CN114269429A - 粒子线照射系统及粒子线照射设施 - Google Patents

Abstract

本发明减小粒子线治疗系统的设置面积。本公开的一方案的粒子线照射系统具备：加速器，其设置于地面，且对带电粒子束进行加速；输送装置，其输送从加速器射出的带电粒子束；照射装置，其向照射对象照射由输送装置输送来的带电粒子束；以及机架，其设置于地面，且安装有照射装置。另外，机架具有：旋转体，其使照射装置绕照射对象旋转；以及支撑装置，其在使旋转体的向地面的投影面和加速器或输送装置的向地面的投影面至少一部分重叠的位置从地面支撑旋转体。

Description

粒子线照射系统及粒子线照射设施

技术领域

本发明涉及粒子线照射系统及粒子线照射设施。

背景技术

放射线治疗是向患部照射X射线或粒子线等放射线的治疗法。用于放射线治疗的装置中的最普及的装置是X射线治疗装置。但是，由于X射线的辐射剂量在身体表面最大，且一边衰减一边通过体内，因此存在对位于肿瘤前后的正常组织造成影响的担忧。另一方面，粒子线在被称为布拉格曲线的射程较深的部分具有较高的辐射剂量分布。在粒子线治疗中，充分发挥对比该高的辐射剂量分布(布拉格峰)深的部分不赋予辐射剂量的特长，将布拉格峰调整到患部位置，提高辐射剂量集中性进行照射。与X射线治疗相比，粒子线治疗能够提高对患部的辐射剂量集中性，并且抑制对患部周边的影响。寻求进一步普及实现这样的治疗的粒子线治疗系统。

然而，粒子线治疗系统除了比X射线治疗装置价格高，设置面积较大也妨碍普及。在粒子线治疗系统的进一步普及的基础上，寻求粒子线治疗系统的设置面积的降低、小型化、以及低价格化。

在专利文献1中公开了小型化的粒子线治疗系统。粒子线治疗系统包括：同步加速器，其对带电粒子束进行加速；高能量射束输送系统，其输送由同步加速器加速后的带电粒子束；以及旋转机架，其具备向患者照射由高能量射束输送系统输送来的带电粒子束的照射场形成装置。在专利文献1公开的技术中，通过将在同步加速器与旋转机架之间输送带电粒子束的高能量射束输送系统构成为使来自同步加速器的带电粒子束的轨道的中心和旋转机架的旋转的中心为大致同一直线状，实现了粒子线治疗系统的设置面积的降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2018-187308号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本公开的一个目的在于提供一种降低粒子线治疗系统的设置面积的技术。

用于解决课题的方案

本公开的一方案的粒子线照射系统具备：加速器，其设置于地面，且对带电粒子束进行加速；输送装置，其输送从加速器射出的带电粒子束；照射装置，其向照射对象照射由输送装置输送来的带电粒子束；以及机架，其设置于地面，且安装有照射装置。另外，机架具有：旋转体，其使照射装置绕照射对象旋转；以及支撑装置，其在使旋转体的向地面的投影面和加速器或输送装置的向地面的投影面至少一部分重叠的位置从地面支撑旋转体。

发明效果

根据本公开的一个方案，能够提供降低了设置面积的粒子线照射系统。

附图说明

图1是粒子线治疗系统的鸟瞰图。

图2是粒子线治疗系统的俯视图。

图3是粒子线治疗系统的侧视图。

图4是粒子线治疗系统的主视图。

图5是表示旋转体旋转的状态的粒子线治疗系统的图。

图6是表示粒子线治疗系统设置于房屋内的状态的图。

具体实施方式

参照附图对本发明的实施方式进行说明。

在此，作为向照射对象照射粒子线束的粒子线照射系统的一例，对向癌患者的癌组织照射粒子线束的粒子线治疗系统进行说明。

图1是粒子线治疗系统的鸟瞰图。图2是粒子线治疗系统的俯视图，图3是粒子线治疗系统的侧视图，图4是粒子线治疗系统的主视图。图2的俯视图是对图1所示的粒子线照射系统从箭头A的方向进行观察的图。图3的侧视图是对图1所示的粒子线照射系统从箭头B的方向进行观察的图。图4的主视图是对图1所示的粒子线照射系统从箭头C的方向进行观察的图。

