CN114460811A - 一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备 - Google Patents
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- 238000001035 drying Methods 0.000 title claims abstract description 86
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 23
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 98
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 6
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 5
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 38
- 238000010073 coating (rubber) Methods 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000029058 respiratory gaseous exchange Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 210000003205 muscle Anatomy 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
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Abstract
本发明公开了一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，包括：一传送机构；多个夹具，沿所述传送机构的移动方向间隔设置在所述传送机构上；沿所述传送机构的移动方向设置有滴胶区、烘干区；一滴胶机构，位于所述滴胶区，布置于所述夹具的上方；一烘干机构，位于所述烘干区，布置于所述夹具的上方，沿所述传送机构的移动方向，所述烘干机构位于所述滴胶机构的下游侧。利用多个夹具夹持固定多个晶圆，利用传送机构带动夹具连续传送。利用滴胶机构向晶圆上滴加光刻胶。在匀胶后，利用烘干机构进行烘干处理。本实施例集合滴胶、烘干一体化处理，可以多个晶圆连续处理，效率高。
Description
技术领域
本发明涉及晶圆处理技术领域，尤其涉及一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备。
背景技术
光刻胶经涂胶机涂覆后需进行烘烤，以挥发出光刻胶中的溶剂，保证光刻胶具有足够的硬度抵挡后续的刻蚀-去除(Etch-Trim)工艺中离子束的冲击，使刻蚀后的台阶层线条均匀笔直。
在中国专利申请号：CN201921844380.1中公开了一种光刻胶烘干装置，用于烘干涂覆在晶圆上的光刻胶，所述光刻胶烘干装置包括：至少一上烘干板、至少一下烘干板及一控制装置；所述上烘干板与所述下烘干板间隔设置，所述晶圆用于设置在所述上烘干板与下烘干板之间；所述控制装置分别与所述上烘干板及所述下烘干板连接，并控制所述上烘干板及所述下烘干板升温，以烘干所述光刻胶。
在中国专利申请号：CN201410612630.4中公开了一种硅片匀胶烘干操作台，包括操作台本体、匀胶机和烘干装置，在所述操作台本体桌面上设置有通孔，所述匀胶机的托盘固定在所述通孔中；所述烘干装置包括加热丝、开关和烘干板，所述开关设置在操作台本体的桌面一侧，所述加热丝位于烘干板下方，所述烘干板上表面等间距设置有若干凸筋。
在中国专利申请号：CN201510886017.6中公开了一种自动硅片匀胶机，包括机柜、上料机构、涂胶机构、烘干机构、移片机构、下料机构、片篮和电气控系统，上料机构、下料机构分别固定于机柜的工作台长向两端并同一条中心线上，在工作台的同一条中心线上并上料机构和下料机构间，依次固定涂胶机构、烘干机构，移片机构固定工作台的下面，移片机构的载片位于涂胶机构、烘干机构的上方。
上述技术方案效率低，有待进一步改进。
发明内容
为解决背景技术中存在的至少一个方面的技术问题，本发明提出一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备。
本发明提出的一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，包括：
一传送机构；
多个夹具，沿所述传送机构的移动方向间隔设置在所述传送机构上；
沿所述传送机构的移动方向设置有滴胶区、烘干区；
一滴胶机构，位于所述滴胶区，布置于所述夹具的上方；
一烘干机构，位于所述烘干区，布置于所述夹具的上方，沿所述传送机构的移动方向，所述烘干机构位于所述滴胶机构的下游侧。
优选地，所述滴胶机构包括：
一供液箱；
多个滴胶管，沿一圆周方向均匀分布，位于所述夹具的上方，并均与所述供液箱连通。
优选地，所述夹具包括：
一吸气机构，设置在所述传送机构上；
一第一吸气箱，设置在所述传送机构上，与所述吸气机构连接；
一第二吸气箱，设置在所述第一吸气箱并与所述第一吸气箱连通；
三个吸附管，沿一旋转方向均匀间隔安装在所述第二吸气箱上，并与所述第二吸气箱连通。
优选地，所述第二吸气箱与所述第一吸气箱转动连接；
该设备还包括驱动件，所述驱动件位于所述滴胶区，所述驱动件用于带动所述第二吸气箱转动。
优选地，所述夹具还包括齿轮，所述齿轮安装在所述第二吸气箱上；
所述驱动件为第一齿条，所述第一齿条沿所述传送机构的移动方向布置，所述第一齿条与所述齿轮啮合。
优选地，所述烘干区包括第一烘干区、第二烘干区，所述第一烘干区、所述第二烘干区沿所述传送机构的移动方向依次布置，所述第二烘干区内的温度大于所述第一烘干区内的温度。
