CN114538051A - 工作平台 - Google Patents

Abstract

本申请实施例公开了一种工作平台。工作平台包括支架、支撑台和第一滚动件，其中，支撑台与支架连接，支撑台具有支撑面，支撑面具有相对的第一边缘和第二边缘，支撑面具有靠近第一边缘的滚动区域；第一滚动件设置在支撑面上的滚动区域内，且第一滚动件与支撑台滚动连接。本申请通过在支撑台的支撑面上设置滚动区域，并在滚动区域内滚动连接第一滚动件，使得支撑台的支撑面上对应滚动区域的摩擦阻力较小，从而提高工作平台的工作效率。

Description

工作平台

技术领域

本申请涉及光学模块制作技术领域，具体涉及一种工作平台。

背景技术

在光学模块生产过程中，光学模块在生产流水线上通过传输带进行传输，工作平台则位于传输带的相对两侧，当光学模块到达指定工作平台对应的位置时，光学模块从传输带上运送至该工作平台上进行加工处理，待加工完成后再从工作平台上运回至传输带上，以向下一个工作平台继续运输，然后重复上述操作直至完成所有加工工序。但现有工作平台表面由于具有较大阻力，使得光学模块无法有效从传输带上运送至相应的工作平台上，从而导致工作效率较低。

发明内容

本申请实施例提供一种工作平台，可以解决现有工作平台表面阻力较大而导致工作效率较低的问题。

本申请实施例提供一种工作平台，包括：

支架；

支撑台，与所述支架连接，所述支撑台具有支撑面，所述支撑面具有相对的第一边缘和第二边缘，所述支撑面具有靠近所述第一边缘的滚动区域；

第一滚动件，设置在所述支撑面上的滚动区域内，所述第一滚动件与所述支撑台滚动连接。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述支撑面的滚动区域内开设有第一凹槽，所述第一凹槽沿所述第二边缘朝向所述第一边缘延伸并贯穿所述第一边缘；所述第一滚动件位于所述第一凹槽内。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一凹槽的底面开设有避让孔，所述避让孔沿所述第一边缘朝向所述第二边缘延伸，所述第一滚动件穿过所述避让孔并部分凸出于所述第一凹槽的底面。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一凹槽的底面开设有多个所述避让孔，所述工作平台包括多个所述第一滚动件，多个所述第一滚动件与多个所述避让孔一一对应设置。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一滚动件凸出所述第一凹槽底面的部分相对所述第一凹槽底面的高度小于所述第一凹槽的深度。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述滚动区域包括多个子滚动区域，每个所述子滚动区域内设置有多个所述第一滚动件；多个所述子滚动区域沿所述第一边缘朝向所述第二边缘的方向依次分布；

所述子滚动区域的多个第一滚动件沿所述第一边缘朝向所述第二边缘的方向依次分布；或，

所述子滚动区域的多个第一滚动件的分布方向与多个所述子滚动区域的分布方向呈夹角。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述支撑面上开设有第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽沿所述第一边缘朝向所述第二边缘的方向并列设置；所述第二凹槽沿所述第一边缘朝向所述第二边缘延伸并贯穿所述第二边缘；所述第二凹槽内设置有所述第一滚动件。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一凹槽沿所述第一边缘朝向所述第二边缘延伸并贯穿所述第二边缘。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述工作平台还包括第二滚动件，所述第二滚动件与所述支撑台滚动连接，所述第二滚动件连接在所述支撑台靠近所述第一边缘的一端，所述第二滚动件与所述滚动区域对应设置；所述第二滚动件至少部分凸出于所述第一凹槽的底面。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二滚动件凸出所述第一凹槽底面的部分相对所述第一凹槽底面的高度与所述第一滚动件凸出所述第一凹槽底面的部分相对所述第一凹槽底面的高度相等。

本申请实施例中工作平台包括支架、支撑台和第一滚动件，其中，支撑台与支架连接，支撑台具有支撑面，支撑面具有相对的第一边缘和第二边缘，支撑面具有靠近第一边缘的滚动区域；第一滚动件设置在支撑面上的滚动区域内，且第一滚动件与支撑台滚动连接。通过在支撑台的支撑面上设置滚动区域，并在滚动区域内滚动连接第一滚动件，使得支撑台的支撑面上对应滚动区域的摩擦阻力较小，从而提高工作平台的工作效率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的一种工作平台的结构示意图；