首先，对粒子线照射系统的构成及动作的概要进行说明。

粒子线治疗系统具有直线加速器2、低能量射束输送装置3、同步加速器4、高能量射束输送装置5、旋转机架1以及照射喷嘴6。

直线加速器2将带电粒子加速，产生带电粒子束。在直线加速器2产生的带电粒子束由低能量射束输送装置3输送，射入同步加速器4。射入到同步加速器4的带电粒子束由同步加速器4加速到所希望的能量，并向高能量射束输送装置5射出。从同步加速器4射出的带电粒子束穿过高能量射束输送装置5，被输送至旋转机架1。

旋转机架1具有：绕旋转轴30旋转的旋转体11；能够相对于高能量射束输送装置5相对旋转地与高能量射束输送装置5连接且与旋转体11一起旋转的机架输送线19；以及可旋转地支撑旋转体11的支撑装置14。

参照图4的治疗仓8的内部，在旋转机架1设置有与旋转体11一起旋转的照射喷嘴6。照射喷嘴6将前端朝向旋转轴30，并绕旋转轴30旋转。载置患者的治疗台7配置成在照射喷嘴6的前端朝向的方向上载置患者。

来自高能量射束输送装置5的带电粒子束通过机架输送线19输送至照射喷嘴6，从照射喷嘴6的前端照射载置于治疗台7的患者的患部。通过使旋转体11旋转，照射喷嘴6绕治疗台7旋转，能够使从哪个方向对患者的患部照射带电粒子束变化。另外，在本实施例中，对于治疗台7，以具备载置患者的顶板、将顶板向XYZ轴的方向驱动的三个平行驱动机构以及使顶板绕Z轴旋转的旋转驱动机构的治疗台为例进行了说明，但并不限定于此。例如，也可以是具有向Z轴方向的驱动机构、第一臂和第一臂回转机构、第二臂和第二臂回转机构、顶板和使顶板俯仰/滚动/横摆地旋转的旋转机构的机械臂式治疗台等其它治疗台。

接着，对粒子线治疗系统包含的各装置的结构及动作进行说明。

直线加速器2具备离子源和线性加速器。离子源通过使高速的电子与中性气体碰撞等而产生带电粒子。线性加速器将在离子源产生的带电粒子加速到能够通过同步加速器4进行加速的状态的带电粒子束，并向低能量射束输送装置3射出。带电粒子束是指带电粒子较细地流动的射束。在此，作为带电粒子，例如具有氢、氦、碳、氮、氧、氖、硅、氩等。

低能量射束输送装置3是利用内部保持高真空的空间输送从直线加速器2射出的带电粒子束的装置，将带电粒子束输送至同步加速器4。

同步加速器4是将来自低能量射束输送装置3的带电粒子束通过环状的路径加速到成为适于癌症治疗的能量(70MeV～220MeV左右)的装置。同步加速器4的环状路径通过将以下部件互相连接而构成：转向电磁铁15A，其使带电粒子束转向到预定的角度；四极电磁铁16A，其控制带电粒子束的水平方向及垂直方向的会聚和/或发散；真空管道17A，其为带电粒子束的路径；以及高频加速腔21，其对带电粒子束进行加速。在本实施例中，将带电粒子束转向90度的四个转向电磁铁15A配置于四个角，真空管道17A贯通这些转向电磁铁15A，构成环状路径。

在本实施例中，作为同步加速器4向房屋100的安装方法，采用在设置于房屋100的地面上的架台22上固定转向电磁铁15A、四极电磁铁16A以及高频加速腔21的方法。

另外，在本实施例中，将同步加速器4经由架台22安装于地面，但也可以不使用架台22而将同步加速器4直接安装于地面。

另外，在本实施例中，示出了四个转向电磁铁15A配置于环状路径的结构，但同步加速器4的结构并不限定于此。同步加速器4的转向电磁铁15A的个数可以小于四个，也可以是五个以上。另外，在本实施例中，将转向电磁铁15A的转向角度设为90度，但同步加速器4的结构并不限定于此。转向电磁铁15A的转向角度也可以是其它角度。另外，同步加速器4也可以在环状路径上、环状路径与低能量输送系统3的连接部、或者环状路径与高能量射束输送装置5的连接部具备转向电磁铁15A、四极电磁铁16A、高速加速腔21以外的设备。

