JP2008186016A - 半透過型液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一特徴による液晶表示装置は、第1基板と、第1基板上に形成され、透明電極及び該透明電極の一部の上に形成される反射電極を含む複数の画素電極と、第1基板に対向する第2基板と、第1基板及び第2基板の間に滴下法で注入される液晶層と、反射電極と対応する位置に形成される複数の有機絶縁膜パターンと、を備える。本発明によれば、半透過液晶表示装置の反射領域と透過領域のセル間隔を調節する有機絶縁膜パターンの配置及び形態を調整して液晶を滴下注入法で注入する場合、液晶を均一で迅速に拡散させてセル間隔を均一にし、液晶表示装置に染みなどの不良を防止することができる。
【選択図】図7
Description
このように、透過領域では光が液晶層を1回通過し、反射領域では2回通過する。このような液晶層の通過回数の差は表示される光の明るさに影響を与えて表示される画面の色調に影響を与える。
したがって、これを解消するために透過領域と反射領域の液晶層の厚さ、即ち、セル間隔を異ならせて形成することが一般的であり、反射領域に有機絶縁膜パターンを形成して透過領域でのセル間隔を反射領域でのセル間隔の2倍にする。
このような液晶表示装置の製造工程で液晶セル工程は液晶を注入する方法に応じて真空注入法と滴下注入法などに区分される。
前記液晶層は、滴下法で注入することができる。
前記有機絶縁膜パターンは、前記画素電極の短い一辺と同一な長さの一辺を含む四角形態の平面模様を有することができる。
前記透明電極及び前記反射電極が共に形成される領域における液晶層の厚さは、前記透明電極のみ形成されている領域における液晶層の厚さの約1/2であり得る。
前記有機絶縁膜パターンは前記第1基板上に形成され、前記画素電極は前記第1基板及び前記有機絶縁膜パターン上に形成され得る。
前記有機絶縁膜パターンの表面は凹凸構造を有し、前記画素電極は前記有機絶縁膜パターンの凹凸構造に沿って屈曲していてもよい。
前記有機絶縁膜パターンは、前記第2基板上に形成することができる。
前記液晶表示装置は、行方向に伸びる複数のゲート線と、該ゲート線から上または下に拡張される複数のゲート電極を有し、前記画素電極と電気的に接続される複数の薄膜トランジスタをさらに備えることができる。前記ゲート線及び前記薄膜トランジスタは行方向に2つずつ互いに近く隣接して配置されて行方向に一定に繰り返され得る。前記薄膜トランジスタは前記有機絶縁膜パターンの下に配置されてもよい。
前記反射電極の平面積は、前記透明電極の平面積の約50%以下であってもよい。
前記有機絶縁膜パターンは、前記透明電極に対応する位置に配置することができる。
前記液晶層は、滴下法で注入することができる。
前記透明電極及び前記反射電極が共に形成される領域における液晶層の厚さは、前記透明電極のみ形成される領域における液晶層の厚さの約1/2であってもよい。
前記有機絶縁膜パターンは、前記画素電極より小さい辺を有する多角形形態の平面形態を有することができる。
前記有機絶縁膜パターンは、長方形または直三角形の平面形態を有することができる。
前記有機絶縁膜パターンは前記第1基板上に形成され、前記画素電極は前記第1基板及び前記有機絶縁膜パターン上に形成されてもよい。
前記有機絶縁膜パターンの表面は凹凸構造を有し、前記画素電極は前記有機絶縁膜パターンの凹凸構造に沿って屈曲していてもよい。
有機絶縁膜パターンは、前記第2基板上に形成されてもよい。
前記反射電極の平面積は、前記透明電極の平面積の約50%以上であり得る。
前記有機絶縁膜パターンは、行方向に一定に配置され、行方向に1つの画素電極が周期的に繰り返されて配置され得る。
前記液晶表示装置は、行方向に伸び、複数のゲート電極を含む複数のゲート線と、列方向に伸び、複数のソース電極を含む複数のデータ線と、前記画素電極と電気的に接続されるドレイン電極、前記ゲート電極、及び前記ソース電極を三端子として有する複数の薄膜トランジスタをさらに備えることができる。前記ゲート線は行方向に2つずつ互いに近く隣接して配置され、前記データ線は列方向に2つずつ互いに近く隣接して配置され、前記薄膜トランジスタは行方向と列方向に2つずつ、全て4個ずつ互いに近く隣接して配置され得る。前記薄膜トランジスタは前記有機絶縁膜パターンの下に配置されてもよい。
前記有機絶縁膜パターンは、前記透明電極に対応する位置に配置することができる。
前記有機絶縁膜パターンは、長方形または直三角形の平面形態を有することができる。
前記液晶表示装置は複数の画素を含み、前記有機絶縁膜パターンは4個の画素ごとに互いに隣接して配置されてもよい。
透明なガラスまたはプラスチックなどで作られた絶縁物質からなる(第1)基板110上に複数のゲート線121及び複数の維持電極線131が形成される。
30 液晶
81、82 接触補助部材
100 薄膜トランジスタ表示板
110 (第1)基板
111、211 薄膜層
121 ゲート線
124 ゲート電極
129 ゲート線の端部
131 維持電極線
137 維持電極
140 ゲート絶縁膜
151 半導体
154 半導体の突出部
157 半導体の拡張部
163 抵抗性接触部材の突出部
165 島状の抵抗性接触部材
171 データ線
173 ソース電極
175 ドレイン電極
177 ドレイン電極の端部
179 データ線の端部
180 保護膜
180p 下部保護膜