图2是本申请实施例提供的图1中区域A的局部放大图。

附图标记说明：

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。

本申请实施例提供一种工作平台。以下分别进行详细说明。需要说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。

图1为本申请实施例提供的一种工作平台的结构示意图，如图1所示，工作平台100包括支架110，支架110作为工作平台100的骨架结构，对整个工作平台100起到支撑作用；此外，在将工作平台100投入使用时，支架110直接支撑在目标使用场地上，以保证整个工作平台100的稳定性。

工作平台100包括支撑台120，支撑台120与支架110连接，支撑台120具有支撑面121，用于支撑待加工或待检测的物件，如光学模块等。支撑面121具有相对的第一边缘1211和第二边缘1212，支撑面121具有靠近第一边缘1211的滚动区域122。其中，滚动区域122作为光学模块等物件的放置区域，以对光学模块等物件在支撑台120上的位置进行限定，以便于工作平台100上加工或检测等工作的进行。

在光学模块等物件的生产流水线上，将工作平台100放置于传输带的相对两侧，且工作平台100的第一边缘1211靠近流水线上的传输带设置，通过在支撑面121上靠近第一边缘1211的位置设置滚动区域122，有助于传输带上的物件顺利输送至支撑台120上的对应位置，从而有利于缩减传输带与支撑台120之间的传输距离，减小工作平台100整体的占地面积。

工作平台100还包括第一滚动件130，第一滚动件130设置在支撑面121上的滚动区域122内，且第一滚动件130与支撑台120滚动连接，通过在滚动区域122内设置第一滚动件130，使得光学模块等物件输送至光学平台上时，与支撑台120的支撑面121之间为滚动接触，从而有助于减小光学模块等物件与支撑面121之间的摩擦阻力，提高工作平台100的工作效率。

其中，光学模块等物件从传输带上输送至工作平台100的支撑台120上时，由于工作平台100位于传输带的侧边，光学模块等物件沿支撑面121的第一边缘1211朝向第二边缘1212的方向进入支撑面121上的滚动区域122；同样的，加工或检测过程完成后，光学模块再沿第二边缘1212朝向第一边缘1211的方向离开滚动区域122。因此，第一滚动件130至少具有沿第一边缘1211朝向第二边缘1212以及沿第二边缘1212朝向第一边缘1211的滚动方向，以确保光学模块等物件在传输带与工作平台100之间的有效输送。

需要说明的是，为保证光学模块等物件准确无误的从传输带上输送至支撑台120上对应的滚动区域122，而不会输送至滚动区域122以外的位置，本申请实施例能够采用在滚动区域122边缘凸设限位结构的方式，以限定光学模块等物件的实际滚动范围，在保证光学模块等物件顺利沿支撑面121的第一边缘1211进入滚动区域122的同时，避免光学模块等物件进入滚动区域122以外的区域，从而提高工作平台100的工作精度。

本申请实施例中工作平台100包括支架110、支撑台120和第一滚动件130，其中，支撑台120与支架110连接，支撑台120具有支撑面121，支撑面121具有相对的第一边缘1211和第二边缘1212，支撑面121具有靠近第一边缘1211的滚动区域122；第一滚动件130设置在支撑面121上的滚动区域122内，且第一滚动件130与支撑台120滚动连接。通过在支撑台120的支撑面121上设置滚动区域122，并在滚动区域122内滚动连接第一滚动件130，使得支撑台120的支撑面121上对应滚动区域122的摩擦阻力较小，从而提高工作平台100的工作效率。

可选的，支撑面121的滚动区域122内开设有第一凹槽123，第一凹槽123沿第二边缘1212朝向第一边缘1211延伸并贯穿第一边缘1211，即第一凹槽123在第一边缘1211上形成有开口，光学模块等物件则通过第一边缘1211上的开口进入第一凹槽123内。其中，第一滚动件130位于第一凹槽123内，即光学模块等物件在支撑台120上的活动区域为第一凹槽123所在区域。

通过在滚动区域122内开设第一凹槽123，且在第一边缘1211上形成开口，一方面，有利于对光学模块等物件进入光学平台的位置的进一步限定；另一方面，能够降低支撑台120上滚动区域122的高度，即在保证传输带与支撑台120上滚动区域122之间同等高度差的情况下，此种结构设计有助于降低传输带的传输高度，从而减小生产流水线上整个传输带的空间占用，节约生产成本。

