CN114276125A - 一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法 - Google Patents
一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114276125A CN114276125A CN202210048917.3A CN202210048917A CN114276125A CN 114276125 A CN114276125 A CN 114276125A CN 202210048917 A CN202210048917 A CN 202210048917A CN 114276125 A CN114276125 A CN 114276125A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- rock plate
- glaze
- parts
- oxide
- carved
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011435 rock Substances 0.000 title claims abstract description 93
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 32
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 claims abstract description 17
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- 239000011449 brick Substances 0.000 claims description 30
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 claims description 21
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 18
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 17
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 238000003837 high-temperature calcination Methods 0.000 claims description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 8
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 8
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 7
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 7
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 7
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 210000001161 mammalian embryo Anatomy 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000009395 breeding Methods 0.000 description 1
- 230000001488 breeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
本发明公开了一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁通过搅拌器混合均匀，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料，该具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，通过该方法制备岩板，过程简单，较为制备，并且在对其进行雕刻纹理时，通过雕刻机进行雕刻，可将需要图案通过雕刻机雕刻出来，从而避免一个模板一个纹理的现象，使操作更加简单，并且通过数码施釉，使工作的过程更加简单。
Description
技术领域
本发明涉及岩板技术领域，具体为一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法。
背景技术
岩板，是由天然原料经过特殊工艺，借助万吨以上压机压制，结合先进的生产技术，经过1200℃以上高温烧制而成，能够经得起切割、钻孔、打磨等加工过程的超大规格新型瓷质材料。
陶瓷岩板主要用于家居、厨房板材领域。作为家居领域的新物种，岩板家居相比其他家居产品，具有规格大、可塑造性强、花色多样、耐高温、耐磨刮、防渗透、耐酸碱、零甲醛、环保健康等特性。
而岩板具有的优点为安全卫生：能与食物直接接触，纯天然的选材，100％可回收，无毒害无辐射的同时，又全面考虑人类可持续发展的需求，健康环保；防火耐高温：直接接触高温物体不会变形，A1级防火性能的岩板，遇到2000℃的明火不产生任何物理变化，也不会散发任何气体或气味；万分之一的渗水率是人造建材界的一个新指标，污渍无法渗透的同时也不给细菌滋生空间等优点。