180q 上部保護膜
181、182、185 接触孔
187、251 有機絶縁膜パターン
191 画素電極
192 透明電極
194 反射電極
200 共通電極表示板
210 (第2)基板
220 遮光部材
230 色フィルター
250 蓋膜
270 共通電極
Claims (28)
- 第1基板と、
前記第1基板上に形成され、透明電極及び該透明電極の一部の上に形成される反射電極を含む複数の画素電極と、
前記第1基板に対向する第2基板と、
前記第1基板及び前記第2基板の間に注入される液晶層と、
前記反射電極と対応する位置に形成される複数の有機絶縁膜パターンと、を備え、
前記有機絶縁膜パターンは、行方向に2つの画素電極ずつ互いに隣接して形成され、行方向に2つの画素電極が周期的に繰り返されて配置されることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記液晶層は、滴下法で注入されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは、前記画素電極の短い一辺と同一な長さの一辺を含む四角形態の平面模様を有することを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記透明電極及び前記反射電極が共に形成される領域における液晶層の厚さは、前記透明電極のみ形成される領域における液晶層の厚さの約1/2であることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは前記第1基板上に形成され、前記画素電極は前記第1基板及び前記有機絶縁膜パターン上に形成されることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンの表面は凹凸構造を有し、前記画素電極は前記有機絶縁膜パターンの凹凸構造に沿って屈曲していることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは、前記第2基板上に形成されることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。
- 前記液晶表示装置は、行方向に伸びる複数のゲート線と、該ゲート線から上または下に拡張される複数のゲート電極を有し、前記画素電極と電気的に接続される複数の薄膜トランジスタとをさらに備え、
前記ゲート線及び前記薄膜トランジスタは行方向に2つずつ互いに近く隣接して配置され、この配置は行方向に一定に繰り返され、
前記薄膜トランジスタは前記有機絶縁膜パターンの下に配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記反射電極の平面積は、前記透明電極平面積の約50%以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは、前記透明電極に対応する位置に配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 第1基板と、
前記第1基板上に形成され、透明電極及び該透明電極の一部の上に形成される反射電極を含む複数の画素電極と、
前記第1基板に対向する第2基板と、
前記第1基板及び前記第2基板の間に注入される液晶層と、
前記反射電極と対応する位置に形成される複数の有機絶縁膜パターンと、を備え、
前記有機絶縁膜パターンは、前記画素電極の長い一辺及び短い一辺より各々短い長辺及び短辺を有する平面形態であることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記液晶層は、滴下法で注入されることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
- 前記透明電極及び前記反射電極が共に形成される領域における液晶層の厚さは、前記透明電極のみ形成される領域における液晶層の厚さの約1/2であることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは、前記画素電極より小さい辺を有する多角形形態の平面形態を有することを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは、長方形または直三角形の平面形態を有することを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは前記第1基板上に形成され、前記画素電極は前記第1基板及び前記有機絶縁膜パターン上に形成されることを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンの表面は凹凸構造を有し、前記画素電極は前記有機絶縁膜パターンの凹凸構造に沿って屈曲していることを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは、前記第2基板上に形成されることを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。
- 前記反射電極の平面積は、前記透明電極の平面積の約50%以上であることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
