CN114464645A - 柔性显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本公开内容涉及一种柔性显示装置，包括：基板，在基板上方设置有薄膜晶体管；中间层，中间层设置为覆盖薄膜晶体管；第一电极，第一电极位于中间层上并且连接到薄膜晶体管；隔堤，隔堤位于中间层和第一电极上，并且限定暴露一部分中间层的第一区域、暴露一部分第一电极的第二区域、以及除了第一区域和第二区域之外的第三区域；第一结构，第一结构位于隔堤限定的第一区域中并且朝向基板渐缩；有机发光层，有机发光层位于第二区域中暴露的第一电极上；以及第二电极，第二电极设置在有机发光层上。倒锥形结构的两个侧表面设置为与隔堤接触，结果，可以提高相应的粘附力，并且可以减少或改正剥离缺陷。

Description

柔性显示装置及其制造方法

相关申请的交叉引用

本申请要求享有于2020年11月10日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2020-0149102的优先权，其公开内容通过引用的方式整体上并入本文。

技术领域

本公开内容涉及柔性显示装置及其制造方法，具体而言，涉及一种通过包括倒锥形结构来使有机发光层的剥离缺陷最小的柔性显示装置及其制造方法。

背景技术

在信息和通信时代，用于在显示屏上显示各种信息或数据的图像显示装置充当核心装置。显示装置变得更薄更轻，并且正被开发为便携且同时具有高性能。在各种类型的显示装置中，对于可制造为重量较轻且封装较薄的显示装置的需求日益增长。具有自发光特性的显示装置由于可以低电压驱动而在低功耗方面具有优势，并且具有短响应时间、高发光效率、宽视角和高对比度。因此，这些显示装置已经开发为下一代显示器。这些显示装置能够通过激励以矩阵形式排列的多个子像素来显示图像。多个子像素中的每一个子像素包括发光元件和独立地驱动发光元件的多个晶体管。

液晶显示(LCD)装置、量子点(QD)显示装置、场发射显示(FED)装置、有机发光二极管(OLED)显示装置等是显示装置的示例。在这些显示装置中，有机发光显示装置由于显示更鲜艳的颜色和实现更紧凑的封装且无需单独的光源而变得有吸引力，并且通过使用自发光的有机发光二极管(OLED)而具有短响应时间、高对比度、高发光效率、高亮度、宽视角等优点。

最近，柔性显示装置作为下一代显示装置引起关注，由于在诸如塑料基板的柔性基板上设置显示部分和线路，因此即使当显示装置像纸一样弯曲时，柔性显示装置也能够显示图像。

随着柔性显示装置的应用范围从计算机监视器和TV到具有显示器的便携式电子装置(例如，蜂窝电话、平板计算机、膝上型计算机等)变得越来越广，正在对体积和重量减小同时具有宽显示区域的柔性显示装置进行研究和开发。

特别地，如上所述，有机发光二极管(OLED)显示装置不需要单独的光源，因此，这种类型的显示装置可以实现为具有较薄的封装。结果，越来越多地尝试将有机发光显示装置开发为柔性显示装置。

在柔性有机发光显示装置被折叠的情况下，由于折叠，拉伸应力和压缩应力可能施加到柔性有机发光显示装置。

由于重复折叠而连续施加拉伸应力和压缩应力可能导致有机发光显示装置中包括的多个层彼此分离的剥离缺陷，这对柔性有机发光显示装置的可靠性产生不利影响。

特别地，在有机发光显示装置包括的多个层中，有机发光层很难实现用于缓解折叠应力的图案化且具有较弱的粘附力，因此是最脆弱的部分。

为了解决柔性有机发光显示装置的有机发光层的这种剥离问题，已经进行了各种尝试，例如在隔堤层上沉积间隔物。

发明内容

为了解决上述问题，本文描述的实施例涉及用于解决有机发光层的剥离缺陷的柔性显示装置及其制造方法。

根据本公开内容的一方面，提供了一种柔性显示装置，包括：基板，在基板上方设置有薄膜晶体管；中间层，中间层设置为覆盖薄膜晶体管；第一电极，第一电极位于中间层上并且连接到薄膜晶体管；隔堤，隔堤位于中间层和第一电极上，并且限定暴露一部分中间层的第一区域、暴露一部分第一电极的第二区域、以及除了第一区域和第二区域之外的第三区域；第一结构，第一结构位于隔堤限定的第一区域中并且朝向基板渐缩；有机发光层，有机发光层位于第二区域中暴露的第一电极上；以及第二电极，第二电极设置在有机发光层上。