但是现有的岩板在使用中通常存在以下不足，比如；
现有的岩板在对其进行压制纹理时较为麻烦，通常是一个模板一种纹理，从而在实际操作过程中较为复杂，不便于进行使用。
所以我们提出了一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，以便于解决上述中提出的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，以解决上述背景技术提出的现有的岩板在对其进行压制纹理时较为麻烦，通常是一个模板一种纹理，从而在实际操作过程中较为复杂，不便于进行使用的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种具有纹理数码精雕釉的岩板，其原料包括以下重量数配比：氧化硅：20-30份、氧化铝：25-35份、氧化钠：5-10份、氧化钾：5-10份、二氧化钛：5-10份、氧化钙：10-15份、氧化铁：10-15份、锆英砂：1-5份、氧化镁：1-5份、氧化锌：1-5份。
一种具有纹理数码精雕釉的岩板的制备方法，具体包括以下步骤：
步骤一：选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁等通过搅拌器混合均匀，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料；
步骤二：将步骤一中的岩板粉料通过压砖机进行成型，之后对其进行干燥，然后得到胚体，之后在对胚体进行施底釉，从而得到底釉层，之后在通过多通道进行精准对位打印，得到印花层和数码精雕釉，从而得到岩板半成品，在对其进行施加保护釉；
步骤三：将步骤二中的岩板半成品放入砖坯内部进行高温煅烧，在对其进行抛釉、磨边等工序，从而能够得到具有纹理数码精雕釉。
优选的，所述步骤一中搅拌机搅拌时间为15-25min。
优选的，所述步骤二中对其进行干燥，且干燥时间为20-25min，并且干燥温度为180-200℃。
优选的，所述精雕出的纹理高度最高点与最低点的距离为0.4mm。
优选的，所述步骤二中对其进行施釉的厚度为1mm。
优选的，所述步骤二中对其进行施釉的厚度为1mm。
优选的，所述步骤三中将半成品放入砖坯内部进行煅烧时，其温度为1200-1300℃。
优选的，所述步骤三中高温煅烧时间为100-110min。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：该具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法；
通过该方法制备岩板，过程简单，较为制备，并且在对其进行雕刻纹理时，通过雕刻机进行雕刻，可将需要图案通过雕刻机雕刻出来，从而避免一个模板一个纹理的现象，使操作更加简单，并且通过数码施釉，使工作的过程更加简单，并且加入不同效果的数码精雕釉，不仅打印精度高，且可以做到随机打印，随机套印。在同一片砖上实现亮与哑结合，增加立体感。精密光感控制，视觉柔和舒适，形成别具一格的视觉效果。1200℃高温慢烧，耐磨抗污同时增加产品的耐磨、防污、防滑的效果。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一
本发明提供一种技术方案：一种具有纹理数码精雕釉的岩板，其原料包括以下重量数配比：氧化硅：20份、氧化铝：25份、氧化钠：5份、氧化钾：5份、二氧化钛：5份、氧化钙：10份、氧化铁：10份、锆英砂：1份、氧化镁：1份、氧化锌：1份。
一种具有纹理数码精雕釉的岩板的制备方法，具体包括以下步骤：
步骤一：选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁通过搅拌器混合均匀，且搅拌机搅拌时间为15min，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料；
步骤二：将步骤一中的岩板粉料通过压砖机进行成型，之后对其进行干燥，且干燥时间为20min，并且干燥温度为180℃，然后得到胚体，而得到的胚体强度为3.5Mpa，通过多通道精准对位打印，可以在同一片砖上实现亮与哑结合，增加立体感。不仅打印精度高，且可以做到随机打印，随机套印，且精雕出的纹理高度最高点与最低点的距离为0.4mm，再然后对其进行数码喷墨与数码施釉，且对其进行施釉的厚度为1mm，从而得到岩板半成品；
步骤三：将步骤二中的岩板半成品放入砖坯内部进行高温煅烧，且半成品放入砖坯内部进行煅烧时，其温度为1200℃，而高温煅烧时间为100min，在对其进行抛釉、磨边等工序，从而能够得到具有纹理数码精雕釉。
实施例二
本发明提供一种技术方案：一种具有纹理数码精雕釉的岩板，其原料包括以下重量数配比：氧化硅：22份、氧化铝：27份、氧化钠：6份、氧化钾：6份、二氧化钛：6份、氧化钙：11份、氧化铁：11份、锆英砂：2份、氧化镁：2份、氧化锌：2份。
一种具有纹理数码精雕釉的岩板的制备方法，具体包括以下步骤：
步骤一：选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁通过搅拌器混合均匀，且搅拌机搅拌时间为17min，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料；
