CN114535742A - 真空系统的操作方法和真空系统 - Google Patents

Abstract

本发明基于一种用于操作真空系统，特别是真空钎焊系统的方法，其中，在至少一个方法步骤(14)中，通过所述真空系统的至少一个加热单元(18)将热量，特别是经由热辐射，引入到至少一个真空室(16)中进行工件处理过程，特别是钎焊过程，所述加热单元特别是红外加热单元，所述加热单元特别是所述真空室(16)处并且垂直地或水平地定向。提出在真空室(16)中，特别是沿着至少基本上平行于加热单元(18)的纵轴(20)延伸的方向(22)，至少两个，特别是至少三个热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域，设置有不同温度，特别是钎焊温度。

Description

真空系统的操作方法和真空系统

技术领域

本发明涉及一种用于根据权利要求1的前序部分的真空系统的操作方法和根据权利要求7的前序部分的真空系统。

已经提出了用于操作真空系统的方法，其中，在至少一个方法步骤中，通过真空系统的至少一个加热单元，将用于工件处理过程，尤其是钎焊过程的热量引入真空系统的至少一个真空室，使得在真空室中，特别是沿垂直轴观察，提供了具有至少基本均匀的温度分布的单个热处理区域，特别是钎焊区域。此外，还已知具有至少一个真空室、具有至少一个布置在真空室处的加热单元以及具有至少一个用于执行上述方法的控制或调节单元的真空系统。

本发明的目的尤其是提供一种通用方法和/或通用真空系统，该通用方法和/或通用真空系统在工件处理过程，特别是钎焊过程的灵活性方面，特别是在处理不同焊料的可能性方面具有改进的特性，可以在钎焊过程中同时进行处理。根据本发明，该目的通过权利要求1和/或权利要求7的特征来实现，而本发明的有利的实施方式和进一步的发展可以从从属权利要求中得出。

本发明的优点

本发明基于一种用于操作真空系统，特别是真空钎焊系统的方法，其中，在至少一个方法步骤中，特别是经由热辐射将热量引入到真空系统的至少一个真空室中，以用于借助于真空系统的至少一个加热单元，特别是红外加热单元，进行工件处理过程，特别是钎焊过程，该加热单元特别是布置在真空室处并且垂直或水平定向。

建议在真空室内，特别是沿着至少基本上平行于加热单元的纵轴，特别是垂直轴的方向，提供具有不同温度，尤其是钎焊温度的至少两个，特别是至少三个热处理区域，特别是钎焊区域，特别是用于在单个钎焊过程中处理具有不同熔化温度的不同焊料。但是也可以想到，在真空室内设有数量不同于两个，尤其是三个的热处理区域，特别是钎焊区域，例如在真空室内设有至少四个、至少五个、至少六个热处理区域，特别是钎焊区域，等。“基本上平行”在这里尤其是指方向相对于参考方向的定向，特别是在投影平面中，其中该方向与参考方向的偏离特别是小于8°，有利地小于5°并且特别有利地小于2°。特别地，在真空室内同时提供具有不同温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域。然而，也可以想到的是，在真空室内，特别是选择性地以时间偏移的方式设置具有不同温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域，特别是使得首先提供具有第一温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域，并且在时间间隔之后，提供另外的温度，特别是钎焊温度的至少一个另外的热处理区域，特别是钎焊区域。优选在至少大体上共同的时间段内在真空室内提供具有不同温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域。优选地，在布置在真空室中的工件，特别是硬质合金、陶瓷和/或金刚石刀具的单个热处理过程，特别是钎焊过程的执行期间，提供热处理区域，特别是钎焊区域。优选地，在一个特别是单个的热处理过程，特别是钎焊过程中，在真空室内同时提供不同的温度，特别是钎焊温度。特别地，在执行特别是单个的热处理过程，特别是钎焊过程期间，在真空室关闭之后，在真空室内设置具有不同温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域。优选地，特别地同时设置在真空室中的各个热处理区域，特别是钎焊区域的温度，特别是钎焊温度，具有大于5K的温度差，特别是钎焊温度差。优选地，在热处理区域中，特别是在钎焊区域中，由于由加热单元辐射的定向热辐射而提供了不同的温度，特别是钎焊温度。热处理区域，特别是钎焊区域中的不同温度，特别是钎焊温度优选地通过加热单元的，特别是区域方面的单独控制或调节来提供。然而，也可以想到，由于加热单元的均匀控制或调节结合热处理区域，特别是钎焊区域的主动区域冷却用于温度调节，或者由于本领域技术人员认为合适的另一种方法，提供了热处理区域，特别是钎焊区域的不同温度，特别是钎焊温度。

该方法优选地被配置用于真空刀具钎焊系统的操作，该系统用于钎焊硬质合金刀具、陶瓷刀具和金刚石刀具。然而，也可以想到，该方法被配置用于不同类型的真空系统的操作，例如用于工件的真空退火的真空系统、用于部件的清洁或消毒的真空系统等。“配置成”特别是指专门编程、专门实施、专门设计和/或专门配备。通过将对象配置为用于某种功能，特别是应当理解，该对象在至少一个应用状态和/或操作状态下实现和/或执行所述特定功能。

通过实施根据本发明的方法，可以有利地实现热处理过程，特别是钎焊过程的高灵活性。可以在单个热处理过程中，特别是在单个真空室中对具有不同温度的多个结构部件进行热处理。有利地，特别是当在真空钎焊系统中使用该方法时，可以在单个钎焊过程中同时或按时间顺序处理具有不同熔化温度的不同焊料。有利地，可以在单个钎焊过程中实现必须用不同的焊料钎焊的刀具刀片的节省成本和节省时间的处理。有利地，通过该方法实现了高吞吐量。

