CN114210648A - 托盘清洗系统 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种托盘清洗系统，包括：清洗装置，用于清洗托盘；抓取装置，用于抓取托盘；清洗装置包括上线端、下线端和多个清洗槽；多个清洗槽设置于上线端和下线端之间；抓取装置还用于将托盘依次置入每个清洗槽进行清洗。本发明提供的托盘清洗系统，可以通过抓取装置完成对托盘的抓取工作，并将托盘依次置入到清洗装置上线端和下线端之间设置的多个清洗槽中进行清洗，从而可以避免作业人员在托盘清洗过程中直接接触托盘或清洗槽，减轻对作业人员的身体损害，并降低作业人员的劳动消耗，有利于控制托盘清洗过成中的资源消耗。

Description

托盘清洗系统

技术领域

本发明涉及托盘清洗技术领域，尤其涉及一种托盘清洗系统。

背景技术

在制备高效异质结太阳能电池时，PVD(Physical Vapor Deposition；物理气相沉积)托盘作为承载托盘，重复性镀TCO(Transparent Conductive Oxide；透明导电氧化物)膜后，会产生膜层脱落现象，直接影响到硅片镀膜质量，必须定时清洗托盘。

相关技术中，托盘大多通过人工在清洗槽中浸泡清洗，而清洗作业虽然具有一定的安全防护措施，但是清洗溶液具有挥发性，对作业人员身体有一定损害，并且清洗过程耗费人力和物力，从而造成资源浪费。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。