步骤二：将步骤一中的岩板粉料通过压砖机进行成型，之后对其进行干燥，且干燥时间为21min，并且干燥温度为184℃，然后得到胚体，而得到的胚体强度为3.6Mpa，通过多通道精准对位打印，可以在同一片砖上实现亮与哑结合，增加立体感。不仅打印精度高，且可以做到随机打印，随机套印，且精雕出的纹理高度最高点与最低点的距离为0.4mm，再然后对其进行数码喷墨与数码施釉，且对其进行施釉的厚度为1mm，从而得到岩板半成品；
步骤三：将步骤二中的岩板半成品放入砖坯内部进行高温煅烧，且半成品放入砖坯内部进行煅烧时，其温度为1220℃，而高温煅烧时间为102min，在对其进行抛釉、磨边等工序，从而能够得到具有纹理数码精雕釉。
实施例三
本发明提供一种技术方案：一种具有纹理数码精雕釉的岩板，其原料包括以下重量数配比：氧化硅：24份、氧化铝：29份、氧化钠：7份、氧化钾：7份、二氧化钛：7份、氧化钙：12份、氧化铁：12份、锆英砂：3份、氧化镁：3份、氧化锌：3份。
一种具有纹理数码精雕釉的岩板的制备方法，具体包括以下步骤：
步骤一：选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁通过搅拌器混合均匀，且搅拌机搅拌时间为19min，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料；
步骤二：将步骤一中的岩板粉料通过压砖机进行成型，之后对其进行干燥，且干燥时间为22min，并且干燥温度为188℃，然后得到胚体，而得到的胚体强度为3.7Mpa，通过多通道精准对位打印，可以在同一片砖上实现亮与哑结合，增加立体感。不仅打印精度高，且可以做到随机打印，随机套印，且精雕出的纹理高度最高点与最低点的距离为0.4mm，再然后对其进行数码喷墨与数码施釉，且对其进行施釉的厚度为1mm，从而得到岩板半成品；
步骤三：将步骤二中的岩板半成品放入砖坯内部进行高温煅烧，且半成品放入砖坯内部进行煅烧时，其温度为1240℃，而高温煅烧时间为104min，在对其进行抛釉、磨边等工序，从而能够得到具有纹理数码精雕釉。
实施例四
本发明提供一种技术方案：一种具有纹理数码精雕釉的岩板，其原料包括以下重量数配比：氧化硅：26份、氧化铝：31份、氧化钠：8份、氧化钾：8份、二氧化钛：8份、氧化钙：13份和氧化铁：13份。
一种具有纹理数码精雕釉的岩板的制备方法，具体包括以下步骤：
步骤一：选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁通过搅拌器混合均匀，且搅拌机搅拌时间为21min，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料；
步骤二：将步骤一中的岩板粉料通过压砖机进行成型，之后对其进行干燥，且干燥时间为23min，并且干燥温度为192℃，然后得到胚体，而得到的胚体强度为3.8Mpa，通过多通道精准对位打印，可以在同一片砖上实现亮与哑结合，增加立体感。不仅打印精度高，且可以做到随机打印，随机套印，且精雕出的纹理高度最高点与最低点的距离为0.4mm，再然后对其进行数码喷墨与数码施釉，且对其进行施釉的厚度为1mm，从而得到岩板半成品；
步骤三：将步骤二中的岩板半成品放入砖坯内部进行高温煅烧，且半成品放入砖坯内部进行煅烧时，其温度为1260℃，而高温煅烧时间为106min，在对其进行抛釉、磨边等工序，从而能够得到具有纹理数码精雕釉。
实施例五
本发明提供一种技术方案：一种具有纹理数码精雕釉的岩板，其原料包括以下重量数配比：氧化硅：28份、氧化铝：33份、氧化钠：9份、氧化钾：9份、二氧化钛：9份、氧化钙：14份、氧化铁：14份、锆英砂：4份、氧化镁：4份、氧化锌：4份。
一种具有纹理数码精雕釉的岩板的制备方法，具体包括以下步骤：
步骤一：选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁通过搅拌器混合均匀，且搅拌机搅拌时间为23min，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料；
步骤二：将步骤一中的岩板粉料通过压砖机进行成型，之后对其进行干燥，且干燥时间为24min，并且干燥温度为196℃，然后得到胚体，而得到的胚体强度为3.9Mpa，通过多通道精准对位打印，可以在同一片砖上实现亮与哑结合，增加立体感。不仅打印精度高，且可以做到随机打印，随机套印，且精雕出的纹理高度最高点与最低点的距离为0.4mm，再然后对其进行数码喷墨与数码施釉，且对其进行施釉的厚度为1mm，从而得到岩板半成品；
步骤三：将步骤二中的岩板半成品放入砖坯内部进行高温煅烧，且半成品放入砖坯内部进行煅烧时，其温度为1280℃，而高温煅烧时间为108min，在对其进行抛釉、磨边等工序，从而能够得到具有纹理数码精雕釉。
实施例六
本发明提供一种技术方案：一种具有纹理数码精雕釉的岩板，其原料包括以下重量数配比：氧化硅：30份、氧化铝：35份、氧化钠：10份、氧化钾：10份、二氧化钛：10份、氧化钙：15份、氧化铁：15份、锆英砂：5份、氧化镁：5份、氧化锌：5份。
一种具有纹理数码精雕釉的岩板的制备方法，具体包括以下步骤：
步骤一：选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁通过搅拌器混合均匀，且搅拌机搅拌时间为25min，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料；