另外，在本实施例中，示出了使用直线加速器2和同步加速器4作为加速器对带电粒子束进行加速的例子，但并不限定于该结构。作为其它例，也可以使用回旋加速器、同步回旋加速器、使对带电粒子束进行加速的轨道偏心并射出任意能量的带电粒子束的圆形加速器等其它加速器。

由同步加速器4加速后的带电粒子束被输送到高能量射束输送装置5。

高能量射束输送装置5是将由同步加速器4加速后的带电粒子束一边转向一边输送至旋转机架1的装置。高能量射束输送装置5通过将转向电磁铁15B、四极电磁铁16B以及真空管道17B组合而构成。

如图3所示，高能量射束输送装置5具有大致水平地输送带电粒子束的第一射束输送部5(1)和大致垂直地输送带电粒子束的第二射束输送部5(2)。而且，高能量射束输送装置5在第一射束输送部5(1)与第二射束输送部5(2)之间具有使带电粒子束转向90度的转向电磁铁15B1，且在第二射束输送部5(2)与旋转机架1之间具有使带电粒子束转向90度的转向电磁铁15B2。

第一射束输送部5(1)是使大致直线状的真空管道17B贯穿控制带电粒子束的会聚和/或发散的四极电磁铁16B的结构。第一射束输送部5(1)通过将四极电磁铁16B固定于在地面所设置的架台22上，从而经由架台22安装于地面。

第二射束输送部5(2)与第一射束输送部5(1)同样地是使大致直线状的真空管道17B贯穿四极电磁铁16B的结构。第二射束输送部5(2)在将四极电磁铁16B固定于架台22的状态下固定安装于房屋100的壁面。通过将第二射束输送部5(2)固定于壁面，能够减小其设置面积，并且使其设置稳定。

从同步加速器4射出的带电粒子束通过第一射束输送部5(1)的四极电磁铁16B和真空管道17B输送至转向电磁铁15B1。例如，输送的带电粒子束的行进方向例如相对于地面大致水平，第一射束输送部5(1)在大致直线上从同步加速器4连结到转向电磁铁15B1。

从第一射束输送部5(1)输送到转向电磁铁15B1的带电粒子束通过转向电磁铁15B1向远离地面的方向转向。此时，例如转向电磁铁15B1的转向角度为90度，转向后的带电粒子束朝向的方向为大致铅垂方向向上。通过转向电磁铁15B1转向后的带电粒子束射入第二射束输送部5(2)。第二射束输送部5(2)将射入的带电粒子束输送至转向电磁铁15B2。

转向电磁铁15B2使来自第二射束输送部5(2)的带电粒子束向旋转机架1的方向转向，射入旋转机架1。此时，例如，转向电磁铁15B2的转向角度为90度，转向后的带电粒子束朝向的方向为与地面大致水平且朝向同步加速器4的方向。换言之，来自转向电磁铁15B2的带电粒子束朝向与从同步加速器4射出的方向相反的方向。

高能量射束输送装置5与旋转机架1的连接点位于旋转机架1的旋转轴30上，从高能量射束输送装置5向旋转机架1射入的带电粒子束的行进方向与旋转机架的旋转轴30一致。

另外，在本实施例中，以高能量射束输送装置5具备将带电粒子束转向90度的两个转向电磁铁15B1、15B2的结构为例进行了说明，但并不限定于该结构。作为其它例，转向电磁铁15B的数量既可以是一个也可以是三个以上。另外，转向电磁铁15B的转向角度并不限定于90度，也可以是其它角度。例如，也可以是，从同步加速器4射出的带电粒子束在与地面大致水平的平面内转向，然后射入转向电磁铁15B1。另外，例如，也可以是，通过转向电磁铁15B2转向后的带电粒子束在与地面大致水平的平面内转向，然后射入旋转机架1。

另外，在本实施例中，示出了第一射束输送部5(1)向地面的安装和第二射束输送部5(2)向壁面的安装使用架台22的例子，但并不限定于该结构。作为其它例，也可以第一射束输送部5(1)向地面的安装和第二射束输送部5(2)向壁面的安装的一方或双方不使用架台22。

另外，在本实施例中，将第一射束输送部5(1)安装于地面，将第二射束输送部5(2)安装于壁面，但安装位置并不限定于此。例如，也可以将第二射束输送部5(2)固定于支撑装置14。