有鉴于此，根据本申请实施例提出了一种托盘清洗系统，包括：

清洗装置，用于清洗托盘；

抓取装置，用于抓取托盘；

清洗装置包括上线端、下线端和多个清洗槽；

多个清洗槽设置于上线端和下线端之间；

抓取装置还用于将托盘依次置入每个清洗槽进行清洗。

在一种可行的实施方式中，托盘清洗系统还包括：

上线缓存装置，包括上线缓存部和上线输送部；

上线缓存部用于存放多个托盘；

上线输送部的一端与上线缓存部的输出端相连接，另一端与上线端相连接，上线输送部用于将托盘输送至抓取装置的抓取范围内；

下线缓存装置，包括下线缓存部和下线输送部；

下线缓存部用于存放多个托盘；

下线输送部的一端与下线端相连接且位于抓取装置的抓取范围内，另一端与下线缓存部的输入端相连接，下线缓存部用于将托盘输入至下线缓存部。

在一种可行的实施方式中，托盘清洗系统还包括：

上线输送装置，与上线缓存部的输入端相连接，用于向上线缓存部输送托盘；

下线输送装置，与下线缓存部的输出端相连接，用于将托盘从下线缓存部中输出。

在一种可行的实施方式中，托盘清洗系统还包括：

壳体，清洗装置、抓取装置、上线缓存装置、下线缓存装置、上线输送装置和下线输送装置均设置于壳体内；

上线交换装置，与上线输送装置相连接且至少部分位于壳体外部，用于接收壳体外部的托盘；

下线交换装置，与下线输送装置相连接且至少部分位于壳体外部，用于向壳体外部输送托盘。

在一种可行的实施方式中，多个清洗槽包括：

至少两个超声波槽，靠近于上线端设置；

毛刷喷淋槽，与超声波槽相邻设置，并位于超声波槽靠近下线端的一侧；

漂洗槽，与毛刷喷淋槽相邻设置，并位于毛刷喷淋槽靠近下线端的一侧；

冲洗槽，与漂洗槽相邻设置，并位于漂洗槽靠近下线端的一侧；

风干槽，与冲洗槽相邻设置，并位于喷淋槽靠近下线端的一侧。

在一种可行的实施方式中，每个清洗槽内设置有供水组件和排水组件；

其中，供水组件用于向清洗槽内供给清洗水；

排水组件用于将清洗槽内产生的污水排出。

在一种可行的实施方式中，超声波槽内部设置有超声波发生器，超声波发生器用于生成清洗托盘所需的超声波。

在一种可行的实施方式中，毛刷喷淋槽内设置有毛刷组件和喷淋组件；

毛刷组件用于刷洗托盘；

喷淋组件与供水组件相连接，用于向托盘喷淋清洗水。

在一种可行的实施方式中，漂洗槽内设置有清洗剂加注组件，清洗剂加注组件用于向漂洗槽内部加注清洗剂。

在一种可行的实施方式中，抓取装置包括：

轨道组件，轨道组件为环形结构；

轨道组件上对应于上线端设置有上线位置，且对应于下线端设置有下线位置；

多个抓取组件，滑动设置于轨道组件；

其中，轨道组件包括位于上线位置和下线位置之间的直线区间和回转区间。

相比现有技术，本发明至少包括以下有益效果：本发明提供的托盘清洗系统，包括：清洗装置，用于清洗托盘；抓取装置，用于抓取托盘；清洗装置包括上线端、下线端和多个清洗槽；多个清洗槽设置于上线端和下线端之间；抓取装置还用于将托盘依次置入每个清洗槽进行清洗。本发明提供的托盘清洗系统，可以通过抓取装置完成对托盘的抓取工作，并将托盘依次置入到清洗装置上线端和下线端之间设置的多个清洗槽中进行清洗，从而可以避免作业人员在托盘清洗过程中直接接触托盘或清洗槽，减轻对作业人员的身体损害，并降低作业人员的劳动消耗，有利于控制托盘清洗过成中的资源消耗。

附图说明

通过阅读下文示例性实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出示例性实施方式的目的，而并不认为是对本申请的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：

图1为本申请提供的一种实施例的托盘清洗系统的示意性结构图；

图2为本申请提供的一种实施例的托盘清洗系统的清洗装置的示意性结构图。

其中，图1和图2中附图标记与部件名称之间的对应关系为：

10托盘清洗系统；

100清洗装置；200抓取装置；300上线缓存装置；400下线缓存装置；500上线输送装置；600下线输送装置；700上线交换装置；800下线交换装置；900托盘；

110清洗槽；120上线端；130下线端；210轨道组件；220抓取组件；310上线缓存部；320上线输送部；410下线缓存部；420下线输送部；

111第一超声波槽；112第二超声波槽；113毛刷喷淋槽；114漂洗槽；115冲洗槽；116风干槽。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本申请的示例性实施例。虽然附图中显示了本申请的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本申请而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本申请，并且能够将本申请的范围完整的传达给本领域的技术人员。

如图1和图2所示，根据本申请实施例提出了一种托盘清洗系统10，包括：清洗装置100，用于清洗托盘；抓取装置200，用于抓取托盘；清洗装置100包括上线端120、下线端130和多个清洗槽110；多个清洗槽110设置于上线端120和下线端130之间；抓取装置200还用于将托盘依次置入每个清洗槽110进行清洗。

如图1所示，本发明提供的托盘清洗系统10包括有清洗装置100和抓取装置200。其中，清洗装置100包括有上线端120、下线端130和设置于上线端120与下线端130之间的多个清洗槽110。抓取装置200用于抓取托盘900，清洗槽110可以用于承装清洗托盘900所需的清洗水、清洗剂溶液以及清洗工艺所需的工艺器具。

上线端120位于抓取装置200的抓取范围内，用于接收待清洗的托盘900，下线端130同样位于抓取装置200的抓取范围内，清洗后的托盘900可通过下线端130向托盘清洗系统10外部输出。

通过抓取装置200完成对托盘900的抓取工作，并将托盘900依次置入到清洗装置100上线端120和下线端130之间设置的多个清洗槽110中进行清洗，可以避免作业人员在托盘清洗过程中直接接触托盘900或清洗槽110，减轻对作业人员的身体损害，并降低作业人员的劳动消耗，有利于控制托盘清洗过成中的资源消耗。

