CN114473382A - 一种金属壳体的表面处理方法、金属外壳及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本申请提供了一种金属壳体的表面处理方法、金属外壳及电子设备,所述方法包括:对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理,以在所述第一区域形成纹理结构,得到第二壳体;对所述第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体;其中,所述第二区域位于所述第一区域内,且所述第二区域的面积小于所述第一区域;所述第三壳体的所述第二区域与非所述第二区域之间形成有清晰的边缘线;从而使金属壳体表面的第一区域和第二区域能够具有清晰的边缘线,使金属壳体表面产生不同的外观效果。

Description

一种金属壳体的表面处理方法、金属外壳及电子设备
技术领域
本申请涉及表面处理技术领域,尤其涉及一种金属壳体的表面处理方法、金属外壳及电子设备。
背景技术
电子设备通常采用铝合金材料,将铝合金材料加工成满足设计要求的形状和尺寸的外壳之后,通过对外壳表面进行表面处理,以使外壳满足一定的美观性。通常对外壳的表面处理包括喷砂、抛光、阳极氧化、镭雕等步骤,进一步的,通常还会采用在外壳表面贴保护膜的方式对外壳的特定区域进行表面处理,以使外壳表面形成多种不同的图案,以进一步提高外壳的美观性,然而这种方式需要进行多次喷砂、抛光、阳极氧化、镭雕等步骤,制程复杂度过高,且保护膜容易被破坏,造成边缘模糊,影响外壳的表面处理效果。
发明内容
本申请提供了一种金属壳体的表面处理方法、金属外壳及电子设备,以至少解决现有技术中存在的以上技术问题。
根据本申请实施例的第一方面,提供了一种金属外壳的表面处理方法,所述方法包括:对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理,以在所述第一区域形成纹理结构,得到第二壳体;对所述第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体;其中,所述第二区域位于所述第一区域内,且所述第二区域的面积小于所述第一区域;所述第三壳体的所述第二区域与非所述第二区域之间形成有清晰的边缘线。
在一可实施方式中,所述对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理,以在所述第一区域形成纹理结构,得到第二壳体,包括:确定所述第一区域;将喷砂压力设置为2~4kg,线速设置为0.5~3m/10~15s,喷砂型号设置为150#以下;沿所述第一区域的长度方向和/或宽度方向对所述第一区域进行喷砂处理,以在所述第一区域形成纹理结构,得到第二壳体。
在一可实施方式中,所述对所述第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体,包括:确定所述第二区域和特定图案;将所述镭雕设备设置为红外波段,将镭雕波长设置为780nm~1100nm,镭雕功率设置为40W~70W,镭雕线宽设置为0.04mm~0.12mm;控制所述镭雕设备在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体;其中,所述第二区域与所述非第二区域的手感相同。
在一可实施方式中,所述对所述第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体,包括:确定所述第二区域和特定图案;将所述镭雕设备设置为红外波段,将镭雕波长设置为780nm~1100nm,镭雕功率设置为40W~70W,镭雕线宽设置为0.04mm~0.12mm;控制所述镭雕设备在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体;其中,所述第二区域与所述非第二区域的手感不同。
在一可实施方式中,在所述得到第三壳体之后,所述方法还包括:对所述第三壳体的所述第一区域进行抛光处理,以使所述第二区域与所述非第二区域的手感相同,得到第四壳体。
在一可实施方式中,在所述得到第四壳体之后,所述方法还包括:对所述第四壳体的所述第一区域进行阳极氧化处理,以对所述第二区域和所述非第二区域进行着色,得到第五壳体。
在一可实施方式中,在上述对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理之前,所述方法还包括:获得金属素材,对所述金属素材进行冲压成型,以成型特定结构,得到所述第一壳体。
在一可实施方式中,所述金属素材为铝板素材。
根据本申请实施例的第二方面,提供了一种金属外壳,所述金属外壳通过本申请实施例第一方面任一项所述的方法制得。
根据本申请实施例的第三方面,提供了一种电子设备,所述电子设备包括金属外壳,所述金属外壳通过本申请实施例第一方面任一项所述的方法制得。
