CN114296297A - 一种手机镜头遮光片通光孔内孔壁消光方法 - Google Patents
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- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims abstract description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical group [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims description 5
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 claims description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 8
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003738 black carbon Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
本发明涉及一种镜头内起到遮光作用的光学元件，尤其涉及遮光片内孔壁通光孔消光方法。步骤一：去离子水清洗遮光片；步骤二：将碱性蚀刻液与表面活性剂混匀，对遮光片通光孔内孔壁的PET层及碳涂层进行消光蚀刻处理；步骤三：对步骤二处理后的遮光片进行酸洗和超声清洗；步骤四：对步骤三处理后的遮光片进行烘干处理。通过本发明所述消光方法对手机镜头遮光片通光孔内孔壁进行消光处理，通光孔内孔壁表面凹坑均匀，可同时对PET层和碳涂层进行消光处理，处理时间短且效率高。
Description
技术领域
本发明涉及一种镜头内起到遮光作用的光学元件，尤其涉及遮光片内孔壁通光孔消光方法。
背景技术
遮光片为智能手机镜头内可以控制光量的黑色圆环薄片，镶嵌于镜头内起到遮光的作用。遮光片包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)和涂覆于PET层相对两表面的黑色碳涂层，在生产裁切的过程中，其通光孔内孔壁平整光滑。当手机镜头利用小孔成像的原理进行拍照时，外界光线会通过遮光片中间的圆形通光孔，一部分杂光被黑色遮光片吸收，其他杂光会照射在遮光片光滑的内孔壁上，发生镜面反射作用，干扰拍照效果，使照片上出现白点、色差等光晕现象。
目前公开的遮光片消光专利中，针对遮光片消光通光孔内孔壁消光的方法分为两大类。通过将遮光片通光孔内孔壁表面斜面化处理、或在内孔壁设置消光波纹；另一种是通过碱性溶液对遮光片通光孔内孔壁的PET层进行处理，再通过甲醇和丙酮混合液对遮光片通光孔内孔壁碳涂层进行处理，以此来达到消光的效果。这两种方法皆能使遮光片达到消光效果，但消光效果并不完全，且制作工艺制作复杂，作业难度大，实验条件要求较高。因此有必要重新提出一种新的消光方法。
发明内容
本发明基于在高温条件下碱性溶液添加表面性活性剂对遮光片通光孔内孔壁进行消光处理，使遮光片通光孔内孔壁的中间基材以及上下碳层表面形成凹凸雾面状态，使原本通光孔内孔壁上发生的镜面反射转变成光散射，避免进入成像面，对手机拍摄造成干扰。
为实现上述目的，本发明提供一种手机镜头遮光片通光孔内孔壁消光方法，所述方法包括以下步骤：
步骤一：去离子水清洗遮光片；
步骤二：将碱性蚀刻液与表面活性剂混匀，对遮光片通光孔内孔壁的PET层及碳涂层进行消光蚀刻处理；
步骤三：对步骤二处理后的遮光片进行酸洗和超声清洗；
步骤四：对步骤三处理后的遮光片进行烘干处理。
上述技术方案中，进一步地，所述步骤二中碱性蚀刻液与表面活性剂的质量比为20：1。
上述技术方案中，进一步地，所述步骤二中遮光片消光蚀刻的温度为65～70℃，反应过程中温度恒定。
上述技术方案中，进一步地，所述步骤二中遮光片消光蚀刻反应在匀速搅拌下进行，搅拌速度为20～40r/min。
上述技术方案中，进一步地，所述步骤二中遮光片消光蚀刻反应时间为10～30min。
上述技术方案中，进一步地，所述步骤二中碱性蚀刻液为氢氧化钠溶液，其浓度为10～30％，表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠。
上述技术方案中，进一步地，所述步骤三中酸洗液为硫酸，其浓度为2～4％，酸洗时间为0.5～1min。
上述技术方案中，进一步地，所述步骤四中遮光片烘干温度为50～70℃。
本发明与现有技术相比，具有以下有益效果：
本发明手机镜头遮光片通光孔内孔壁消光方法工艺简单、易操作、处理时间短且效率高，处理后的遮光片遮光效果更强，杂光更不易进入到成像面上。
本发明通过氢氧化钠碱性溶液，并添加阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠，可使遮光片通光孔内孔壁表面所呈现出的雾面更加均匀且反应速率快，不会对遮光片表面碳涂层造成损伤，对遮光片通光孔内孔壁的中间基材PET层以及碳涂层部分形成均匀的凹坑，有良好的雾化效果，并达到消光的目的。
附图说明
图1为本发明遮光片截面图；
图中，1、PET层，2、碳涂层；
图2为本发明消光方法处理后的遮光片通光孔内孔壁表面电子扫描显微镜图像。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例的，仅用于解释本发明，而不能解释为对本发明的限制。
(1)去离子水清洗遮光片；
(2)配制浓度为15％的氢氧化钠溶液，加入十二烷基苯磺酸钠，氢氧化钠溶液与十二烷基苯磺酸钠的质量比为20：1，对遮光片通光孔内孔壁的PET层及碳涂层进行消光蚀刻处理，水浴加热温度控制在70℃恒温，反应过程中匀速搅拌，速率为20r/min；
(3)配制3％硫酸溶液，对步骤(2)中处理后的遮光片进行酸洗1min，酸洗结束后在进行超声波水洗；
(4)对步骤(3)中的遮光片进行烘干，烘干温度为60℃。
以上所述仅为本发明的实施方式，并不用于限制本发明。对于本领域的技术人员来说，本发明可以有更改和变换。凡在本发明的精神原则范围内所做的任何改变、变化或等同替换等都应包括在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种手机镜头遮光片通光孔内孔壁消光方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：
步骤一：去离子水清洗遮光片；
步骤二：将碱性蚀刻液与表面活性剂混匀，对遮光片通光孔内孔壁的PET层及碳涂层进行消光蚀刻处理；
步骤三：对步骤二处理后的遮光片进行酸洗和超声清洗；