根据本公开内容的另一方面，提供了一种制造柔性显示装置的方法，包括在其上设置有薄膜晶体管的基板上方设置中间层以覆盖薄膜晶体管的步骤，在中间层上设置电连接到薄膜晶体管的第一电极的步骤，在中间层上设置与第一电极间隔开并朝向基板渐缩的第一结构的步骤，在中间层和第一电极上设置隔堤的步骤，在第一电极上设置有机发光层的步骤，以及在有机发光层上设置与全部或至少一部分基板重叠的第二电极的步骤。

根据上述方面，将在下面描述本公开内容的其他方面、实施例和示例及所产生的优点，并且本领域技术人员根据下面的具体描述将清楚其变型。

根据本公开内容的各方面，由于用于在相邻像素或子像素之间防止经由有机发光层的横向漏电流的倒锥形结构可以与正锥形结构相邻，实际上，可以提高设计相应的柔性显示装置的自由度，并且由于没有因形成倒锥形结构而增加厚度，因此提供了实现薄柔性显示装置的优点。

此外，由于倒锥形结构的两个侧表面设置为与隔堤接触，所以能够提高相应的粘附力，并且能够减少或改正剥离缺陷。

根据本公开内容的各方面的效果不限于以上描述，更多的各种效果将在以下描述中变得明显。

附图说明

图1A是包括典型锥形间隔物的柔性显示装置的截面图，图1B是包括倒锥形间隔物的柔性显示装置的截面图。

图2是示出根据本公开内容各方面的柔性显示装置的平面图。

图3是示出根据本公开内容各方面的柔性显示装置的截面图。

图4A是示出典型柔性显示装置中包括的像素的平面图，图4B是根据本公开内容各方面的柔性显示装置的一部分的放大平面图。

图5A至5G是示出根据本公开内容各方面的柔性显示装置的制造工艺的截面图。

具体实施方式

通过参考下面参照附图详细描述的本公开内容的实施例，本公开内容的优点和特征以及实现本公开内容的优点和特征的方法将是显而易见的。应当注意，本公开内容不限于下面阐述的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现。因此，提供本公开内容的实施例用于具体描述本公开内容，并且向所属领域技术人员具体告知本公开内容的范围，本公开内容的范围仅由所附权利要求的范围限定。

另外，在用于描述本公开内容的示例性实施例的附图中示出的形状、尺寸、比率、角度、数量等仅仅是示例，本公开内容不限于此。在整个说明书中，相同的附图标记通常表示相同的元件。此外，在本公开内容的以下描述中，当确定公知功能和配置的描述可能使本公开内容的一些实施例的主题不清楚时，将省略对并入本文的公知功能和配置的详细描述。

除非与术语“仅”一起使用，否则本文使用的术语，例如“包括”、“具有”、“包含”、“含有”、“由……组成”等通常旨在允许添加其它部件。除非上下文另外明确指出，否则本文所用的单数形式旨在包括复数形式。

在解释本公开内容的实施例的任何元件或特征时，应当考虑到，即使没有进行具体描述，层、区域和区的任何尺寸和相对大小也包括公差或误差范围。

除非使用例如“直接”、“仅”等术语，否则空间相关术语，例如“上”、“上方”、“之上”、“下”、“下方”、“之下”、“下部”、“上部”、“附近”、“靠近”、“相邻”等，可在本文中用于描述一个元件或特征与图中所示的其他元件或特征的关系，并且应解释为一个或多个元件还可以“介于”这些元件之间。

除非使用诸如“直接”、“紧接”等术语，否则本文中用于描述事件、操作等之间的时间关系的诸如“之后”、“随后”、“下一个”、“之前”等的时间相关术语一般旨在包括不连续发生的事件、情况、操作等。

