CN114206795A - 用于制造玻璃带的方法和设备 - Google Patents
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Abstract
包含沿着第一面延伸的第一主表面的玻璃带。玻璃带包括沿着基本平行于第一面的第二面延伸的第二主表面。沿着垂直于第一主表面的厚度方向限定了第一主表面与第二主表面之间的第一厚度。第一厚度在约25μm至约125μm的范围内。边缘表面在第一面与第二面之间延伸。边缘表面包括在厚度方向上小于第一厚度的高度。还提供了玻璃带的制造方法。
Description
相关申请的交叉引用
本申请根据35U.S.C.§119,要求2019年6月20日提交的美国临时申请系列第62/864145号的优先权,本文以其作为基础并将其全文通过引用结合于此。
技术领域
本公开内容总体上涉及用于制造玻璃带的方法,更具体来说,涉及用于制造具有锥化边缘的玻璃带的方法。
背景技术
已知玻璃带可以包括约20微米(μm或微米)至约200μm的厚度。形成这些具有边缘形状的玻璃带会是缓慢且昂贵的过程。例如,玻璃带可能初始包含大于目标厚度。然后,可以将玻璃带切割成较小部分,进行堆叠以在所述部分中加工得到边缘和/或形成其他切割出来的形状,然后分离并蚀刻至最终目标厚度。但是,此类过程导致表面粗糙度的增加和光学质量的下降。替代方案涉及采用初始具有目标厚度的玻璃带。但是,为了维持这个目标厚度,在加工过程期间(可能包括任何堆叠过程中)对玻璃带的一个或多个表面进行遮蔽,这会是具有挑战性且昂贵的过程。
发明内容
提出了玻璃带的制造方法,其包括对玻璃带的第一主表面的第一区域和第二区域进行掩蔽,从而使得第一主表面包括位于第一区域与第二区域之间的第一暴露区域。方法包括:对第一暴露区域进行蚀刻从而将第一带材部分与第二带材部分分离开,以及在第一带材部分处形成第一锥形边缘和在第二带材部分处形成第二锥形边缘。通过对玻璃带进行掩蔽和蚀刻,可以以目标厚度形成具有锥形边缘形状的一个或多个带材部分。玻璃带可以初始具有目标厚度或者可以大于目标厚度。可以将玻璃带分离成具有锥形边缘形状和目标厚度的较小带材部分。此类玻璃带包括约20μm至约200μm的厚度范围。玻璃带的锥形边缘能够降低玻璃带在弯曲过程中经受的最大应力。
实施方式1:玻璃带的制造方法包括:对玻璃带的第一主表面的第一区域和第二区域进行掩蔽,从而使得第一主表面包括位于第一区域与第二区域之间的第一暴露区域。该方法包括:对玻璃带的第二主表面的第三区域和第四区域进行掩蔽,从而使得第二主表面包括位于第三区域与第四区域之间的第二暴露区域。该方法包括:对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻从而使得(包含第一区域和第三区域的)第一带材部分与(包含第二区域和第四区域的)第二带材部分分离开,以及在第一带材部分形成第一锥形边缘和在第二带材部分形成第二锥形边缘。
实施方式2:如实施方式1的方法,其还包括:在蚀刻之前,在第一暴露区域处形成初始凹槽。
实施方式3:如实施方式2的方法,其中,形成初始凹槽包括在多个位置处对第一暴露区域进行打孔。
实施方式4:如实施方式2的方法,其中,形成初始凹槽包括对第一暴露区域进行划线。
实施方式5:如实施方式1-4中任一项的方法,其中,对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻包括将第一暴露区域和第二暴露区域暴露于蚀刻剂持续一段时间,直到第一带材部分与第二带材部分分离开并且在第一带材部分的第一锥形边缘与第二带材部分的第二锥形边缘之间形成间隙。
实施方式6:如实施方式1-4中任一项的方法,其中,对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻包括将第一暴露区域和第二暴露区域暴露于蚀刻剂,以及在第一带材部分与第二带材部分分开之前终止第一暴露区域和第二暴露区域相对于蚀刻剂的暴露。
实施方式7:如实施方式6的方法,其还包括在终止第一暴露区域和第二暴露区域相对于蚀刻剂的暴露之后,向玻璃带施加机械作用力从而使得第一带材部分与第二带材部分分离开。
实施方式8:如实施方式7的方法,其中,对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻包括:在第一带材部分与第二带材部分分离开之后,将第一锥形边缘和第二锥形边缘暴露于第二蚀刻剂。
实施方式9:玻璃带的制造方法包括:在玻璃带的第一主表面或者玻璃带的第二主表面中的一个或多个表面处形成初始凹槽,所述初始凹槽形成在玻璃带的第一带材部分与玻璃带的第二带材部分之间。该方法包括:对玻璃带进行蚀刻从而降低玻璃带的厚度,以及沿着初始凹槽将第一带材部分与第二带材部分分离开,从而使得在第一带材部分处形成第一锥形边缘和在第二带材部分处形成第二锥形边缘。
实施方式10:如实施方式9的方法,其中,形成初始凹槽包括在第一带材部分与第二带材部分之间的多个位置处对第一主表面进行打孔。
实施方式11:如实施方式9的方法,其中,形成初始凹槽包括在第一带材部分与第二带材部分之间对第一主表面进行划线。
实施方式12:如实施方式9-11中任一项的方法,其中,对玻璃带进行蚀刻包括将第一主表面和第二主表面暴露于蚀刻剂持续一段时间,直到第一带材部分与第二带材部分分离开并且在第一带材部分的第一锥形边缘与第二带材部分的第二锥形边缘之间形成间隙。
实施方式13:如实施方式9-11中任一项的方法,其中,对玻璃带进行蚀刻包括将第一主表面和第二主表面暴露于蚀刻剂,以及在第一带材部分与第二带材部分分离开之前终止第一主表面和第二主表面相对于蚀刻剂的暴露。
实施方式14:如实施方式13的方法,其还包括在终止第一主表面和第二主表面相对于蚀刻剂的暴露之后,向玻璃带施加机械作用力从而使得第一带材部分与第二带材部分分离开。
实施方式15:一种玻璃带的制造方法,包括:对玻璃带的第一主表面和第二主表面进行掩蔽。该方法包括对第一主表面的第一暴露区域和第二主表面的第二暴露区域去除掩蔽。该方法包括在第一暴露区域或第二暴露区域中的一个或多个处形成初始凹槽,所述初始凹槽形成在玻璃带的第一带材部分与玻璃带的第二带材部分之间。该方法包括对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻从而沿着初始凹槽将第一带材部分与第二带材部分分离开,以及在第一带材部分处形成第一锥形边缘和在第二带材部分形成第二锥形边缘。
实施方式16:如实施方式15的方法,其中,对第一暴露区域和第二暴露区域去除掩蔽包括将激光束导向到覆盖了第一暴露区域的掩模和覆盖了第二暴露区域的第二掩模。
实施方式17:如实施方式16的方法,其中,形成初始凹槽包括将激光束导向到第一暴露区域从而在多个位置处对第一暴露区域进行打孔。
实施方式18:如实施方式16的方法,其中,形成初始凹槽包括对第一暴露区域进行划线。
实施方式19:实施方式15-18中任一项的方法,其还包括:维持玻璃带的初始厚度,从而使得在蚀刻之前的限定为第一位置处的第一主表面与第二主表面之间的玻璃带的初始厚度基本等于在蚀刻之后的限定为所述第一位置处第一主表面与第二主表面之间的第一带材部分的最终厚度,所述第一位置与第一暴露区域和第二暴露区域间隔开一段距离。
实施方式20:如实施方式19的方法,其中,维持玻璃带的初始厚度包括将初始厚度维持在约20μm至约200μm的范围内。
实施方式21:包含沿着第一面延伸的第一主表面的玻璃带。该玻璃带包括沿着基本平行于第一面的第二面延伸的第二主表面。沿着垂直于第一主表面的厚度方向限定了第一主表面与第二主表面之间的第一厚度。该第一厚度在约25μm至约125μm的范围内。玻璃带包括在第一面与第二面之间延伸的边缘表面。边缘表面包括在厚度方向上小于第一厚度的高度。
实施方式22:如实施方式21的玻璃带,其中,边缘表面沿着基本垂直于第一面的边缘面延伸,所述边缘表面距离第一面为第一间距厚度并且距离第二面为第二间距厚度。
实施方式23:如实施方式22的玻璃带,其中,第一间距厚度基本等于第二间距厚度。
实施方式24:如实施方式21的玻璃带,其中,边缘表面为非平坦的。
实施方式25:玻璃带包括沿着第一面延伸的第一主表面以及沿着基本平行于第一面的第二面延伸的第二主表面。沿着垂直于第一主表面的厚度方向限定了第一主表面与第二主表面之间的第一厚度。该第一厚度在约25μm至约125μm的范围内。玻璃带包括在第一面与第二面之间沿着基本垂直于第一面的边缘面延伸的边缘表面。玻璃带包括在第一主表面的第一外边缘与边缘表面的第一外边缘之间延伸的第一中间表面。玻璃带包括在第二主表面的第一外边缘与边缘表面的第二外边缘之间延伸的第二中间表面。在平行于第一主表面的方向上的第一主表面的第一外边缘与边缘面之间的第一间距长度是在约5μm至约85μm的范围内,以及在沿着平行于边缘面的方向上的边缘表面的第一外边缘与第一面之间的第一间距厚度是约25μm至约100μm的范围内。
实施方式26:如实施方式25的玻璃带,其中,在平行于第二主表面的方向上的第二主表面的第一外边缘与边缘面之间的第二间距长度是在约5μm至约85μm的范围内。
实施方式27:如实施方式26的玻璃带,其中,第一间距长度基本等于第二间距长度。
实施方式28:如实施方式25-27中任一项的玻璃带,其中,在沿着平行于边缘面的方向上的边缘表面的第二外边缘与第二面之间的第二间距厚度是约25μm至约100μm的范围内。
实施方式29:如实施方式28的玻璃带,其中,第一间距厚度基本等于第二间距厚度。
实施方式30:如实施方式25-29中任一项的玻璃带,其中,第一中间表面不平行于第二中间表面。
实施方式31:如实施方式25-30中任一项的玻璃带,其中,边缘表面包括在厚度方向上小于第一厚度的高度。