旋转机架1具备前环9、后环10、旋转体11、支撑辊12、机架旋转马达(未图示)、支撑装置14以及机架输送线19。

旋转体11从前环9侧朝向后环10侧依次具备第一圆筒部11(1)、圆锥部11(2)、以及第二圆筒部11(3)。前环9和后环10通过第一圆筒部11(1)连接。旋转体11的前环9侧开口，在旋转体11内侧且前环9侧设有作为对患者照射带电粒子束进行治疗的空间的治疗仓8。机架输送线19固定于旋转体11。

支撑装置14与同步加速器4安装在同一地面。在支撑装置14上可旋转地固定有支撑辊12。前环9及后环10搭载于支撑辊12上。即，支撑装置14经由支撑辊12支撑前环9、后环10、旋转体11以及机架输送线19。

支撑辊12通过机架旋转马达的动力旋转，且将动力传递至前环9和后环10，由此前环9、后环10、旋转体11、以及机架输送线19成为一体，并绕旋转轴30旋转。

图5是表示旋转体旋转的状态的粒子线治疗系统的图。在上述图1～4中示出了照射喷嘴6能够从铅垂方向的上方向载置于治疗台7的患者照射带电粒子束的状态的粒子线治疗系统。包括该状态，旋转体11能够旋转大致360度。在图5中示出了从正面观察时旋转体11顺时针旋转90度、且照射喷嘴6能够从患者的正侧方沿水平方向照射带电粒子束的状态。

机架输送线19是将从高能量射束输送装置5射入的带电粒子束一边转向一边输送至照射喷嘴6的装置。机架输送线19在旋转轴30上的连接点20处可旋转地与高能量射束输送装置5连接。射束传输线19通过组合包含转向电磁铁15C、四极电磁铁16C以及真空管道17C的多个部件而构成。

机架输送线19使从高能量射束输送装置5在沿着旋转轴30的行进方向上射入的带电粒子束通过第二圆筒部11(3)的内侧，并通过转向电磁铁(未图示)向远离旋转轴30的方向转向。机架输送线19将向远离旋转轴30的方向转向后的带电粒子束输送至旋转体11的外侧。

在旋转体11的外侧，由转向电磁铁15C1、四极电磁铁16C、真空管道17C以及转向电磁铁15C2构成的部分安装于第一圆筒部11(1)的外周面。到达旋转体11的外侧的带电粒子束通过转向电磁铁15C1在与旋转轴30垂直的平面内以转向角度135度转向，一边被四极电磁铁16C控制射束的扩展，一边通过真空管道17C沿旋转体11的周向被输送。由真空管道17C输送的带电粒子束通过转向电磁铁15C2在与旋转轴30垂直的平面内向朝向旋转轴30的方向转向135度。向朝向旋转轴30的方向转向后的带电粒子束进入旋转体11内侧，且经由照射喷嘴6照射到治疗仓8内的患者。

通过将机架输送线19设为上述结构，能够缩短旋转机架1的旋转轴30的前后方向的长度，减小粒子线治疗系统的设置面积。这里所说的粒子线治疗系统的设置面积是设置粒子线治疗系统所需的地面面积。

另外，在本实施例中，示出了机架输送线19具备三个转向电磁铁的结构，但机架输送线19的结构并不限定于此。机架输送线19中的转向电磁铁的个数可以小于三个，也可以是四个以上。另外，在本实施例中，将转向电磁铁15C1、15C2的转向角度设为135度，但并不限定于此。转向电磁铁15C1、15C2的转向角度也可以是其它角度。另外，机架输送线19也可以具备转向电磁铁15C、四极电磁铁16C、真空管道17C以外的设备。

另外，在本实施例中，例示了一边控制带电粒子束的会聚和/或发散一边沿旋转体11的周向输送的结构的机架输送线，但并不限定于该结构。作为其它例，机架输送线19也可以构成为，使从高能量射束输送装置5在沿着旋转轴30的行进方向上射入的带电粒子束向远离旋转轴30的方向转向，且使向远离旋转轴30的方向转向后的带电粒子束向与旋转轴30大致平行的方向转向，并使向与旋转轴30大致平行的方向转向后的带电粒子束向朝向旋转轴30的方向转向。

支撑装置14为如下高度：在旋转机架1旋转而使机架输送线19位于下方时，机架输送线19与同步加速器4或高能量射束输送装置5的第一射束输送部5(1)不接触。更具体而言，支撑装置14距地面的高度比位于机架输送线19的转向电磁铁15C1和转向电磁铁15C2的下方的同步加速器4或高能量射束输送装置5距设备的地面的高度与转向电磁铁15C1或转向电磁铁15C2距第一圆筒部11(1)的外周面的高度的最大值的合计值大。