优选地，该设备还包括第二齿条，所述第二齿条位于所述第一烘干区，所述第二齿条沿所述传送机构的移动方向布置，所述第二齿条与所述齿轮啮合。
优选地，设备还包括第三齿条，所述第三齿条位于所述第二烘干区，所述第三齿条沿所述传送机构的移动方向布置，所述第三齿条与所述齿轮啮合。
优选地，所述烘干机构包括两个烘干组件，两个烘干组件分别位于所述第一烘干区、所述第二烘干区，所述烘干组件包括：
一供气机构；
多个出气管，沿所述传送机构的移动方向间隔布置，且与所述供气机构连通；其中，
位于所述第二烘干区内的出气管的数量多余位于所述第一烘干区内的出气管的数量。
优选地，所述传送机构包括：
一支架；
两个支撑轮，间隔安装在所述支架上；
一电机，与一个所述支撑轮传动连接；
一传送带，安装在两个所述支撑轮上，其中，所述传送带上间隔安装有多个通孔；其中，
所述第一吸气箱安装在所述传送带上，所述第一吸气箱、所述第二吸气箱均呈环状布置。
本发明公开的一个方面带来的有益效果是：
利用多个夹具夹持固定多个晶圆，利用传送机构带动夹具连续传送。利用滴胶机构向晶圆上滴加光刻胶。
在匀胶后，利用烘干机构进行烘干处理。本实施例集合滴胶、烘干一体化处理，可以多个晶圆连续处理，效率高。
附图说明
图1为本发明公开的轴视图；
图2为本发明公开的轴视图；
图3为本发明公开的部分部件的俯视图；
图4为本发明公开的部分部件的轴视图；
图5为本发明公开的部分部件的主视图；
图6为本发明公开的部分部件的轴视图；
图7为本发明公开的部分部件的轴视图；
图8为本发明公开的部分部件剖视后的示意图；
图9为本发明公开的部分部件剖视后的轴视图；
图10为本发明公开的部分部件的轴视图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互的结合；下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”和“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的位置或元件必须具有特定方位、以特定的方位构成和操作，因此不能理解为本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
参照图1-10，本发明提出的一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，包括：
一传送机构；多个夹具，沿所述传送机构的移动方向间隔设置在所述传送机构上。
沿所述传送机构的移动方向设置有滴胶区A、烘干区。
一滴胶机构，位于所述滴胶区，布置于所述夹具的上方。
一烘干机构，位于所述烘干区，布置于所述夹具的上方，沿所述传送机构的移动方向，所述烘干机构位于所述滴胶机构的下游侧。
利用多个夹具夹持固定多个晶圆J，利用传送机构带动夹具连续传送。利用滴胶机构向晶圆J上滴加光刻胶。
在匀胶后，利用烘干机构进行烘干处理。本实施例集合滴胶、烘干一体化处理，可以多个晶圆J连续处理，效率高。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述滴胶机构包括：
一供液箱1；多个滴胶管2，沿一圆周方向均匀分布，位于所述夹具的上方，并均与所述供液箱1连通。利用供液箱1、滴胶管2向晶圆J滴加光刻胶。通过设置多个滴胶管2，让光刻胶分布晶圆J的不同位置，提高匀胶效率、均匀性，提高效果。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述夹具包括：
一吸气机构3，设置在所述传送机构上；一第一吸气箱4，设置在所述传送机构上，与所述吸气机构3连接；一第二吸气箱5，设置在所述第一吸气箱4并与所述第一吸气箱4连通；三个吸附管6，沿一旋转方向均匀间隔安装在所述第二吸气箱5上，并与所述第二吸气箱5连通。
将晶圆J置于吸风管上，利用吸气机构3对第一吸气箱4、第二吸气箱5、吸附管6吸气，形成负压，将晶圆J吸附固定。
通过设置三个吸附管6既满足对晶圆J固定，也减小占用晶圆J的下方区域，方便对晶圆J上部、下部同时进行烘干处理，提高烘干效率。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述第二吸气箱5与所述第一吸气箱4转动连接；该设备还包括驱动件，所述驱动件位于所述滴胶区，所述驱动件用于带动所述第二吸气箱5转动。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述夹具还包括齿轮10，所述齿轮10安装在所述第二吸气箱5上；所述驱动件为第一齿条7，所述第一齿条7沿所述传送机构的移动方向布置，所述第一齿条7与所述齿轮10啮合。
在利用传送机构带动第一吸气箱4、第二吸气箱5移动时，当齿轮10与第一齿条7接触时，带动第二吸气箱5、吸附管6、晶圆J转动，对晶圆J进行匀胶处理。
虽然第二吸气箱5可以转动，但通过上述设置，依然可以对晶圆J进行吸附。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述烘干区包括第一烘干区B、第二烘干区C，所述第一烘干区B、所述第二烘干区C沿所述传送机构的移动方向依次布置，所述第二烘干区内的温度大于所述第一烘干区内的温度。通过设置不同的温度，对进行逐渐进行加热烘干处理，保证晶圆J因受热而产生的应力得到释放均匀的释放，避免产生翘曲、开裂。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该设备还包括第二齿条8，所述第二齿条8位于所述第一烘干区，所述第二齿条8沿所述传送机构的移动方向布置，所述第二齿条8与所述齿轮10啮合。在晶圆J进入第一烘干区时，当齿轮10与第二齿条8啮合时，带动齿轮10、第二吸气箱5、晶圆J转动，提高烘干均匀性。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，设备还包括第三齿条9，所述第三齿条9位于所述第二烘干区，所述第三齿条9沿所述传送机构的移动方向布置，所述第三齿条9与所述齿轮10啮合。在晶圆J进入第二烘干区时，当齿轮10与第二齿条8啮合时，带动齿轮10、第三吸气箱、晶圆J转动，提高烘干均匀性。