可选的，如图2所示，第一凹槽123的底面开设有避让孔124，避让孔124沿第一边缘1211朝向第二边缘1212延伸，第一滚动件130穿过避让孔124并部分凸出于第一凹槽123的底面。通过在第一凹槽123的底面开设避让孔124，并将第一滚动件130设置在避让孔124内，能够进一步降低第一滚动件130所在平面的高度，即在保证传输带与第一滚动件130之间同等高度差的情况下，能够进一步降低对应传输带的传输高度，减小传输带的空间占用。

在一些实施例中，避让孔124的深度小于第一凹槽123底面的厚度，即避让孔124的下端为封闭结构，第一滚动件130则嵌设在第一凹槽123的底面，此种结构设计使得第一滚动件130包裹在支撑台120内部，有助于保持支撑台120整体结构的完整性，避免在工作平台100使用过程中，第一滚动件130受到外部因素的干扰，影响工作平台100的正常使用。

在另一些实施例中，避让孔124沿支撑台120的厚度方向贯穿第一凹槽123的底面，即避让孔124为通孔，则在设置第一滚动件130时，第一滚动件130能够贯穿第一凹槽123的底面，此种结构设计使得第一滚动件130凸出第一凹槽123底面的部分相对第一凹槽123底面的高度的调节范围更大，在同等支撑台120结构的条件下，最大限度的降低第一滚动件130所在平面的高度，从而进一步降低对应传输带的传输高度，减小传输带的空间占用。

可选的，第一凹槽123的底面开设有多个避让孔124，工作平台100包括多个第一滚动件130，通过对第一凹槽123内多个第一滚动件130的分布方式的优化，能够对光学模块等物件与第一滚动件130之间的接触点的分布进行设计，使得在保证光学模块等物件与多个第一滚动件130之间具有足够接触面积的同时保证光学模块等物件在多个第一滚动件130上的稳定性，从而保证工作平台100的稳定工作。

在一些实施例中，避让孔124的数量少于第一滚动件130的数量，即一个避让孔124内设置有至少两个第一滚动件130，此种结构设计方式使得每个避让孔124中对应的区域都具有足够的接触面积，同时还能减少避让孔124的开设数量，从而简化支撑台120的整体结构设计。

在另一些实施例中，避让孔124的数量与第一滚动件130的数量相等，即多个第一滚动件130与多个避让孔124一一对应设置，此种结构设计方式使得每个避让孔124与第一滚动件130的设置位置能够单独进行设计，从而便于根据实际设计需求对多个第一滚动件130的分布方式进行任意调整，使得第一滚动件130的设置更加灵活便捷。

可选的，本申请实施例中第一滚动件130凸出第一凹槽123底面的部分相对第一凹槽123底面的高度小于第一凹槽123的深度，即第一滚动件130与光学模块等物件的接触点所在的平面低于支撑台120的支撑面121。此种结构设计方式使得当光学模块等物件进入第一凹槽123所在区域时，光学模块部分位于第一凹槽123内，即光学模块在第一滚动件130上滑动时，第一凹槽123的侧壁会对光学模块起到阻挡的作用，避免光学模块滑出第一凹槽123所在区域，从而实现对光学模块等物件在支撑台120上的位置的限定。

其中，第一滚动件130凸出第一凹槽123底面的部分背离凹槽底面的一侧与支撑台120的支撑面121之间的高度差，即光学模块等物件位于第一凹槽123内的高度与第一凹槽123的深度、支撑台120的厚度以及第一滚动件130的尺寸直接相关，通过对第一凹槽123的深度、支撑台120的厚度以及第一滚动件130的尺寸的相互配合，能够对光学模块等物件与第一滚动件130的接触面积以及光学模块的相对位置进行调节，从而确保光学模块等物件准确稳定的进入第一凹槽123所在区域。

需要说明的是，本申请实施例中的第一滚动件130可以是滚珠、定向滚轮或万向滚轮等，第一滚动件130至少具有沿第一边缘1211朝向第二边缘1212的滚动方向，以确保光学模块等物件顺利输送至第一凹槽123中；此外，第一滚动件130还能够具有其他滚动方向，以便于光学模块等物件在第一凹槽123中能够随时进行位置调整。

可选的，滚动区域122能够划分为多个子滚动区域1221，每个子滚动区域1221内设置有多个第一滚动件130，即与支撑台120滚动连接的多个第一滚动件130以子滚动区域1221的方式分布在滚动区域122内，通过对多个子滚动区域1221的分布方式以及每个子滚动区域1221内多个第一滚动件130的分布方式进行调节，能够满足工作平台100中多个第一滚动件130不同的设计需求。