进一步建议，加热单元由真空系统的控制或调节单元来控制或调节，使得在热处理区域中，特别是钎焊区域中，在真空室内产生不同的温度，特别是钎焊温度，特别是沿着至少基本上平行于加热单元的纵轴延伸的方向。加热单元优选实施为热辐射加热单元，特别是实施为红外加热单元。优选地，加热单元包括至少一个红外辐射器，特别是多个红外辐射器，其被布置在真空室处。优选地，加热单元在每个热处理区域，特别是钎焊区域包括至少一个分配给相应热处理区域，特别是钎焊区域的加热元件。优选地，加热单元在每个热处理区域，特别是钎焊区域中包括至少三个，特别是至少六个加热元件，其被分配给相应的热处理区域，特别是钎焊区域。然而，也可以想到的是，加热单元在每个热处理区域，特别是钎焊区域包括多个加热元件，该加热元件不同于三个，特别是六个，例如至少两个、至少四个、至少八个加热单元，其被分配给每个热处理区域，特别是钎焊区域，等等。优选地，分配给热处理区域，特别是钎焊区域的加热元件大部分位于加热单元的区域中，该区域沿着至少基本平行于加热单元的纵轴，特别是垂直轴延伸至加热单元的另一个区域的方向错开布置，分配给至少另一个热处理区域，特别是钎焊区域的加热元件大部分设置在该另一个区域中。“大部分”特别是指结构部件或单元的总范围或总体积的至少大于60％，优选至少大于80％，特别优选至少大于90％。优选地，分配给热处理区域，特别是钎焊区域的加热元件大部分布置在加热单元的围绕真空室并具有类似于中空圆柱体的形状的区域中，其中分配给至少另一个热处理区域，特别是钎焊区域的加热区域的加热元件，被布置在加热单元的另一区域中，该另一区域包围真空室并且具有类似于中空圆柱体的形状。沿着至少基本上平行于加热单元的纵轴，特别是垂直轴延伸的方向，加热单元的区域类似于中空圆柱体，而类似于中空圆柱体的加热单元的另一区域可以布置成使得它们彼此直接相邻或彼此间隔开，特别是具有包括位于其间的加热元件的至少一个附加区域。取决于要设置的多个热处理区域，特别是钎焊区域，加热单元包括相应数量的区域，特别是类似于中空圆柱体之类的区域，其中用于产生不同的温度特别是钎焊温度，特别是钎焊温度的加热元件被布置在热处理区域，特别是钎焊区域中。加热元件是可控制或可调节的，优选地是通过控制或调节单元可单独地，特别是彼此独立地控制或调节。替代地或附加地，可以想到的是，加热元件可以通过控制或调节单元在区域上一起控制或调节。在至少一种运行状态中，加热单元特别是沿着真空室的圆周方向包围真空室，尤其是包围真空室的角度大于90°，优选大于180°，非常特别优选大于270°，所述真空室的圆周方向在至少基本上垂直于加热单元的纵轴，特别是垂直轴或垂直于真空室的纵轴，特别是垂直轴延伸的平面中延伸。还可以想到，加热元件沿周向方向完全包围真空室。术语“基本上垂直”在此尤其是用于定义相对于参考方向的方向的取向，其中，特别是在投影平面中观察，该方向和参考方向包括90°的角度，并且该角度具有最大偏差尤其小于8°，有利地小于5°，特别有利地小于2°。优选地，加热元件被布置成使得它们沿着真空室的整个圆周延伸在真空室周围均匀地分布。然而，也可以想到的是，加热元件被布置成使得它们沿着真空室的整个圆周延伸在真空室周围不均匀地分布。优选地，为了产生具有不同温度，特别是钎焊温度的至少两个热处理区域，特别是钎焊区域，借助于控制或调节单元按区域来控制或调节加热单元。“控制或调节单元”尤其是具有要理解的信息输入、信息处理和信息输出的单元。有利地，控制或调节单元至少包括处理器、存储器、输入和输出元件、其他电子部件、操作程序、调节例程、控制例程和/或计算例程。优选地，控制或调节单元的结构部件布置在共享的电路板上和/或有利地布置在共享的壳体中。然而，也可以想到的是，控制或调节单元的结构部件被单独实施，尤其是被布置为使得它们分布在壳体中并且至少在数据技术方面彼此连接。通过根据本发明的实施方式，可以有利地实现对不同温度，特别是钎焊温度的简单调节，以便提供各个热处理区域，特别是钎焊区域。有利地，可以使热处理过程，尤其是钎焊过程具有高度的灵活性。有利地，可以在单个热处理过程中，特别是在单个真空室中以不同的温度对多个部件进行热处理。有利地，特别是在真空钎焊系统中使用该方法时，可以在单个钎焊过程中同时处理具有不同熔化温度的不同焊料。有利地可以实现用不同的焊料钎焊的刀具刀片的节省成本和节省时间的处理。有利地，通过该方法可以实现高产量。