进一步的，所述烘干机构包括两个烘干组件，两个烘干组件分别位于所述第一烘干区、所述第二烘干区，所述烘干组件包括：
一供气机构11；多个出气管12，沿所述传送机构的移动方向间隔布置，且与所述供气机构11连通；其中，
位于所述第二烘干区内的出气管12的数量多余位于所述第一烘干区内的出气管12的数量。
可以利用供气机构11、出气管12通入热风，对晶圆J烘干处理。当然也可以采取其它烘干方式。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述传送机构包括：
一支架13；两个支撑轮14，间隔安装在所述支架13上；一电机15，与一个所述支撑轮14传动连接；一传送带16，安装在两个所述支撑轮14上，其中，所述传送带16上间隔安装有多个通孔1601；其中，所述第一吸气箱4安装在所述传送带16上，所述第一吸气箱4、所述第二吸气箱5均呈环状布置。
利用电机15带动支撑轮14、传送带16转动，带动夹具、晶圆J移动。
通过设置通孔1601，让所述第一吸气箱4、所述第二吸气箱5均呈环状布置，方便空气对晶圆J的下表面进行烘干，提高效率，提高均匀性。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，包括：
一传送机构；
多个夹具，沿所述传送机构的移动方向间隔设置在所述传送机构上；
沿所述传送机构的移动方向设置有滴胶区、烘干区；
一滴胶机构，位于所述滴胶区，布置于所述夹具的上方；
一烘干机构，位于所述烘干区，布置于所述夹具的上方，沿所述传送机构的移动方向，所述烘干机构位于所述滴胶机构的下游侧。
2.根据权利要求1所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，所述滴胶机构包括：
一供液箱；
多个滴胶管，沿一圆周方向均匀分布，位于所述夹具的上方，并均与所述供液箱连通。
3.根据权利要求1所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，所述夹具包括：
一吸气机构，设置在所述传送机构上；
一第一吸气箱，设置在所述传送机构上，与所述吸气机构连接；
一第二吸气箱，设置在所述第一吸气箱并与所述第一吸气箱连通；
三个吸附管，沿一旋转方向均匀间隔安装在所述第二吸气箱上，并与所述第二吸气箱连通。
4.根据权利要求3所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，所述第二吸气箱与所述第一吸气箱转动连接；
该设备还包括驱动件，所述驱动件位于所述滴胶区，所述驱动件用于带动所述第二吸气箱转动。
5.根据权利要求4所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，所述夹具还包括齿轮，所述齿轮安装在所述第二吸气箱上；
所述驱动件为第一齿条，所述第一齿条沿所述传送机构的移动方向布置，所述第一齿条与所述齿轮啮合。
6.根据权利要求5所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，所述烘干区包括第一烘干区、第二烘干区，所述第一烘干区、所述第二烘干区沿所述传送机构的移动方向依次布置，所述第二烘干区内的温度大于所述第一烘干区内的温度。
7.根据权利要求6所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，该设备还包括第二齿条，所述第二齿条位于所述第一烘干区，所述第二齿条沿所述传送机构的移动方向布置，所述第二齿条与所述齿轮啮合。
8.根据权利要求6所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，设备还包括第三齿条，所述第三齿条位于所述第二烘干区，所述第三齿条沿所述传送机构的移动方向布置，所述第三齿条与所述齿轮啮合。
9.根据权利要求6所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，所述烘干机构包括两个烘干组件，两个烘干组件分别位于所述第一烘干区、所述第二烘干区，所述烘干组件包括：
一供气机构；
多个出气管，沿所述传送机构的移动方向间隔布置，且与所述供气机构连通；其中，
位于所述第二烘干区内的出气管的数量多余位于所述第一烘干区内的出气管的数量。
10.根据权利要求3所述的用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，其特征在于，所述传送机构包括：
一支架；
两个支撑轮，间隔安装在所述支架上；
一电机，与一个所述支撑轮传动连接；
一传送带，安装在两个所述支撑轮上，其中，所述传送带上间隔安装有多个通孔；其中，
所述第一吸气箱安装在所述传送带上，所述第一吸气箱、所述第二吸气箱均呈环状布置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210089724.2A CN114460811B (zh) | 2022-01-25 | 2022-01-25 | 一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN202210089724.2A CN114460811B (zh) | 2022-01-25 | 2022-01-25 | 一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| CN114460811B CN114460811B (zh) | 2024-09-06 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114460811B (zh) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |