速度降低。即，在检测器上会聚光束可以造成光检测的响应频率特性变坏的问题。

此外，校正由半导体激光器元件之间的像散差产生的光束像散的所有的上述方法必须单独提供特殊的部件，诸如透明的平行板和柱面透镜，于是将造成不可避免地增加部件数目，因而提高成本的这样一个额外的问题。

此外，因为除了用于激光器光量监视的光电检测器之外，还设置用于RF信号、聚焦或跟踪控制信号的光电检测器，这将增加部件的数目，并且使光学系统复杂化，使得难于缩小光头的尺寸。

计及传统的光头设备的这些问题而实现了本发明，本发明的一个目的是提供一种具有光的高度利用效能的光头设备。

本发明的另一个目的是提供一种小型的光头设备。

本发明的又一个目的是提供一种对于光检测的频率特性有极好响应的光头设备。

本发明的第一发明(相应于权利要求1)是一种光头设备，包括：

半导体激光器光源；

光电检测器，它接收来自所述半导体激光器光源的至少一部分的光；

光反射元件107，它具有周边部分203和中心部分202，周边部分203用于反射来自所述半导体激光器光源的光的周边光，并且把周边光会聚入所述光电检测器，而中心部分202透射来自所述半导体激光器光源的光的中心光；以及

会聚透镜，它把通过所述光反射元件的光会聚在光盘上，

其中：

所述光反射元件的中心部分的每个表面具有平坦的形状；以及

所述光反射元件的周边部分的至少一个表面具有球面或非球面形状。

本发明的第二发明(相应于权利要求11)是一种光头设备，包括：

半导体激光器光源；

光反射元件，它具备这样两个功能，其一是反射来自所述半导体激光器光源的光的周边光，并且把所述周边光会聚入所述光电检测器，其二是透射来自所述半导体激光器光源的光的中心光；以及

会聚透镜，它把通过所述光反射元件的光会聚在光盘上，

其中：

把所述半导体激光器光源和所述光电检测器做在一个封装里。

本发明的第三发明(相应于权利要求12)是一种光头设备，包括：

半导体激光器光源；

多个光电检测器，它们放置得靠近所述半导体激光器光源；

反射型全息元件，它具有周边部分和中心部分，周边部分用于反射和衍射来自所述半导体激光器光源的光的周边光，并且把周边光会聚入所述多个光电检测器中的一个光电检测器，而中心部分透射来自所述半导体激光器光源的光的中心光；以及

会聚透镜，它把通过所述反射型全息元件的中心部分的光会聚在光盘上，

其中：

相对于所述半导体激光器光源，接收所述反射和衍射光的所述光电检测器放置得靠近它，其方向沿椭圆的长轴而不是短轴，所述椭圆来自所述半导体激光器光源的输出光的椭圆形的远场图样；以及

相对于所述半导体激光器光源，接收来自所述光盘的信号光的光电检测器放置得靠近它，其方向沿椭圆的短轴而不是长轴，所述椭圆来自所述半导体激光器光源的输出光的椭圆形的远场图样。

附图说明

图1是按照本发明的一个实施例的光头的大致结构；

图2是示出在本发明的上述实施例中使用的元件的结构的图；

图3是本发明的上述实施例的光点形状的示意图；

图4是按照本发明的另一个实施例的光头的大致结构；

图5是本发明的上述实施例的光点形状的示意图；

图6是按照本发明的另一个实施例的光头的大致结构；

图7是示出在本发明的上述实施例中使用的元件的结构的图；

图8是本发明的另一个实施例的光头设备的结构图；

图9是按照本发明的另一个实施例的反射型全息元件的平面图；

图10是按照本发明的另一个实施例的反射型全息元件、激光器光源和光电检测器的示意图；

图11是按照本发明的另一个实施例的光头的结构图；

图12是按照本发明的另一个实施例的反射型全息元件、激光器光源和光电检测器的示意图；

图13是按照本发明的另一个实施例的反射型全息元件和光电检测器的示意图；

图14是示出传统的光头设备的图；以及

图15是示出半导体激光器的像散差的示意图。

具体实施方式

下面参看图1至图7来说明本发明的一些实施例。与传统的例子中的部件具有相同功能的那些部件的详细说明将省略。

图1示出本发明的一个实施例的光头设备的大致结构，而图2示出用作光头设备的部件的光反射元件、激光器和光电检测器的结构。用于图1结构中的光反射元件107是由玻璃做的，其中心部分具有平坦的透光面202(相应于本发明中的中心部分)，激光器光轴201在其中心，其环形区域围绕所述透光面202，具有非球面形状的蒸铝面203(相应于本发明的周边部分)，如图2所示。

在从图1的激光器光源101辐射的光束中间，周边光束部分被光反射元件107反射和会聚，并且会聚入光电检测器103，用于前光(在半导体激光器光源101附近形成)的监视。为了减小尺寸和重量，把半导体激光器光源101和用于前光监视的光电检测器103集成为一个光集成模块109。

另一方面，在中心部分的光束由准直透镜104准直为平行光束，通过偏振分束器106，并且由安装在操作机构112上的物镜113会聚在光盘114的表面上。

由光盘114反射的光束通过物镜113，由1/4波片111转变为与半导体激光器输出辐射光束的偏振面正交的线偏振光，并且进入偏振分束器106。

因为进入偏振分束器106的入射光束的偏振面与在光路的开头一半中的偏振面正交，因此入射光束被偏振分束器106反射，并且被全息元件115衍射。衍射光束以入射光的光轴作为对称轴，被分支为正1级衍射光117和负1级衍射光118，然后由检测透镜116会聚，分别进入信号检测器119和120，并且用作控制信号(诸如聚焦和跟踪)和RF信号。

通过使光反射元件107倾斜一个预定的角度，补偿从半导体激光器101辐射的光束的像散。

此外，如图1所示，由于光反射元件107的倾斜，使得反射光108的光轴相对于来自半导体激光器光源的光的光轴倾斜。沿反射光108的方向设置光电检测器103。这里，当制造时，必需进行调整，从而使反射光108进入光电检测器103。为了这个目的，必需调整光反射元件108的反射球面，其做法是使中心轴沿图1的箭头指出的方向作适当的平移。与不倾斜的情形相比，上述光电检测器的倾斜减小了平移量。

减小为调整而作的平移量的能力能够减小光反射元件107的中心平坦部分的面积，形成周边部分的更宽的光反射表面，从而能够收集更多的反射光。这是由于为调整而作的较大的平移量要求事先以较大的容差设计光反射元件107的中心平坦部分。

此外，因为可以设计反射球面的较小的反射角，因此光反射元件107的反射面变为具有较小曲率的球面，使得反射面的加工成型比较容易。

此外，如果把光反射元件107的周边部分做成变形的非球面的形状，如图2所示，则在图2中的x-z平面和y-z平面之间的焦点(由光反射元件107在其上反射和会聚光)不同。即，在光电检测器103的表面上的焦点具有像散差，如图3所示。即使由于在安装光学零件等等时的误差而产生散焦，像散差却能增加光电检测器的表面的单位面积的光强，因而防止了由于载流子浓度造成的频率响应性的劣化。

图4示出一个实施例，其中使用其反射和衍射光具有球差的光反射元件407，而不是使用其反射和衍射光具有图1实施例中的像散差的光反射元件107。在此情形中，在光电检测器的面上聚焦的光点具有如图5所示的球差。由于这一点，与没有球差的光点相比，即使由于在安装光学部件时出现了散焦，也可以保持光电检测器的面上的每单位面积有较低的光强，因而防止了由于载流子浓度造成的频率响应性的劣化。

图6示出本发明的另一个实施例的示意图。用于图6的结构中的反射型全息元件607具有反射全息面703，它在周边部分的环形区域中形成(相应于本发明的周边部分)，以激光器光轴701作为中心位置，如图7所示，并且该全息元件有一个圆形的透光区域702(相应于本发明中的中心部分)，它在激光器光轴701的附近。

在从图6的半导体激光器光源101辐射的光束中间，由反射型全息元件607反射和衍射周边光束部分。这种反射型全息元件的间距和槽的取向随入射光和激光器光束的入射位置而不同，并且把反射/衍射光束608会聚入设置在半导体光源101附近的光电检测器103。

此外，因为构造这种反射型全息元件607以具有像散差，如在上述光反射元件107的情形中那样，因此点光束不是形成焦点而是形成焦线。由于这个缘故，即使由于安装光学零件等等的误差产生散焦，与没有像散差的光点相比，也可以保持光电检测器的表面的每单位面积的较低的光强，因而防止了由于载流子浓度造成的频率响应性的劣化。