在以下的详细描述中提出了本文公开实施方式的其他特征和优点,其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言,根据所作描述就容易看出,或者通过实施包括以下详细描述、权利要求书以及附图在内的本文所述的实施方式而被认识。要理解的是,前面的一般性描述和以下的详细描述中所存在的实施方式都是用来提供理解要求保护的本文所揭示的实施方式的性质和特性的总体评述或框架。包括的附图提供了进一步的理解,附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图举例说明了本文的各种实施方式,并与描述一起用来解释其原理和操作。
附图说明
参考附图阅读下文详细描述时,更好地理解这些和其他方面、实施方式和优点,其中:
图1示意性显示根据本公开内容实施方式的玻璃制造设备的示例性实施方式;
图2显示根据本公开内容实施方式,沿着图1的线2-2的玻璃制造设备的横截面透视图;
图3显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的透视图;
图4显示根据本公开内容实施方式,沿着图3的线4-4的玻璃带的示例性实施方式的俯视图;
图5显示根据本公开内容实施方式,沿着图4的线5-5的玻璃带的示例性实施方式的截面图;
图6显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,其具有暴露于蚀刻剂的玻璃带的未掩蔽区域;
图7显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,其具有包括锥形边缘的玻璃带的带材部分;
图8显示根据本公开内容实施方式的包含初始凹槽的玻璃带的示例性实施方式的俯视图
图9显示根据本公开内容实施方式,沿着图8的线9-9的玻璃带的示例性实施方式的截面图;
图10显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,其具有暴露于蚀刻剂的玻璃带的未掩蔽区域;
图11显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,这是在玻璃带的未掩蔽区域相对于蚀刻剂的暴露终止之后;
图12显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,这是在第一带材部分与第二带材部分分离开之后;
图13显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,其中,带材部分的锥形边缘暴露于蚀刻剂;
图14显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的俯视图,其中,掩模覆盖了玻璃带的第一主表面
图15显示根据本公开内容实施方式,沿着图14的线14-14的玻璃带的示例性实施方式的截面图;
图16显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,这是在去除了覆盖玻璃带的主表面的一部分掩模之后;
图17显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,其中形成有初始凹槽;
图18显示根据本公开内容实施方式的沿图14的视图18截取的玻璃带部分的放大图;
图19显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的俯视图,其中,在玻璃带的第一主表面中形成了初始凹槽;
图20显示根据本公开内容实施方式,沿着图19的线20-20的玻璃带的示例性实施方式的截面图;
图21显示根据本公开内容实施方式的暴露于蚀刻剂的玻璃带的示例性实施方式的截面图;
图22显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,这是在玻璃带相对于蚀刻剂的暴露终止之后;
图23显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,这是在第一带材部分与第二带材部分分离开之后;
图24显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的示例性实施方式的截面图,这是在对玻璃带进行蚀刻从而使得第一带材部分与第二带材部分分离开之后;
图25显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的锥形边缘的示例性实施方式的截面图;
图26显示根据本公开内容实施方式的玻璃带的锥形边缘的其他实施方式的截面图;
图27显示根据本公开内容实施方式的经受弯曲测试的玻璃带的示例性实施方式的透视图;
图28显示根据本公开内容实施方式,沿着图27的线28-28的玻璃带的示例性实施方式的截面图;
图29显示根据本公开内容实施方式的具有非锥形边缘的玻璃带的应力的一些实施方式的图;
图30显示根据本公开内容实施方式的具有非锥形边缘的玻璃带的应力的一些实施方式的图;
图31显示根据本公开内容实施方式的具有非锥形边缘的玻璃带的应力的一些实施方式的图;
图32显示根据本公开内容实施方式的具有锥形边缘的玻璃带的应力的一些实施方式的图;
图33显示根据本公开内容实施方式的沿图28的视图33截取的玻璃带的锥形边缘的一些实施方式的放大图;
图34显示根据本公开内容实施方式的具有锥形边缘的玻璃带的应力的一些实施方式的图;以及
图35显示根据本公开内容实施方式的沿图28的视图33截取的玻璃带的锥形边缘的一些实施方式的放大图。
具体实施方式
现在,下文将参照附图更完整地描述实施方式,其中,附图中显示了示例性实施方式。只要有可能,在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。但是,本公开内容可以以许多不同的形式实施,不应被解读成局限于在此提出的实施方式。
本公开内容涉及玻璃制造设备和玻璃制造方法。现在将通过从一定量的熔融材料制造玻璃带的示例性实施方式的方式来描述玻璃的制造方法和设备。如图1示意性所示,在一些实施方式中,示例性玻璃制造设备100可以包括:玻璃熔融和传递设备102,以及包含设计成从一定量的熔融材料121形成带材103的成形容器140的成形设备101。在一些实施方式中,带材103可以包括中心部分152,其位于沿着带材103的第一外边缘153和第二外边缘155形成的相对边缘部分(例如,边缘凸珠)之间,其中,边缘凸珠的厚度会大于中心部分的厚度。此外,在一些实施方式中,可以沿着分离路径151通过玻璃分离器149(例如,划线器、划线轮、金刚石尖端、激光等)从带材103分离得到分离的玻璃带104。在一些实施方式中,在从带材130分离得到分开的玻璃带104之前或之后,可以去除沿着第一外边缘153和第二外边缘155形成的边缘凸珠,从而提供中心部分152作为包含均匀厚度的高质量的分开的玻璃带104。
在一些实施方式中,玻璃熔融和传递设备102可以包括取向成从储料箱109接收批料材料107的熔融容器105。批料材料107可以通过批料传递装置111引入,用马达113来驱动所述批料传递装置111。在一些实施方式中,可以运行任选的控制器115来激活马达113,以将所需量的批料材料107引入熔融容器105中,如箭头117所示。熔融容器105可以加热批料材料107以提供熔融材料121。在一些实施方式中,熔体探针119可以用来测量竖管123内的熔融材料121的水平,并通过通信线路125的方式将测得的信息传输到控制器115。
此外,在一些实施方式中,玻璃熔融和传递设备102可以包括第一调节工作站,其包括位于熔融容器105下游并且通过第一连接导管129的方式与熔融容器105相连的澄清容器127。在一些实施方式中,可以通过第一连接导管129的方式,将熔融材料121从熔融容器105借助于重力进料到澄清容器127。例如,在一些实施方式中,重力可以驱使熔融材料121通过第一连接导管129的内部路径,从熔融容器105到澄清容器127。此外,在一些实施方式中,可以通过各种技术在澄清容器127内从熔融材料121去除气泡。
在一些实施方式中,玻璃熔融和传递设备102还可以包括第二调节工作站,其包括可以位于澄清容器127下游的混合室131。混合室131可以被用于提供熔融材料121的均质组合物,从而降低或消除不均匀性,否则的话这可能存在于离开澄清容器127的熔融材料121中。如所示,澄清容器127可以通过第二连接导管135的方式与混合室131相连。在一些实施方式中,可以通过第二连接导管135的方式,将熔融材料121从澄清容器127借助于重力进料到混合室131。例如,在一些实施方式中,重力可以驱使熔融材料121通过第二连接导管135的内部路径,从澄清容器127到混合室131。
此外,在一些实施方式中,玻璃熔融和传递设备102可以包括第三调节工作站,其包括可以位于混合室131下游的传递容器133。在一些实施方式中,传递容器133可以对要进料到入口导管141的熔融材料121进行调节。例如,传递容器133可以起到储料器和/或流动控制器的作用,来调节并提供熔融材料121稳定流动到入口导管141。如所示,混合室131可以通过第三连接导管137的方式与传递容器133相连。在一些实施方式中,可以通过第三连接导管137的方式,将熔融材料121从混合室131借助于重力进料到传递容器133。例如,在一些实施方式中,重力可以驱使熔融材料121通过第三连接导管137的内部路径,从混合室131到传递容器133。如进一步所示,在一些实施方式中,传递管道139可以放置成将熔融材料121传递到成形设备101(例如,成形容器140的入口导管141)。