可以理解的是，多个清洗槽110可以结合托盘清洗的工艺要求，分别对应托盘清洗过程中的不同清洗工序，并根据各个工序的具体要求设置清洗所需的清洗水水量、清洗剂种类和剂量以及工艺器具的种类。在托盘清洗过程中，抓取装置200抓取到待清洗的托盘900，并将该托盘900依次置入到各个清洗槽110中进行相应的清洗，待清洗的托盘900经过多个清洗槽110的清洗后可以具有较高的清洁程度。

如图2所示，在一些可行的示例中，多个清洗槽110沿上线端120至下线端130的方向依次设置，抓取装置200用于将托盘900沿上线端120至下线端130的方向依次置入每个清洗槽110进行清洗，从而一方面可以令清洗装置100的整体结构更加紧凑，另一方面也便于设定抓取装置200在将托盘900依次置入各个清洗槽110时的运动路径，可以在一定程度上降低抓取装置200在托盘清洗过程中的行程，提高清洗装置100的清洗效率。

在一些可行的示例中，托盘清洗系统10还包括有控制装置，控制装置中设置有控制程序，控制装置可以在控制程序被执行时，控制抓取装置200和清洗装置100的运行。控制程序可以根据托盘清洗的工艺要求编制，从而进一步提高托盘清洗系统10的自动化水平，减少托盘清洗过程中的人员参与，有利于进一步减轻对操作人员的身体损害。

如图1所示，在一些示例中，托盘清洗系统10还包括：上线缓存装置300，包括上线缓存部310和上线输送部320；上线缓存部310用于存放多个托盘；上线输送部320的一端与上线缓存部310的输出端相连接，另一端与上线端120相连接，上线输送部320用于将托盘输送至抓取装置200的抓取范围内；下线缓存装置400，包括下线缓存部410和下线输送部420；下线缓存部410用于存放多个托盘；下线输送部420的一端与下线端130相连接且位于抓取装置200的抓取范围内，另一端与下线缓存部410的输入端相连接，下线缓存部410用于将托盘输入至下线缓存部410。

如图1所示，托盘清洗系统10还包括上线缓存装置300和下线缓存装置400。其中，上线缓存装置300包括有上线缓存部310和上线输送部320，上线缓存部310用于存放多个托盘900，上线输送部320的一端与上线缓存部310的输出端相连接，上线输送部320的另一端与上线端120相连接，从而在待清洗的托盘900数量较大时，可以利用上线缓存部310对至少部分的托盘900进行集中安置，避免多个托盘900在清洗装置100的上线端120附近形成堆积，影响托盘清洗工作的执行效率，进而通过上线输送部320将上线缓存部310中存放的托盘900依次输向上线端120，使待清洗的托盘900进入到抓取装置200的抓取范围，以备清洗。

下线缓存装置400包括有下线缓存部410和下线输送部420，下线缓存部410用于存放多个托盘900，下线输送部420的一端与下线端130相连接，下线输送部420的另一端与下线缓存的输入端相连接，从而在完成清洗的托盘900数量较大时，如托盘清洗系统10外部用于转运托盘900的设备难以及时将所有的完成清洗的托盘900进行转运，可通过抓取装置200将托盘900放置到下线输送部420上，并通过下线输送部420将完成清洗的托盘900送入下线缓存部410中进行存放，避免托盘900在等待转运的过程中堆积在清洗装置100的下线端130附近，并能有效避免完成清洗的托盘900因散置造成二次脏污，有利于进一步保证托盘清洗的效果。

同时，通过利用上线缓存装置300和下线缓存装置400对托盘900进行临时存放，也能够在一定程度上避免托盘900在等待清洗或等待转运的过程中，与其它结构发生碰撞，能够降低托盘900在清洗过程中的损失。

在一些可行的示例中，上线缓存部310包括第一壳体、第一升降模块和第一传送模块；其中，第一壳体内部沿第一壳体的高度方向依次形成有多个第一缓存区；第一升降模块设置于第一壳体内部并沿第一壳体的高度方向布置，用于将托盘900输送到第一缓存区进行存放；第一传送模块的一端与上线输送部320相连接，用于将托盘900输送至第一输送模块，并且第一传送模块上设置有第一交接位置，第一升降模块还用于带动托盘900在第一交接位置和第一缓存区之间运动，从而托盘900可以在上线缓存部310内部沿第一壳体的高度方向进行形成叠放式的缓存，有利于提高第一缓存部的结构紧凑性和空间利用率。

在一些可行的示例中，下线缓存部410包括第二壳体、第二升降模块和第二传送模块；其中，第二壳体内部沿第二壳体的高度方向依次形成有多个第二缓存区；第二升降模块设置于第二壳体内部并沿第二壳体的高度方向布置，用于将托盘900输送到第二缓存区进行存放；第二传送模块的一端与下线输送部420相连接，用于将托盘900输送至第二输送模块，并且第二传送模块上设置有第二交接位置，第二升降模块还用于带动托盘900在第二交接位置和第二缓存区之间运动，从而托盘900可以在下线缓存部410内部沿第二壳体的高度方向进行形成叠放式的缓存，有利于提高第二缓存部的结构紧凑性和空间利用率。

可以理解的是，托盘900通常为板状结构，在利用上线输送部320、下线输送部420、第一传送模块或第二传送模块对托盘900进行输送时，托盘900平置于上线输送部320、下线输送部420、第一传送模块或第二传送模块上，并且在缓存于第一缓存区和第二缓存区时，托盘900同样处于平置状态，从而可以保证托盘900的放置稳定性，避免托盘900在存放或输送过程中发生脱落现象。

如图1所示，在一些示例中，托盘清洗系统10还包括：上线输送装置500，与上线缓存部310的输入端相连接，用于向上线缓存部310输送托盘；下线输送装置600，与下线缓存部410的输出端相连接，用于将托盘从下线缓存部410中输出。

如图1所示，托盘清洗系统10还包括上线输送装置500和下线输送装置600。其中，上线输送装置500于上线缓存部310的输入端相连接，从而可以通过上线输送装置500将待清洗的托盘900输入上线缓存部310输送进行缓存；下线输送装置600于下线缓存部410的输出端相连接，从而可以通过下线输送装置600将完成清洗的托盘900从下线缓存部410中输出。进而，托盘900在输入上线缓存部310或输出下线缓存部410的过程中，可以极大程度上减少操作人员的参与，减轻操作人在输送托盘900过程中劳动强度，并有利于提高操作人员在托盘清洗过程中的安全性。

在一些可行的示例中，上线输送装置500和下线输送装置600均为带式输送机，托盘900可以平置在带式输送机的皮带上进行输送。

在一些可行的示例中，上线输送装置500的一端与第一传送模块远离上线输送部320的一端相连接；下线输送装置600的一端与第二传送模块远离下线输送部420的一端相连接。

如图1所示，在一些示例中，托盘清洗系统10还包括：壳体，清洗装置100、抓取装置200、上线缓存装置300、下线缓存装置400、上线输送装置500和下线输送装置600均设置于壳体内；上线交换装置700，与上线输送装置500相连接且至少部分位于壳体外部，用于接收壳体外部的托盘；下线交换装置800，与下线输送装置600相连接且至少部分位于壳体外部，用于向壳体外部输送托盘。

如图1所示，托盘清洗系统10还包括有壳体、上线交换装置700和下线交换装置800。其中，清洗装置100、抓取装置200、上线缓存装置300、下线缓存装置400、上线输送装置500和下线输送装置600均设置于壳体内。上线交换装置700与上线输送装置500相连接，并至少部分位于壳体外部，从而可以接收到来自壳体外部的托盘900，并令托盘900以通过上线输送装置500和上线缓存装置300输送至清洗装置100的上线端120以备清洗。

下线交换装置800与下线输送装置600相连接，并至少部分位于壳体外部，从而经过清洗装置100清洗的托盘900可以通过下线缓存装置400和下线输送装置600输送至下线交换装置800，并由下线交换装置800将托盘900交付到壳体外部，以备托盘清洗系统10外部的托盘转运设备进行转运。