本申请实施例提供的金属壳体的表面处理方法,尤其适用于电子设备的金属外壳,通过第一壳体的第一区域进行喷砂处理,获得第二壳体,并对第二壳体的第二区域进行镭雕处理,从而使金属壳体表面的第一区域和第二区域能够具有清晰的边缘线,使金属壳体表面产生不同的外观效果。
应当理解,本部分所描述的内容并非旨在标识本申请的实施例的关键或重要特征,也不用于限制本申请的范围。本申请的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
通过参考附图阅读下文的详细描述,本申请示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中,以示例性而非限制性的方式示出了本申请的若干实施方式,其中:
在附图中,相同或对应的标号表示相同或对应的部分。
图1示出了本申请实施例一种金属外壳的表面处理方法的实现流程示意图。
具体实施方式
为使本申请的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而非全部实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
图1示出了本申请实施例一种金属外壳的表面处理方法的实现流程示意图。
参见图1,根据本申请实施例的第一方面,提供了一种金属外壳的表面处理方法,方法包括:操作101,对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理,以在第一区域形成纹理结构,得到第二壳体;操作102,对第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在第二区域形成特定图案,得到第三壳体;其中,第二区域位于第一区域内,且第二区域的面积小于第一区域;第三壳体的第二区域与非第二区域之间形成有清晰的边缘线。
本申请实施例提供的金属壳体的表面处理方法,尤其适用于电子设备的金属外壳,通过第一壳体的第一区域进行喷砂处理,获得第二壳体,并对第二壳体的第二区域进行镭雕处理,从而使金属壳体表面的第一区域和第二区域能够具有清晰的边缘线,使金属壳体表面产生不同的外观效果。
在操作101中,第一壳体用于指代电子设备需要进行表面处理的外壳部分,如笔记本的A面、手机、平板电脑的背面等。第一区域为需要进行表面处理的区域,第一区域可以是第一壳体的整个表面,也可以是第一壳体的部分表面。通过对第一区域进行喷砂处理,以在第一壳体表面形成纹理结构,从而获得第二壳体。在一种实施场景下,第一区域为矩形区域,在第一区域内的喷砂处理的参数恒定,从而使第一区域内得到的纹理结构为规则的纹理结构。
在操作102中,需要对第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以形成特定图案,其中,特定图案可以是商标、型号、logo等具有标示性的图形或文字第二区域位于第一区域内,且第二区域的区域面积小于第一区域的区域面积,从而使在第二区域的镭雕处理能够直接且完全位于具有喷砂处理的第一区域上方,即镭雕处理的处理对象均为由喷砂处理获得的第一壳体的纹理结构,在该条件下,保持镭雕参数一致,能够使形成于第二区域的特定图案具有相同的表面纹理,且能够使第一区域和第二区域之间的边缘线均匀且清晰,由此获得高质量的表面处理效果。需要理解的是,其中,通过镭雕参数的调整,在一种情况下,可以使第二区域表面的手感与第一区域的手感保持一致,从而使电子设备的金属壳体只有视觉上的差异,没有触觉上的差异,在另一种情况下,可以使第二区域表面的手感与第一区域的手感不一致,从而使电子设备的金属壳体即具有视觉上的差异,又存在触觉上的差异。由此,通过镭雕参数的调整,能够使电子设备的金属壳体的表面在视觉和触觉的不同维度具有特定的表面效果。需要补充的是,由于镭雕处理直接在喷砂形成的纹理结构上进行,能够使镭雕效果直接形成于纹理结构上,在后续的使用中避免镭雕效果从纹理结构表面脱落。
需要理解的是,第三壳体用于指代经过喷砂处理和镭雕处理的壳体,第一壳体、第二壳体和第三壳体分别用于指代处于表面处理不同阶段的壳体。
在一可实施方式中,操作101,对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理,以在第一区域形成纹理结构,得到第二壳体,包括:首先,确定第一区域;将喷砂压力设置为2~4kg,线速设置为0.5~3m/10~15s,喷砂型号设置为150#以下;然后,沿第一区域的长度方向和/或宽度方向对第一区域进行喷砂处理,以在第一区域形成纹理结构,得到第二壳体。
其中,第一壳体可以由金属素材通过工艺成型获得,金属素材具体可以为铝材。通过将喷砂压力设置为2~4kg,线速设置为0.5~3m/10~15s,喷砂型号设置为150#以下,这一参数范围,能够实现均匀且不容易磨损的喷砂效果,并且具有较好的手感。其中,喷砂型号具体可以为150#以下的金属砂或非金属砂,如铁砂、锆砂、玻璃等。沿着长度方向和/或宽度方向对第一区域进行喷砂处理,能够使第一区域内每个位置的喷砂参数及硼砂过程保持相同,避免遗漏或重复喷砂,保证了喷砂质量。
