CN114326321A - 一种western blot条带辅助曝光装置 - Google Patents
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Abstract
一种western blot条带辅助曝光装置,涉及试验设备领域,包括:曝光板底板;第一遮挡板,滑动设置于所述曝光板底板之上;以及第二遮挡板,滑动设置于所述曝光板底板之上;其中,通过调整所述第一遮挡板和所述第二遮挡板的位置以调整对置于所述曝光板底板上的western blot条带的曝光区域。该western blot条带辅助曝光装置用于遮挡western blot条带高信号部分,辅助曝光,提高试验效率。
Description
技术领域
本发明涉及试验设备领域,具体而言,涉及一种western blot条带辅助曝光装置。
背景技术
科研试验中,常常会出现western blot条带曝光时个别条带信号过高,或者marker曝光过于明显导致其他泳道的条带无法检测到的情况,通常研究人员会选择剪掉部分高信号条带或是利用锡纸遮挡再进行进一步曝光,这些方法都不够便捷,且剪掉部分条带大大破坏了western blot条带的完整性,不利于保存完整的原始结果。
发明内容
本发明的目的在于提供一种western blot条带辅助曝光装置,以解决以上问题。
本发明的实施例是这样实现的:
本发明实施例的一方面,提供一种western blot条带辅助曝光装置,包括:
曝光板底板;
第一遮挡板,滑动设置于所述曝光板底板之上;以及
第二遮挡板,滑动设置于所述曝光板底板之上;
其中,通过调整所述第一遮挡板和所述第二遮挡板的位置以调整对置于所述曝光板底板上的western blot条带的曝光程度。
可选地,所述曝光板底板上形成有曝光液收集槽。
可选地,所述曝光板底板上具有第一遮挡板滑轨,所述第一遮挡板与所述第一遮挡板滑轨滑动连接。
可选地,所述第一遮挡板与所述第一遮挡板滑轨通过第一卡扣和第一连接柱连接配合。
可选地,所述曝光板底板上具有第二遮挡板滑轨,所述第二遮挡板与所述第二遮挡板滑轨滑动连接。
可选地,所述第二遮挡板与所述第二遮挡板滑轨通过第二卡扣和第二连接柱连接配合。
可选地,所述第一遮挡板为不透光的板材。
可选地,所述第二遮挡板为不透光的板材。
可选地,所述曝光板底板上设有刻度尺。
本发明实施例所提供的western blot条带辅助曝光装置用于遮挡western blot条带高信号部分,辅助曝光,提高试验效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明一实施例western blot条带辅助曝光装置主视方向的结构示意图;
图2为本发明一实施例western blot条带辅助曝光装置侧视方向的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外,术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂,而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平,并不是表示该结构一定要完全水平,而是可以稍微倾斜。
在本发明的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请结合参考图1和图2,本实施例提供一种western blot条带辅助曝光装置,包括:曝光板底板1,第一遮挡板以及第二遮挡板。以下称第一遮挡板以及第二遮挡板分别为大遮挡板4和小遮挡板8。
大遮挡板4滑动设置于所述曝光板底板1之上。小遮挡板8滑动设置于所述曝光板底板1之上;其中,通过调整所述大遮挡板4和所述小遮挡板8的位置以调整对置于所述曝光板底板1上的western blot条带的曝光区域。
以下进行详细说明:
该western blot条带辅助曝光装置整体由亚克力(又叫PMMA或有机玻璃,源自英文acrylic(丙烯酸塑料),化学名称为聚甲基丙烯酸甲酯。是一种开发较早的重要可塑性高分子材料,具有较好的透明性、化学稳定性和耐候性、易染色、易加工、外观优美,在建筑业中有着广泛应用。有机玻璃产品通常可以分为浇注板、挤出板和模塑料。)构成,包括曝光板底板1,曝光液收集槽2,曝光板底脚3,大遮挡板4(不透光),大遮挡板连接柱5,大遮挡板卡扣6,大遮挡板滑轨7,小遮挡板8(不透光),小遮挡板卡扣9,小遮挡板连接柱10,小遮挡板滑轨11。
其大遮挡板4和小遮挡板8均不透光。曝光板底板1上设有刻度尺、大遮挡板滑轨7、小遮挡板滑轨11和曝光液收集槽2,曝光板底脚3位于曝光板底板1四角呈矮圆柱形,大遮挡板4(左右各一,不透光)与大遮挡板连接柱5及大遮挡板卡扣6相连卡于大遮挡板滑轨7中可以自由左右滑动,小遮挡板8(上下各一,不透光)低于大遮挡板4更贴近曝光板底板1与小遮挡板卡扣9及小遮挡板连接柱10相连卡于小遮挡板滑轨11中可以自由上下滑动。
当需要进行高信号遮挡时,根据实际情况参考标尺,选择滑动上下左右大小遮挡板实施遮挡再进行二次曝光,完成曝光后将该发明稍倾斜使曝光液流入曝光液收集槽2中进行曝光液收集即可。
通过设置不同方向遮挡板,当需要进行去高信号条带处理时,根据具体情况滑动上下左右四个遮挡板于最适位置,即可实现有效的遮挡,当完成曝光后微微侵倾斜曝光装置即可将曝光液聚集于曝光液收集槽2中进行回收利用。
使用本申请western blot条带辅助曝光装置进行遮挡western blot条的带高信号部分,可以更加便捷,辅助曝光,提高试验效率,同时其配有曝光液收集装置可以更好更快的完成曝光液的收集,于此同时曝光板上附有标尺有利于曝光时进行参考,该发明是一项集比对、遮挡、曝光液收集功能于一体的辅助曝光装置,便捷而实用。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,包括:
曝光板底板;
第一遮挡板,滑动设置于所述曝光板底板之上;以及
第二遮挡板,滑动设置于所述曝光板底板之上;
其中,通过调整所述第一遮挡板和所述第二遮挡板的位置以调整对置于所述曝光板底板上的western blot条带的曝光区域。
2.根据权利要求1所述的western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,所述曝光板底板上形成有曝光液收集槽。
3.根据权利要求1所述的western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,所述曝光板底板上具有第一遮挡板滑轨,所述第一遮挡板与所述第一遮挡板滑轨滑动连接。
4.根据权利要求3所述的western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,所述第一遮挡板与所述第一遮挡板滑轨通过第一卡扣和第一连接柱连接配合。
5.根据权利要求1所述的western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,所述曝光板底板上具有第二遮挡板滑轨,所述第二遮挡板与所述第二遮挡板滑轨滑动连接。
6.根据权利要求5所述的western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,所述第二遮挡板与所述第二遮挡板滑轨通过第二卡扣和第二连接柱连接配合。
7.根据权利要求1所述的western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,所述第一遮挡板为不透光的板材。
8.根据权利要求1所述的western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,所述第二遮挡板为不透光的板材。
9.根据权利要求1所述的western blot条带辅助曝光装置,其特征在于,所述曝光板底板上设有刻度尺。