步骤四：对步骤三处理后的遮光片进行烘干处理。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤二中碱性蚀刻液与表面活性剂的质量比为20：1。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤二中遮光片消光蚀刻的温度为65～70℃，反应过程中温度恒定。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤二中遮光片消光蚀刻反应在匀速搅拌下进行，搅拌速度为20～40r/min。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤二中遮光片消光蚀刻反应时间为10～30min。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤二中碱性蚀刻液为氢氧化钠溶液，其浓度为10～30％，表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤三中酸洗液为硫酸，其浓度为2～4％，酸洗时间为0.5～1min。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤四中遮光片烘干温度为50～70℃。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210006706.3A CN114296297A (zh) | 2022-01-05 | 2022-01-05 | 一种手机镜头遮光片通光孔内孔壁消光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| CN202210006706.3A CN114296297A (zh) | 2022-01-05 | 2022-01-05 | 一种手机镜头遮光片通光孔内孔壁消光方法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN114296297A (zh) |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101173355A (zh) * | 2006-10-31 | 2008-05-07 | 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司 | 一种变形镁合金直接涂装处理方法 |
| CN104073856A (zh) * | 2014-06-26 | 2014-10-01 | 深圳惠科精密工业有限公司 | 一种金属件的氧化方法 |
| CN104303317A (zh) * | 2012-05-11 | 2015-01-21 | 和光纯药工业株式会社 | 蚀刻液和使用了该蚀刻液的硅系基板的制造方法 |
| CN109295354A (zh) * | 2018-12-06 | 2019-02-01 | 广东省材料与加工研究所 | 一种高强度铝合金的阳极氧化液及氧化方法和应用 |
| CN109343295A (zh) * | 2018-02-08 | 2019-02-15 | 江门市联超光电有限公司 | 镜头遮光片消光方法及其消光遮光片 |
| CN208780965U (zh) * | 2018-02-08 | 2019-04-23 | 江门市联超光电有限公司 | 镜头用消光遮光片 |
| CN109713086A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-05-03 | 北京合德丰材料科技有限公司 | 一种非金属黑硅制绒液以及利用该制绒液进行制绒的方法 |
| CN109960089A (zh) * | 2017-12-22 | 2019-07-02 | 可元株式会社 | 减少了光晕现象的相机透镜用间隔件及其制造方法 |
| US20200132986A1 (en) * | 2018-10-31 | 2020-04-30 | Platinum Optics Technology Inc. | Light shielding sheet |
| CN111893488A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-11-06 | 深圳市乾行达科技有限公司 | 蚀刻液及其制备方法 |
| CN112323069A (zh) * | 2020-11-04 | 2021-02-05 | 合肥微睿光电科技有限公司 | 一种碱性蚀刻药液及其制备方法 |
| CN113336448A (zh) * | 2021-05-18 | 2021-09-03 | 江西欧迈斯微电子有限公司 | 玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法 |
| WO2021190410A1 (zh) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | 维沃移动通信有限公司 | 消光结构及其制备方法、光学模组和电子设备 |
-
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Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101173355A (zh) * | 2006-10-31 | 2008-05-07 | 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司 | 一种变形镁合金直接涂装处理方法 |
| CN104303317A (zh) * | 2012-05-11 | 2015-01-21 | 和光纯药工业株式会社 | 蚀刻液和使用了该蚀刻液的硅系基板的制造方法 |
| CN104073856A (zh) * | 2014-06-26 | 2014-10-01 | 深圳惠科精密工业有限公司 | 一种金属件的氧化方法 |
| CN109960089A (zh) * | 2017-12-22 | 2019-07-02 | 可元株式会社 | 减少了光晕现象的相机透镜用间隔件及其制造方法 |
| CN109343295A (zh) * | 2018-02-08 | 2019-02-15 | 江门市联超光电有限公司 | 镜头遮光片消光方法及其消光遮光片 |
| CN208780965U (zh) * | 2018-02-08 | 2019-04-23 | 江门市联超光电有限公司 | 镜头用消光遮光片 |
| US20200132986A1 (en) * | 2018-10-31 | 2020-04-30 | Platinum Optics Technology Inc. | Light shielding sheet |
| CN109295354A (zh) * | 2018-12-06 | 2019-02-01 | 广东省材料与加工研究所 | 一种高强度铝合金的阳极氧化液及氧化方法和应用 |
| CN109713086A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-05-03 | 北京合德丰材料科技有限公司 | 一种非金属黑硅制绒液以及利用该制绒液进行制绒的方法 |
| WO2021190410A1 (zh) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | 维沃移动通信有限公司 | 消光结构及其制备方法、光学模组和电子设备 |
| CN111893488A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-11-06 | 深圳市乾行达科技有限公司 | 蚀刻液及其制备方法 |
| CN112323069A (zh) * | 2020-11-04 | 2021-02-05 | 合肥微睿光电科技有限公司 | 一种碱性蚀刻药液及其制备方法 |
| CN113336448A (zh) * | 2021-05-18 | 2021-09-03 | 江西欧迈斯微电子有限公司 | 玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法 |
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