通过使支撑装置14具有充分的高度，能够将旋转机架1和同步加速器4在同一地面上重叠设置面积地配置，从而能够减小作为粒子线治疗系统整体的设置地面面积。另外，相对于以往为了避免机架输送线与地面的接触而仅降低机架输送线的通过区域的地面，通过使支撑装置14具有充分的高度，不需要降低房屋100的地面，能够使房屋100为简易的结构。

在本实施例中，支撑装置14具有四条腿，由这四条腿支撑旋转体11。在本实施例中，支撑装置14由第一支撑装置14(1)和第二支撑装置11(2)构成。第一支撑装置14(1)和第二支撑装置14(2)均呈具有两条腿的拱形的形状，且沿旋转轴30的方向排列。第一支撑装置14(1)位于前环9侧，第二支撑装置14(2)位于后环侧。第一支撑装置14(1)配置于比机架输送线19的转向电磁铁15C1和转向电磁铁15C2靠前方。第二支撑装置14(2)配置于比机架输送线19的转向电磁铁15C1和转向电磁铁15C2靠后方。通过这样由前方的第一支撑装置14(1)和后方的第二支撑装置14(2)构成支撑装置14，能够在旋转体11旋转时，使与旋转体11一起旋转的机架输送线19从第一支撑装置14(1)与第二支撑装置14(2)之间通过，能够避免支撑装置14与输送管线19的碰撞。第一支撑装置14(1)支撑搭载前环9的支撑辊12。第二支撑装置14(3)支撑搭载后环10的支撑辊12。

第一支撑装置14(1)配置为，一方的腿配置于同步加速器4的圆环的内侧的地面，另一方的腿配置于圆环的外侧的地面，且同步加速器4的圆环从第一支撑装置14(1)的腿与腿之间通过，穿过拱形空间。换言之，第一支撑装置14(1)以跨越同步加速器4的圆环的方式配置。另外，高能量射束输送装置5配置为，从第二支撑装置14(2)的腿与腿之间通过，穿过拱形空间。换言之，第二支撑装置14(2)以跨越高能量射束输送装置5的方式配置。由此，能够在旋转体11的下方配置同步加速器4和高能量射束输送装置5的一部分。能够在处于支撑装置14接触地面的某接地面与支撑装置14接触地面的其它接地面之间的、支撑装置14未接触地面的部分配置同步加速器4和/或高能量射束输送装置5，能够减小作为粒子线治疗系统整体的设置面积。

特别是利用高能量射束输送装置5将从位于前方的第一支撑装置14(1)的下方的同步加速器4射出的带电粒子束穿过第二支撑装置14(2)的两条腿之间向后方输送，并在后方朝向上方输送，该结构能够将同步加速器4和高能量射束输送装置5高效地配置于旋转体11的下方，有助于减小粒子线治疗系统的设置面积。

另外，支撑装置14的结构及配置并不限定于本实施例。只要旋转体11配置于比直线加速器2、同步加速器4、或高能量射束输送装置5的至少一部分高的位置即可。当直线加速器2、同步加速器4、或高能量射束输送装置5的至少一部分配置于旋转体11的下方时，能够进一步减小作为粒子线治疗系统整体的设置面积。另外，通过将高能量射束输送装置5沿大致铅垂方向延伸地配置，能够减小设置面积。但是，也可以不必将直线加速器2、同步加速器4、或高能量射束输送装置5配置于旋转体11的下方。通过将旋转体11配置于较高的位置，能够在其下方确保设置控制装置、电源的空间，能够减小作为粒子线治疗系统整体的设置面积。

另外，在本实施例中，以支撑装置的腿为四条为例进行了说明，但并不限定于四条，也可以是三条以下，也可以是五条以上。另外，在本实施例中，以拱形的第一支撑装置和拱形的第二支撑装置为例进行了说明，但也可以是第一支撑装置14(1)和第二支撑装置14(2)为一体的构造，也可以是腿的一部分或全部为不同的结构。