此外提出，为了在热处理区域，特别是钎焊区域中产生不同的温度，特别是钎焊温度，加热单元以不同的功率设置在区域范围内运行。可以想到的是，加热单元的加热元件至少按区域被实现为具有不同的最大功率水平的加热元件，并因此以不同的功率设置在区域上被操作，或者所有加热元件都被实现为具有相同的最大功率水平，并且由控制或调节单元至少临时地、区域性地以不同的功率设置来操作，并且尤其是区域性地以不同的电流强度来供电。也可以想到本领域技术人员认为适宜的，用于加热单元的操作的另外的实施方式，其具有用于产生具有不同的温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域的不同的功率设置。如果例如在真空室内设置两个，特别是三个具有不同温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域，则优选分配给热处理区域，特别是钎焊区域的加热元件在高功率下运行，而分配给另一个热处理区域，特别是钎焊区域的其他加热元件在低功率下运行。例如，下部加热元件在高功率水平下操作，而上部和/或中间加热元件在低功率水平下操作，特别是在垂直定向的加热单元中，其中加热单元的纵轴至少基本上平行于垂直线延伸。但是也可以想到的是，例如下部加热元件在低功率水平下运行，而上部和/或中间加热元件在高功率水平下运行，特别是在垂直定向的加热单元中，其中纵向加热单元的轴线至少基本平行于垂直线延伸。术语“下部加热元件”、“上部加热元件”和“中间加热元件”特别是指加热元件相对于加热单元的垂直轴的布置，特别是在垂直定向的加热单元的情况下。在水平定向的加热单元中，其中加热单元的纵轴至少基本平行于水平线延伸，例如，左侧布置的加热元件以高功率操作，而右侧布置的加热元件以低功率操作，以便提供具有不同的温度的两个，特别是三个热处理区域，特别是钎焊区域。术语“左侧布置的加热元件”和“右侧布置的加热元件”特别是指加热元件相对于水平线的布置，特别是在水平布置的加热单元中。优选地，由于加热单元在区域上不同的功率水平下的操作，在真空室内提供了具有不同温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域。通过根据本发明的实施方式，就控制或调节技术和/或易于构造而言，有利地可以在真空室内实现具有不同的温度，特别是钎焊温度的热处理区域，特别是钎焊区域。有利地，可以实现不同温度，特别是钎焊温度的简单调节，以便在真空室内提供各个热处理区域，特别是钎焊区域。有利地，可以使热处理过程，特别是钎焊过程的高灵活性成为可能。有利地，可以在单个热处理过程中，特别是在单个真空室中对具有不同温度的多个结构部件进行热处理。有利地，特别是当在真空钎焊设备中使用该方法时，可以在单个钎焊过程中同时处理具有不同熔化温度的不同焊料。有利地，可以在单个钎焊过程中实现用不同的焊料钎焊的刀具刀片的节省成本和节省时间的处理。有利地，通过该方法可以促进高吞吐量。

此外建议，沿着真空室的最大总延伸，特别是沿着至少基本上平行于加热单元的纵轴和/或平行于真空室的纵轴的方向，在真空室内产生不均匀的温度分布。真空室的最大总延伸优选地由至少两个，尤其是至少三个热处理区域，特别是钎焊区域划分，特别是由其限定。特别优选地，特别是在垂直定向的加热单元和/或真空室的情况下，在热处理区域，特别是钎焊区域的下部热处理区域，特别是钎焊区域中，温度，特别是钎焊温度被设定为高于在热处理区域，特别是钎焊区域中的上部热处理区域，特别是钎焊区域中的温度，特别是钎焊温度。优选地，优选地，特别是在垂直定向的加热单元和/或真空室的情况下，在设置在上部热处理区域，特别是钎焊区域和下部热处理区域，特别是钎焊区域之间的热处理区域，特别是钎焊区域的中间热处理区域，特别是钎焊区域中，中间温度，特别是钎焊温度被设定为高于上部热处理区域，特别是钎焊区域中的温度，特别是钎焊温度，并且低于下部热处理区域，特别是钎焊区域中的温度，特别是钎焊温度。然而，特别是在垂直定向的加热单元和/或真空室的情况下，还可以想到，在下部热处理区域，特别是钎焊区域中，设置低的温度，特别是钎焊温度，而在上部热处理区域，特别是钎焊区域中，设置高的温度，特别是钎焊温度，其中在中间热处理区域，特别是钎焊区域，设置高于下部热处理区域，特别是钎焊区域的温度，特别是钎焊温度但是低于上部热处理区域，特别是钎焊区域的温度，特别是钎焊温度的温度，特别是钎焊温度。上面通过示例描述的热处理区域，特别是钎焊区域的温度，特别是钎焊温度的设置类似地也可转移到水平取向的加热单元和/或真空室，其中，例如，用“左侧”代替“下部”，用“右侧”代替“上部”，用“在左侧和右侧之间”代替“中间”。为了在真空室内产生不均匀的温度分布，也可以想到在各个热处理区域，特别是钎焊区域中的其他温度，特别是钎焊温度，特别是如果存在三个以上的热处理区域，特别是钎焊区域。通过根据本发明的实施方式，可以有利地在单个热处理过程中，特别是在单个真空室中对具有不同温度的多个部件进行热处理。有利地，特别是当在真空钎焊系统中使用该方法时，可以在单个钎焊过程中同时处理具有不同熔化温度的不同焊料。有利地，可以实现在单个钎焊过程中必须用不同的焊料钎焊的刀具刀片的节省成本和节省时间的处理。有利地，通过该方法可以促进高吞吐量。

进一步建议以大于5K的温度差，特别是钎焊温度差来操作热处理区域，特别是钎焊区域。特别地，以如下方式来操作热处理区域，特别是钎焊区域：大于10K，优选大于20K，非常特别优选大于50K的温度差，尤其是钎焊温度差。优选地，在当前热处理过程，特别是钎焊过程中涉及的温度差，特别是钎焊温度差是指热处理区域，特别是钎焊区域，尤其是下部热处理区域，特别是钎焊区域的最高设定温度，特别是钎焊温度，以及另一个热处理区域，特别是钎焊区域，尤其是上部热处理区域，特别是钎焊区域的最低设定温度，特别是钎焊温度。温度差，特别是钎焊温度差可以被实现为绝对温度差，特别是钎焊温度差。还可以想到的是，将温度差，特别是钎焊温度差称为两个直接相邻的热处理区域，特别是钎焊区域。温度差，特别是钎焊温度差可以被实现为相对温度差，特别是钎焊温度差。通过根据本发明的实施方式，有利地可以实现宽的调节范围，以便利用不同的温度进行热处理。有利地，可以在单个热处理过程中，特别是在单个真空室中，对具有不同温度的多个结构部件进行热处理。有利地，特别是在真空钎焊系统中使用该方法时，可以在单个钎焊过程中同时处理具有不同熔化温度的不同焊料。有利地，可以在单个钎焊过程中实现必须用不同的焊料钎焊的刀具刀片的节省成本和节省时间的处理。有利地，通过该方法可以实现高吞吐量。