步骤二：将步骤一中的岩板粉料通过压砖机进行成型，之后对其进行干燥，且干燥时间为25min，并且干燥温度为200℃，然后得到胚体，而得到的胚体强度为4.0Mpa，通过多通道精准对位打印，可以在同一片砖上实现亮与哑结合，增加立体感。不仅打印精度高，且可以做到随机打印，随机套印，且精雕出的纹理高度最高点与最低点的距离为0.4mm，再然后对其进行数码喷墨与数码施釉，且对其进行施釉的厚度为1mm，从而得到岩板半成品；
步骤三：将步骤二中的岩板半成品放入砖坯内部进行高温煅烧，且半成品放入砖坯内部进行煅烧时，其温度为1300℃，而高温煅烧时间为110min，在对其进行抛釉、磨边等工序，从而能够得到具有纹理数码精雕釉。
尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种具有纹理数码精雕釉的岩板，其特征在于：其原料包括以下重量数配比：氧化硅：20-30份、氧化铝：25-35份、氧化钠：5-10份、氧化钾：5-10份、二氧化钛：5-10份、氧化钙：10-15份、氧化铁：10-15份、锆英砂：1-5份、氧化镁：1-5份、氧化锌：1-5份。
2.一种具有纹理数码精雕釉的岩板的制备方法，其特征在于：具体包括以下步骤：
步骤一：选取相应比例的氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、二氧化钛、氧化钙和氧化铁等通过搅拌器混合均匀，之后加入适量的水，然后经过球磨细碎成粉，从而能够得到岩板粉料；
步骤二：将步骤一中的岩板粉料通过压砖机进行成型，之后对其进行干燥，然后得到胚体，之后在对胚体进行施底釉，从而得到底釉层，之后在通过多通道进行精准对位打印，得到印花层和数码精雕釉，从而得到岩板半成品，在对其进行施加保护釉；
步骤三：将步骤二中的岩板半成品放入砖坯内部进行高温煅烧，在对其进行抛釉、磨边等工序，从而能够得到具有纹理数码精雕釉。
3.根据权利要求2所述的一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，其特征在于：所述步骤一中搅拌机搅拌时间为15-25min。
4.根据权利要求2所述的一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，其特征在于：所述步骤二中对其进行干燥，且干燥时间为20-25min，并且干燥温度为180-200℃。
5.根据权利要求2所述的一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，其特征在于：所述精雕出的纹理高度最高点与最低点的距离为0.4mm。
6.根据权利要求2所述的一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，其特征在于：所述步骤二中对其进行施釉的厚度为1mm。
7.根据权利要求2所述的一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，其特征在于：所述步骤二中干燥之后的胚体强度为3.5-4.0Mpa。
8.根据权利要求2所述的一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，其特征在于：所述步骤三中将半成品放入砖坯内部进行煅烧时，其温度为1200-1300℃。
9.根据权利要求2所述的一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法，其特征在于：所述步骤三中高温煅烧时间为100-110min。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210048917.3A CN114276125A (zh) | 2022-01-17 | 2022-01-17 | 一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210048917.3A CN114276125A (zh) | 2022-01-17 | 2022-01-17 | 一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114276125A true CN114276125A (zh) | 2022-04-05 |
Family
ID=80881052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210048917.3A Pending CN114276125A (zh) | 2022-01-17 | 2022-01-17 | 一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114276125A (zh) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20130012387A (ko) * | 2011-07-25 | 2013-02-04 | 윤윤섭 | 입체문양이 표현된 상감 도자기의 제조방법 |
| KR20190109128A (ko) * | 2018-03-16 | 2019-09-25 | 이용희 | 청자 타일 및 그 제조방법 |
| CN112759358A (zh) * | 2021-01-26 | 2021-05-07 | 佛山市高明贝斯特陶瓷有限公司 | 一种具有雕刻纹理的岩板及其制备方法 |