另外，支撑装置14的材质可以是铁等金属，也可以对一部分或者全部使用混凝土等其它材质。若将支撑装置14的材质设为金属，则能够在安装同步加速器4和高能量射束输送装置5之后安装支撑装置14，能够容易地进行同步加速器4和高能量射束输送装置5的安装。另一方面，通过将支撑装置14的材质设为混凝土，且配置于粒子线治疗系统的控制装置(未图示)与同步加速器4或高能量射束输送装置5之间，还能够发挥作为控制装置的遮掩壁的功能。

另外，在本实施方式中，示出了旋转机架1旋转大致360度的例子，但旋转角度可以为360度以下，也可以使用旋转角度为300度以下的半机架等其它机架。

旋转机架1具备上述支撑装置14，由此能够将设置直线加速器2、同步加速器4以及高能量射束输送装置5的区域和设置旋转机架1的区域上下重叠地配置这些设备，能够减小作为粒子线治疗系统整体的设置面积。换言之，能够以使直线加速器2、同步加速器4以及高能量射束输送装置5的向地面的投影面的至少一部分和旋转机架1的向地面的投影面的至少一部分重叠的方式配置设备，能够减小作为粒子线治疗系统整体的设置面积。

照射喷嘴6是将从高能量射束输送装置5输送来的带电粒子束与患者的癌组织的形状匹配地加工成适当的辐射剂量分布，并照射到患部的装置。照射喷嘴6安装于旋转机架1的旋转体11，通过与旋转体11一体地绕旋转轴30旋转，能够从任意方向对治疗仓8内的患者照射带电粒子束。

图6是表示粒子线治疗系统设置于房屋的状态的图。

粒子线治疗系统设置于作为建筑物的房屋100内，由粒子线治疗系统和房屋100构成粒子线治疗设施。在房屋100内设有彼此由治疗室壁103隔开的加速器室101和治疗室102。在加速器室101安装有直线加速器2、同步加速器4、高能量射束输送装置5、以及旋转机架1。在治疗室102设置有载置患者的治疗台7。治疗台7能够从治疗室壁103的开口出入治疗仓8。

加速器室101确保相距旋转轴30的旋转半径的空间，以使旋转机架1能够大致360度自由旋转。另外，通过以使旋转轴30相对于房屋100的外壁具有倾斜的角度的方式配置旋转机架1，能够利用房屋100的对角线上的空间，能够进一步减小设置面积。例如，如图2所示，相对于大致矩形的房屋100，旋转轴30以沿着房屋100的对角线的方式配置。

在本实施例中，对在加速器室101设置有直线加速器2、同步加速器4、高能量射束输送装置5以及旋转机架1的例子进行了说明，但并不限定于此，例如，也可以将直线加速器2或高能量射束输送装置5设置于加速器室101外的其它室。另外，也可以在加速器室101内配置控制装置(未图示)。此时，也可以在加速器室101设置同步加速器4与控制装置之间的遮掩壁。

在本实施例中，将同步加速器4作为加速器的例子进行了说明。同步加速器4能够将带电粒子束加速到任意的能量，射出任意能量的带电粒子束。另一方面，作为其它加速器的回旋加速器、同步回旋加速器只能射出加速到最大能量的带电粒子束。在回旋加速器、同步回旋加速器中，通过使以最大能量射出的带电粒子束穿过被称为楔的设备而将能量降低至任意的值，再照射到患者。此时，由于吸收能量，会导致楔放射化。因此，在回旋加速器的情况下，为了降低患者的被辐射量，需要在载置患者的机架与加速器之间设置较厚的放射壁。另一方面，不需要楔的同步加速器4不需要回旋加速器、同步回旋加速器那样的放射壁，能够将加速器和旋转机架1设置于同一室。

通过这样将加速器和旋转机架1设置于同一室，能够抑制房屋100的高度，实现粒子线治疗设施的小型化、低价格化。但是，并不限定于同步加速器4，只要是能够射出任意能量的加速器，就能够得到减小设置面积的效果。

另外，从圆形或圆环状的加速器产生的中子等具有向圆的外周方向的指向性。由于治疗仓8和同步加速器4不位于同一平面上，因此从同步加速器4产生的中子中的朝向治疗台7上的患者的中子较少，也可以不将治疗室102的地面、治疗室壁103如放射壁那样设置得较厚。