当诸如“第一”、“第二”等术语在本文中用于描述各种元件或部件时，应当认为这些元件或部件不限于此。这些术语在本文中仅用于将一个元件与其它元件区分开。因此，在本公开内容的技术概念中，下面提到的第一元件可以是第二元件。

应当理解，本文使用的术语“至少一个”可以包括通过组合一个或多个相关元件而获得的所有组合。例如，“第一项目、第二项目和第三项目中的至少一个”可以包括由第一项目、第二项目和第三项目中的两个或更多个以及第一项目、第二项目和第三项目中的每一个获得的所有组合。

本公开内容的各种示例性实施例的元件或特征可以部分地或完全地彼此结合或组合，并且可以以本领域普通技术人员完全理解的技术上各种方式互锁和操作，并且各种示例性实施例可以彼此独立地或相关联地执行。

在下文中，将参考附图详细讨论根据本公开内容的实施例的显示装置的示例。在用附图标记表示附图的元件时，相同的元件将用相同的附图标记表示，尽管这些元件在不同的附图中示出。附图中所示的部件的比例是为了便于描述而示出的，可以与实际比例不同。因此，本公开内容的实施例不限于附图中所示的比例。

图1A是包括典型锥形间隔物的柔性显示装置的截面图，图1B是包括倒锥形间隔物的柔性显示装置的截面图。

参考图1A和1B，半导体层5位于基板6上，栅极绝缘膜4位于半导体层5上。栅电极3位于栅极绝缘膜4上且面对半导体层5。即，栅极绝缘膜4介于栅电极3和半导体层5之间。绝缘层7位于栅电极3上，源电极1和漏电极2设置在绝缘层7上。每一个源电极1和漏电极2通过形成在绝缘层7中的通孔连接到半导体层5。因此，在基板6上设置了包括半导体层5、栅电极3、源电极1和漏电极2的薄膜晶体管。保护层8和平坦化层9设置在源电极1和漏电极2上，反射电极11位于平坦化层9上。有机发光层12和公共电极13位于反射电极11上。

考虑到需要在柔性环境中使用的柔性显示装置的特性，可以在位于平坦化层9和反射电极11上的隔堤层10上设置间隔物14，以缓解施加在诸如有机发光层12等的各层上的弯曲应力。

当进行弯曲时，尽管间隔物14可以缓解施加在柔性显示装置上的应力，但是由于间隔物14的下表面的面积大于上表面的面积，因此，可能不会显著地减小相应的拉伸应力。实际上，存在的问题是，防止有机发光层12中引起的剥离缺陷的效果很小或没有效果。

在这种情况下，间隔物可以实现为具有倒锥形以缓解拉伸应力及压缩应力。

如图1B所示，当施加弯曲应力时，设置在隔堤层10上的倒锥形间隔物14'可以使应力分散，因此可以防止有机发光层的剥离并且可以提高装置的可靠性。

然而，在设置倒锥形间隔物14'的情况下，当执行金属掩模沉积时存在的问题是，由于掩模与间隔物之间的接触而在工艺间产生颗粒。这些颗粒会造成后续工艺的粘附污染，导致装置成品率降低。因此，非常希望防止或减少颗粒产生。

为了解决这个问题，根据本公开内容的各方面，提供了一种柔性显示装置，其中可以通过包括倒锥形间隔物而防止有机发光层的剥离，并且可以减少或解决由于倒锥形间隔物而可能发生的颗粒问题。

在下文中，将参考图2讨论根据本公开内容各方面的柔性显示装置。图2是示出根据本公开内容各方面的柔性显示装置的平面图。

参考图2，根据本公开内容各方面的柔性显示装置可包括显示面板100、栅极驱动器200、数据驱动器300和电路板400。

显示面板100包括基板110(如图3所示)，基板110支撑有机发光元件180(如图3所示)中包括的各元件。基板110可以由选自聚酯基聚合物、硅氧烷基聚合物、丙烯酸基聚合物、聚烯烃基聚合物及其两种或更多种的组合的材料形成，这些材料是具有弯曲柔性的材料。然而，本公开内容的实施例不限于此。例如，形成为超薄形状的玻璃可用于实现柔性显示装置。