在一可实施方式中,操作102,对第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在第二区域形成特定图案,得到第三壳体,包括:首先,确定第二区域和特定图案;然后,将镭雕设备设置为红外波段,将镭雕波长设置为780nm~1100nm,镭雕功率设置为40W~70W,镭雕线宽设置为0.04mm~0.12mm;控制镭雕设备在第二区域形成特定图案,得到第三壳体;其中,第二区域与非第二区域的手感相同。
在一种实施场景下,为了使第一区域和第二区域能够即具有不同的视觉感受,又具有不同的手感,本方法将镭雕设备的参数设置为上述参数,从而满足部分电子设备的表面处理要求。
在一可实施方式中,对第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在第二区域形成特定图案,得到第三壳体,包括:确定第二区域和特定图案;将镭雕设备设置为红外波段,将镭雕波长设置为780nm~1100nm,镭雕功率设置为40W~70W,镭雕线宽设置为0.04mm~0.12mm;控制镭雕设备在第二区域形成特定图案,得到第三壳体;其中,第二区域与非第二区域的手感不同。
在另一种实施场景下,为了使第一区域和第二区域能够仅具有不同的视觉感受,但具有不相同的手感,本方法将镭雕设备的参数设置为上述参数,从而满足部分电子设备的表面处理要求。
基于上述两种情况,本方法还提供一种组合实施场景。本方法在第一区域通过调控镭雕的不同参数,使部分镭雕面与磨砂面手感一致,部分镭雕面与磨砂面手感不一致,由此可以获得在手感形成的隐藏图案,其中隐藏图案的样式可以和镭雕获得的特定图案不同或相同,从而提高了表面处理后获得的壳体的可变性和层次感。
在一可实施方式中,在操作102,得到第三壳体之后,方法还包括:操作103,对第三壳体的第一区域进行抛光处理,以使第二区域与非第二区域的手感相同,得到第四壳体。
当本方法需要使镭雕面与磨砂面手感一致的情况下,还可以通过抛光处理进一步对表面的手感进行统一,以满足表面处理要求。当本方法需要使镭雕面与磨砂面手感不一致的情况下,本方法可以调整抛光参数,降低抛光强度,从而避免抛光后影响壳体表面的手感差异。
在一可实施方式中,在操作103,得到第四壳体之后,方法还包括:操作104,对第四壳体的第一区域进行阳极氧化处理,以对第二区域和非第二区域进行着色,得到第五壳体。
之后,本方法可以对第四壳体表面进行阳极氧化,在第四壳体表面形成阳极保护膜,对壳体表面进行保护,降低耐腐蚀性和耐磨损性。并且,阳极氧化还能够实现对第二区域和非第二区域进行着色,得到第五壳体。第五壳体为完成表面处理后的金属壳体,可以用于进行电子设备后续装配和使用。具体的,在进行阳极氧化时,可以根据需要使壳体表面呈现相同颜色或不同颜色,也可以形成渐变色效果,以增加金属壳体表面的视觉效果。
在一可实施方式中,在上述操作101,对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理之前,方法还包括:操作100,获得金属素材,对金属素材进行冲压成型,以成型特定结构,得到第一壳体。
在一可实施方式中,金属素材为铝板素材。
根据本申请实施例的第二方面,提供了一种金属外壳,金属外壳通过本申请实施例第一方面任一项的方法制得。
根据本申请实施例的第三方面,提供了一种电子设备,电子设备包括金属外壳,金属外壳通过本申请实施例第一方面任一项的方法制得。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。
在本申请所提供的几个实施例中,应该理解到,所揭露的设备和方法,可以通过其它的方式实现。以上所描述的设备实施例仅仅是示意性的,例如,所述单元的划分,仅仅为一种逻辑功能划分,实际实现时可以有另外的划分方式,如:多个单元或组件可以结合,或可以集成到另一个系统,或一些特征可以忽略,或不执行。另外,所显示或讨论的各组成部分相互之间的耦合、或直接耦合、或通信连接可以是通过一些接口,设备或单元的间接耦合或通信连接,可以是电性的、机械的或其它形式的。
上述作为分离部件说明的单元可以是、或也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是、或也可以不是物理单元;既可以位于一个地方,也可以分布到多个网络单元上;可以根据实际的需要选择其中的部分或全部单元来实现本实施例方案的目的。
另外,在本发明各实施例中的各功能单元可以全部集成在一个处理单元中,也可以是各单元分别单独作为一个单元,也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中;上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现,也可以采用硬件加软件功能单元的形式实现。