治疗室102的地板水平高度设定于确保了旋转半径的空间的旋转轴30的附近，因此通常为比加速器室101的地板水平高度高6～8m左右的位置。

在本实施例中，以旋转机架1为一个且治疗室102为一个的结构为例进行了说明，但并不限定于此。也可以在加速器室101设置两个以上的旋转机架1，在房屋100具备两个以上的治疗室102。

上述的实施方式是用于说明的例示，并非意在将发明的范围限定于实施方式。本领域技术人员能够在不脱离本发明的范围的情况下以其它各种方式实施本发明。

符号说明

1—旋转机架，2—直线加速器，3—低能量射束输送装置，4—同步加速器，5—射束输送装置，6—照射喷嘴，7—治疗台，8—治疗仓，9—前环，10—后环，11—旋转体，12—支撑辊，14—支撑装置，15—转向电磁铁，16—四极电磁铁，17—真空管道，19—机架输送线，20—连接点，21—高频加速腔，22—架台，30—旋转轴，100—房屋，101—加速器室，102—治疗室，103—治疗室壁。

Claims (15)

1.一种粒子线照射系统，其具备：

加速器，其设置于地面，且对带电粒子束进行加速；

输送装置，其输送从上述加速器射出的带电粒子束；

照射装置，其向照射对象照射由上述输送装置输送来的带电粒子束；以及

机架，其设置于上述地面，且安装有上述照射装置，

上述粒子线照射系统的特征在于，

上述机架具有：

旋转体，其使上述照射装置绕上述照射对象旋转；以及

支撑装置，其在使上述旋转体的向上述地面的投影面和上述加速器或上述输送装置的向上述地面的投影面至少一部分重叠的位置从上述地面支撑上述旋转体。

2.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述加速器和上述机架配置于作为房间被划分出一个空间内。

3.根据权利要求2所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述支撑装置在第一接地面和第二接地面与地面接触，在上述第一接地面与上述第二接地面之间配置有上述加速器或上述输送装置的至少一方的至少一部分。

4.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述输送装置具有：第一转向电磁铁，其将由上述加速器加速后的带电粒子束向上转向；以及第二转向电磁铁，其将由上述第一转向电磁铁转向后的带电粒子束向上述旋转体的旋转轴的方向转向。

5.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述机架还具有在上述旋转体的外周面的外侧将带电粒子束转向的第三转向电磁铁，

上述支撑装置具有：第一支撑部，其配置于上述旋转体的旋转轴方向上的比上述第三转向电磁铁靠前方的位置；以及第二支撑部，其配置于比上述第三转电磁铁靠后方的位置。

6.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述机架还具有向上述旋转体的外周面输送带电粒子束的输送线，

上述支撑装置的高度比上述输送管的距上述旋转体的外周面的高度与上述旋转体的下方的上述加速器或上述输送装置的距地面的高度的和大。

7.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述输送装置的一部分固定于设置有上述粒子线照射系统的房间的壁面。

8.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述机架还具有输送线，该输送线将由上述输送装置输送来的带电粒子束输送至上述旋转体的外周面的外侧，且沿上述旋转体的周向输送，并向朝向上述旋转体的旋转轴的方向输送。

9.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述加速器是通过环状路径将带电粒子束加速的同步加速器。

10.根据权利要求9所述的粒子线照射系统，其特征在于，

就上述支撑装置而言，

具有第一腿和第二腿，而且，

以上述第一腿位于上述环状路径的内侧且上述第二腿位于上述环状路径的外侧的方式跨越上述环状路径，与上述地面接触。

11.根据权利要求10所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述输送装置具有：第一射束输送部，其沿着地面输送由上述加速器加速后的带电粒子束；以及第二射束输送部，其在上述第一射束输送部的下游将带电粒子束向上输送，

上述支撑装置使上述第二射束输送部位于后方，通过两个腿部跨越上述第一射束输送部，与上述地面接触。

12.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述支撑装置的材质的至少一部分为金属。

13.根据权利要求1所述的粒子线照射系统，其特征在于，

上述支撑装置的材质的至少一部分为混凝土。

14.一种粒子线照射设施，其特征在于，具有：

房屋；以及

设置于上述房屋内的权利要求1～13中任一项所述的粒子线照射系统。

15.根据权利要求14所述的粒子线照射设施，其特征在于，

上述照射对象为患者，

还具有分隔壁，该分隔壁设于设置有载置上述患者并能够进入上述旋转体的内侧的治疗台的治疗室与设置有上述加速器及上述机架的房间之间。

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