有机发光元件180设置在基板110上方，并且可以向显示面板100的外部发光。有机发光元件180可以包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电子注入层。

在平面图中，基板110可以具有矩形形状、每个角部以恒定曲率半径倒圆的矩形形状、或者具有至少六条边的非矩形形状。非矩形形状的基板110可以包括至少一个突出或至少一个凹口。

可以将基板110划分为有源区域AA(或显示区域)和非有源区域NA(或非显示区域)。有源区域AA可以位于基板110的中心区域，并且被限定为用于显示图像的区域。

在平面图中，有源区域AA可以具有矩形形状、每个角部以恒定曲率半径倒圆的矩形形状、或者具有至少六条边的非矩形形状。非矩形形状的有源区域AA可以包括至少一个突出或至少一个凹口。

非有源区域NA可位于基板110的边缘区域以围绕有源区域AA，并且被限定为不显示图像的区域或边缘区域。

像素P可以设置在基板110的有源区域AA中。在一个实施例中，多个像素P可以以矩阵形式排列在基板110的有源区域AA中。

数据驱动器300可通过芯片安装(或接合)工艺安装在基板110的非有源区域NA中限定的芯片安装区域中。数据驱动器300可以接收从电路板400输入的若干电平或类型的功率、定时同步信号、数字图像数据等，根据定时同步信号产生栅极控制信号以控制栅极驱动器200的驱动，将数字图像数据转换成模拟像素数据电压，并将得到的像素数据电压提供给一个或多个像素P。

尽管图2中未示出，但是一个或多个坝状物可以位于有源区域AA和栅极驱动器200之间。在另一实施例中，坝状物可以位于比栅极驱动器200更远的边缘，例如，最外侧边缘。

显示面板100可以沿着与数据驱动器300平行的参考线I-I'弯曲或折叠。然而，参考线I-I'的方向或位置不限于此。例如，根据需要，显示面板100可以在各个方向或位置上弯曲或折叠。

在下文中，进将一步参考图3至图5详细讨论本公开内容的实施例。

图3是示出根据本公开内容各方面的柔性显示装置的截面图。

参考图3，根据本公开内容各方面的前发光柔性显示装置包括基板110、诸如驱动薄膜晶体管的薄膜晶体管130、有机发光元件180和至少一个结构(170、175)。

驱动薄膜晶体管130包括半导体层131、栅电极134、源电极133和漏电极132。

半导体层131设置在基板110上方。可以用非晶硅膜或使非晶硅结晶而获得的多晶硅膜来实现半导体层131。一个或多个缓冲层120和125可以介于基板110和半导体层131之间。可以形成缓冲层120和125以保护薄膜晶体管不受杂质影响，例如当半导体层131结晶时从基板110流出的碱离子。

栅电极134设置在第一绝缘层140上并与半导体层131重叠。在这种情况下，栅电极134连接到传送栅极信号的栅极线。栅电极134可以由单层或多层构成，该单层或多层由钼(Mo)、铝(Al)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)和铜(Cu)中的一种或多种、或其中两种或多种的合金形成。

源电极133和漏电极132设置为以预定间隙间隔开，并且电连接到半导体层131。具体而言，在第一绝缘层140和第二绝缘层145中形成暴露半导体层131的半导体层接触孔，源电极133和漏电极132通过半导体层接触孔连接到半导体层131。

中间层150设置在驱动薄膜晶体管130上。在中间层150中形成暴露驱动薄膜晶体管130的漏电极132的漏极接触孔

接着，有机发光元件180包括第一电极181、有机发光层182和第二电极183。有机发光元件180电连接到驱动薄膜晶体管130。具体而言，有机发光元件180通过漏极接触孔连接到驱动薄膜晶体管130的漏电极132。

第一电极181设置在中间层150上，并通过漏极接触孔连接到驱动薄膜晶体管130的漏电极132。第一电极181用于向有机发光层182施加电流(或电压)，并限定具有预定尺寸的发光区域。