- 前記有機絶縁膜パターンは、行方向に一定に配置され、行方向に1つの画素電極が周期的に繰り返されて配置されることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
- 前記液晶表示装置は、行方向に伸び、複数のゲート電極を含む複数のゲート線と、列方向に伸び、複数のソース電極を含む複数のデータ線と、前記画素電極と電気的に接続されるドレイン電極、前記ゲート電極、及び前記ソース電極を三端子として有する複数の薄膜トランジスタとをさらに備え、
前記ゲート線は行方向に2つずつ互いに近く隣接して配置され、前記データ線は列方向に2つずつ互いに近く隣接して配置され、そして前記薄膜トランジスタは行方向と列方向に2つずつ、全て4個ずつ互いに近く隣接して配置され、
前記薄膜トランジスタは前記有機絶縁膜パターンの下に配置されることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。 - 前記有機絶縁膜パターンは、前記透明電極に対応する位置に配置されることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
- 第1基板上に複数の有機絶縁膜パターンと、透明電極及び該透明電極の一部の上に形成される反射電極を含む複数の画素電極を有する複数の薄膜層とを形成して第1表示板を形成する段階と、
第2基板上に複数の薄膜層を形成して第2表示板を形成する段階と、
前記第1表示板周囲に閉曲線模様で封印材を配置する段階と、
前記第1表示板上に液晶を滴下する段階と、
前記第1表示板と対向するように前記第2表示板を整列する段階と、
前記対向する第1表示板と前記第2表示板とを接合する段階と、
前記接合された第1表示板及び第2表示板の間に配置される封印材を硬化する段階と、を有し、
前記有機絶縁膜パターンは、前記反射電極と対応する領域に形成され、行方向に2つの画素電極ずつ互いに隣接して形成され、行方向に2つの画素電極が周期的に繰り返されて配置されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 第1基板上に複数の有機絶縁膜パターンを含む複数の薄膜層を形成して第1表示板を形成する段階と、
第2基板上に透明電極及び該透明電極の一部の上に形成される反射電極を含む複数の画素電極を有する複数の薄膜層を形成して第2表示板を形成する段階と、
前記第1表示板周囲に閉曲線模様で封印材を配置する段階と、
前記第1表示板上に液晶を滴下する段階と、
前記第1表示板と対向するように前記第2表示板を整列する段階と、
前記対向する第1表示板と前記第2表示板とを接合する段階と、
前記接合された第1表示板及び第2表示板の間に配置された封印材を硬化する段階と、を有し、
前記有機絶縁膜パターンは、前記反射電極と対応する領域に形成され、行方向に2つの画素電極ずつ互いに隣接して形成され、行方向に2つの画素電極が周期的に繰り返されて配置されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 第1基板上に複数の有機絶縁膜パターンと、透明電極及び該透明電極の一部の上に形成される反射電極を含む複数の画素電極を有する複数の薄膜層とを形成して第1表示板を形成する段階と、
第2基板上に複数の薄膜層を形成して第2表示板を形成する段階と、
前記第1表示板周囲に閉曲線模様で封印材を配置する段階と、
前記第1表示板上に液晶を滴下する段階と、
前記第1表示板と対向するように前記第2表示板を整列する段階と、
前記対向する第1表示板と前記第2表示板とを接合する段階と、
前記接合された第1表示板及び第2表示板の間に配置された封印材を硬化する段階と、を有し、
前記有機絶縁膜パターンは、前記反射電極と対応する領域に形成され、前記画素電極の長い一辺及び短い一辺より各々短い長辺及び短辺を有する多角形の平面形態であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 第1基板上に複数の有機絶縁膜パターンを含む複数の薄膜層を形成して第1表示板を形成する段階と、
第2基板上に透明電極及び該透明電極の一部の上に形成される反射電極を含む複数の画素電極を有する複数の薄膜層を形成して第2表示板を形成する段階と、
前記第1表示板周囲に閉曲線模様で封印材を配置する段階と、
前記第1表示板上に液晶を滴下する段階と、
前記第1表示板と対向するように前記第2表示板を整列する段階と、
前記対向する第1表示板と前記第2表示板とを接合する段階と、
前記接合された第1表示板及び第2表示板の間に配置された封印材を硬化する段階と、を有し、
前記有機絶縁膜パターンは、前記反射電極と対応する領域に形成され、前記画素電極の長い一辺及び短い一辺より各々短い長辺及び短辺を有する多角形の平面形態であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記有機絶縁膜パターンは、長方形または直三角形の平面形態を有することを特徴とする請求項25または26に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記液晶表示装置は複数の画素を含み、前記有機絶縁膜パターンは4個の画素ごとに互いに隣接して配置されることを特徴とする請求項25または26に記載の液晶表示装置の製造方法。
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