从而，在执行托盘清洗作业的过程中，一方面托盘清洗系统10能够利用上线交换装置700和下线交换装置800实现与外部设备之间的托盘交换，另一方面能够利用壳体将清洗剂挥发产生的有害性物质进行一定程度上的隔离，进一步避免操作人员的身体受清洗剂的影响产生损害。

如图2所示，在一些示例中，多个清洗槽110包括：至少两个超声波槽，靠近于上线端120设置；毛刷喷淋槽113，与超声波槽相邻设置，并位于超声波槽靠近下线端130的一侧；漂洗槽114，与毛刷喷淋槽113相邻设置，并位于毛刷喷淋槽113靠近下线端130的一侧；冲洗槽115，与漂洗槽114相邻设置，并位于漂洗槽114靠近下线端130的一侧；风干槽116，与冲洗槽115相邻设置，并位于喷淋槽靠近下线端130的一侧。

如图2所示，多个清洗槽110包括超声波槽、毛刷喷淋槽113、漂洗槽114、冲洗槽115和风干槽116。其中，超声波槽的数量至少为两个，在超声波槽的数量为多个的情况下，多个超声波槽沿上线端120至下线端130的方向依次相邻设置。毛刷喷淋槽113、漂洗槽114、冲洗槽115和风干槽116位于超声波槽靠近下线端130的一侧，并沿上线端120至下线端130的方向顺序设置。需要说明的是，托盘清洗的工艺过程大致可以分为浸泡、刷洗、漂洗、冲洗和风干等过程，从而在托盘清洗过程中，抓取装置200抓取托盘900后，可以按照各个清洗槽110沿上线端120至下线端130之间顺序，依次将托盘900置入到每个清洗槽110中进行清洗，提升托盘900的清洁程度。

在一种可行的示例中，如图2所示，超声波槽的数量为两个，两个所述超声波槽包括第一超声波槽111和第二超声波槽112，第一超声波槽111靠近于上线端120设置，第二超声波槽112与第一超声波槽111相邻设置，且位于第一超声波槽111靠近下线端130的一侧。从而通过设置两个超声波槽，在抓取装置200的带动下，托盘900可依次被置入第一超声波槽111和第二超声波槽112中进行清洗，增强超声波清洗的效果，提高托盘900的清洁度。

在一些示例中，每个清洗槽110内设置有供水组件和排水组件；其中，供水组件用于向清洗槽110内供给清洗水；排水组件用于将清洗槽110内产生的污水排出。

每个清洗槽110内部均设置有供水组件和排水组件，在各个清洗槽110执行清洗的过程中，可以通过供水组件向清洗槽110内部加入清洗水，并在各个槽执行完相应的清洗工序后排出清洗槽110内产生的污水，实现清洗用水的供给与排出。

在一些可行的示例中，在托盘清洗系统10包括有控制系统的情况下，可利用控制组件控制供水组件与排水组件的运行，如控制供水周期和排水周期、供水量和排水量等等，进一步提升托盘清洗系统10的自动化水平。

在一些示例中，超声波槽内部设置有超声波发生器，超声波发生器用于生成清洗托盘所需的超声波。

超声波槽内部设置有超声波发生器，在超声波槽执行对托盘的清洗时，超声波发生器可以向超声波槽内的清洗水发射超声波，以利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用，使托盘上的污物被分散、乳化或剥离，提升对托盘的清洗效果。

需要说明的是，在对托盘进行清洗时，通常会采用浸泡清洗，而单纯的浸泡清洗对于托盘上的污物去除效果十分有限，由此通过在超声波槽内设置超声波发生器，可以在利用清洗水浸泡托盘的过程当中，进一步采用超声波增强对托盘的浸泡清洗效果。

在一些可行的示例中，在托盘清洗系统10包括有控制系统的情况下，可利用控制组件控制超声波发生器的运行，如控制超声波发生组件的运行周期、发生的超声波频率等等，进一步提升托盘清洗系统10的自动化水平。