其中，每个子滚动区域1221中包括的多个第一滚动件130的数量以及多个第一滚动件130的分布方式能够相同或者不同，其具体数量以及分布方式能够根据对应光学模块等物件的具体结构以及受力情况等进行相应调节，以确保光学模块等物件准确稳定的进出支撑台120上的第一凹槽123。

需要说明的是，为方便对多个子滚动区域1221以及每个子滚动区域1221中多个第一滚动件130的分布方式进行阐述，本申请实施例中将沿第一边缘1211朝向第二边缘1212的方向定义为支撑面121的长度方向，第一边缘1211或第二边缘1212的延伸方向则为支撑面121的宽度方向。

在一些实施例中，多个子滚动区域1221沿第一边缘1211朝向第二边缘1212的方向依次分布，即多个子滚动区域1221沿支撑面121的长度方向依次分布，使得多个子滚动区域1221中用于与光学模块等物件接触的受力区域沿支撑面121的长度方向依次分布，从而使得光学模块等在沿第一边缘1211朝向第二边缘1212输送的过程中，在输送方向上始终有子滚动区域1221对其支撑，以保证光学模块等的稳定输送。

其中，子滚动区域1221的多个第一滚动件130沿第一边缘1211朝向第二边缘1212的方向依次分布，即子滚动区域1221中的多个第一滚动件130与多个子滚动区域1221的分布方向一致且均沿支撑面121的长度方向依次分布。对应的，在实际设计过程中，能够将子滚动区域1221设置在沿第一凹槽123宽度方向的中间区域，以使光学模块等进入第一凹槽123中时，与子滚动区域1221中的第一滚动件130的接触区域为光学模块宽度方向上的中间区域；同时，能够采用增大第一滚动件130沿第一凹槽123宽度方向上的尺寸的方式，以确保光学模块等与第一滚动件130具有足够的接触面积，从而提高光学模块等沿第一边缘1211朝向第二边缘1212输送的稳定性。

或者，子滚动区域1221的多个第一滚动件130的分布方向与多个子滚动区域1221的分布方向呈夹角，即多个子滚动区域1221沿支撑面121的长度方向依次分布，子滚动区域1221的多个第一滚动件130则沿支撑面121的宽度方向依次分布。此种结构设计方式使得第一凹槽123内的长度和宽度方向上均分布有第一滚动件130，有利于提高光学模块等在第一凹槽123中的受力均一性。

在另一些实施例中，多个子滚动区域1221沿支撑面121的宽度方向依次分布，使得多个子滚动区域1221中用于与光学模块等物件接触的受力区域沿支撑面121的宽度方向依次分布，从而使得光学模块等在沿第一边缘1211朝向第二边缘1212输送的过程中，多个子滚动区域1221在其宽度方向上对其进行支撑，以避免光学模块等在输送过程中发生侧翻。

其中，子滚动区域1221中的多个第一滚动件130与多个子滚动区域1221的分布方向一致且均沿支撑面121的宽度方向依次分布。对应的，在实际设计过程中，能够将子滚动区域1221设置在沿第一凹槽123长度方向的中间区域，同时，采用增大第一滚动件130沿第一凹槽123长度方向上的尺寸，以确保光学模块等与第一滚动件130具有足够的接触面积，从而提高光学模块等沿第一边缘1211朝向第二边缘1212输送的稳定性。

或者，子滚动区域1221的多个第一滚动件130的分布方向与多个子滚动区域1221的分布方向呈夹角，即多个子滚动区域1221沿支撑面121的宽度方向依次分布，子滚动区域1221的多个第一滚动件130则沿支撑面121的长度方向依次分布。此种结构设计方式使得第一凹槽123内的长度和宽度方向上均分布有第一滚动件130，有利于提高光学模块等在第一凹槽123中的受力均一性。

在又一些实施例中，多个子滚动区域1221中部分子滚动区域1221沿支撑面121的长度方向依次分布，部分子滚动区域1221则沿支撑面121的宽度方向依次分布，即多个子滚动区域1221在第一凹槽123内呈阵列分布。此种结构设计方式使得光学模块等与第一凹槽123中的接触区域也呈阵列分布，从而进一步提高光学模块等在第一凹槽123中的受力均一性，保证光学模块等在第一凹槽123中输送时的稳定性。