本发明还涉及一种真空系统，特别是已经提到的真空系统，特别是一种真空钎焊系统，其具有至少一个，特别是已经提到的真空室，并且具有至少一个，特别是已经提到的加热单元，特别是红外加热单元，其布置在真空室上并且特别是垂直或水平定向，并且具有至少一个，特别是已经提到的控制或调节单元，特别是用于执行根据本发明的方法发明。建议将真空室划分成至少两个，特别是至少三个热处理区域，特别是钎焊区域，其被配置用于具有不同温度，特别是钎焊温度的热处理过程，特别是钎焊过程。优选地，真空系统被实施为真空刀具钎焊系统，该真空刀具钎焊系统被配置用于钎焊硬质合金刀具、陶瓷刀具和金刚石刀具。然而，也可以想到，真空系统具有不同设计的实施方式，例如作为用于工件的真空退火的真空系统的实施方式，或者是用于在真空中清洁或消毒部件的真空系统的实施方式等。

真空室优选具有圆形的，尤其是正圆形的横截面。真空室的横截面优选在至少基本上垂直于加热单元的纵轴，特别是垂直轴或垂直于真空室的纵轴，尤其是垂直轴的平面内延伸。还可以想到的是，真空室具有多边形的横截面，圆形和多边形的横截面的组合或本领域技术人员认为合适的另一横截面。真空室优选地由中空圆柱体，特别是中空石英玻璃圆柱体实现。然而，也可以想到，真空室由本领域技术人员认为合适的不同结构部件实现，或者由本领域技术人员认为合适的不同材料制成，例如中空圆柱金属体或类似的东西。特别地，在至少一种操作状态下，中空石英玻璃圆柱体在两侧是封闭的/可封闭的，以便于以一种本领域技术人员已知的方式在中空石英玻璃圆柱体的内部容积内产生真空。优选地，待处理的工件可布置在真空室内。真空室，特别是中空石英玻璃圆柱体优选可移动地，特别是在真空系统的机架上，特别是为了能够将要处理的工件插入真空室中或从真空室中取出已加工的工件，尤其是钎焊的工件。然而，也可以想到的是，真空室设有可移动地支撑的真空系统的封闭元件，例如门、挡板或类似的东西，以允许进入真空室。真空室优选具有至少一个纵轴。优选地，沿着加热单元的纵轴和/或真空室的纵轴顺序地，特别是彼此上方顺序地布置热处理区域，特别是钎焊区域。真空室的纵轴，特别是垂直轴，优选与加热单元的纵轴，特别是垂直轴同轴地延伸。优选地，真空室相对于真空室的纵轴，特别是垂直轴对称地，特别是旋转对称地实现。加热单元的纵轴和/或真空室的纵轴可以沿着垂直线或沿着水平线取向。优选地，水平线至少基本上平行于真空系统的接地基础区域或接地基础平面延伸。垂直线优选地至少基本上垂直于真空系统的接地基础区域或底面基础平面延伸。真空系统的接地基础区域或接地基础平面优选是真空系统通过其站立在地面上的一个区域或平面和/或通过其真空系统的操作和/或重力被支撑在地面上的区域或平面。接地基础区域或接地基础平面可以以本领域技术人员已知的方式布置在真空系统的机架、壳体、立脚等上，并且因此可以是跨度的。

加热单元优选实施为热辐射加热单元，特别是实施为红外加热单元。优选地，加热单元包括至少一个布置在真空室处的红外辐射器，尤其是多个红外辐射器。优选地，加热单元围绕真空室，特别是沿圆周方向。优选地，加热单元可移动地，特别是可枢转地支撑在真空系统的机架上。优选地，加热单元的至少单个加热元件或成组组合的加热单元的加热元件被支撑在一起，使得它们相对于真空室可移动，特别是为了实现枢转运动，例如以允许单个加热元件枢转离开，例如出于维护目的或类似目的。加热单元的运动轴线优选至少基本上平行于加热单元的纵轴延伸。但是也可以想到，加热单元的运动轴线横向于，特别是至少基本上垂直于加热单元的纵轴行进。

优选地，真空系统包括至少一个负压单元，用于在至少一种运行状态下在真空室中产生负压。负压单元优选地具有本领域技术人员已知的功能并且具有本领域技术人员已知的实施方式。负压单元优选布置在真空系统的机架上，特别是在壳体内。特别地，至少一个负压导管与真空室流体连接，特别是用于在至少一种操作状态下在真空室内产生负压。

通过实施根据本发明的真空系统，有利地可以有利地实现热处理过程，特别是钎焊过程的高灵活性。有利地，可以在单个系统中，特别是在单个真空室中的单个热处理过程中以不同的温度对多个结构部件进行热处理。有利地，特别是如果真空系统被实现为真空钎焊系统，则可以在单个钎焊过程中同时处理具有不同熔化温度的不同焊料。有利地，在单个钎焊过程中可以实现将要用不同的焊料钎焊的刀具刀片的节省成本和节省时间的处理。有利地，借助于真空系统可以促进高吞吐量。

此外提出，热处理区域，特别是钎焊区域，沿着至少基本上平行于加热单元的纵轴，特别是垂直轴的方向顺序地，特别是彼此之上布置。优选地，至少两个热处理区域，特别是钎焊区域，在真空室内彼此直接相邻地布置。然而，也可以想到的是，热处理区域，特别是钎焊区域，在真空室内彼此间隔开地布置。在其中加热单元的纵轴和/或真空室的纵轴至少基本平行于垂直线延伸的垂直定向的加热单元和/或真空室中，热处理区域，特别是钎焊区域优选地沿着真空室的纵轴彼此叠置。在其中加热单元的纵轴和/或真空室的纵轴至少基本平行于水平线延伸的水平定向的加热单元和/或真空室中，热处理区域，特别是钎焊区域优选地沿着真空室的纵轴并排布置。根据本发明的实施方式有利地允许实现紧凑的真空系统，该真空系统能够有利地使得在单个热处理过程中以不同的温度对多个结构部件进行热处理成为可能。特别地，如果真空系统被实现为真空钎焊系统，则可以有利地在单个钎焊过程中同时处理具有不同熔化温度的不同焊料。