成形设备101可以包括根据本公开内容特征的成形容器的各种实施方式,其包括:具有用于对玻璃带进行熔合拉制的楔状物的成形容器,具有对玻璃带进行狭缝拉制的狭缝的成形容器,或者提供有压制辊来对来自成形容器的玻璃带进行压辊的成形容器。举例来说,可以提供下文所示和公开的成形容器140从(定义为成形楔209的根部145的)底部边缘熔合拉制熔融材料121,从而产生能够拉制成带材103的熔融材料121的带材。例如,在一些实施方式中,熔融材料121可以从入口导管141传递到成形容器140。然后,可以部分基于成形容器140的结构将熔融材料121成形为带材103。例如,如所示,可以沿着以玻璃制造设备100的拉制方向154延伸的拉制路径,从成形容器140的底部边缘(例如,根部145)拉制熔融材料121。在一些实施方式中,边缘引导器163、164可以引导熔融材料121离开成形容器140并且部分限定了带材103的宽度“W”。在一些实施方式中,带材103的宽度“W”在带材103的第一外边缘153与带材103的第二外边缘155之间延伸。
在一些实施方式中,在带材103的第一外边缘153与带材103的第二外边缘155之间延伸的带材103的宽度“W”可以是大于或等于约20毫米(mm),例如大于或等于约50mm,例如大于或等于约100mm,例如大于或等于约500mm,例如大于或等于约1000mm,例如大于或等于约2000mm,例如大于或等于约3000mm,例如大于或等于约4000mm,但是在其他实施方式中也可以提供小于或者大于上文所提及宽度的其他宽度。例如,在一些实施方式中,带材103的宽度“W”可以是约20mm至约4000mm的范围内,例如在约50mm至约4000mm的范围内,例如在约100mm至约4000mm的范围内,例如在约500mm至约4000mm的范围内,例如在约1000mm至约4000mm的范围内,例如在约2000mm至约4000mm的范围内,例如在约3000mm至约4000mm的范围内,例如在约20mm至约3000mm的范围内,例如在约50mm至约3000mm的范围内,例如在约100mm至约3000mm的范围内,例如在约500mm至约3000mm的范围内,例如在约1000mm至约3000mm的范围内,例如在约2000mm至约3000mm的范围内,例如在约2000mm至约2500mm,以及其间的所有范围和子范围。
图2显示图1的成形设备101(例如,成形容器140)沿线2-2的横截面透视图。在一些实施方式中,成形容器140可以包括凹槽201,其取向成从入口导管141接收熔融材料121。出于示意性目的,为了清楚起见从图2去除了熔融材料121的交叉线。成形容器140还可以包括成形楔209,其包括在成形楔209的相对端部210、211(参见图1)之间延伸的一对向下倾斜的会聚表面部分207、208。成形楔209的这对向下倾斜的会聚表面部分207、208可以沿着拉制方向154会聚从而沿着成形容器140的根部145相交。玻璃制造设备100的拉制面213可以沿着拉制方向154延伸穿过根部145。在一些实施方式中,可以沿着拉制面213以拉制方向154拉制带材103。如所示,拉制面213可以穿过根部145将成形楔209一分为二,但是在一些实施方式中,拉制面213也可相对于根部145以其他朝向延伸。
此外,在一些实施方式中,熔融材料121可以以方向156流入成形容器140的凹槽201中并沿其流动。然后,熔融材料121可以从凹槽201溢流,同时流过相应的堰203、204,并且向下流过相应的堰203、204的外表面205、206。然后,熔融材料121的各物流可以沿着成形楔209的向下倾斜的会聚表面部分207、208流动,以从成形容器140的根部145拉制离开,在该根部145,流会聚并熔合成带材103。然后可以在拉制面213沿着拉制方向154从根部145拉出熔融材料的带材103。在一些实施方式中,基于带材103的纵向位置,带材103包括一种或多种材料状态。例如,在一个位置,带材103可以包括粘性熔融材料121,而在另一个位置,带材103可以包括玻璃状状态的无定形固体(例如,玻璃带)。
带材103包括面朝相反方向且限定了带材103的厚度“T”(例如,平均厚度)的第一主表面215和第二主表面216。在一些实施方式中,带材103的厚度“T”可以是:小于或等于约2毫米(mm)、小于或等于约1毫米、小于或等于约0.5毫米,例如:小于或等于约300微米(μm)、小于或等于约200微米、或者小于或等于约100微米,但是在其他实施方式中也可以提供其他厚度。例如,在一些实施方式中,带材103的厚度“T”可以是:在约20μm至约200μm的范围内,在约50μm至约750μm的范围内,在约100μm至约700μm的范围内,在约200μm至约600μm的范围内,在约300μm至约500μm的范围内,在约50μm至约500μm的范围内,在约50μm至约700μm的范围内,在约50μm至约600μm的范围内,在约25μm至约500μm的范围内,在约50μm至约400μm的范围内,在约50μm至约300μm的范围内,在约50μm至约200μm的范围内,在约50μm至约100μm的范围内,在约25μm至约125μm,包括其间的所有厚度范围和子范围。此外,带材103可以包括各种组成,例如:钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硼硅酸盐玻璃、含碱性玻璃或者无碱性玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、碱土铝硅酸盐玻璃等。
在一些实施方式中,然后当通过成形容器140形成带材103时,玻璃分离器149(参见图1)可以沿着分离路径151从带材103分离玻璃带104。如所示,在一些实施方式中,分离路径151可以沿着第一外边缘153与第二外边缘155之间的带材103的宽度“W”延伸。此外,在一些实施方式中,分离路径151可以垂直于带材103的拉制方向154延伸。除此之外,在一些实施方式中,拉制方向154可以限定这样的方向,会沿着该方向从成形容器140对带材103进行拉制。
在一些实施方式中,可以堆叠多个分离开的玻璃带104来形成分离开的玻璃带104的堆叠。在一些实施方式中,可以在一对相邻的分离开的玻璃带104之间放置夹层材料从而防止接触并因此保留了那对分离开的玻璃带104的原始表面。
在其他实施方式中,虽然未示出,但是可以将来自玻璃制造设备的带材103卷绕到储存辊上。一旦在储存辊上储存了所需长度的卷绕带材,可以通过玻璃分离器149分离带材103从而在储存辊上储存了分离开的玻璃带。在其他实施方式中,可以将分离开的玻璃带分离成另一个分离开的玻璃带。例如,(例如来自玻璃带堆叠的)分离开的玻璃带104可以被进一步分离成另一分离开的玻璃带。在其他实施方式中,可以解绕储存在储存辊上的分离开的玻璃带并进一步分离成另一分离开的玻璃带。
然后可以将分离开的玻璃带加工成所需应用(例如,显示器应用)。例如,分离开的玻璃带可以用于宽范围的显示器应用,包括:液晶显示器(LCD)、电泳显示器(EPD)、有机发光二极管显示器(OLED)、等离子体显示面板(PDP)、触摸传感器、光伏以及其他电子显示器。
参见图3,显示玻璃带104的透视图。玻璃带104可以包括第一主表面215和第二主表面216。在一些实施方式中,第一主表面215或第二主表面216中的一个或多个可以是平坦的。例如,第一主表面215和第二主表面216可以是平坦的,并且在一些实施方式中,第一主表面215可以平行于第二主表面216。可以在第一主表面215与第二主表面216之间限定范围是约20微米(μm)至约200μm或者范围是约25μm至约125μm的初始厚度301。在一些实施方式中,初始厚度301的范围可以是约50μm至约100μm。在一些实施方式中,初始厚度301的范围可以是约60μm至约80μm。在一些实施方式中,玻璃带104可以包括在第一主表面215与第二主表面216之间延伸的边缘303。边缘303可以限定玻璃带104的最外周界,并且可以绕着玻璃带104的边界延伸。
在一些实施方式中,玻璃带104可以包括以下一种或多种:无碱性的铝硅酸盐、硼硅酸盐、硼铝硅酸盐或者硅酸盐玻璃组成。在一些实施方式中,玻璃带104可以包括:含碱性的铝硅酸盐、硼硅酸盐、硼铝硅酸盐或者硅酸盐玻璃组成。在一些实施方式中,可以向用于玻璃带104的任意前述组成添加碱土改性剂。在一些实施方式中,玻璃带104可以包括以下玻璃组成中的一种或多种:SiO2的范围是约64%至约69%(以摩尔%,除非另有说明,否则所有组成元素的百分数的都是摩尔%),Al2O3的范围是约5%至约12%,B2O3的范围是约8%至约23%,MgO的范围是约0.5%至约2.5%,CaO的范围是约1%至约9%,SrO的范围是约0%至约5%,BaO的范围是约0%至约5%,SnO2的范围是约0.1%至约0.4%,ZrO2的范围是约0%至约0.1%,或者Na2O的范围是约1%至约1%。在一些实施方式中,玻璃带104可以包括以下玻璃组成中的一种或多种:SiO2约为67.4%(摩尔%),Al2O3约为12.7%,B2O3约为3.7%,MgO约为2.4%,CaO约为0%,SrO约为0%,SnO2约为0.1%,或者Na2O约为13.7%。在一些实施方式中,玻璃带104可以包括较低的弹性模量从而降低弯曲过程中的拉伸应力。
参见图4,显示图3的玻璃带104沿线4-4的俯视图。在一些实施方式中,可以掩蔽一部分的玻璃带104。例如,可以放置第一掩模401、第二掩模403、第三掩模405和/或第四掩模407来覆盖第一主表面215。在一些实施方式中,可以在相邻的掩模401、403、405、407之间限定了一个或多个未被掩蔽区域。例如,可以在第一掩模401与第二掩模403之间限定第一未被掩蔽区域411。可以在第二掩模403与第四掩模407之间限定第二未被掩蔽区域413。可以在第三掩模405与第四掩模407之间限定第三未被掩蔽区域415。可以在第一掩模401与第三掩模405之间限定第四未被掩蔽区域417。在一些实施方式中,未被掩蔽区域411、413、415、417可以是暴露出来的并且没有被掩模覆盖。例如,垂直于第一主表面215的轴可以没有在第一未被掩蔽区域411、第二未被掩蔽区域413、第三未被掩蔽区域415和/或第四未被掩蔽区域417处与掩模401、403、405、407中的一个相交。虽然在图4中显示玻璃带104被四个掩模掩蔽,但是玻璃带104不限于此,并且在一些实施方式中,玻璃带104可以被零个或者多个更多个掩模掩蔽。例如,在一些实施方式中,玻璃带104可以被第一掩模401和第二掩模403掩蔽,但是没有被第三掩模405或第四掩模407掩蔽。在一些实施方式中,玻璃带104可以初始被单块掩模掩蔽(例如,如图14所示),而在一些实施方式中,玻璃带104可以初始未被掩蔽(例如,如图19所示)。
参见图5,显示图4的玻璃带104沿线5-5的截面图。在一些实施方式中,除了第一主表面215被至少部分掩蔽(例如,如图14所示,具有第一掩模401、第二掩模403、第三掩模405和第四掩模407)之外,可以对第二主表面216进行类似的掩蔽。在一些实施方式中,可以用与第一主表面215相同数量的掩模对第二主表面216进行掩蔽。在一些实施方式中,第一主表面215的掩模中的一个或者全部可以与第二主表面216的对应掩模配对。在一些实施方式中,每对掩模中的掩模可以沿着垂直于第一主表面215和/或第二主表面216的方向横向对齐。在一些实施方式中,每对掩模中的掩模可以分别是相同的形状和/或尺寸。例如,玻璃带104的制造方法可以包括用一个或多个掩模来对玻璃带104的第一主表面215和第二主表面216进行掩蔽。在一些实施方式中,第五掩模501可以以与掩蔽了第一主表面215的第一掩模401基本相对的方式掩蔽第二主表面216。在一些实施方式中,第一掩模401的形状、尺寸和横向位置可以基本匹配第五掩模501。例如,第一掩模401和第五掩模501可以横向对齐,其中,基本垂直于玻璃带104所限定的平面的轴可以在一些位置与第一掩模401和第五掩模501相交,而在余下位置,没有与第一掩模401或第五掩模501中的任一个相交。在一些实施方式中,第六掩模503可以以与掩蔽了第一主表面215的第二掩模403基本相对的方式掩蔽第二主表面216。在一些实施方式中,第二掩模403的形状、尺寸和横向位置可以基本匹配第六掩模503。例如,第二掩模403和第六掩模503可以横向对齐,其中,基本垂直于玻璃带104所限定的平面的轴可以在一些位置与第二掩模403和第六掩模503相交,而在余下位置,没有与第二掩模403或第六掩模503中的任一个相交。虽然图5未示出,但是在一些实施方式中,额外的掩模可以在与遮蔽了第一主表面215的第三掩模405(例如,如图4所示)和第四掩模407(例如,如图4所示)基本相对的位置遮蔽了第二主表面216。
在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括对玻璃带104的第一主表面215的第一区域505和第二区域507进行掩蔽。例如,为了掩蔽第一区域505和第二区域507,可以放置第一掩模401来覆盖第一区域505,同时可以放置第二掩模403来覆盖第二区域507。在一些实施方式中,第一掩模401和第二掩模403可以以数种方式(例如,层叠、丝网印刷等)进行放置来覆盖对应区域。在一些实施方式中,第一掩模401和第二掩模403可以包含对于玻璃带104可能要发生暴露的蚀刻剂可以具有抗性的材料。例如,第一掩模401和/或第二掩模403可以包括以下一种或多种:Vitayon抗HF墨或者其他抗蚀刻型墨,光刻抗性剂(例如,AZP4620等),具有硅烷改性的聚苯乙烯材料,层叠膜等。通过对第一区域505和第二区域507进行掩蔽,可以在第一区域505与第二区域507之间使得第一主表面215的第一暴露区域509暴露出来,其中,第一暴露区域509可以没有被掩模覆盖。在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括对玻璃带104的第二主表面216的第三区域513和第四区域515进行掩蔽。例如,为了掩蔽第三区域513和第四区域515,可以放置第五掩模501来覆盖第三区域513同时可以放置第六掩模503来覆盖第四区域515。在一些实施方式中,第五掩模501和第六掩模503可以以数种方式(例如,层叠、丝网印刷等)进行放置来覆盖对应区域。在一些实施方式中,第五掩模501和第六掩模503可以包含对于玻璃带104可能要发生暴露的蚀刻剂可以具有抗性的材料。例如,第五掩模501和/或第六掩模503可以包括与第一掩模401和第二掩模403相似的材料,例如包括以下一种或多种:Vitayon抗HF墨或者其他抗蚀刻型墨,光刻抗性剂(例如,AZP4620等),具有硅烷改性的聚苯乙烯材料,层叠膜等。通过对第三区域513和第四区域515进行掩蔽,可以在第三区域513与第四区域515之间使得第二主表面216的第二暴露区域517暴露出来,其中,第二暴露区域517可以没有被掩模覆盖。在一些实施方式中,本文相对于图1-24所示和所述的掩模可以包含相同材料,但是在其他实施方式中,掩模可以包含不同材料。
在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括对第一暴露区域509和第二暴露区域517进行蚀刻,从而将(包含第一区域505和第三区域513)的第一带材部分与(包含第二区域507和第四区域515)的第二带材部分分离开。为了对第一暴露区域509和第二暴露区域517进行蚀刻,可以将玻璃带104暴露于蚀刻剂521。例如,由于第一主表面215和第二主表面216被掩蔽的部分(例如,通过第一掩模401、第二掩模403、第三掩模405、第四掩模407、第五掩模501、第六掩模503等),第一主表面215和第二主表面216的遮蔽部分可以被覆盖、遮挡、遮蔽等。在一些实施方式中,掩模401、403、405、407、501、503可以抵抗蚀刻剂521,从而第一主表面215和/或第二主表面216可能被掩模401、403、405、407、501、503覆盖的区域可以没有被蚀刻。在一些实施方式中,在蚀刻过程中,掩模401、403、405、407、501、503可以留在玻璃带104的第一主表面215或第二主表面216上。在一些实施方式中,蚀刻剂521可以包含以下一种或多种:约0%至约50%HF,HF与HNO3、HsSO4的组合等。
在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括:维持玻璃带104的初始厚度301,从而使得在蚀刻之前的玻璃带104的初始厚度301(其限定在第一主表面215与第二主表面216之间的第一位置525处,所述第一位置525与第一暴露区域509和第二暴露区域517间隔的距离为527)可以基本等于蚀刻之后的第一带材部分的最终厚度(例如,图7所示的最终厚度751)(其限定在第一主表面215与第二主表面216之间的第一位置525处)。例如,由于对第一主表面215和第二主表面216的部分掩蔽,掩蔽部分(例如,第一区域505、第二区域507、第三区域513、第四区域515)可以没有暴露于蚀刻剂521,从而可以维持玻璃带104的掩蔽部分的初始厚度301。在一些实施方式中,可以在整个蚀刻中维持初始厚度301,例如从玻璃带104初始暴露于蚀刻剂521的时刻到玻璃带104暴露于蚀刻剂521终止的时刻。在一些实施方式中,在玻璃带104暴露于蚀刻剂521已经终止之后(例如,图7所示),玻璃带104的掩蔽部分的最终厚度751可以基本等于玻璃带104的掩蔽部分的初始厚度301。在一些实施方式中,维持玻璃带104的初始厚度301可以包括维持可以落在约20μm至约200μm范围内或者约25μm至约125μm范围内的初始厚度301。例如,初始厚度301可以是约20μm至约200μm的范围内或者约25μm至约125μm的范围内,可以维持成使得最终厚度751可以类似地在约20μm至约200μm的范围内或者约25μm至约125μm的范围内。
参见图6,显示在蚀刻过程中的玻璃带104,同时第一未掩蔽区域411(例如,包括第一暴露区域509和第二暴露区域517)暴露于蚀刻剂521。在一些实施方式中,蚀刻剂521可以降低玻璃带104在第一未掩蔽区域411处的厚度。例如,在使得第一暴露区域509和第二暴露区域517暴露于蚀刻剂521持续一段时间之后,玻璃带104在第一暴露区域509与第二暴露区域517之间的最小厚度601可以小于玻璃带104在可以被掩蔽的区域处(例如,第一区域505与第三区域513之间,第二区域507与第四区域515之间等)的初始厚度301。在一些实施方式中,玻璃带104的最小厚度601可以位于第一掩模401与第二掩模403之间以及第五掩模501与第六掩模503之间的中间位置602(例如,中点)。例如,玻璃带104在第一未掩蔽区域411可以包括沙漏形状,其中,玻璃带104的厚度以第一方向603a锥化,所述第一方向603a以朝向中间位置602延伸远离与第一区域505和第三区域513相邻的位置605a,以及其中,玻璃带104的厚度以与第一方向603a相反的第二方向603b锥化,所述第二方向603b以朝向中间位置602延伸远离与第二区域507和第四区域515相邻的位置605b。
参见图7,在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括:对第一暴露区域509和第二暴露区域517(例如,图5-6所示)进行蚀刻从而将(包含第一区域505和第三区域513)的第一带材部分701与(包含第二区域507和第四区域515)的第二带材部分703分离开,以及在第一带材部分701形成第一锥形边缘705和在第二带材部分703形成第二锥形边缘707。例如,第一暴露区域509和第二暴露区域517可以暴露于蚀刻剂521,从而使得蚀刻(例如,图5-6所示)可以持续直到在第一未掩蔽区域411中形成间隙711。当形成了间隙711,可以将第一带材部分701(例如,包含玻璃带104的第一区域505和第三区域513)与第二带材部分703(例如,包含第二区域507和第四区域515)分离开。一旦形成间隙711,则可以停止蚀刻。在一些实施方式中,第一暴露区域509和第二暴露区域517的蚀刻可以包括将第一暴露区域509和第二暴露区域517暴露于蚀刻剂521持续一段时间直到第一带材部分701与第二带材部分703分离开,以及在第一带材部分701的第一锥形边缘705与第二带材部分703的第二锥形边缘703之间形成间隙711。在一些实施方式中,玻璃带104的蚀刻可以包括将第一主表面215和第二主表面216暴露于蚀刻剂521持续一段时间直到第一带材部分701与第二带材部分703分离开,以及在第一带材部分701的第一锥形边缘705与第二带材部分703的第二锥形边缘703之间形成间隙711。
在一些实施方式中,第一锥形边缘705可以包括可能是非恒定的厚度。例如,第一锥形边缘705可以包括这样的厚度,其沿着第一轴721以第一方向603a从第一带材部分701的中心朝向第一带材部分701的周界是减小的,所述第一轴721可以平行于第一带材部分701的第一主表面215和第二主表面216。例如,第一锥形边缘705可以包括第一中间表面725和第二中间表面727。第一中间表面725可以与第一带材部分701的第一主表面215是毗邻的,而第二中间表面727可以与第一带材部分701的第二主表面216是毗邻的。在一些实施方式中,第一中间表面725可能与第一带材部分701的第一主表面215不是共平面的,并且可能与第一带材部分701的第一主表面215不是平行的。在一些实施方式中,第二中间表面727可能与第一带材部分701的第二主表面216不是共平面的,并且可能与第一带材部分701的第二主表面216不是平行的。在一些实施方式中,第一中间表面725和第二中间表面727可能不是平行的,例如第一中间表面725与第二中间表面727沿着第一轴721以第一方向603a会聚。在一些实施方式中,第一中间表面725和第二中间表面727可以会聚到第一锥形边缘705的第一外边界729处的点。在一些实施方式中,第一外边界729可以包括圆化形状。
在一些实施方式中,第二锥形边缘707可以包括可能是非恒定的厚度。例如,第二锥形边缘707可以包括这样的厚度,其沿着第二轴731以第二方向603b从第二带材部分703的中心朝向第二带材部分703的周界是减小的,所述第二轴731可以平行于第二带材部分703的第一主表面215和第二主表面216。例如,第二锥形边缘707可以包括第三中间表面735和第四中间表面737。第三中间表面735可以与第二带材部分703的第一主表面215是毗邻的,而第四中间表面737可以与第二带材部分703的第二主表面216是毗邻的。在一些实施方式中,第三中间表面735可能与第二带材部分703的第一主表面215不是共平面的,并且可能与第二带材部分703的第一主表面215不是平行的。在一些实施方式中,第四中间表面737可能与第二带材部分703的第二主表面216不是共平面的,并且可能与第二带材部分703的第二主表面216不是平行的。在一些实施方式中,第三中间表面735和第四中间表面737可能不是平行的,例如第三中间表面735与第四中间表面737沿着第二轴731以第二方向603b会聚。在一些实施方式中,第三中间表面735和第四中间表面737可以会聚到第二锥形边缘707的第二外边界739处的点。在一些实施方式中,第二外边界739可以包括圆化形状。
在第一带材部分701与第二带材部分703分离之后,第一带材部分701和第二带材部分703可以去除掩蔽。例如,可以从第一带材部分701去除第一掩模401和第五掩模501,同时可以从第二带材部分730去除第二掩模403和第六掩模503。可以以数种方式,例如通过从第一主表面215和/或第二主表面216清洗掉掩模,来去除第一带材部分701和第二带材部分703的掩模。在一些实施方式中,可以朝向掩模401、501、403、503引导液体,从而从第一主表面215和/或第二主表面216去除掩模401、501、403、503。在一些实施方式中,可以以足够的速度引导加压液体从而去除掩模401、501、403、503并且对第一带材部分701和第二带材部分703进行去除掩模。在去除掩模之后,在一些实施方式中,可以将第一带材部分701和第二带材部分703浸没到强化浴中,从而沿着第一带材部分701或第二带材部分703的一个或多个表面产生压缩应力区域。
参见图8,显示玻璃带104的制造方法的其他实施方式。在一些实施方式中,可以在第一掩模401、第二掩模403、第三掩模405与第四掩模407之间,在玻璃带104中形成初始凹槽801。例如,初始凹槽801可以形成在第一未掩蔽区域411、第二未掩蔽区域413、第三未掩蔽区域415和第四未掩蔽区域417中。例如,参见图9,显示图8的玻璃带104沿线9-9的截面图。在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括:在蚀刻之前,在第一暴露区域509处形成初始凹槽801。在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括在玻璃带的第一主表面125或者玻璃带104的第二主表面216中的一个或多个处形成初始凹槽801,其中,初始凹槽801可以形成在玻璃带104的第一带材部分701与玻璃带104的第二带材部分703之间。例如,如图9所示,在一些实施方式中,初始凹槽801可以形成在第一主表面215和第二主表面216中。在一些实施方式中,初始凹槽801可以形成在第一主表面215中而没有形成在第二主表面216中,但是在一些实施方式中,初始凹槽801可以形成在第二主表面216中而没有形成在第一主表面215中。可以以数种方式来形成初始凹槽801。例如,在一些实施方式中,形成初始凹槽801可以包括对第一暴露区域509进行划线以减少第一暴露区域509和第二暴露区域517的蚀刻时间。在一些实施方式中,划线装置901可以对第一暴露区域509进行划线以形成初始凹槽801。划线装置901可以包括例如:激光(例如,CO2激光、CO激光、贝塞尔束激光、CLT激光等)、划线轮、钢丝绒或者海绵砂磨料等。作为补充或替代,在一些实施方式中,形成初始凹槽801可以包括对第二暴露区域517进行划线以减少第一暴露区域509和第二暴露区域517的蚀刻时间。在一些实施方式中,额外的划线装置901可以对第二暴露区域517进行划线以形成初始凹槽801。
参见图10,在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括:对第一暴露区域509和第二暴露区域517进行蚀刻从而将(包含第一区域505和第三区域513)的第一带材部分701与(包含第二区域507和第四区域515)的第二带材部分703沿着初始凹槽801分离开,以及在第一带材部分701形成第一锥形边缘(例如,图12所示)和在第二带材部分703形成第二锥形边缘(例如,图12所示)。通过对第一暴露区域509和第二暴露区域517进行蚀刻,可以将玻璃带104暴露于蚀刻剂521。例如,由于第一主表面215和第二主表面216被掩蔽的部分(例如,通过第一掩模401、第二掩模403、第三掩模405、第四掩模407、第五掩模501、第六掩模503等),第一主表面215和第二主表面216的遮蔽部分可以被覆盖、遮挡、遮蔽等。在一些实施方式中,掩模401、403、405、407、501、503可以抵抗蚀刻,从而第一主表面215或第二主表面215可能被掩模401、403、405、407、501、503覆盖的区域可以没有被蚀刻。在一些实施方式中,掩模401、403、405、407、501、503可以对于蚀刻剂是不可渗透的,从而当玻璃带104以及掩模401、403、405、407、501、503可能暴露于蚀刻剂521时,掩模401、403、405、407、501、503可以留在玻璃带104的第一主表面215或者第二主表面216上。在一些实施方式中,蚀刻剂521可以包含以下一种或多种:约0%至约50%HF,HF与HNO3、HsSO4的组合等。
参见图11,在一些实施方式中,蚀刻剂521可以降低玻璃带104在第一未掩蔽区域411处的厚度。例如,在使得第一暴露区域509和第二暴露区域517暴露于蚀刻剂521持续一段时间之后,玻璃带104在第一暴露区域509与第二暴露区域517之间的最小厚度1101可以减小并且可以小于玻璃带104在可以被掩蔽的区域处(例如,第一区域505与第三区域513之间,第二区域507与第四区域515之间等)的初始厚度301。在一些实施方式中,玻璃带104的最小厚度1101可以位于第一掩模401与第二掩模403之间以及第五掩模501与第六掩模503之间的中间位置602(例如,中点)。在一些实施方式中,对第一暴露区域509和第二暴露区域517进行蚀刻可以包括:将第一暴露区域509和第二暴露区域517暴露于蚀刻剂521,以及在第一带材部分701与第二带材部分703分离之前终止第一暴露区域509和第二暴露区域517相对于蚀刻剂521的暴露。例如,如图10所示,第一暴露区域509和第二暴露区域517可以暴露于蚀刻剂521,而在图11中,可以在第一带材部分701仍然与第二带材部分703附连的情况下(例如,在第一带材部分701与第二带材部分703分离之前),终止第一暴露区域509和第二暴露区域517相对于蚀刻剂521的暴露。例如,如图11所示,尽管第一未掩蔽区域411可能不再暴露于蚀刻剂521,但是第一未掩蔽区域411的最小厚度1101仍然可以小于玻璃带104在可能被掩蔽区域处的初始厚度301。在一些实施方式中,形成初始凹槽801可以减少玻璃带104的蚀刻时间。
参见图12,在一些实施方式中,第一暴露区域509与第二暴露区域517的分离可以包括:在终止了第一暴露区域509和第二暴露区域517相对于蚀刻剂521的暴露之后,向玻璃带104施加机械作用力从而将第一带材部分701与第二带材部分703分离开。例如,可以采用超声振动或者其他类型的振动(例如,不均匀的轧辊、热冲击、空气爆裂等)来施加机械作用力。由于玻璃带104的第一未掩蔽区域411的最小厚度1101(例如,图11所示)小于玻璃带104在掩蔽区域的初始厚度301,机械作用力会导致玻璃带104在第一未掩蔽区域411破裂,其中,裂纹会传播穿过第一暴露区域509与第二暴露区域517之间的第一未掩蔽区域411。在一些实施方式中,机械作用力会大到足以导致玻璃带104在第一未掩蔽区域411处发生破裂,但是小到不足以导致玻璃带104在其他位置(例如,玻璃带104可以被掩蔽且包含初始厚度301的区域)发生破裂。在一些实施方式中,可以在蚀刻过程中施加机械作用力,例如当通过超声波施加机械作用力时,或者不同于施加弯曲力矩的其他方法。
在一些实施方式中,对第一暴露区域509和第二暴露区域517进行蚀刻,之后向玻璃带104施加机械作用力从而将(包含第一区域505和第三区域513)的第一带材部分701与(包含第二区域507和第四区域515)的第二带材部分703分离开,这可以在第一带材部分701形成第一锥形边缘1201和在第二带材部分703形成第二锥形边缘1207。例如,在向玻璃带104施加机械作用力以及从第二带材部分703分离第一带材部分701之后,会在第一未掩蔽区域411中形成间隙1211。当形成了间隙1211,可以将第一带材部分701(例如,包含玻璃带104的第一区域505和第三区域513)与第二带材部分703(例如,包含第二区域507和第四区域515)分离开。
在一些实施方式中,第一锥形边缘1201可以包括可能是非恒定的厚度。例如,第一锥形边缘1201可以包括这样的厚度,其沿着第一轴1221以第一方向1223从第一带材部分701的中心朝向第一带材部分701的周界是减小的,所述第一轴1221可以平行于第一带材部分701的第一主表面215和第二主表面216。例如,第一锥形边缘1201可以包括第一中间表面1225和第二中间表面1227。第一中间表面1225可以与第一带材部分701的第一主表面215是毗邻的,而第二中间表面1227可以与第一带材部分701的第二主表面216是毗邻的。在一些实施方式中,第一中间表面1225可能与第一带材部分701的第一主表面215不是共平面的,并且可能与第一带材部分701的第一主表面215不是平行的。在一些实施方式中,第二中间表面1227可能与第一带材部分701的第二主表面216不是共平面的,并且可能与第一带材部分701的第二主表面216不是平行的。在一些实施方式中,第一中间表面1225和第二中间表面1227可能不是平行的,例如第一中间表面1225与第二中间表面1227沿着第一轴1221以第一方向1223会聚。
在一些实施方式中,第一中间表面1225和第二中间表面1227可以在第一锥形边缘1201的第一外边界1229处会聚。例如,第一外边界1229可以包括第一边缘表面1230,其可以包括基本平坦形状。在一些实施方式中,第一中间表面1225和第二中间表面1227可以朝向第一边缘表面1230会聚,所述第一边缘表面1230在第一中间表面1225与第二中间表面1227之间延伸。在一些实施方式中,第一边缘表面1230可以沿着第一面延伸,所述第一面可以基本垂直于第一带材部分701的第一轴1221、第一主表面215或第二主表面216中的一个或多个。在一些实施方式中,第一边缘表面1230可以包括第一中间表面1225与第二中间表面1227之间的第一边界厚度1231,所述第一边界厚度1231基本等于当蚀刻终止时的第一未掩蔽区域411的最小厚度1101(例如,图11所示)。在一些实施方式中,第一锥形边缘1201可以包括截头形状,其中,第一中间表面1225和第二中间表面1227没有会聚到点,相反地,第一中间表面1225和第二中间表面1227会聚到第一边缘表面1230,所述第一边缘表面1230将第一中间表面1225与第二中间表面1227分隔开。
在一些实施方式中,第二锥形边缘1207所包含的尺寸、形状和尺度可以基本匹配第一锥形边缘1201。例如,第二锥形边缘1207可以包括可能是非恒定的厚度。在一些实施方式中,第二锥形边缘1207可以包括这样的厚度,其沿着第二轴1232以第二方向1233从第二带材部分703的中心朝向第二带材部分703的周界是减小的,所述第二轴1232可以平行于第二带材部分703的第一主表面215和第二主表面216。例如,第二锥形边缘1207可以包括第三中间表面1235和第四中间表面1237。第三中间表面1235可以与第二带材部分703的第一主表面215是毗邻的,而第四中间表面1237可以与第二带材部分703的第二主表面216是毗邻的。在一些实施方式中,第三中间表面1235可能与第二带材部分703的第一主表面215不是共平面的,并且可能与第二带材部分703的第一主表面215不是平行的。在一些实施方式中,第四中间表面1237可能与第二带材部分703的第二主表面216不是共平面的,并且可能与第二带材部分703的第二主表面216不是平行的。在一些实施方式中,第三中间表面1235和第四中间表面1237可能不是平行的,例如第三中间表面1235与第四中间表面1237沿着第二轴1232以第二方向1233会聚。
在一些实施方式中,第三中间表面1235和第四中间表面1237可以在第二锥形边缘1207的第二外边界1239处会聚。例如,第二外边界1239可以包括第二边缘表面1240,其可以包括基本平坦形状。在一些实施方式中,第三中间表面1235和第四中间表面1237可以朝向第二边缘表面1240会聚,所述第二边缘表面1240在第三中间表面1235与第四中间表面1237之间延伸。在一些实施方式中,第二边缘表面1240可以沿着第二面延伸,所述第二面可以基本垂直于第二带材部分703的第二轴1232、第一主表面215或第二主表面216中的一个或多个。在一些实施方式中,第二边缘表面1240可以包括第三中间表面1235与第四中间表面1237之间的第二边界厚度1231,所述第二边界厚度1241基本等于当蚀刻终止时的第一未掩蔽区域411的最小厚度1101(例如,图11所示)或者第一边界厚度1231中的一种或多种。在一些实施方式中,第二锥形边缘1207可以包括截头形状,其中,第三中间表面1235和第四中间表面1237没有会聚到点,相反地,第三中间表面1235和第四中间表面1237会聚到第二边缘表面1240,所述第二边缘表面1240将第三中间表面1235与第四中间表面1237分隔开。
参见图13,在一些实施方式中,可以在第一带材部分701已经与第二带材部分703分离之后,对第一中间表面1225和第二中间表面1227进行清洁和/或蚀刻。例如,在第一掩模401、第二掩模403、第五掩模501和第六掩模503覆盖了第一带材部分701和第二带材部分703的第一主表面215和第二主表面216的情况下,清洁可以包括第一锥形边缘1201和第二锥形边缘1207的最终蚀刻。例如,第一锥形边缘1201和第二锥形边缘1207可以暴露于第二蚀刻剂1301。在一些实施方式中,第一暴露区域509(例如,图9-11所示)和第二暴露区域517(例如,图9-11所示)的蚀刻包括:在第一带材部分701与第二带材部分703分离之后,将第一锥形边缘1201和第二锥形边缘1207暴露于第二蚀刻剂1301。在一些实施方式中,第二蚀刻剂1301可以类似于蚀刻剂521,并且可以包含以下一种或多种:约0%至约50%HF,HF与HNO3、HsSO4的组合等,但是在一些实施方式中,第二蚀刻剂1301可以包含不同于蚀刻剂521的材料。通过控制蚀刻时间和/或第二蚀刻剂1301的材料,可以去除第一带材部分701的表面1225、1227、1230和/或第二带材部分703的表面1235、1237、1240上的缺陷。
参见图14,显示玻璃带104的制造方法的其他实施方式。图14显示玻璃带104的俯视图,其中,掩蔽了一部分的玻璃带104。例如,第一掩模1401可以放置成覆盖玻璃带104的第一主表面215。在一些实施方式中,可以沿着玻璃带104的边缘存在未掩蔽区域,但是玻璃带104的中心部分可以被第一掩模1401覆盖。在一些实施方式中,玻璃带104可以包括一个或多个带材部分,例如:第一带材部分1403、第二带材部分1405、第三带材部分1407和第四带材部分1409。在图14中,第一带材部分1403、第二带材部分1405、第三带材部分1407和第四带材部分1409显示为虚线,因为第一带材部分1403、第二带材部分1405、第三带材部分1407和第四带材部分1409可能初始是未分离开的并且被第一掩模1401覆盖。虚线可以代表第一带材部分1403、第二带材部分1405、第三带材部分1407和第四带材部分1409在蚀刻和分离之后的位置(例如,图15-16所示)。在一些实施方式中,可以去除一部分的第一掩模1401将第一主表面215暴露出来。可以以数种方式去除第一掩模1401,例如通过能够对第一掩模1401进行激光切割的第一激光1411以及去除一部分的第一掩模1401。在一些实施方式中,第一激光1411可以包括CO2激光、CO激光、贝塞尔束激光等。第一激光1411可以相对于(可以保持固定的)玻璃带104移动,但是在一些实施方式中,玻璃带104可以相对于第一激光1411移动,使得所述第一激光1411保持固定。
参见图15,显示图14的玻璃带104沿线15-15的截面图。在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括初始对玻璃带104的第一主表面215和第二主表面216进行掩蔽。例如,第一掩模可以放置成覆盖第一主表面215,而第二掩模1501可以放置成覆盖玻璃带104的第二主表面216。在一些实施方式中,第一掩模1401和第二掩模1501可以以数种方式(例如,层叠、丝网印刷等)进行放置来覆盖对应区域。在一些实施方式中,第一掩模1401和第二掩模1501可以包含对于玻璃带104可能要发生暴露的蚀刻剂可以具有抗性的材料。例如,第一掩模1401和/或第二掩模1501可以包括以下一种或多种:Vitayon抗HF墨或者其他抗蚀刻型墨,光刻抗性剂(例如,AZP4620等),具有硅烷改性的聚苯乙烯材料,层叠膜等。