需要说明的是，在对多个子滚动区域1221的分布位置进行设计时，能够根据光学模块等物件的质量分布进行调整，如在光学模块等质量密度较大的地方设置子滚动区域1221，质量密度越大则对应的子滚动区域1221中包括的第一滚动件130的数量越多，以向光学模块等提供更大的支撑力，降低光学模块等对子滚动区域1221的损坏风险，从而提高工作平台100的使用寿命。

可选的，支撑面121上开设有第二凹槽，第一凹槽123和第二凹槽沿第一边缘1211朝向第二边缘1212的方向并列设置，即第一凹槽123位于支撑面121上靠近第一边缘1211的位置，第二凹槽则位于支撑面121上靠近第二边缘1212的位置。其中，第二凹槽沿第一边缘1211朝向第二边缘1212延伸并贯穿第二边缘1212，即第二凹槽在第二边缘1212上形成有开口，光学模块等物件则通过第二边缘1212上的开口进入第二凹槽内。

通过在滚动区域122内开设第一凹槽123和第二凹槽，且第一凹槽123在第一边缘1211上形成开口，第二凹槽在第二边缘1212上形成开口，使得工作平台100能够放置在生产流水线的两条传输带之间，其中，一条传输带上的光学模块等物件从第一边缘1211上的开口进入第一凹槽123，另一条传输带上的光学模块等物件则从第二边缘1212上的开口进入第二凹槽，即一个工作平台100能够同时对两条传输带上的光学模块等物件进行加工或检测，从而提高工作平台100的工作效率。

在一些实施例中，第一凹槽123与第二凹槽对应设置，即第一边缘1211上的开口与第二边缘1212上的开口相对应，在将输送带上的光学模块等输送至工作平台100上的过程中，会在工作平台100或传输带侧边对应位置设置定位结构，以确保传输带上的光学模块顺利输送至工作平台100上。将第一凹槽123与第二凹槽对应设置，使得工作平台100两侧的定位结构也能够对应设置，以便于实际操作过程中对两条传输带的同步控制。

在另一些实施例中，第一凹槽123与第二凹槽在支撑面121的宽度方向上错位设置，即第一边缘1211上的开口与第二边缘1212上的开口在支撑面121的宽度方向上错位设置，即两条传输带能够根据自身传输需求对进入工作平台100的位置进行设计，其具体设置位置能够根据实际使用需求进行相应调节，此处不做特殊限制，只需保证两条传输带上的光学模块等物件有条不紊的进入工作平台100进行加工或测试即可。

其中，第二凹槽内设置有第一滚动件130，第一滚动件130在第二凹槽内的结构设计以及分布方式能够参考上述第一凹槽123中第一滚动件130的结构设计以及分布方式的相关描述，此处不再一一赘述。

可选的，第一凹槽123沿第一边缘1211朝向第二边缘1212延伸并贯穿第二边缘1212，即第一凹槽123横穿支撑面121的第一边缘1211与第二边缘1212，并分别在第一边缘1211和第二边缘1212上对应位置形成开口，即上述实施例中第一凹槽123与第二凹槽相互连通以形成一个完整的凹槽。

当光学模块等物件在传输带与光学平台之间输送时，光学模块等物件能够通过第一边缘1211上的开口进入第一凹槽123，然后通过第二边缘1212上的开口离开第一凹槽123；或者通过第二边缘1212上的开口进入第一凹槽123，然后通过第一边缘1211上的开口离开第一凹槽123；或者两个光学模块等物件分别从第一边缘1211或第二边缘1212上的开口进入第一凹槽123，然后从相同位置离开第一凹槽123。此种结构设计使得光学平台的放置位置更加灵活，光学平台与光学模块等的输送方式之间的配合也更加多样，并能够根据实际场地情况进行相应调整，以满足不同的使用需求。

可选的，工作平台100还包括第二滚动件140，第二滚动件140与支撑台120滚动连接，第二滚动件140连接在支撑台120靠近第一边缘1211的一端，且第二滚动件140与滚动区域122对应设置，即传输带上的光学模块等物件输送至工作平台100上时，先经过第二滚动件140表面，然后通过第一边缘1211上的开口进入第一凹槽123。

其中，第二滚动件140至少部分凸出于第一凹槽123的底面，使得第二滚动件140能够起到过渡的作用，在光学模块等进入第一凹槽123前对光学模块等进行支撑，以便于光学模块顺利输送至支撑台120上。