在一些示例中，毛刷喷淋槽113内设置有毛刷组件和喷淋组件；毛刷组件用于刷洗托盘；喷淋组件与供水组件相连接，用于向托盘喷淋清洗水。

毛刷喷淋槽113内部设置有毛刷组件和喷淋组件，喷淋组件与供水组件相连接，从而喷淋组件能够接收到供水组件提供的清洗水，并将清洗水喷淋指毛刷喷淋槽113内的待清洗的托盘，进行喷淋清洗。同时，毛刷组件配合喷淋组件，可以对托盘进行刷洗，进一步去除在超声波槽内未能清理的污垢从托盘上刷除，提高托盘的清洁程度。

在一些可行的示例中，喷淋组件包括多个喷头，多个喷头均匀布置于毛刷喷淋槽113的内壁，喷头的输入端与供水组件相连接。

在一些可行的示例中，在托盘清洗系统10包括有控制系统的情况下，可利用控制组件控制毛刷组件和喷淋组件的运行，如控制毛刷组件的刷洗周期和刷洗位置、喷淋组件的喷淋周期和喷淋量等等。

在一些示例中，漂洗槽114内设置有清洗剂加注组件，清洗剂加注组件用于向漂洗槽114内部加注清洗剂。

漂洗槽114内设置有清洗剂加注组件，清洗剂加注组件可以向漂洗槽114内部加注清洗托盘所需的清洗剂，从而清洗剂可以混合于漂洗槽114内的清洗水形成清洗液，对托盘进行漂洗，从而利用清洗剂进一步将托盘上难以通过水洗去除的污垢进行清理，提高对托盘的清洗效果。

在一些可行的示例中，清洗剂可以为含氯清洗剂。

在一些可行的示例中，漂洗槽114内设置有水量监测组件，用于监测漂洗槽114内的清洗水量，清洗剂加注组件根据清洗水量调整清洗剂加注量，从而可以保证漂洗槽114内的清洗水量与清洗剂加注量之间的比例稳定，避免了人工加注时容易产生的剂量失衡的情况发生，在保证对托盘的清洗效果的同时，还能避免清洗剂的浪费，有利于控制托盘清洗成本。

在一些可行的示例中，冲洗槽115内设置有冲洗组件，冲洗组件与供水组件相连接，冲洗组件用于冲洗托盘。冲洗组件可以为多个水管或多个喷头，多个水管或多个喷头均匀布置于冲洗槽115的内壁，水管的输入端或喷头的输入端与供水组件相连接。

在一些可行的示例中，风干槽116内设置有热风发生器，热风发生器用于向托盘吹送气流，从而实现对托盘的风干，气流的温度可以高于室温或根据托盘材料的耐热性能进行设置。

如图1所示，在一些示例中，抓取装置200包括：轨道组件210，轨道组件210为环形结构；轨道组件210上对应于上线端120设置有上线位置，且对应于下线端130设置有下线位置；多个抓取组件220，滑动设置于轨道组件210；其中，轨道组件210包括位于上线位置和下线位置之间的直线区间和回转区间。

如图1所示，抓取装置200包括有轨道组件210和多个抓取组件220。轨道组件210为环形结构，且轨道组件210对应于清洗装置100的上线端120设置有上线位置，对应于下线端130设置有下线位置。轨道组件210在上线位置和下线位置之间分别设置有直线区间和回转区间，多个抓取组件220滑动设置在轨道组件210上，抓取组件220用于抓取托盘900，从而多个抓取组件220可以分别抓取托盘900，并沿直线区间依次将托盘900置入到上线端120和下线端130之间的各个清洗槽110内进行清洗，抓取装置200沿直线区间由上线位置移动到下线位置后，可以进一步沿回转区间返回到上线位置，以备抓取下一个托盘900，从而实现托盘清洗的流水作业，提高托盘清洗的作业效率。