| CN113619321A (zh) * | 2021-09-14 | 2021-11-09 | 广东嘉联企业陶瓷有限公司 | 一种3d数码雕刻模具面效果的陶瓷岩板及其制备方法 |
| CN113754473A (zh) * | 2021-09-07 | 2021-12-07 | 广东东唯新材料有限公司 | 一种金属釉岩板的制备方法 |
| CN113896570A (zh) * | 2021-09-26 | 2022-01-07 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法 |
| CN113896420A (zh) * | 2021-11-01 | 2022-01-07 | 广东家美陶瓷有限公司 | 提升陶瓷岩板胶辊坯印质量的釉料、制备方法及控制方法 |
-
2022
- 2022-01-17 CN CN202210048917.3A patent/CN114276125A/zh active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20130012387A (ko) * | 2011-07-25 | 2013-02-04 | 윤윤섭 | 입체문양이 표현된 상감 도자기의 제조방법 |
| KR20190109128A (ko) * | 2018-03-16 | 2019-09-25 | 이용희 | 청자 타일 및 그 제조방법 |
| CN112759358A (zh) * | 2021-01-26 | 2021-05-07 | 佛山市高明贝斯特陶瓷有限公司 | 一种具有雕刻纹理的岩板及其制备方法 |
| CN113754473A (zh) * | 2021-09-07 | 2021-12-07 | 广东东唯新材料有限公司 | 一种金属釉岩板的制备方法 |
| CN113619321A (zh) * | 2021-09-14 | 2021-11-09 | 广东嘉联企业陶瓷有限公司 | 一种3d数码雕刻模具面效果的陶瓷岩板及其制备方法 |
| CN113896570A (zh) * | 2021-09-26 | 2022-01-07 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法 |
| CN113896420A (zh) * | 2021-11-01 | 2022-01-07 | 广东家美陶瓷有限公司 | 提升陶瓷岩板胶辊坯印质量的釉料、制备方法及控制方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111574245B (zh) | 一种3d立体炫光陶瓷砖及其制备方法 | |
| CN107685383B (zh) | 一种仿古砖陶瓷的生产工艺 | |
| CN101224980A (zh) | 一种瓷质通体仿古砖的生产方法 | |
| CN104961502A (zh) | 一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法 | |
| CN103880474A (zh) | 一种表面如墙纸、树皮等状并具有凹凸效果的釉面砖及制备方法 | |
| CN108840665B (zh) | 一种高透、高白、高强薄胎瓷板 | |
| CN111943723A (zh) | 绸缎质感的陶瓷釉料、制备方法及使用其的陶瓷岩板 | |
| CN110627532A (zh) | 一种大规格陶瓷岩板及其生产工艺 | |
| CN110627531B (zh) | 一种素光微刻木纹瓷砖及其生产工艺 | |
| CN108484114A (zh) | 一种高掺量抛光废料的釉面瓷质砖及其制备方法 | |
| CN108164139A (zh) | 仿大理石柔光砖面釉、仿大理石柔光砖及其制备方法 | |
| CN105218165A (zh) | 耀目铁锈釉及用其制备的耀目铁锈釉陶瓷制品及制备方法 | |
| CN111233329A (zh) | 哑光窑变釉及其制备方法 | |
| CN112500144B (zh) | 一种陶瓷料、数码喷釉陶瓷岩板及其制备方法和应用 | |
| CN105367131A (zh) | 一种喷墨渗透抛光半透明陶瓷薄板及其制备方法 | |
| CN107382377A (zh) | 易洁陶瓷砖的制备方法 | |
| CN106800423B (zh) | 一种渗花瓷砖的制备方法 | |
| CN116395968A (zh) | 一种功能性墨水陶瓷产品的釉料、陶瓷产品及其制备方法和应用 | |
| CN103964818A (zh) | 一种利用废弃瓦片生产的仿古瓷器及其制作工艺 | |
| CN113402169B (zh) | 一种易洁的抛釉及其制备方法 | |
| CN114276125A (zh) | 一种具有纹理数码精雕釉的岩板及其制备方法 | |
| CN108892481B (zh) | 一种生态石及其制备方法 | |
| CN110790509A (zh) | 一种网格纹釉及其制备方法 | |
| CN114920541B (zh) | 一种瓷砖用高耐磨陶瓷材料及其制备方法和高耐磨陶瓷砖 | |
| CN114014542B (zh) | 一种凹凸纹理发泡陶瓷保温板材及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20220405 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |