CN114594632A - 液晶显示装置及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶显示装置及其制作方法，液晶显示装置包括显示面板和连接在显示面板上的背光模组，背光模组包括底板、控制线路层、多个mini LED、棱镜层和第一平坦层，控制线路层和多个mini LED设置在底板上，多个mini LED与控制线路电性连接，棱镜层设置在多个mini LED上，第一平坦层覆盖棱镜层。本发明的液晶显示装置提高了显示颜色的品质、并且减少了厚度，降低了成本，增加了液晶显示装置的美观性。

Description

液晶显示装置及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示屏技术领域，特别涉及一种液晶显示装置及其制作方法。
背景技术
液晶显示装置具有画质好、体积小、重量轻、低驱动电压、低功耗、无辐射和制造成本相对较低的优点，在平板显示领域占主导地位。
传统的液晶显示装置的背光模组包括背板、LED灯、反射膜、导光板、扩散片和增亮膜，LED灯固定连接于背板，反射膜设置在背板上，导光板或扩散片设置在反射膜上，下扩散片设置在导光板上，上扩散片设置在下扩散片上，增亮膜设置在上扩散片上，此结构的背光模组不仅结构复杂，且整个模组的厚度较厚，不管是侧入式背光模组还是直下式的背光模组，整体结构都较厚，制作成本高，不具有美观性。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种液晶显示装置及其制作方法，该液晶显示装置提高了显示颜色的品质、并且减少了厚度，降低了成本，增加了液晶显示装置的美观性。
一种液晶显示装置，包括显示面板和连接在显示面板上的背光模组，背光模组包括底板、控制线路层、多个mini LED、棱镜层和第一平坦层，控制线路层和多个mini LED设置在底板上，多个mini LED与控制线路电性连接，棱镜层设置在多个mini LED上，第一平坦层覆盖棱镜层。
在本发明中，上述背光模组还包括保护层，保护层覆盖控制线路层和底板，多个mini LED设置在保护层上。
在本发明中，上述显示面板包括阵列线路层、液晶层和彩膜基板，阵列线路层设置在第一平坦层上，彩膜基板与阵列线路层相对设置，液晶层设置于彩膜基板与阵列线路层之间。
在本发明中，上述阵列线路层包括薄膜晶体管、像素电极和公共电极，薄膜晶体管设置在第一平坦层上，像素电极与薄膜晶体管电性连接，公共电极与像素电极相对设置。
在本发明中，上述显示面板包括阵列基板、液晶层和彩膜层，阵列基板与彩膜层相对设置，液晶层设置于阵列基板与彩膜层之间，彩膜层设置在第一平坦层上。
在本发明中，上述彩膜层包括黑矩阵、色阻层和第二平坦层，黑矩阵和色阻层均设置在第一平坦层上，第二平坦层覆盖黑矩阵和色阻层设置。
在本发明中，上述显示面板包括阵列线路层、液晶层和彩膜基板，阵列线路层设置在彩膜基板上，背光模组与阵列线路层相对设置，液晶层设置于背光模组与阵列线路层之间。
在本发明中，上述阵列线路层包括薄膜晶体管、像素电极和公共电极，薄膜晶体管设置在彩膜基板上，像素电极与薄膜晶体管电性连接，公共电极设置在薄膜晶体管上，公共电极与像素电极相对设置。
在本发明中，上述彩膜基板包括第二基板、黑矩阵、色阻层和第二平坦层，黑矩阵和色阻层均设置在第二基板上，第二平坦层覆盖黑矩阵和色阻层设置，阵列线路层设置在第二平坦层上。
一种液晶显示装置的制作方法，包括：
提供一底板，在底板上制作控制线路层和多个mini LED，将多个mini LED与控制线路层电性连接，将保护层覆盖在底板和控制线路上，再将mini LED焊接在保护层上；
在保护层上用PV材料沉积后，经曝光、蚀刻、显影后形成棱镜层，将棱镜层覆盖在多个mini LED上；
在棱镜层的上表面形成第一平坦层，即形成背光模组；
提供一显示面板，将显示面板设置在背光模组上并与背光模组连接。
本发明的液晶显示装置将控制线路层印刷在底板上，将mini LED等制作在底板上，用棱镜层和第一平坦层进行封装，再通过输入信号控制mini LED灯工作，减少背光模组的厚度，各区域的亮度可独立控制，提高对比度，增加视觉体验效果。
附图说明
图1是本发明第一实施例的液晶显示装置的结构示意图。
图2a-图2f是本发明第一实施例的液晶显示装置的制作方法的结构示意图。
图3是本发明第二实施例的液晶显示装置的结构示意图。
图4a-图4g是本发明第二实施例的液晶显示装置的制作方法的结构示意图。
图5是本发明第三实施例的液晶显示装置的结构示意图。
图6a-图6g是本发明第三实施例的液晶显示装置的制作方法的结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
为了便于本领域技术人员的理解，本申请通过以下实施例对本申请提供的技术方案的具体实现过程进行说明。
第一实施例
图1是本发明第一实施例的液晶显示装置的结构示意图，如图1所示，液晶显示装置包括显示面板和连接在显示面板上的背光模组，背光模组包括底板11、控制线路层、多个mini LED121、棱镜层13和第一平坦层14，控制线路层(图未示)和多个mini LED121设置在底板11上，多个mini LED121与控制线路电性连接，棱镜层13设置在多个mini LED121上，第一平坦层14覆盖棱镜层13。本发明中的背光模组为直下式背光模组，mini LED121芯片的尺寸约为50um～150um，例如mini LED121芯片尺寸为100um，具有异性切割特性。背光模组具有区域调光特性，可将整个画面按矩阵式分成若干个区域，CPU根据每个区域分布计算平均亮度，对各区域的亮度独立控制，提高对比度。其中，棱镜层13用于对mini LED121的光线进行散光作用，第一平坦层14使用OC材料进行封装。此外，为了使mini LED121的光更均匀，将棱镜层13设置在多个mini LED121上，可对mini LED121发出的光进行雾化，使出射的光的均匀性更好。
本发明的液晶显示装置将控制线路层印刷在底板11上，将mini LED121等制作在底板11上，用棱镜层13和第一平坦层14进行封装，再通过输入信号控制mini LED121灯工作，减少背光模组的厚度，各区域的亮度可独立控制，提高对比度，增加视觉体验效果。
进一步地，背光模组还包括保护层122，保护层122覆盖控制线路层和底板11，多个mini LED121设置在保护层122上，保护层122为mini LED121的载体膜，多个mini LED121焊接在载体膜上。
进一步地，显示面板包括阵列线路层21、液晶层22和彩膜基板23，阵列线路层21设置在第一平坦层14上，彩膜基板23与阵列线路层21相对设置，液晶层22设置于彩膜基板23与阵列线路层21之间。
进一步地，阵列线路层21包括薄膜晶体管、像素电极211和公共电极212，薄膜晶体管设置在第一平坦层14上，像素电极211与薄膜晶体管电性连接，公共电极212与像素电极211相对设置。优选地，公共电极212位于像素电极211下方，公共电极212为整面设置的面状电极，像素电极211包括多条电极条，多条电极条相互间隔设置，以形成面内切换模式(In-Plane Switching，IPS)。其中，公共电极212和像素电极211的材料可以为氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)等。
进一步地，薄膜晶体管包括栅极213、有源层214、源极215和漏极216，其中，栅极213电连接对应的扫描线，源极215电连接对应的数据线，漏极216电连接对应的像素电极211。
进一步地，阵列线路层21还包括栅极绝缘层217，栅极绝缘层217覆盖在栅极213和第一平坦层14上，有源层214设置在栅极绝缘层217上，源极215与漏极216相对设置，源极215和漏极216设置在栅极绝缘层217和有源层214上，第一绝缘层2191覆盖在薄膜晶体管和栅极绝缘层217上，公共电极212设于第一绝缘层2191上，像素电极211覆盖在公共电极212上，像素电极211与公共电极212之间设有第二绝缘层2192进行绝缘，像素电极211与漏极216通过接触孔电性连接。本发明的阵列线路层21的各膜层不限于此，各个膜层之间的结构和顺序可以进行适当调整。
进一步地，彩膜基板23包括第二基板231、色阻层232、黑矩阵233和第二平坦层234，色阻层232和黑矩阵233均设置在第二基板231，色阻层232和黑矩阵233相互间隔设置，第二平坦层234覆盖在色阻层232和黑矩阵233上，液晶层22设于第二平坦层234与阵列线路层21之间。色阻层232例如包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三色的色阻材料，分别对应形成红、绿、蓝三色的子像素(sub-pixel)，红、绿、蓝三色的子像素依次拼接设置，黑矩阵233设置于红、绿、蓝三色的子像素之间，使相邻的子像素之间通过黑矩阵233相互间隔开,避免混色，第二平坦层234覆盖色阻层232设置，但并不以此为限。
进一步地，底板11和第二基板231可用玻璃、丙烯酸和聚碳酸酯等材料制成。
本实施例还提及一种液晶显示装置的制作方法，该制作方法用于制作上述的液晶显示装置。如图2a-图2f所示，该制作方法包括：
如图2a所示，提供一个底板11，在底板11上制作控制线路层和多个mini LED121，将多个mini LED121与控制线路层电性连接；其中，控制线路印刷在底板11上，用保护层122覆盖控制线路和底板11，再将mini LED121焊接在保护层122上。
如图2b和图2c所示，在保护层122上用PV材料沉积后，经曝光、刻蚀、显影形成棱镜层13，在棱镜层13的上表面形成第一平坦层14，第一平坦层14的材料例如为OC,第一平坦层14可使得棱镜层13平坦化。
如图2d所示，在第一平坦层14的上方形成第一金属层，对第一金属层进行蚀刻，使第一金属层被图案化形成扫描线和栅极213，扫描线和栅极213电性连接。其中，第一金属层可以采用金属例如铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)、镍(Ni)等，或者采用上述金属的组合例如Al/Mo、Cu/Mo等。
在第一平坦层14的上方形成覆盖扫描线和栅极213的栅极绝缘层217。栅极绝缘层217的材料为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或二者的组合。
在栅极绝缘层217的上方形成半导体层，对半导体层进行蚀刻，半导体层被图案化形成有源层214，有源层214与栅极213相对应，有源层和半导体层采用多晶硅或掺杂多晶硅。
在栅极绝缘层217的上表面形成第二金属层，第二金属层覆盖有源层214，对第二金属层进行蚀刻，使第二金属层被图案化形成数据线、源极215和漏极216。其中第二金属层可以采用金属例如铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)、镍(Ni)等，或者采用上述金属的组合例如Al/Mo、Cu/Mo等。
在栅极绝缘层217的上表面形成第一绝缘层2191，第一绝缘层2191覆盖有源层214、数据线、源极215以及漏极216。第一绝缘层2191的材料为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或二者的组合。
对第一绝缘层2191进行蚀刻，使得第一绝缘层2191对应漏极216的区域被蚀刻掉，以漏出孔中的漏极216，在第一绝缘层2191上形成第一透明材料层，对第一透明材料层进行蚀刻并形成图案化的公共电极212，公共电极212在接触孔处断开，即在第一绝缘层2191上形成公共电极212。
在公共电极212上形成第二绝缘层2192，第二绝缘层2192对应漏极216的区域被蚀刻掉，以露出孔中的漏极216。
在第二绝缘层2192上形成第二透明材料层，对第二透明材料层进行蚀刻并形成图案化的像素电极211，像素电极211通过接触孔与漏极216相接触。
如图2e所示，在第二绝缘层2192和像素电极211上形成取向层，在取向层上滴注液晶分子形成液晶层22。
如图2f所示，将彩膜基板23通过封胶与阵列线路层和背光模组成盒。
第二实施例
图3是本发明第二实施例的液晶显示装置的结构示意图，如图2所示，本实施例的液晶显示装置与第一实施例的液晶显示装置在结构上大致相同，不同点在于阵列基板、背光模组和彩膜层之间的位置不同。
具体地，显示面板包括阵列基板、液晶层22和彩膜层，阵列基板与彩膜层相对设置，液晶层22设置于阵列基板与彩膜层之间，彩膜层设置在第一平坦层14上。
进一步地，彩膜层包括黑矩阵233、色阻层232和第二平坦层234，黑矩阵233和色阻层232均设置在第一平坦层14上，第二平坦层234覆盖黑矩阵233和色阻层232设置。在本实施例中，色阻层232例如包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三色的色阻材料，分别对应形成红、绿、蓝三色的子像素(sub-pixel)，红、绿、蓝三色的子像素依次拼接设置，黑矩阵233设置于红、绿、蓝三色的子像素之间，使相邻的子像素之间通过黑矩阵233相互间隔开,避免混色，第二平坦层234覆盖色阻层232设置。
进一步地，阵列基板包括第一基板218和阵列线路层21，阵列线路层21设置在第一基板218上。液晶层22设于阵列线路层21和第二平坦层234之间。在本实施例中，第一基板218可用玻璃、丙烯酸和聚碳酸酯等材料制成。
在本实施例中，将控制线路印刷在底板11上,用保护层122覆盖控制线路和底板11，再将mini LED121焊接在保护层122上，用棱镜层13对miniLED121和保护层122进行封装，最后在棱镜层13上用OC材料进行封装形成第一平坦层14以形成背光模组，在第一平坦层14上依次制作黑矩阵233、色阻层232和第二平坦层234，在第一基板218上制作阵列线路层21，将带有彩膜层的背光模组通过反扣连接在阵列线路层21上。
本实施例还提及一种液晶显示装置的制作方法，该制作方法用于制作上述的液晶显示装置。如图4a-图4g所示，该制作方法包括:
如图4a所示，提供第一基板218，在第一基板218的上方形成第一金属层，对第一金属层进行蚀刻，使第一金属层被图案化形成扫描线和栅极213，扫描线和栅极213电性连接。其中，第一金属层可以采用金属例如铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)、镍(Ni)等，或者采用上述金属的组合例如Al/Mo、Cu/Mo等。
在第一基板218的上方形成覆盖扫描线和栅极213的栅极绝缘层217。栅极绝缘层217的材料为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或二者的组合。
在栅极绝缘层217的上方形成半导体层，对半导体层进行蚀刻，半导体层被图案化形成有源层214，有源层214与栅极213相对应，有源层半导体层采用多晶硅或掺杂多晶硅。
在栅极绝缘层217的上表面形成第二金属层，第二金属层覆盖有源层214，对第二金属层进行蚀刻，使第二金属层被图案化形成数据线、源极215和漏极216。其中第二金属层可以采用金属例如铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)、镍(Ni)等，或者采用上述金属的组合例如Al/Mo、Cu/Mo等。
在栅极绝缘层217的上表面形成第一绝缘层2191，第一绝缘层2191覆盖有源层214、数据线、源极215以及漏极216。第一绝缘层2191的材料为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或二者的组合。
对第一绝缘层2191进行蚀刻，使得第一绝缘层2191对应漏极216的区域被蚀刻掉，以漏出孔中的漏极216，在第一绝缘层2191上形成第一透明材料层，对第一透明材料层进行蚀刻并形成图案化的公共电极212，公共电极212在接触孔处断开。
在公共电极212上形成第二绝缘层2192，第二绝缘层2192对应漏极216的区域被蚀刻掉，以露出孔中的漏极216。
在第二绝缘层2192上形成第二透明材料层，对第二透明材料层进行蚀刻并形成图案化的像素电极211，像素电极211通过接触孔与漏极216相接触。
如图4b所示，在第二绝缘层2192和像素电极211上形成取向层，在取向层上滴注液晶分子形成液晶层22。
如图4c至图4e所示，提供一底板11，在底板11上制作控制线路层和多个miniLED121，将多个mini LED121与控制线路层电性连接；其中，控制线路印刷在底板11上，用保护层122覆盖控制线路和底板11，再将miniLED121焊接在保护层122上；在保护层122上用PV材料沉积后，经曝光、刻蚀、显影形成棱镜层13，在棱镜层13上形成第一平坦层14，第一平坦层14的材料例如为OC,第一平坦层14可使得棱镜层13变得平整。
如图4f和图4g所示，在第一平坦层14上制作彩膜层，将彩膜层与阵列基板21之间通过封胶进行成盒。