在本发明中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本发明的限制。

在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种托盘清洗系统，其特征在于，包括：

清洗装置，用于清洗托盘；

抓取装置，用于抓取所述托盘；

所述清洗装置包括上线端、下线端和多个清洗槽；

多个所述清洗槽设置于所述上线端和所述下线端之间；

所述抓取装置还用于将所述托盘依次置入每个所述清洗槽进行清洗。

2.根据权利要求1所述的托盘清洗系统，其特征在于，还包括：

上线缓存装置，包括上线缓存部和上线输送部；

所述上线缓存部用于存放多个所述托盘；

所述上线输送部的一端与所述上线缓存部的输出端相连接，另一端与所述上线端相连接，所述上线输送部用于将所述托盘输送至所述抓取装置的抓取范围内；

下线缓存装置，包括下线缓存部和下线输送部；

所述下线缓存部用于存放多个所述托盘；

所述下线输送部的一端与所述下线端相连接且位于所述抓取装置的抓取范围内，另一端与所述下线缓存部的输入端相连接，所述下线缓存部用于将所述托盘输入至所述下线缓存部。

3.根据权利要求2所述的托盘清洗系统，其特征在于，还包括：

上线输送装置，与所述上线缓存部的输入端相连接，用于向所述上线缓存部输送所述托盘；

下线输送装置，与所述下线缓存部的输出端相连接，用于将所述托盘从所述下线缓存部中输出。

4.根据权利要求3所述的托盘清洗系统，其特征在于，还包括：

壳体，所述清洗装置、所述抓取装置、所述上线缓存装置、所述下线缓存装置、所述上线输送装置和所述下线输送装置均设置于所述壳体内；

上线交换装置，与所述上线输送装置相连接且至少部分位于所述壳体外部，用于接收所述壳体外部的所述托盘；

下线交换装置，与所述下线输送装置相连接且至少部分位于所述壳体外部，用于向所述壳体外部输送所述托盘。

5.根据权利要求1至权利要求4中任一项所述的托盘清洗系统，其特征在于，多个所述清洗槽包括：

至少两个超声波槽，靠近于所述上线端设置；

毛刷喷淋槽，与所述超声波槽相邻设置，并位于所述超声波槽靠近所述下线端的一侧；

漂洗槽，与所述毛刷喷淋槽相邻设置，并位于所述毛刷喷淋槽靠近所述下线端的一侧；

冲洗槽，与所述漂洗槽相邻设置，并位于所述漂洗槽靠近所述下线端的一侧；

风干槽，与所述冲洗槽相邻设置，并位于所述喷淋槽靠近所述下线端的一侧。

6.根据权利要求5所述的托盘清洗系统，其特征在于，

每个所述清洗槽内设置有供水组件和排水组件；

其中，所述供水组件用于向所述清洗槽内供给清洗水；

所述排水组件用于将所述清洗槽内产生的污水排出。

7.根据权利要求5所述的托盘清洗系统，其特征在于，

所述超声波槽内部设置有超声波发生器，所述超声波发生器用于生成清洗所述托盘所需的超声波。

8.根据权利要求5所述的托盘清洗系统，其特征在于，

所述毛刷喷淋槽内设置有毛刷组件和喷淋组件；

所述毛刷组件用于刷洗所述托盘；

所述喷淋组件与所述供水组件相连接，用于向所述托盘喷淋所述清洗水。

9.根据权利要求5所述的托盘清洗系统，其特征在于，

所述漂洗槽内设置有清洗剂加注组件，所述清洗剂加注组件用于向所述漂洗槽内部加注清洗剂。

10.根据权利要求1至权利要求4中任一项所述的托盘清洗系统，其特征在于，所述抓取装置包括：

轨道组件，所述轨道组件为环形结构；

所述轨道组件上对应于所述上线端设置有上线位置，且对应于所述下线端设置有下线位置；

多个抓取组件，滑动设置于所述轨道组件；

其中，所述轨道组件包括位于所述上线位置和所述下线位置之间的直线区间和回转区间。

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