可选的，第二滚动件140凸出第一凹槽123底面的部分相对第一凹槽123底面的高度与第一滚动件130凸出第一凹槽123底面的部分相对第一凹槽123底面的高度相等，即第二滚动件140与光学模块等的接触面和第一滚动件130与光学模块等的接触面为同一平面。此种结构设计使得光学模块等物件在经过第二滚动件140时即可调整好相对第一滚动件130的高度，以便于光学模块等物件能够顺滑平稳的进入第一凹槽123中。

需要说明的是，本申请实施例中的第二滚动件140可以是滚珠、定向滚轮或万向滚轮等，第二滚动件140至少具有沿第一边缘1211朝向第二边缘1212的滚动方向，以确保光学模块等物件通过第二滚动件140的过渡作用输送至第一凹槽123中；此外，第二滚动件140还能够具有其他滚动方向，以便于光学模块等物件能够在第二滚动件140上进行位置调整，确保光学模块等物件顺利从第一边缘1211上的开口进入第一凹槽123中。

可选的，光学平台还包括照明件150，照明件150设置在支架110上，照明件150的照明侧面向第一凹槽123且与支撑台120间隔设置，以保证照明件150对第一凹槽123所在区域进行照明的同时，避免对光学模块等物件的输送造成干扰。

其中，照明件150在支撑面121上的正投影位于第一凹槽123内，即照明件150位于第一凹槽123的正上方，此种设置方式使得第一凹槽123内的光照最强，同时，也能够避免光照从侧边照射时产生阴影，以便于工作平台100使用过程中对加工或检测过程的观察，避免出现加工失效或检测失败的风险，还能够避免出现安全问题。

以上对本申请实施例所提供的一种工作平台进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种工作平台，其特征在于，所述工作平台包括：

支架；

支撑台，与所述支架连接，所述支撑台具有支撑面，所述支撑面具有相对的第一边缘和第二边缘，所述支撑面具有靠近所述第一边缘的滚动区域；

第一滚动件，设置在所述支撑面上的滚动区域内，所述第一滚动件与所述支撑台滚动连接。

2.根据权利要求1所述的工作平台，其特征在于，所述支撑面的滚动区域内开设有第一凹槽，所述第一凹槽沿所述第二边缘朝向所述第一边缘延伸并贯穿所述第一边缘；所述第一滚动件位于所述第一凹槽内。

3.根据权利要求2所述的工作平台，其特征在于，所述第一凹槽的底面开设有避让孔，所述避让孔沿所述第一边缘朝向所述第二边缘延伸，所述第一滚动件穿过所述避让孔并部分凸出于所述第一凹槽的底面。

4.根据权利要求3所述的工作平台，其特征在于，所述第一凹槽的底面开设有多个所述避让孔，所述工作平台包括多个所述第一滚动件，多个所述第一滚动件与多个所述避让孔一一对应设置。

5.根据权利要求2至4任一项所述的工作平台，其特征在于，所述第一滚动件凸出所述第一凹槽底面的部分相对所述第一凹槽底面的高度小于所述第一凹槽的深度。

6.根据权利要求1所述的工作平台，其特征在于，所述滚动区域包括多个子滚动区域，每个所述子滚动区域内设置有多个所述第一滚动件；多个所述子滚动区域沿所述第一边缘朝向所述第二边缘的方向依次分布；

所述子滚动区域的多个第一滚动件沿所述第一边缘朝向所述第二边缘的方向依次分布；或，

所述子滚动区域的多个第一滚动件的分布方向与多个所述子滚动区域的分布方向呈夹角。

7.根据权利要求2所述的工作平台，其特征在于，所述支撑面上开设有第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽沿所述第一边缘朝向所述第二边缘的方向并列设置；所述第二凹槽沿所述第一边缘朝向所述第二边缘延伸并贯穿所述第二边缘；所述第二凹槽内设置有所述第一滚动件。

8.根据权利要求2所述的工作平台，其特征在于，所述第一凹槽沿所述第一边缘朝向所述第二边缘延伸并贯穿所述第二边缘。

9.根据权利要求3所述的工作平台，其特征在于，所述工作平台还包括第二滚动件，所述第二滚动件与所述支撑台滚动连接，所述第二滚动件连接在所述支撑台靠近所述第一边缘的一端，所述第二滚动件与所述滚动区域对应设置；所述第二滚动件至少部分凸出于所述第一凹槽的底面。

10.根据权利要求9所述的工作平台，其特征在于，所述第二滚动件凸出所述第一凹槽底面的部分相对所述第一凹槽底面的高度与所述第一滚动件凸出所述第一凹槽底面的部分相对所述第一凹槽底面的高度相等。

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