本领域的技术人员应当理解的是，本实施例的其余结构以及工作原理均与第一实施例相同，这里不再赘述。
第三实施例
图5是本发明第三实施例的液晶显示装置的结构示意图，如图3所示，本实施例的液晶显示装置与第一实施例的液晶显示装置在结构上大致相同，不同点在于阵列线路层21、彩膜基板23和背光模组之间的位置不同。
具体地，显示面板包括阵列线路层21、液晶层22和彩膜基板23，阵列线路层21设置在彩膜基板23上，背光模组与阵列线路层21相对设置，液晶层22设置于背光模组与阵列线路层21之间。
进一步地，阵列线路层21包括薄膜晶体管、像素电极211和公共电极212，薄膜晶体管设置在彩膜基板23上，像素电极211与薄膜晶体管电性连接，公共电极212与像素电极211相对设置，公共电极212位于像素电极211下方。
进一步地，彩膜基板23包括第二基板231、黑矩阵233、色阻层232和第二平坦层234，黑矩阵233和色阻层232均设置在第二基板231上，第二平坦层234覆盖黑矩阵233和色阻层232设置，阵列线路层21设置在第二平坦层234上。
本实施例还提高一种液晶显示装置的制作方法，该制作方法用于制作上述的液晶显示装置。如图6a-图6g所示，该制作方法包括：
如图6a和图6b所示，提供一个彩膜基板23，在彩膜基板23的第二平坦层234的上方形成第一金属层，对第一金属层进行蚀刻，使第一金属层被图案化形成扫描线和栅极213，扫描线和栅极213电性连接。其中，第一金属层可以采用金属例如铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)、镍(Ni)等，或者采用上述金属的组合例如Al/Mo、Cu/Mo等.
在第二平坦层234的上方形成覆盖扫描线和栅极213的栅极绝缘层217。栅极绝缘层217的材料为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或二者的组合。
在栅极绝缘层217的上方形成半导体层，对半导体层进行蚀刻，半导体层被图案化形成有源层214，有源层214与栅极213相对应，有源层半导体层采用多晶硅或掺杂多晶硅。
在栅极绝缘层217的上表面形成第二金属层，第二金属层覆盖有源层214，对第二金属层进行蚀刻，使第二金属层被图案化形成数据线、源极215和漏极216。其中第二金属层可以采用金属例如铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)、镍(Ni)等，或者采用上述金属的组合例如Al/Mo、Cu/Mo等。
在栅极绝缘层217的上表面形成第一绝缘层2191，第一绝缘层2191覆盖有源层214、数据线、源极215以及漏极216。第一绝缘层2191的材料为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或二者的组合。
对第一绝缘层2191进行蚀刻，使得第一绝缘层2191对应漏极216的区域被蚀刻掉，以漏出孔中的漏极216，在第一绝缘层2191上形成第一透明材料层，对第一透明材料层进行蚀刻并形成图案化的公共电极212，公共电极212在接触孔处断开。
在公共电极212上形成第二绝缘层2192，第二绝缘层2192对应漏极216的区域被蚀刻掉，以露出孔中的漏极216。
在第二绝缘层2192上形成第二透明材料层，对第二透明材料层进行蚀刻并形成图案化的像素电极211，像素电极211通过接触孔与漏极216相接触。
如图6c所示，在第二绝缘层2192和像素电极211上形成取向层，在取向层上滴注液晶分子形成液晶层22。
如图6d所示，提供一个底板11，在底板11上制作控制线路层和多个miniLED121，将多个mini LED121与控制线路层电性连接；其中，控制线路印刷在底板11上，用保护层122覆盖控制线路和底板11，再将mini LED121焊接在保护层122上。
如图6e和图6f所示,在保护层122上用PV材料沉积后，经曝光、刻蚀、显影后形成棱镜层13，在棱镜层13的上表面形成第一平坦层14，即得到背光模组。第一平坦层14的材料例如为OC,第一平坦层14可使得棱镜层13变得平整。
如图6g所示，将背光模组与阵列线路层21之间通过封胶成盒。此液晶显示装置的彩膜和阵列线路可在一个产线上完成制作，提高制作效率，降低成本。