此外提出，真空系统包括至少一个特别是热的，屏蔽单元，用于将真空室特别是物理地划分成不同的热处理区域，特别是钎焊区域，其中，屏蔽单元包括：至少一个在至少两个相邻的热处理区域之间，特别是在钎焊区域之间的区域过渡区中；至少一个屏蔽元件，特别是成对布置的屏蔽元件被配置为沿着加热单元的垂直轴，特别是在真空室的关闭状态下分隔热处理区域，特别是钎焊区域。屏蔽单元优选地配置成将分配给热处理区域，特别是钎焊区域的加热单元的热加热元件对于另外的热处理区域，特别是钎焊区域中布置的工件的热辐射影响至少保持在较低水平上。一个或多个屏蔽元件优选地被实现为一个或多个屏蔽片。屏蔽元件可以由穿孔的片材或块状的片材部件构成。优选地，一个或多个屏蔽元件由金属材料制成和/或具有至少一个反射的，特别是红外反射的表面，特别是表面涂层。特别地，屏蔽元件在真空室的整个内部横截面的小于100％的范围内延伸，特别是出于允许在热处理区域，特别是钎焊区域之间进行空气交换的目的，以在整个真空室中产生负压。特别地，屏蔽元件尤其具有至少一个与真空系统的工件支架的容纳部的连接接口。工件支架优选地配置成在真空室中容纳待处理的，尤其是待加热的工件。根据本发明的实施方式以结构简单的方式允许热辐射在单个热处理区域，特别是钎焊区域中对工件的选择性影响。有利的是，可以在各个热处理区域，特别是钎焊区域中提供不同的温度，特别是钎焊温度，所述不同的温度，特别是钎焊温度可以分别针对要在热处理区域，特别是钎焊区域中处理的工件进行调节。有利地可以实现在一个热处理区域，特别是钎焊区域中的温差对另一个热处理区域，特别是钎焊区域的较低影响。

除此之外，建议控制或调节单元被配置为控制或调节加热单元，使得在热处理区域，特别是钎焊区域中，设定不同的温度，特别是钎焊温度，特别是温度相差至少5K，特别是钎焊温度相差至少5K。特别地，加热单元由控制或调节单元控制或调节，使得热处理区域，特别是钎焊区域以大于10K，优选大于20K，非常特别优选大于50K的温度差，特别是钎焊温度差工作。例如，在垂直取向的加热单元中和/或真空室中，加热单元可以由控制或调节单元控制，以便在热处理区域，特别是钎焊区域的下部热处理区域，特别是钎焊区域中设定600℃的温度，特别是钎焊温度，并且在热处理区域，特别是钎焊区域的上部热处理区域，特别是钎焊区域中设定450℃的温度，特别是钎焊温度。特别地，例如，如果存在三个热处理区域，特别是钎焊区域，并且在垂直定向的加热单元和/或真空室的情况下，加热单元可由控制或调节单元控制，使得除了在上述示例性温度下，在设置在上部热处理区域，特别是钎焊之间区域和下部热处理区域，尤其是钎焊区域之间的热处理区域，特别是钎焊区域的中间热处理区域，特别是钎焊区域中设定520℃的温度。热处理区域，特别是钎焊区域的示例性给定温度还可以具有本领域技术人员认为合适的其他值。通过根据本发明的实施方式，可以有利地在单个热处理过程中，特别是在单个真空室中对具有不同温度的多个结构部件进行热处理。有利地，特别是如果真空系统被实施为真空钎焊系统，则可以在单个钎焊过程中同时处理具有不同熔化温度的不同焊料。在单个钎焊过程中有利地可以实现必须用不同的焊料钎焊的刀具刀片的节省成本和节省时间的处理。

在此，根据本发明的方法和/或根据本发明的真空系统不限于上述应用和实施方式。特别地，为了实现在此描述的功能，根据本发明的方法和/或根据本发明的真空系统可以包括多个单独的元件，结构部件和单元以及与在这里给出的多个步骤不同的方法步骤。此外，关于本公开中给出的值范围，位于所述极限内的值也应被认为是公开的并且根据要求可适用。

附图说明

通过下面的附图描述，其他优点将变得显而易见。在附图中示出了本发明的示例性实施例。附图，说明书和权利要求书包含多个特征。本领域技术人员还将有目的地也分别考虑这些特征，并将找到进一步的有利组合。

附图如下：

图1以示意图示出了根据本发明的具有打开的滑动门的真空系统，特别是真空钎焊系统，

图2以示意图示出了根据本发明的真空系统的另一视图，该真空系统具有打开的根据本发明的真空系统的滑动门和打开的加热单元以及稍微向上移动的根据本发明的真空系统的真空室，

图3以示意图示出了根据本发明的真空系统的真空室的详细视图，其上布置有根据本发明的真空系统的加热单元，

图4以示意图示出了真空室的详细视图，

图5以示意图示出了根据本发明的真空系统的屏蔽单元处于真空室已经被打开并向上移动的状态下的详细视图，并且

图6是根据本发明的用于操作根据本发明的真空系统，特别是真空钎焊系统的方法的示意性流程图。

示例性实施例

图1示出了用于在真空中热处理工件的真空系统12。真空系统12优选实施为真空钎焊系统，特别是实施为用于硬质合金刀具、陶瓷刀具和金刚石刀具的钎焊的真空刀具钎焊系统。然而，也可以想到，真空系统12具有本领域技术人员认为合适的不同实施方式，例如作为用于工件的真空退火的真空系统、用于结构部件的清洁或消毒的真空系统的实施方式，等。真空系统12包括：至少一个真空室16(也参见图2至4)；至少一个加热单元18(也参见图2至4)，其布置在真空室16处并且特别是垂直或水平定向；以及至少一个控制或调节单元30。控制或调节单元30至少配置成用于控制或调节真空室16中的负压和/或加热单元18。优选地控制或调节单元30包括至少一个操作程序，该操作程序包含用于操作真空系统12的方法10(参见图6)。优选地，关于在图6的上下文中未明确描述的任何方法步骤，真空系统12及其功能的描述将类似地应用于方法10的其他方法步骤。

在图1至图5所示的真空系统12的示例性实施例中，真空室16垂直定向。真空室16的纵轴48优选地至少基本上平行于真空系统12的垂直线和/或接地基础平面50定向。然而，也可以想到，在本文未示出的真空系统12的替代实施方式中，真空室16水平地定向，尤其是真空室16的纵轴48至少基本上平行于水平线和/或真空系统12的接地基础平面50定向。真空室16优选地实施为中空圆柱体，尤其是中空石英玻璃圆柱体。真空室16包围真空系统12的工件容纳区域，在该工件容纳区域中可布置有待处理的，尤其是待加热的刀具。为了布置工件，真空系统12优选地包括至少一个工件支架(在此未详细示出)，该至少一个工件支架可布置在真空室16中，以便其可更换。真空室16沿着沿至少基本平行于真空室16的纵轴48延伸的运动轴线可移动地，尤其是平移地可移动地支撑在真空系统12的壳体52和/或机架54上。特别地，真空室16与加热单元18一起可移动地，特别是可平移地移动地支撑在真空系统12的壳体52上和/或机架54上。优选地，由于真空室16，特别是和加热单元18一起相对于真空系统12的壳体52和/或机架54的运动，可以在真空系统12的工件容纳区域加载待处理的工件和/或去除已处理的工件。优选地，真空系统12包括驱动单元(在此未详细示出)，该驱动单元用于使真空室16运动，特别是与加热单元18一起沿着和/或围绕运动轴线运动。驱动单元优选布置在真空系统12的机架54上，特别是布置在壳体52内。

优选地，真空系统12包括至少一个负压单元56，用于在至少一种操作状态下，特别是在真空室16的关闭状态下在真空室16中产生负压。负压单元56优选具有本领域技术人员已知的功能和本领域技术人员已知的实施方式。负压单元56优选地布置在真空系统12的机架54上，特别是布置在壳体52内。特别地，至少一个负压导管(这里未详细示出)与真空室16流体连接，特别是用于在至少一种操作状态下在真空室16内产生负压。优选地，借助于由负压单元56产生的负压，可以利用加热单元18被引入真空室16中的热量在真空中处理布置在真空室16内的工件。

加热单元18布置在真空室16处。优选地，加热单元18特别是在加热单元18的闭合状态下沿圆周方向94包围真空室16。特别地，在图1至图5所示的真空系统12中，加热单元18垂直定向。优选地，加热单元18的纵轴20至少基本上平行于真空系统12的垂直线和/或接地基础平面50定向。然而，也可以想到，在这里未示出的真空系统12的替代实施方式中，加热单元18水平地定向，特别是加热单元18的纵轴20至少基本上平行于真空系统的水平线和/或接地基础平面50地定向。优选地，加热单元18的纵轴20定向为至少基本上平行于真空室16的纵轴48，特别是与真空室16的纵轴48同轴。加热单元18优选地被实现为热辐射加热单元，特别是红外加热单元。优选地，加热单元18包括至少一个实施为热辐射器的加热元件，特别是多个实施为热辐射器的加热元件(参见图3和图4)。优选地，加热单元18包括布置在真空室16上的至少一个红外辐射器58、60、62、64、66、68、70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、92，特别是多个红外辐射器58、60、62、64、66、68、70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、92(请参见图3和图4)。优选地，加热单元18包括十八个红外辐射器58、60、62、64、66、68、70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、92，它们被设置并均匀地沿圆周方向94布置在真空室16上。然而，也可以想到加热单元18包括除十八个红外辐射器58、60、62、64、66、68、70、72、74，76、78、80、82、84、86、88、90、92之外的多个沿圆周方向94均匀或不均匀地分布在真空室16上的红外辐射器。

优选地，加热单元18可移动地支撑在真空室16上，特别是可枢转地支撑。优选地，至少单个加热元件，特别是加热单元18的红外辐射器58、60、62、64、66、68、70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、92或加热元件，特别是加热单元的组合在一起的红外辐射器58、60、62、64、66、68、70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、92被相对于真空室16可移动地支撑，特别是为了实现枢转运动，例如允许各个加热元件枢转离开，例如出于维护目的等(参见图4)。优选地，加热单元18的运动轴线至少基本上平行于加热单元18的纵轴20延伸。然而，也可以想到的是，加热单元18的运动轴线横向于，特别是至少基本上垂直于加热单元18的纵轴20延伸。

真空室16被分成至少两个，特别是至少三个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域(参见图3)，其被配置用于具有不同的温度，尤其是钎焊温度的热处理过程，特别是钎焊过程。热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域，优选地沿着方向22顺序地，特别是一个在一个上方地顺序地布置，方向22至少基本上平行于加热单元18的纵轴20，特别是垂直轴和/或真空室16的纵轴48行进。优选地，热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中的至少两个被布置在真空室16内，使得它们彼此直接相邻。然而，也可以想到的是，热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域在真空室内彼此间隔开地布置。

优选地，加热单元18在每个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中包括至少一个分配给相应的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的加热元件。优选地，加热单元18在每个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中包括至少三个，特别是至少六个加热元件，特别是红外辐射器58、60、62、64、66、68，70、72、74、76、78、80、82、84、86、88、90、92，它们被分配给相应的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域。但是也可以想到，加热单元18在每个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域具有除三个之外，尤其是六个以外的多个加热元件，例如在每个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域，具有至少两个、至少四个、至少八个加热元件。优选地，分配给热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的加热元件大部分沿方向22布置在加热单元18的区域中，方向22沿着至少基本上平行于加热单元18的纵轴20，特别是垂直轴偏移到加热单元18的另一区域，在该区域中，布置了大部分的分配给至少一个另外的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的加热元件。优选地，分配给热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的加热元件大部分布置在加热单元18的区域中，该区域围绕真空室16并且描述为类似中空圆柱体的形状，其中，分配给至少一个另外的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的加热元件布置在加热单元18的另一区域中，该另一区域围绕真空室16并且具有类似中空圆柱体的形状(参见图3和4)。加热单元18的描述为类似中空圆柱体的区域和加热单元18的描述为类似中空圆柱体的另一区域可以沿着至少基本平行于纵轴20，特别是加热单元18的垂直轴延伸的方向22布置，使得它们直接彼此相邻或彼此间隔开，特别是具有至少一个包括布置在其间的加热元件的附加区域。根据要设置的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的数量，加热单元18包括相应数量的区域，特别是描述为类似于中空圆柱体的区域，其中在热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中，加热元件被布置用于产生不同的温度，特别是钎焊温度。

加热元件优选地可单独地，特别是彼此独立地通过控制或调节单元30来控制或调节。替代地或附加地，可以想到，加热元件可通过控制或调节单元30在区域上一起可控制或调节。控制或调节单元30优选地被配置为控制或调节加热单元18，使得在热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中，设置不同的温度，特别是钎焊温度，特别是彼此相差至少5K的温度，尤其是钎焊温度。

真空系统12优选地包括至少一个传感器单元96(参见图3)，用于捕获温度参数。就数据技术而言，传感器单元96优选至少与控制或调节单元30连接。传感器单元96特别是在每个热处理区域24、26、28，尤其是钎焊区域至少包括一个传感器元件98、100、102，用于在相应的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中获取温度(参见图3)。传感器元件98、100、102优选地布置在相应的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中，或者传感器元件98、100、102至少与相应的传感器元件98、100、102的测量头一起延伸到热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中。传感器单元96特别地包括至少一个另外的传感器元件104，用于捕获真空室16中的参考温度(参见图3)。传感器元件98、100、102和另一传感器元件104优选地实施为温度传感器，特别是实施为温度探测器。然而，也可以想到的是，传感器元件98、100、102和另一传感器元件104具有本领域技术人员认为合适的不同实施方式。优选地，控制或调节单元30根据操作员针对每个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域设置的温度来控制或调节加热单元18，其中，热处理区域24、26、28，别是钎焊区域的温度可以被传感器单元96捕获，并且所捕获的数据可以由控制或调节单元30处理，从而相应地控制或调节加热单元18。

真空系统12优选地包括至少一个，特别是热的，屏蔽单元34，用于将真空室16特别是物理和/或热地划分为不同的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域，其中，屏蔽单元34至少在至少两个相邻的，尤其是直接相邻的热处理区域24、26、28，尤其是钎焊区域之间的区域过渡区域中包括至少一个屏蔽元件36、38、40、42、44、46，特别是成对布置的屏蔽元件36、38、40、42、44、46，其被配置用于沿着加热单元18的纵轴20，特别是垂直轴和/或沿着真空室16的纵轴48分隔热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域，特别是在真空室16的关闭状态下(参见图5)。屏蔽单元34优选地配置成将分配给热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的加热单元18的加热元件对另一个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的影响保持为至少在低水平。优选地，屏蔽单元24被配置成将分配给热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的加热单元18的加热元件的热辐射对设置在另外的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域量中的工件的影响保持在至少处于低水平。屏蔽元件36、38、40、42、44、46优选地被实现为一个屏蔽片或多个屏蔽片。屏蔽元件36、38、40、42、44、46可以由穿孔的片材或块状的片材部件形成。优选地，片元件36、38、40、42、44、46由金属材料制成和/或具有至少一个反射，特别是红外反射表面，特别是表面涂层。特别地，一个或多个屏蔽元件36、38、40、42、44、46在真空室16的总内横截面的小于100％的范围内延伸，特别是以便于热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域之间的空气交换，以在整个真空室16中产生负压。特别地，一个或多个屏蔽元件具有至少一个连接接口106、108、110、112、114，用于容纳真空系统12的工件支架。工件支架优选地配置成用于在真空室16中容纳待处理的，尤其是待加热的工件。

图6示出了用于真空系统12的操作的方法10的示意流程图。方法10的各个方法步骤的以下描述特别是基于已经关闭的真空室16，要处理的工件已经被布置在其中，并且基于已经封闭的包围真空室16的加热单元18，其中下面的描述不应被认为是结论性的。也可以想到本领域技术人员认为合适的其他方法步骤。

在至少一个方法步骤116中，特别是由于控制或调节单元30的控制或调节的结果，借助于负压单元56在真空室16中产生真空。优选地，在一个方法步骤118中，特别是通过控制或调节单元30来实现加热单元18的激活。优选地，以对应于为各个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域设定的温度的方式，加热单元18的加热元件被提供有相应的功率。优选地，在至少一个方法步骤14中，借助于布置在真空室16上的真空系统12的加热单元18，特别是通过热辐射将热量引入真空系统12的真空室16中，用于工件处理过程，尤其是钎焊过程。优选地，在真空室16内，特别是沿着至少基本上平行于加热单元18的纵轴20和/或平行于真空室16的纵轴48延伸的方向22，提供了至少两个，特别是至少三个具有不同温度，特别是钎焊温度的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域。

加热单元18由真空系统12的控制或调节单元30控制或调节，使得在真空室16内，特别是沿着至少基本上平行于加热单元18的纵轴20和/或相对于真空室16的纵轴48延伸的方向22，在热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中产生不同的温度，特别是钎焊温度。优选地，为了在热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中产生不同的温度，特别是钎焊温度，加热单元18以不同的功率设置在区域范围内操作。特别地，沿着真空室16的最大总延伸32，特别是沿着至少基本上平行于加热单元18的纵轴20和/或真空室16的纵轴48延伸的方向22，在真空室16内产生不均匀的温度分布。优选地，在热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的下部热处理区域24，特别是钎焊区域中，温度，特别是钎焊温度设定为高于热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中的上部热处理区域28，特别是钎焊区域中的温度，特别是钎焊温度。优选地，在热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域的布置在上部热处理区域28，特别是钎焊区域与下部热处理区域，特别是钎焊区域之间的中间热处理区域26，特别是钎焊区域中，中间温度，特别是钎焊温度被设置为高于上部热处理区域28，特别是钎焊区域中的温度，特别是钎焊温度，并且低于下部热处理区域24，特别是钎焊区域中的温度，特别是钎焊温度。然而，也可以想到的是，在下部热处理区域24中，特别是在钎焊区域中，设置了低的温度，特别是钎焊温度，而在上部热处理区域28，特别是在钎焊区域中，设置了高的温度，特别是钎焊温度，其中在中间热处理区域26，特别是钎焊区域中，将温度，特别是钎焊温度设定为高于下部热处理区域24，特别是钎焊区域的温度，特别是钎焊温度，并低于上部热处理区域28，特别是钎焊区域中的温度，特别是钎焊温度。也可以考虑在各个热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域中的其他温度，特别是钎焊温度，以在真空室16内产生不均匀的温度分布，特别是如果存在三个以上的热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域。特别地，以大于5K的温度差，特别是钎焊温度差来操作热处理区域24、26、28，特别是钎焊区域。