本领域普通技术人员可以理解:实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成,前述的程序可以存储于计算机可读取存储介质中,该程序在执行时,执行包括上述方法实施例的步骤;而前述的存储介质包括:移动存储设备、只读存储器(Read Only Memory,ROM)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
或者,本发明上述集成的单元如果以软件功能模块的形式实现并作为独立的产品销售或使用时,也可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解,本发明实施例的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品存储在一个存储介质中,包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机、服务器、或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述方法的全部或部分。而前述的存储介质包括:移动存储设备、ROM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种金属外壳的表面处理方法,其特征在于,所述方法包括:
对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理,以在所述第一区域形成纹理结构,得到第二壳体;
对所述第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体;
其中,所述第二区域位于所述第一区域内,且所述第二区域的面积小于所述第一区域;所述第三壳体的所述第二区域与非所述第二区域之间形成有清晰的边缘线。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理,以在所述第一区域形成纹理结构,得到第二壳体,包括:
确定所述第一区域;
将喷砂压力设置为2~4kg,线速设置为0.5~3m/10~15s,喷砂型号设置为150#以下;
沿所述第一区域的长度方向和/或宽度方向对所述第一区域进行喷砂处理,以在所述第一区域形成纹理结构,得到第二壳体。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体,包括:
确定所述第二区域和特定图案;
将所述镭雕设备设置为红外波段,将镭雕波长设置为780nm~1100nm,镭雕功率设置为40W~70W,镭雕线宽设置为0.04mm~0.12mm;
控制所述镭雕设备在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体;
其中,所述第二区域与所述非第二区域的手感相同。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述第二壳体的第二区域进行镭雕处理,以在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体,包括:
确定所述第二区域和特定图案;
将所述镭雕设备设置为红外波段,将镭雕波长设置为780nm~1100nm,镭雕功率设置为40W~70W,镭雕线宽设置为0.04mm~0.12mm;
控制所述镭雕设备在所述第二区域形成特定图案,得到第三壳体;
其中,所述第二区域与所述非第二区域的手感不同。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述得到第三壳体之后,所述方法还包括:
对所述第三壳体的所述第一区域进行抛光处理,以使所述第二区域与所述非第二区域的手感相同,得到第四壳体。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,在所述得到第四壳体之后,所述方法还包括:
对所述第四壳体的所述第一区域进行阳极氧化处理,以对所述第二区域和所述非第二区域进行着色,得到第五壳体。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在上述对特定结构的第一壳体的第一区域进行喷砂处理之前,所述方法还包括:
获得金属素材,对所述金属素材进行冲压成型,以成型特定结构,得到所述第一壳体。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述金属素材为铝板素材。
9.一种金属外壳,其特征在于,所述金属外壳通过权利要求1~8任一项所述的方法制得。
10.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括金属外壳,所述金属外壳通过权利要求1~8任一项所述的方法制得。
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