此外，为了作制造调整，必需使来自反射型全息元件607的反射/会聚光进入光电检测器，其做法是使反射型全息元件607沿图6中的箭头指出的方向平移。在此情形中，如图6所示，把光电检测器103沿光被倾斜的反射型全息元件607反射的方向设置，能够减小调整反射型全息元件607的平移量。

与反射型全息元件607不倾斜的情形相比，这样做能够减小反射型全息元件607的衍射角，因而允许以较宽的间距设计反射型全息元件407，确保在全息元件精心制作间距方面有好处。

这里，在图6的实施例中，显然，不使用其反射/衍射光具有像散差的光反射元件607，而使用其反射/衍射光具有球差的光反射元件，也将得到与图4的实施例中的效果类似的效果。

图8(a)示出按照本发明的另一个实施例的光头设备的大致构造，而图8(b)示出用作其部件的反射型全息元件、激光器和光电检测器的示意图。

用于图8(a)结构中的反射型全息元件2包括反射型全息部分10和圆形透光区域11，反射型全息部分在外周界的环状区域中形成，以激光器光轴15作为中心位置，而圆形透光区域11在激光器光轴15附近，如图8(b)所示。

对于从图8(a)的半导体激光器光源1辐射的光束，由反射型全息部分10反射和衍射周边光束部分22。这种反射型全息部分的间距和槽的取向随入射光和激光器光束的入射位置而不同，并且把反射/衍射光束23会聚入用于前光监视的光电检测器6，它设置在半导体光源1的附近。

另一方面，在从半导体激光器光源辐射的光束中间，内部光束部分通过具有限定的孔径的反射型全息元件2、偏振全息元件5和1/4波片20，并且由准直透镜3转变为平行光束，然后通过安装在操作机构9上的物镜4会聚入光盘8。

由光盘8反射的光束由物镜4、准直透镜3、1/4波片20和偏振全息元件5衍射，并且进入在半导体激光器光源1附近形成的信号检测光电检测器7，用于检测信号，诸如RF信号、聚焦和跟踪控制信号。

采用这样一种结构(它使用外部周边光部分，而原先对于前光监视是不用这部分光的)，本实施例能够提高光头的光利用效能，并且把所有的半导体激光器光源1、信号检测器7、用于前光监视的检测器6集成为单个装置，于是减小了光头设备的零件数目。

此外，反射型全息部分10具有会聚功能，允许不用另外的会聚装置(诸如透镜)即可把光束会聚入具有小面积的光电检测器，这就简化了光头设备，缩小了其尺寸，同时确保了前光监视的高速响应性。

这里，如图8(b)所示，构造半导体激光器光源1、前光监视光电检测器6和信号检测光电检测器7如下。

即，对于图8(b)的虚线所示的激光器输出辐射远区图样12，前光监视光电检测器6沿靠近椭圆的长轴的方向13的方向设置，而用于检测来自光盘的信号的信号检测光电检测器7沿靠近椭圆的短轴的方向的方向14设置。

即，相对于来自半导体激光器光源的光的光轴，前光监视光电检测器6设置得靠近椭圆长轴的方向，而不是靠近椭圆短轴的方向。另一方面，用于信号检测的光电检测器7设置得靠近椭圆短轴的方向。例如，最好把它们分别沿椭圆的长轴和短轴设置。

即，这样一种结构具有下述效果。反射全息部分10产生带有衍射级的朝前光监视光电检测器6衍射的光束、带有衍射级的朝相反方向衍射的光束以及0级衍射光束，但是由于除了带有衍射级的朝前光监视光电检测器衍射的光束之外的不需要的光束沿远场图形的椭圆的长轴方向传播，作为杂散光这些光束不进入检测来自光盘的信号的光电检测器7。

此外，由于每个光电检测器能够设置的靠近激光器芯片，反射全息部分10和偏振全息元件5只需要小的衍射角，因此可以具有大的全息图间距，因而确保全息图精心制作间距限制有足够的容差。

图9示出按照本发明的另一个实施例的反射型全息元件2的平面图，它设置激光器光源的扩展角、全息区域以及光源与全息图之间的相对距离，从而沿输出辐射远场图形的椭圆的长轴有更多的光被反射和衍射。

一般，由于温度变化引起半导体激光器的密度分布变化，沿短轴方向的变化比沿长轴方向的变化大。这一变化影响前光监视的光量的线性以及通过反射型全息元件2的光量。因此，如在本实施例中的情形那样，对于需要以很高的准确度控制光量的系统，最好只用沿长轴方向的光作为用于前光监视的光。即，相对于上述半导体激光器的椭圆远场图形的轴的中心，反射型全息元件2的全息图10形成区域沿椭圆的长轴方向形成得更宽。

图10示出在本发明的另一个实施例中的反射型全息部分的平面图和光电检测器的位置。在本实施例中，相对于在激光器光轴15上的中心点，反射型全息部分10的区域形成得不对称。即，如果激光束被偏离激光器光轴15的前光监视光电检测器6反射/衍射，全息图间距随激光束的入射角和位置而顺序地改变。然而，因为这个间距也具有精工细作限制，因此区域受这些限制。

然而，某些方向允许从光轴至间距精工细作限制由较大的距离，因此可以对于前光监视增加反射/衍射光的光量，其做法是形成反射型全息部分，直至精工细作间距限制(它由相对于图10所示的一点的不对称的区域指出)的边界。

图11(a)示出本发明的另一个实施例中的光头设备，而图11(b)示出用于其构造的反射型全息元件的平面图。

如图11(b)所示，反射型全息元件2在中心具有卵形或长圆孔形的透光区域11。在图11(a)中，用于衍射从光盘反射的光，并且把它引导至检测信号(诸如聚焦和跟踪信号)的光电检测器7的偏振全息元件5和1/4波片20与物镜4一起安装在物镜操作机构9的可动部分上。

因此，当物镜4沿与光道正交的方向移动，以跟踪由于光盘的偏心率而产生的跟踪误差时，被偏振全息元件5衍射的光25也一起移动(实线箭头25→虚线箭头25′)。

按照图11(b)中的反射型全息元件2，反射全息部分10的透光区域沿此移动方向大大扩展，因此可以实现这样一种结构，它防止遮挡信号检测光，使得用于前光监视的反射/衍射光的光量减少减至最小。图11(a)和图11(b)描绘了跟踪操作方向，两者的垂直和水平方向颠倒。

图12示出本发明的另一个实施例的光头设备的一部分。在图12中，用偏振全息层26和夹在两块玻璃板之间的1/4波长膜19形成偏振全息元件。此外，在玻璃基板的另一侧，形成反射型全息图10。

这允许把元件集成因而简化光头的结构，并且当反射型全息图10的反射/衍射光点落在监视光电检测器上时，同时允许信号检测全息图定位，可以简化光头制造过程中的调整。

图13示出按照本发明的另一个实施例的光头设备的反射型全息元件2、前光监视光电检测器6和由反射型全息图衍射的光束。

如图13所示，由反射型全息元件2反射和衍射的光束的会聚点在光电检测器6之前和之后散焦，这是因为温度的改变造成激光器光源的波长的波动等。

为了防止光束由于这种散焦而越出前光监视光电检测器6的边缘，最好这样来设计，从而会聚点与光电检测器的平面在中点32处匹配，该中点在光头的工作温度范围的最低温度下的焦点31和在最高温度下的焦点30之间。即使激光器波长有变化，这也能减小监视光量的变化，允许在产品保证的温度范围内稳定地控制光量。

如上所述，本发明的光头设备能够以高速响应性实现前光监视，其做法是在光电检测器上会聚光束至预定的尺寸，使用光反射元件来校正半导体激光器的像散差，并且把半导体激光器和光电检测器集成在一个装置中，于是可以简化光头和缩小其尺寸。

此外，按照本发明的构造，通过有效地使用孔径外的光束来监视激光器辐射光束的光量，通过优化反射/衍射光栅的面积和位置可以减少光量的损失，增加监视光量，于是提供了高信噪比的监视信号。

此外，由于反射型全息元件本身提供了高水平的会聚，因此不仅可以缩小在光电检测器上的光点尺寸，也能缩小光检测面积，可以高速响应性实现前光监视，并且稳定记录型光头(诸如DVD-RAM)的记录质量。

此外，本发明通过把前光监视光电检测器、激光器芯片和信号检测光电检测器等等集成在单个装置中而能够简化光头和缩小其尺寸。

Claims

1.一种光头设备，包括：

半导体激光器光源；

光反射元件，它具有周边部分和中心部分，所述周边部分反射来自所述半导体激光器光源的光的周边光，并将它会聚入所述光电检测器，而所述中心部分透射来自所述半导体激光器光源的中心光；

会聚透镜，它把通过所述光反射元件的光会聚在光盘上；以及

信号检测器，用于检测从光盘反射回的光信号；

其特征在于：

所述光反射元件的中心部分的每个表面具有平坦形状；以及

所述光反射元件的周边部分的至少一个表面具有球面或非球面形状，并且所述光反射元件的周边部分的会聚功能具有像散差。

2.如权利要求1所述的光头设备，其特征在于，所述光反射元件的周边部分的会聚功能具有球差。

3.如权利要求1所述的光头设备，其特征在于：

所述光反射元件的中心部分的两个表面平行，并且相对于这样一个方向倾斜预定的角度，该方向垂直于来自所述半导体激光器光源的光的光轴；而由所述光反射元件的中心部分的倾斜放置产生的像散补偿了所述半导体激光器光源的像散差。

4.如权利要求1所述的光头设备，其特征在于，来自所述光反射元件的周边部分的反射光的光轴相对于来自所述半导体激光器光源的光的光轴倾斜。

5.如权利要求1所述的光头设备，其特征在于，所述半导体激光器光源和所述光电检测器做在一个封装内。

6.一种光头设备，包括：

半导体激光器光源；

多个光电检测器，把它们放置得靠近所述半导体激光器光源；

反射型全息元件，它具有周边部分和中心部分，所述周边部分反射和衍射来自所述半导体激光器光源的光的周边光，并且把它会聚入所述多个光电检测器之一，所述中心部分透射来自所述半导体激光器光源的光的中心光；

会聚透镜，它把通过所述反射型全息元件的中心部分的光会聚在光盘上；以及

偏振全息元件，用于将从光盘反射回的信号光引导到所述多个光电检测器中的另一个；

其特征在于：

相对于所述半导体激光器光源，接收来自所述反射型全息元件的所述反射和衍射光的所述光电检测器放置得靠近它，其方向沿椭圆的长轴而不是短轴，所述椭圆来自所述半导体激光器光源的输出光的椭圆形的远场图样；

相对于所述半导体激光器光源，接收来自所述光盘的信号光的光电检测器放置得靠近它，其方向沿椭圆的短轴而不是长轴；并且

所述反射型全息元件的周边部分的会聚功能具有像散差。

7.如权利要求6所述的光头设备，其特征在于，所述反射型全息元件沿椭圆的长轴方向比沿椭圆的短轴方向反射和衍射更多的光。

8.如权利要求6所述的光头设备，其特征在于，相对于所述半导体激光器的椭圆形远场图形的轴的中心，所述反射型全息元件的全息形成区域沿椭圆的长轴方向形成得更宽。

9.如权利要求7所述的光头设备，其特征在于，相对于所述半导体激光器的椭圆形远场图形的轴的中心，所述反射型全息元件的全息形成区域沿椭圆的长轴方向形成得更宽。

10.如权利要求6所述的光头设备，其特征在于，来自所述反射型全息元件的周边部分的反射和衍射光的光轴相对于来自所述半导体激光器的光的光轴倾斜。

11.如权利要求7所述的光头设备，其特征在于，来自所述反射型全息元件的周边部分的反射和衍射光的光轴相对于来自所述半导体激光器的光的光轴倾斜。

12.如权利要求6所述的光头设备，其特征在于，把所述半导体激光器光源和设置得与其邻近的多个光电检测器做在一个封装内。

13.如权利要求6所述的光头设备，其特征在于，

所述偏振全息元件允许来自所述激光器光源的光穿透，而衍射由所述光盘反射的光，

把所述偏振全息元件连同物镜安装在物镜操作机构的可动部件上；以及

所述反射型全息元件的中心部分的透光区域具有准椭圆形状，其长轴沿所述物镜操作机构的跟踪操作方向。

14.如权利要求6所述的光头设备，其特征在于，所述偏振全息元件允许来自所述激光器光源的光穿透，而衍射由所述光盘反射的光，并且把所述偏振全息元件与所述反射型全息元件加以集成。

15.如权利要求6所述的光头设备，其特征在于，相对于居中在来自所述半导体激光器光源的光的光轴上的点，不对称地形成所述反射型全息元件的全息形成区域。