优选地，特别是在可以给定或预定的时间段之后，在至少一个方法步骤120中停用加热单元18。特别地，在至少一个方法步骤122中，停用负压单元56。优选地，在停用负压单元56之后，特别是在工件容纳区域冷却之后，可以打开真空室16，以移出已加工的，尤其是钎焊的工件并将待处理的新的工件装载进入真空室16中。

附图标记

10 方法

12 真空系统

14 方法步骤

16 真空室

18 加热单元

20 纵轴

22 方向

24 热处理区域

26 热处理区域

28 热处理区域

30 个控制或调节单元

32 总延伸

34 屏蔽单元

36 屏蔽元件

38 屏蔽元件

40 屏蔽元件

42 屏蔽元件

44 屏蔽元件

46 屏蔽元件

48 纵轴

50 接地基础平面

52 壳体

54 机架

56 负压装置

58 红外辐射器

60 红外辐射器

62 红外辐射器

64 红外辐射器

66 红外辐射器

68 红外辐射器

70 红外辐射器

72 红外辐射器

74 红外辐射器

76 红外辐射器

78 红外辐射器

80 红外辐射器

82 红外辐射器

84 红外辐射器

86 红外辐射器

88 红外辐射器

90 红外辐射器

92 红外辐射器

94 圆周方向

96 传感器单元

98 传感器元件

100 传感器元件

102 传感器元件

104 传感器元件

106 连接接口

108 连接接口

110 连接接口

112 连接接口

114 连接接口

116 方法步骤

118 方法步骤

120 方法步骤

122 方法步骤

Claims (10)

1.一种用于操作真空系统，特别是真空钎焊系统的方法，其中，在至少一个方法步骤(14)中，通过所述真空系统的至少一个加热单元(18)将热量，特别是经由热辐射，引入到所述真空系统的至少一个真空室(16)中进行工件处理过程，特别是钎焊过程，所述加热单元特别是红外加热单元，所述加热单元特别是设置在所述真空室(16)处并且垂直地或水平地定向的，其特征在于，在所述真空室(16)内，特别是沿着至少基本上平行于所述加热单元(18)的纵轴(20)延伸的方向(22)，至少两个，特别是至少三个热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域，设置有不同温度，特别是钎焊温度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述加热单元(18)由所述真空系统的控制或调节单元(30)控制或调节，使得在所述真空室(16)中的所述热处理区域(24、26、28)中，特别是钎焊区域中，尤其是沿着至少基本上平行于所述加热单元(18)的所述纵轴(20)延伸的所述方向(22)产生不同的温度，特别是钎焊温度。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，为了在所述热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域中产生不同的温度，特别是钎焊温度，所述加热单元(18)按照区域具有不同的功率设置。

4.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，沿着所述真空室(16)的最大总延伸(32)，特别是沿着至少基本上平行于所述加热单元(18)的所述纵轴(20)延伸的所述方向(22)，在所述真空室(16)内产生不均匀的温度分布。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在所述热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域的，下部热处理区域(24)，特别是钎焊区域中，温度，特别是钎焊温度，被设置为高于所述热处理区域(24、26、28)的，特别是钎焊区域的，上部热处理区域(28)中的，特别是钎焊区域中的，温度，特别是钎焊温度。

6.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，所述热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域，以大于5K的温度差，特别是钎焊温度差进行操作。

7.一种特别是用于执行根据前述权利要求中的一项所述的方法的真空系统，特别是真空钎焊系统，其具有至少一个真空室(16)，具有至少一个加热单元(18)，特别是红外加热单元，其布置在所述真空室(16)处并且是特别是垂直地或水平地定向，并且具有至少一个控制或调节单元(30)，其特征在于，所述真空室(16)分为至少两个，尤其是至少三个热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域，其被配置用于以不同的温度，特别是钎焊温度进行热处理过程，特别是钎焊过程。

8.根据权利要求7所述的真空系统，其特征在于，所述热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域，沿着至少基本上平行于所述加热单元(18)的纵轴(20)，特别是垂直轴延伸的方向(22)顺序地，特别是按一个在一个上方顺序地布置。

9.根据权利要求7或8所述的真空系统，其特征在于，至少一个，特别是热的，屏蔽单元(34)用于将所述真空室(16)，特别是物理地，划分成所述不同的热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域，其中，所述屏蔽单元(34)，至少在至少两个相邻热处理区域(24、26、28)之间，特别是钎焊区域之间的过渡区域中，包括至少一个屏蔽元件(36、38、40、42、44、46)，特别是成对布置的屏蔽元件(36、38、40、42、44、46)，其被配置为，特别是在所述真空室(16)的关闭状态下，沿着所述加热单元(18)的所述纵轴(20)，特别是垂直轴分隔所述热处理区域(24、26、28)，特别是钎焊区域。

10.根据权利要求7至9中的一项所述的真空系统，其特征在于，所述控制或调节单元(30)被配置为控制或调节所述加热单元(18)，使得在所述热处理区域(24、26、28)中，特别是钎焊区域中，不同的温度，特别是钎焊温度，被设置成，特别是所述温度，特别是钎焊温度，彼此相差至少5K。

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