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Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0536589A (ja) * | 1991-07-26 | 1993-02-12 | Canon Inc | X線露光方法およびその装置 |
JPH0737775A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-02-07 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ描画装置 |
JP2001044099A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-16 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2006285199A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-10-19 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
JP2008203326A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2009158986A (ja) * | 2009-04-15 | 2009-07-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び基板製造方法 |
CN101681116A (zh) * | 2007-11-08 | 2010-03-24 | 株式会社尼康 | 移动体装置、图案形成装置及曝光装置、以及元件制造方法 |
CN102902167A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-01-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种检测光刻机的掩模板遮光板精度的方法 |
CN104541208A (zh) * | 2012-07-09 | 2015-04-22 | 株式会社尼康 | 驱动系统和驱动方法、以及曝光装置和曝光方法 |
CN105573059A (zh) * | 2014-09-22 | 2016-05-11 | 力晶科技股份有限公司 | 曝光机台的遮光装置 |
CN205914030U (zh) * | 2016-07-26 | 2017-02-01 | 孔德光 | 一种洗膜盒 |
CN107065445A (zh) * | 2017-01-22 | 2017-08-18 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种曝光装置 |
CN207408417U (zh) * | 2017-10-31 | 2018-05-25 | 长江大学 | 一种蛋白质印迹曝光盒 |
CN211978935U (zh) * | 2020-03-17 | 2020-11-20 | 广州奕昕生物科技有限公司 | 在Western Blot中配合化学发光成像系统的辅助曝光盒子 |
CN113176712A (zh) * | 2021-04-25 | 2021-07-27 | 上海图双精密装备有限公司 | 一种适于接触式光刻机的曝光装置 |
CN213934539U (zh) * | 2021-01-05 | 2021-08-10 | 苏州微影激光技术有限公司 | 直写曝光机 |
CN113267957A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-08-17 | 上海华力微电子有限公司 | 掩模板及监控遮光板位置的方法 |
-
2021
- 2021-12-13 CN CN202111519752.5A patent/CN114326321A/zh active Pending
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0536589A (ja) * | 1991-07-26 | 1993-02-12 | Canon Inc | X線露光方法およびその装置 |
JPH0737775A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-02-07 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ描画装置 |
JP2001044099A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-16 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2006285199A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-10-19 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
JP2008203326A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Nsk Ltd | 露光装置 |
CN101681116A (zh) * | 2007-11-08 | 2010-03-24 | 株式会社尼康 | 移动体装置、图案形成装置及曝光装置、以及元件制造方法 |
JP2009158986A (ja) * | 2009-04-15 | 2009-07-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び基板製造方法 |
CN104541208A (zh) * | 2012-07-09 | 2015-04-22 | 株式会社尼康 | 驱动系统和驱动方法、以及曝光装置和曝光方法 |
CN102902167A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-01-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种检测光刻机的掩模板遮光板精度的方法 |
CN105573059A (zh) * | 2014-09-22 | 2016-05-11 | 力晶科技股份有限公司 | 曝光机台的遮光装置 |
CN205914030U (zh) * | 2016-07-26 | 2017-02-01 | 孔德光 | 一种洗膜盒 |
CN107065445A (zh) * | 2017-01-22 | 2017-08-18 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种曝光装置 |
CN207408417U (zh) * | 2017-10-31 | 2018-05-25 | 长江大学 | 一种蛋白质印迹曝光盒 |
CN211978935U (zh) * | 2020-03-17 | 2020-11-20 | 广州奕昕生物科技有限公司 | 在Western Blot中配合化学发光成像系统的辅助曝光盒子 |
CN213934539U (zh) * | 2021-01-05 | 2021-08-10 | 苏州微影激光技术有限公司 | 直写曝光机 |
CN113176712A (zh) * | 2021-04-25 | 2021-07-27 | 上海图双精密装备有限公司 | 一种适于接触式光刻机的曝光装置 |
CN113267957A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-08-17 | 上海华力微电子有限公司 | 掩模板及监控遮光板位置的方法 |
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