第一电极181用作阳极。为此，第一电极181可以由具有相对大的功函数的透明导电材料形成。在一个实施例中，透明导电材料可以包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。为了提高反射效率，第一电极181可以进一步包括在第一电极的下部中由具有高反射效率的金属材料形成的反射膜(未示出)。在一个实施例中，金属材料可以包括银(Ag)、铝(Al)及其合金中的一种或多种。

在第一电极181上设置隔堤160，隔堤160包括暴露一部分第一电极181的第一开口。隔堤160还可以包括暴露一部分中间层150的第二开口。下面将给出对此的讨论。

有机发光层182介于第一电极181和第二电极183之间。有机发光层182可以由于从第一电极181提供的空穴和从第二电极183提供的电子的结合而发光。

在一个实施例中，图3示出了有机发光层182设置为与全部或至少一部分基板重叠。在另一实施例中，有机发光层182可仅设置在第一电极181上。

有机发光层182可以包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层。空穴注入层(未示出)设置在第一电极181上并用于移动空穴。空穴传输层(未示出)设置在空穴注入层上并用于将从空穴注入层注入的空穴传输到发光层。

发光层介于空穴传输层和电子传输层之间，并且可以由于从第一电极181提供的空穴和从第二电极183提供的电子的结合而发射白光。

电子传输层(未示出)设置在发光层上并将从电子注入层注入的电子传输到发光层。电子注入层(未示出)设置在电子传输层上。可以省略电子注入层。

另外，发光层可以包括彼此面对的第一发光叠层和第二发光叠层，电荷生成层介于第一发光叠层和第二发光叠层之间。在这种情况下，由于第一发光叠层和第二发光叠层中的任一个发光叠层生成蓝光，另一个发光叠层生成黄绿光，所以可通过第一发光叠层和第二发光叠层生成白光。在这样的发光叠层中生成的白光可以进入位于发光层的上部或下部的滤色器，由此可以实现彩色图像。

在另一个实施例中，在没有单独的滤色器的情况下，发光层可以生成与各个子像素对应的彩色光来实现彩色图像。例如，红色(R)子像素的发光层、绿色(G)子像素的发光层和蓝色(B)子像素的发光层可以分别生成红光、绿光和蓝光。

第二电极183设置在有机发光层182上，并将电子提供给有机发光层182。第二电极183用作阴极。为此，第二电极183可以由透明导电材料形成。在一个实施例中，透明导电材料可以包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。第二电极183在接触有机发光层182的部分中还可以包括由具有低功函数的金属材料形成的薄金属膜(未示出)。例如，金属材料可以包括镁(Mg)、银(Ag)及其化合物。

隔堤160可以位于有机发光元件180的第一电极181和中间层150上。隔堤160用于分离有源区域AA中彼此相邻的像素P，并且可以限定多个像素P。隔堤160可以由有机材料形成。

隔堤160可以限定暴露一部分中间层150的第一区域、暴露一部分第一电极181的第二区域以及除了第一区域和第二区域之外的第三区域。隔堤160限定的第二区域可以等同于第一电极181限定的发光区域。

设置在显示装置中的至少一个结构(170、175)可以包括倒锥形的第一结构170(即，第一结构170的截面朝向基板(即，从顶部到底部)变小)和正锥形的第二结构175(即，第二结构175的截面朝向基板变大)。在这种情况下，第一结构170可以设置在中间层150上，第二结构175可以设置在隔堤160上。

第一结构170可以位于隔堤160限定的第一区域，第二结构175可以位于隔堤160限定的第三区域。

在隔堤160限定的第一区域附近，有机发光层182提供了暴露隔堤160的入孔。由于遮蔽效应，有机发光层182设置在第一结构170的上部，例如顶表面上，而不设置在低于第一结构170的上部的部分中。因此，在有机发光层182中形成入孔。

在这种情况下，第一结构170的两个侧表面设置为接触隔堤160，因此可以提高粘附力，并且可以减少或改正剥离缺陷。此外，第一结构170的至少一个侧表面与中间层150之间的角度可以在20度至80度的范围内。

第二结构175设置为与第一结构170相邻并且间隔开预定距离。由于第一结构170和第二结构175之间的间隔距离较小，因此可以增加设计自由度。在一个实施例中，第一结构170的上部的端部和第二结构175的下部的端部之间的距离可以是5μm或更小。

第一结构170的厚度可以大于隔堤160的厚度。第一结构170可以形成为具有比隔堤160大的厚度以给有机发光层182提供遮蔽效应。在一个实施例中，第一结构170的厚度可以比隔堤160的厚度大0.5μm或更多。

第二结构175的厚度可以大于或等于隔堤160的厚度。在一个实施例中，第二结构175的厚度是3μm或更少。

有机发光层182和第二电极183依次设置在第一结构170和第二结构175上。

封装层190可以防止氧气或湿气从外部渗透，以便防止发光材料和电极材料被氧化。当有机发光元件暴露于湿气或氧气时，可能呈现发光区域减小的像素收缩现象，或者在发光区域中可能生成暗点。封装层190可以是由玻璃、金属、氧化铝(AlOx)或硅(Si)基材料形成的无机膜，或者具有有机膜和无机膜交替堆叠的结构。无机膜用于防止氧气和湿气渗透，有机膜用于使无机膜的表面具有均匀高度。当封装层190由多个薄膜层构成时，可以使湿气或氧气的行进路径延长和复杂，并且这种延长和复杂的行进路径使得湿气或氧气不能渗透到有机发光元件。

根据本公开内容各方面的显示装置中包括的封装层190可包括第一封装层191、第二封装层192和第三封装层193。封装层190的第一封装层191可以设置在第二电极183上。第二封装层192可以设置在第一封装层191上。第三封装层193可以设置在第二封装层192上。封装层190的第一封装层191和第三封装层193可以由氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al₂O₃)等形成。封装层190的第二封装层192可以由有机材料形成，诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂等。然而，本公开内容的实施例不限于此。

图4A是示出典型柔性显示装置中包括的像素的平面图，图4B是根据本公开内容各方面的柔性显示装置的一部分的放大平面图。

参考图4A和图4B，第一结构170和第二结构175设置在多个像素P之间。

在根据本公开内容各方面的柔性显示装置中，第一结构170设置为与第二结构175相邻。因此，由于第一结构170和第二结构175之间的间隔距离变小，因此可以提高柔性显示装置的设计自由度。

图5A至5G是示出根据本公开内容各方面的柔性显示装置的制造工艺的截面图。

图5A至5G中的每一个是示出图3和4中所示的一个像素的制造工艺的截面图。因此，为了便于描述，相同的元件用相同的附图标记表示，在本文中不再重复其细节。

参考图5A，半导体层131、第一绝缘层140、栅电极134、第二绝缘层145、源电极133、漏电极132和中间层150依次设置在基板110上。

半导体层131和栅电极134可以通过光刻工艺来图案化，即，在基板110上沉积预定的金属材料，在金属材料上施加光刻胶，然后曝光和显影光刻胶以形成掩模图案，使用掩模图案蚀刻金属材料的预定区域，并去除掩模图案。

应当注意，半导体层131和栅电极134的图案化不必限于此。例如，可以通过印刷工艺在金属膏上直接图案化半导体层131和栅电极134，所述印刷工艺例如是丝网印刷、喷墨印刷、凹版印刷、凹版胶印、反向胶印、柔版印刷或微接触印刷。

根据所包括的材料，也可以使用光刻工艺或印刷工艺来执行下面描述的每个元件的图案化工艺。因此，为了便于描述，不重复相应的讨论。在第一绝缘层140和第二绝缘层145中形成半导体层接触孔。通过蚀刻第一绝缘层140和第二绝缘层145以暴露一部分半导体层131来形成半导体层接触孔。