本领域的技术人员应当理解的是，本实施例的其余结构以及工作原理均与第一实施例相同，这里不再赘述。
本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。

Claims (10)

1.一种液晶显示装置，其特征在于，包括显示面板和连接在所述显示面板上的背光模组，所述背光模组包括底板(11)、控制线路层、多个miniLED(121)、棱镜层(13)和第一平坦层(14)，所述控制线路层和多个所述miniLED(121)设置在所述底板(11)上，多个所述miniLED(121)与所述控制线路电性连接，所述棱镜层(13)设置在多个所述miniLED(121)上，所述第一平坦层(14)覆盖所述棱镜层(13)。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述背光模组还包括保护层(122)，所述保护层(122)覆盖所述控制线路层和所述底板(11)，多个所述miniLED(121)设置在所述保护层(122)上。
3.如权利要求1或2所述的液晶显示装置，其特征在于，所述显示面板包括阵列线路层(21)、液晶层(22)和彩膜基板(23)，所述阵列线路层(21)设置在所述第一平坦层(14)上，所述彩膜基板(23)与所述阵列线路层(21)相对设置，所述液晶层(22)设置于所述彩膜基板(23)与所述阵列线路层(21)之间。
4.如权利要求3所述的液晶显示装置，其特征在于，所述阵列线路层(21)包括薄膜晶体管、像素电极(211)和公共电极(212)，所述薄膜晶体管设置在所述第一平坦层(14)上，所述像素电极(211)与所述薄膜晶体管电性连接，所述公共电极(212)与所述像素电极(211)相对设置。
5.如权利要求1或2所述的液晶显示装置，其特征在于，所述显示面板包括阵列基板、液晶层(22)和彩膜层，所述阵列基板与所述彩膜层相对设置，所述液晶层(22)设置于所述阵列基板与所述彩膜层之间，所述彩膜层设置在所述第一平坦层(14)上。
6.如权利要求5所述的液晶显示装置，其特征在于，所述彩膜层包括黑矩阵(233)、色阻层(232)和第二平坦层(234)，所述黑矩阵(233)和所述色阻层(232)均设置在所述第一平坦层(14)上，所述第二平坦层(234)覆盖所述黑矩阵(233)和所述色阻层(232)设置。
7.如权利要求1或2所述的液晶显示装置，其特征在于，所述显示面板包括阵列线路层(21)、液晶层(22)和彩膜基板(23)，所述阵列线路层(21)设置在所述彩膜基板(23)上，所述背光模组与所述阵列线路层(21)相对设置，所述液晶层(22)设置于所述背光模组与所述阵列线路层(21)之间。
8.如权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于，所述阵列线路层(21)包括薄膜晶体管、像素电极(211)和公共电极(212)，所述薄膜晶体管设置在所述彩膜基板(23)上，所述像素电极(211)与所述薄膜晶体管电性连接，所述公共电极(212)与所述像素电极(211)相对设置。
9.如权利要求8所述的液晶显示装置，其特征在于，所述彩膜基板(23)包括第二基板(231)、黑矩阵(233)、色阻层(232)和第二平坦层(234)，所述黑矩阵(233)和所述色阻层(232)均设置在所述第二基板(231)上，所述第二平坦层(234)覆盖所述黑矩阵(233)和所述色阻层(232)设置，所述阵列线路层(21)设置在所述第二平坦层(234)上。
10.一种液晶显示装置的制作方法，包括：
提供一底板(11)，在所述底板(11)上制作控制线路层和多个miniLED(121)，将多个所述miniLED(121)与所述控制线路层电性连接,将保护层(122)覆盖在所述底板(11)和所述控制线路上，再将所述miniLED(121)焊接在所述保护层(122)；
在所述保护层(122)上用PV材料沉积后，经曝光、蚀刻、显影后形成棱镜层(13)，将所述棱镜层(13)覆盖在多个所述miniLED(121)上；
在棱镜层(13)的上表面形成第一平坦层(14)，即形成背光模组；
提供一显示面板，将所述显示面板设置在所述背光模组上并与所述背光模组连接。
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