将源电极133和漏电极132图案化，使其通过半导体层接触孔连接到半导体层131并且与栅电极134间隔开。

在中间层150中形成漏极接触孔。通过蚀刻中间层150以暴露一部分漏电极132来形成漏极接触孔。

参考图5B，在其上形成有中间层150的基板110上方形成第一电极181。

将第一电极181图案化，使其通过漏极接触孔连接到漏电极132。

参考图5C，在中间层150上形成第一结构170。

在这种情况下，第一结构170具有倒锥形，即，第一结构170的截面朝向基板(从顶部到底部)变小。形成第一结构170的位置可以对应于隔堤160限定的第一区域。

接下来，参考图5D，在第一电极181和中间层150上形成隔堤，隔堤在第一区域中具有开口。

在基板110的表面上方沉积预定材料并通过蚀刻工艺去除沉积材料的预定区域，将隔堤160形成为在第二区域中具有开口。结果，可以在第二区域暴露第一电极181。此外，由于在隔堤160之前形成第一结构170，所以隔堤160可以形成为在第一区域中接触第一结构170。

参考图5E，在隔堤160限定的第三区域中形成第二结构175。

第一结构170和第二结构175彼此间隔开，并且第一结构170的上部的端部与第二结构175的下部的端部之间的距离可以是5μm或更小。

参考图5F，在基板110的表面上方形成有机发光层182。例如，在平面图中，有机发光层182形成为与全部或至少一部分基板110重叠。

使用热真空蒸发形成有机发光层182。热真空蒸发使有机材料在垂直于基板110的方向上进来。

有机发光层182形成为在隔堤160限定的第二区域中电连接到第一电极181。此外，有机发光层182形成为具有暴露第一区域附近的一部分隔堤160的入孔。入孔由于形成在第一区域中的第一结构170而形成。

参考图5G，在基板110的整个或至少一部分表面上方形成第二电极183。

通过预定金属材料的热真空蒸发形成第二电极183。在这种情况下，预定金属材料在垂直于基板110的方向上进来，并沉积在有机发光层182上。

由于遮蔽效应，有机发光层182设置在第一结构170的上部，例如顶表面上，而不形成在低于第一结构170的上部的部分中。

因此，通过在隔堤160的开口中形成第一结构170，即使形成了倒锥形结构，显示面板100的厚度也可以与没有形成倒锥形结构的显示面板厚度相等。当形成倒锥形结构时，与正锥形的高度大于3μm相比，柔性显示装置通常可以形成为小厚度，因此提供了实现薄柔性显示装置的优点。此外，由于倒锥形结构位于低于正锥形结构的位置，在执行金属掩模沉积时，可以防止由于掩模和倒锥形结构之间的接触而产生颗粒。因此，即使在柔性显示装置中包括倒锥形结构，也可以减少或解决可能在沉积工艺中发生的颗粒问题。

此外，由于用于在相邻像素P之间防止经由有机发光层182的横向漏电流的倒锥形结构与正锥形结构相邻，所以可以产生提高显示装置的设计自由度的效果。

根据本文实施例的柔性显示装置可描述如下。

根据本文实施例的柔性显示装置可以包括：基板，在基板上方设置有薄膜晶体管；中间层，中间层设置为覆盖薄膜晶体管；第一电极，第一电极位于中间层上并且连接到薄膜晶体管；隔堤，隔堤位于中间层和第一电极上，并且限定暴露一部分中间层的第一区域、暴露一部分第一电极的第二区域、以及除了第一区域和第二区域之外的第三区域；第一结构，第一结构位于隔堤限定的第一区域中并且朝向基板渐缩；有机发光层，有机发光层位于第二区域中暴露的第一电极上；以及第二电极，第二电极设置在有机发光层上。

在根据本文实施例的柔性显示装置中，第一结构设置为与中间层接触，并且第一结构的两个侧表面可以与隔堤接触。

在根据本文实施例的柔性显示装置中，第一结构的厚度可以大于隔堤的厚度。

根据本文实施例的柔性显示装置还可以包括设置在隔堤限定的第三区域中的第二结构。

在根据本文实施例的柔性显示装置中，第二结构的截面可以朝向基板变大，即，朝向基板渐扩。

在根据本文实施例的柔性显示装置中，第二结构的厚度可以小于3μm。

在根据本文实施例的柔性显示装置中，第一结构和第二结构之间的间隔距离可以是5μm或更小。

根据本文实施例的制造柔性显示装置的方法可以包括：在其上设置有薄膜晶体管的基板上方设置中间层以覆盖薄膜晶体管的步骤，在中间层上设置电连接到薄膜晶体管的第一电极的步骤，在中间层上设置与第一电极间隔开并朝向基板渐缩的第一结构的步骤，在中间层和第一电极上设置隔堤的步骤，在第一电极上设置有机发光层的步骤，以及在有机发光层上设置与全部或至少一部分基板重叠的第二电极的步骤。

在本文的示例和实施例中描述的特征、结构、效果等被包括在本公开内容的至少一个示例或实施例中，而不必限于仅一个示例或实施例。此外，本公开内容所属领域的普通技术人员可以将本公开内容的至少一个示例或实施例中描述的特征、结构、效果等与其它示例进行组合或修改。因此，与这些组合和修改相关的内容应当被解释为包括在本公开内容的范围内。

本公开内容不限于上述实施例和附图，而是可以以各种不同的形式实现。对所描述的实施例的各种修改、添加和替换对于本领域技术人员将是显而易见的，在不脱离本公开内容的精神和范围的情况下，本文所定义的一般原理可以应用于其它实施例和应用。本公开内容的保护范围应当基于所附权利要求来解释，并且在其等同方案的范围内的所有技术构思应当被解释为包括在本公开内容的范围内。另外，在所附权利要求中，所使用的术语不应被解释为将权利要求限制为说明书和权利要求中公开的具体实施例，而应被解释为包括所有可能的实施例以及权利要求主题的等同方案的全部范围。因此，权利要求不受公开内容的限制。

Claims (13)

1.一种柔性显示装置，包括：

基板，在所述基板上方设置有薄膜晶体管；

中间层，所述中间层设置为覆盖所述薄膜晶体管；

第一电极，所述第一电极位于所述中间层上并且连接到所述薄膜晶体管；

隔堤，所述隔堤位于所述中间层和所述第一电极上，并且限定暴露一部分中间层的的第一区域、暴露一部分第一电极的第二区域、以及除了所述第一区域和所述第二区域之外的第三区域；

第一结构，所述第一结构位于所述隔堤限定的第一区域中并且朝向所述基板渐缩；

有机发光层，所述有机发光层位于所述第二区域中暴露的所述第一电极上；以及

第二电极，所述第二电极设置在所述有机发光层上。

2.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述第一结构设置为与所述中间层接触，并且所述第一结构的两个侧表面与所述隔堤接触。

3.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述有机发光层位于所述第一结构上。

4.根据权利要求2所述的柔性显示装置，其中，所述第一结构的厚度大于所述隔堤的厚度。

5.根据权利要求1所述的柔性显示装置，还包括设置在所述第三区域中的所述隔堤上的第二结构。

6.根据权利要求5所述的柔性显示装置，其中，所述第二结构朝向所述基板渐扩。

7.根据权利要求5所述的柔性显示装置，其中，所述第二结构的厚度小于3μm。

8.根据权利要求5所述的柔性显示装置，其中，所述第一结构和所述第二结构之间的间隔距离是5μm或更小。

9.一种制造柔性显示装置的方法，包括：

在其上设置有薄膜晶体管的基板上方设置中间层以覆盖所述薄膜晶体管的步骤；

在所述中间层上设置电连接到所述薄膜晶体管的第一电极的步骤；

在所述中间层上设置与所述第一电极间隔开并朝向所述基板渐缩的第一结构的步骤；

在所述中间层和所述第一电极上设置隔堤以暴露一部分第一电极的步骤；

在暴露的第一电极上设置有机发光层的步骤；以及

在所述有机发光层上设置与全部或至少一部分基板重叠的第二电极的步骤。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述隔堤设置为与所述第一结构的两个侧表面接触。

11.根据权利要求9所述的方法，还包括在所述隔堤上设置朝向所述基板渐扩的第二结构的步骤。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述第二结构的厚度小于3μm。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述第一结构与所述第二结构之间的间隔距离为5μm或更小。

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