在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括对第一主表面215的第一暴露区域1503和第二主表面216的第二暴露区域1505去除掩蔽。在一些实施方式中,第一暴露区域1503和第二暴露区域1505的去除掩蔽可以包括将激光束导向到覆盖了第一暴露区域1503的第一掩模1401和覆盖了第二暴露区域1505的第二掩模1501。例如,第一激光1411可以朝向第一掩模1401覆盖了第一主表面215的第一暴露区域1503的部分引导第一激光束1507。在一些实施方式中,第一激光束1507可以烧蚀并去除第一掩模1401覆盖了第一暴露区域1503的部分。在一些实施方式中,可以提供第二激光1509来对第二暴露区域1505进行去除掩蔽。第二激光1509可以类似于第一激光1411,并且可以包括CO2激光、CO激光、贝塞尔束激光等。在一些实施方式中,第二激光1509可以朝向第二掩模1501覆盖了第二主表面216的第二暴露区域1505的部分引导第二激光束1511。在一些实施方式中,第二激光束1511可以烧蚀并去除第二掩模1501覆盖了第二暴露区域1505的部分。
参见图16,在第一暴露区域1503和第二暴露区域1505去除掩蔽之后,第一掩模1401可以覆盖一部分的第一主表面215同时第二掩模1501可以覆盖一部分的第二主表面216。例如,第一掩模1401可以包括第一掩模部分1601和第二掩模部分1603,而第二掩模1501可以包括第三掩模部分1605和第四掩模部分1607。第一掩模部分1601可以覆盖第一主表面215的第一区域1611,而第二掩模部分1603可以覆盖第一主表面215的第二区域1613。第一暴露区域1503可以位于第一区域1611与第二区域1613之间。在一些实施方式中,第三掩模部分1605可以覆盖第二主表面216的第三区域1615,而第四掩模部分1607可以覆盖第二主表面216的第四区域1617。第二暴露区域1505可以位于第三区域1615与第四区域1617之间。在一些实施方式中,可以没有在第一暴露区域1503和第二暴露区域1505中形成初始凹槽(例如,图17所示)。相反地,第一暴露区域1503和第二暴露区域1505可以以类似于相对于图5-7所示和所述的方式暴露于蚀刻剂521(例如,图5所示)。例如,蚀刻剂521可以对第一暴露区域1503和第二暴露区域1505进行蚀刻从而将第一带材部分1403与第二带材部分1405分离开。此外,第一暴露区域1503和第二暴露区域1505的蚀刻可以在第一带材部分1403形成第一锥形边缘705以及在第二带材部分1405形成第二锥形边缘707。
参见图17,在一些实施方式中,在第一暴露区域1503和第二暴露区域1505的去除掩蔽之后(例如,图15所示),玻璃的104的制造方法可以包括:在第一暴露区域1503或第二暴露区域1505中的一个或多个处形成初始凹槽1701,所述初始凹槽1701形成在玻璃带104的第一带材部分1403与玻璃带104的第二带材部分1405之间。在一些实施方式中,初始凹槽1701可以类似于图10所示的初始凹槽801。例如,初始凹槽1701可以形成在第一暴露区域1503和第二暴露区域1505这两者中,所述初始凹槽1701包括通道、凹痕、开口等。可以以数种方式来形成初始凹槽1701。在一些实施方式中,形成初始凹槽1701可以包括:朝向第一暴露区域1503引导第一激光束1507(例如,图17所示)从而在第一暴露区域1503中形成初始凹槽1701,以及朝向第二暴露区域1505引导第二激光束1511(例如,图17所示)从而在第二暴露区域1505中形成初始凹槽1701。在一些实施方式中,可以在去除掩模部分的同时形成初始凹槽1701。初始凹槽1701可以不限于通过激光形成,并且是在一些实施方式中,形成初始凹槽1701可以包括对第一暴露区域1503进行划线以降低第一暴露区域1503和第二暴露区域1505的蚀刻时间。例如,可以以类似于相对于图9所示和所述的方式形成初始凹槽1701。在一些实施方式中,划线装置901(例如,图9所示)可以对第一暴露区域1503和/或第二暴露区域1505进行划线从而形成初始凹槽1701。划线装置901可以包括例如:划线轮、钢丝绒或者海绵砂磨料等。在形成初始凹槽1701之后,第一暴露区域1503和第二暴露区域1505可以以类似于相对于图10-13所示和所述的方式暴露于蚀刻剂521(例如,图10所示)。例如,蚀刻剂521可以对第一暴露区域1503和第二暴露区域1505进行蚀刻,之后施加机械作用力从而将第一带材部分1403与第二带材部分1405分离开。此外,蚀刻和施加机械作用力可以在第一带材部分1403形成第一锥形边缘1201和在第二带材部分1405形成第二锥形边缘1207。
在一些实施方式中,初始凹槽1701可以绕着第一带材部分1403、第二带材部分1405、第三带材部分1407和/或第四带材部分1409是基本连续的。但是,初始凹槽1701可以不限于连续延伸的情况。例如,在一些实施方式中,形成初始凹槽1701可以包括朝向第一暴露区域1503引导激光束(例如,第一激光束1507、第二激光束1511)从而在多个位置对第一暴露区域1503进行打孔,以降低第一暴露区域1503和第二暴露区域1505的蚀刻时间。例如,图18显示在第一暴露区域1503已经发生暴露且已经形成了初始凹槽1701之后截取的图14的视图18的一部分玻璃带104和第一掩模1401的放大图。在一些实施方式中,初始凹槽1701可以包括在多个位置处的多个打孔1801,其中,打孔1801可以与相邻打孔1801是间隔开的。在一些实施方式中,打孔1801可以部分或者完全地延伸穿过玻璃带104。可以通过激光对第一主表面215的烧蚀来形成打孔1801。在一些实施方式中,不限于在第一主表面215中形成打孔1801,并且作为补充或替代,可以在第二主表面216中形成打孔1801。在形成了打孔1801之后,可以以类似于上文所述的方式对玻璃带104进行蚀刻,从而从第二带材部分1405分离第一带材部分1403以及形成第一锥形边缘1201和第二锥形边缘1207。由于在玻璃带104中形成了打孔1801,可以降低玻璃带104在初始凹槽1701处的蚀刻时间。在一些实施方式中,形成初始凹槽1901可以包括在第一带材部分1903与第二带材部分1905之间的多个位置处(例如,打孔1801)对第一主表面215进行打孔。例如,形成初始凹槽1901可以包括在多个位置(例如,打孔1801)处对第一暴露区域1503进行打孔,从而降低第一暴露区域1503和第二暴露区域1505的蚀刻时间。
参见图19,显示玻璃带104的制造方法的其他实施方式。在一些实施方式中,可以在玻璃带104中形成初始凹槽1901。玻璃带104可以初始是未被掩蔽的,例如,第一主表面215和第二主表面216是基本暴露出来的。例如,参见图20,显示图19的玻璃带104沿线20-20的截面图。在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括:在蚀刻之前,在玻璃带104的第一主表面215或者玻璃带的第二主表面216中的一个或多个形成初始凹槽1901。可以在玻璃带104的第一带材部分1903与玻璃带104的第二带材部分1905之间形成初始凹槽1901。在一些实施方式中,初始凹槽1901可以形成在第一主表面215中而没有形成在第二主表面216中。在一些实施方式中,初始凹槽1901可以形成在第二主表面216中而没有形成在第一主表面215中。可以以数种方式来形成初始凹槽1901。例如,在一些实施方式中,形成初始凹槽1901可以包括在第一带材部分1903与第二带材部分1905之间对第一主表面215进行划线。在一些实施方式中,划线装置901可以对第一主表面215和/或第二主表面216进行划线以形成初始凹槽1901。在一些实施方式中,形成初始凹槽1901可以包括对第一主表面215进行打孔以形成打孔1801(例如,图18所示)。在一些实施方式中,在玻璃带104暴露于蚀刻剂2101之前,玻璃带104会包括初始厚度2103。
参见图21,在一些实施方式中,玻璃带104可以暴露于蚀刻剂2101。例如,由于玻璃带104是未被掩蔽的,第一主表面215和第二主表面216会暴露于蚀刻剂2101。在一些实施方式中,蚀刻剂2101可以包含以下一种或多种:约0%至约50%HF,HF与HNO3、HsSO4的组合等。由于蚀刻剂2101与第一主表面215、第二主表面216以及初始凹槽1901发生接触,可以降低玻璃带104的厚度。在一些实施方式中,在暴露于蚀刻剂2101之前,玻璃带104的初始厚度2103可以大于约200μm。例如,初始厚度2103会是在约400μm至约700μm的范围内或者在约500μm至约600μm的范围内。在一些实施方式中,由于玻璃带104后续暴露于蚀刻剂2101降低了玻璃带104的厚度,初始厚度2103可以大于最终目标厚度。
参见图22,在一些实施方式中,玻璃带104可以暴露于蚀刻剂2101持续一段时间。例如,对玻璃带104进行蚀刻可以包括:将第一主表面215和第二主表面216暴露于蚀刻剂2101,以及在第一带材部分1903与第二带材部分1905分离之前终止第一主表面215和第二主表面216相对于蚀刻剂2101的暴露。由于第一主表面216和第二主表面215暴露于蚀刻剂2101,可以降低玻璃带104的厚度。例如,在第一主表面215和第二主表面216可能暴露于蚀刻剂2101的过程中经过一段时间之后,玻璃带104的二级厚度2201会小于初始厚度2103。在一些实施方式中,第一主表面215可以包括第一凹槽表面2203,其对应于第一主表面215中的初始凹槽1901的初始位置。在一些实施方式中,第二主表面216可以包括第二凹槽表面2205,其对应于第二主表面216中的初始凹槽1901的初始位置。可以在第一凹槽表面2203与第二凹槽表面2205之间限定最小距离2207,其中,最小距离2207可以限定玻璃带104的最小厚度。通过在第一带材部分1903与第二带材部分1905分离之前终止第一主表面215和第二主表面216相对于蚀刻剂2101的暴露,第一带材部分1903可以保持与第二带材部分1905的附连。在一些实施方式中,形成初始凹槽1901可以减少玻璃带104的蚀刻时间。
参见图23,在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括:在终止第一主表面215和第二主表面216相对于蚀刻剂2101的暴露之后,向玻璃带104施加机械作用力从而将第一带材部分1903与第二带材部分1905分离开。例如,可以采用超声振动或者其他类型的振动(例如,不均匀的轧辊、热冲击、空气爆裂等)来施加机械作用力。由于第一凹槽表面2203与第二凹槽表面2205之间的最小距离2207(例如,图22所示)小于玻璃带104的二级厚度2201,机械作用力会导致玻璃带104在第一凹槽表面2203和第二凹槽表面2205处破裂,其中,裂纹会传播穿过第一带材部分1903与第二带材部分1905之间的玻璃带104。在一些实施方式中,机械作用力会大到足以导致玻璃带104在第一凹槽表面2203和第二凹槽表面2205处发生破裂,但是小到不足以导致玻璃带104在其他位置(例如,玻璃带104包含二级厚度2201的较厚区域)发生破裂。在第一带材部分1903与第二带材部分1905分离之后,第一带材部分1903会包括第一锥形边缘1201而第二带材部分1905会包括第二锥形边缘1207。在一些实施方式中,第一锥形边缘1201和第二锥形边缘1207可以基本上类似于相对于图12所示和所述的第一锥形边缘1201和第二锥形边缘1207。在一些实施方式中,类似于相对于图13所示和所述的实施方式,第一带材部分1903和第二带材部分1905可以暴露于第二蚀刻剂2301。在一些实施方式中,第二蚀刻剂2301可以类似于蚀刻剂2101,并且可以包含以下一种或多种:约0%至约50%HF,HF与HNO3、HsSO4的组合等,但是在一些实施方式中,第二蚀刻剂2301可以包含不同于蚀刻剂2101的材料。在一些实施方式中,将第一带材部分1903和第二带材部分1905暴露于第二蚀刻剂2301可以去除第一带材部分1903和/或第二带材部分1905的表面上的缺陷。
在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括:对玻璃带104进行蚀刻从而降低玻璃带104的厚度以及沿着初始凹槽1901将第一带材部分1903与第二带材部分1905分离开,从而可以在第一带材部分1903形成第一锥形边缘1201以及可以在第二带材部分1905形成第二锥形边缘1907。例如,由于玻璃带104在蚀刻过程中是未被掩蔽的(例如,图21-23所示),作为第一主表面215和第二主表面216暴露于蚀刻剂2101和/或第二蚀刻剂2301的结果,玻璃带104的厚度会减小。在一些实施方式中,第一带材部分1903和第二带材部分1905可以包括最终厚度2303,其可以小于初始厚度2103(例如,图21所示)和二级厚度2201(例如,图22所示)。例如,最终厚度2303会是在约20μm至约200μm的范围内或者在约25μm至约125μm的范围内。因此,玻璃带104初始可以包括大于目标厚度(例如,初始厚度2103),以及在蚀刻之后,由于第一主表面215和/或第二主表面216暴露于蚀刻剂2101和/或第二蚀刻剂2301,玻璃带104可以包括目标厚度(例如,最终厚度2303)。
参见图24,在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法不限于在第一带材部分1903与第二带材部分1905分离之前终止第一主表面215和第二主表面216相对于蚀刻剂2101的暴露。相反地,类似于相对于图5-8所示和所述的实施方式,玻璃带104的蚀刻可以包括:将第一主表面215和第二主表面216暴露于蚀刻剂2101持续一段时间直到第一带材部分1903可以与第二带材部分分离开,以及可以在第一带材部分1903的第一锥形边缘705与第二带材部分1905的第二锥形边缘707之间形成间隙711。在一些实施方式中,玻璃带104的制造方法可以包括:对玻璃带104进行蚀刻从而降低玻璃带104的厚度以及沿着初始凹槽1901将第一带材部分1903与第二带材部分1905分离开,从而可以在第一带材部分1903形成第一锥形边缘705以及可以在第二带材部分1905形成第二锥形边缘707。例如,由于玻璃带104在蚀刻过程中是未被掩蔽的(例如,图21-23所示),作为第一主表面215和第二主表面216暴露于蚀刻剂2101的结果,玻璃带104的厚度会减小。在一些实施方式中,第一带材部分1903和第二带材部分1905可以包括最终厚度2401,其可以小于初始厚度2103(例如,图21所示)和二级厚度2201(例如,图22所示)。例如,最终厚度2401会是在约20μm至约200μm的范围内或者在约25μm至约125μm的范围内。因此,玻璃带104初始可以包括大于目标厚度(例如,初始厚度2103),以及在蚀刻之后,由于第一主表面215和/或第二主表面216暴露于蚀刻剂2101,玻璃带104可以包括目标厚度(例如,最终厚度2303)。
参见图25,显示带材部分701、703、1903、1905中的一个或多个的一些实施方式。在一些实施方式中,可以以类似于图12的第一带材部分701和/或第二带材部分703或者类似于图23的第一带材部分1903和/或第二带材部分1905的方式来形成带材部分2501。可以从图3所示玻璃带104形成带材部分2501,并且可以基本上类似于第一带材部分701、第二带材部分703、第一带材部分1903和/或第二带材部分1905。在一些实施方式中,玻璃带104的带材部分2501可以是未被掩蔽的,从而将第一主表面215和第二主表面216暴露出来。可以以数种方式,例如通过从第一主表面215和/或第二主表面216清洗掉掩模,来使得带材部分2501是未被掩蔽的。在一些实施方式中,可以朝向第一主表面215和第二主表面216引导液体,从而从第一主表面215去除掩模(例如,第一掩模401)和从第二主表面216去除掩模(例如,第五掩模501)。在一些实施方式中,可以以足够的速度引导加压液体来对带材部分2501进行去除掩蔽。
在一些实施方式中,带材部分2501可以包括沿着第一面2503延伸的第一主表面215以及沿着基本平行于第一面2503的第二面2505延伸的第二主表面216。玻璃带104的带材部分2501可以包括第一厚度2507,其可以沿着垂直于第一主表面215的厚度方向2509限定在第一主表面215与第二主表面之间。在一些实施方式中,第一厚度2507可以基本类似于玻璃带104的最终厚度751(例如,图7所示)或者最终厚度2302(例如,图23所示)。例如,第一厚度2507会是在约20μm至约200μm的范围内或者在约25μm至约125μm的范围内。
带材部分2501可以包括锥形边缘2513。在一些实施方式中,锥形边缘2513可以基本上类似于图13和23所示的第一锥形边缘1201和/或第二锥形边缘1207。例如,锥形边缘2513可以包括这样的厚度,其沿着第一轴2515以第一方向2517从带材部分2501的中心朝向带材部分2501的周界是减小的,所述第一轴2515可以平行于带材部分2501的第一主表面215和第二主表面。虽然图25显示的是带材部分2501的一个边缘(例如,锥形边缘2513),但是带材部分2501的余下边缘的尺寸和形状可以基本上类似于图25所示的锥形边缘2513,其中,带材部分2501的余下边缘可以以与锥形边缘2513相似的方式锥形化。
在一些实施方式中,带材部分2501可以包括第一中间表面2521、第二中间表面2523和边缘表面2525。第一中间表面2521可以在第一主表面215的第一外边缘2527与边缘表面2525的第一外边缘2529之间延伸。在一些实施方式中,第一中间表面2521可以是基本上平坦的,但是第一中间表面2521不限于此并且在一些实施方式中,第一中间表面2521可以为非平坦的(例如,如图26所示)。第一中间表面2521可以不平行于第一主表面215,并且在一些实施方式中,第一中间表面2521可以不平行于第二中间表面2523。例如,第二中间表面2523可以在第二主表面216的第一外边缘2533与边缘表面2525的第二外边缘2535之间延伸。第二中间表面2523可以是基本上平坦的,但是第二中间表面2523不限于此,并且在一些实施方式中,第二中间表面2523可以为非平坦的(例如,如图26所示)。第二中间表面2523可以以不平行于第二主表面216的方式延伸。在一些实施方式中,一个轴可以与第一主表面215的第一外边缘2527和第二主表面216的第一外边缘2533相交,该轴基本上垂直于第一主表面215和第二主表面216,并且该轴基本上平行于厚度方向2509。
在一些实施方式中,边缘表面2525可以在第一面2503与第二面2505之间延伸。例如,通过在第一面2503与第二面2505之间延伸,边缘表面2525可以以不平行于第一面2503和第二面2505的方式延伸。在一些实施方式中,边缘表面2525可以沿着边缘面2541延伸,所述边缘面2541可以基本上垂直于第一面2503和/或第二面2505,其中,边缘面2541可以与第一面2503和第二面2505相交。在第一面2503与第二面2505之间沿着边缘面2541延伸的边缘表面2525可以限定带材部分2501的外边界,所述边缘面2541可以基本垂直于第一面2503。例如,第一中间表面2521和第二中间表面2523可以从第一主表面215和第二主表面216朝向边缘表面2525锥化和会聚。在一些实施方式中,第一中间表面2521可以限定相对于边缘表面2525的第一角度2543。在一些实施方式中,第一角度2543的范围可以是约90度至约170度。在一些实施方式中,第二中间表面2523可以限定相对于边缘表面2525的第二角度2545。在一些实施方式中,第二角度2545的范围可以是约90度至约170度。在一些实施方式中,第一角度2543可以基本等于第二角度2545。
在一些实施方式中,在平行于第一主表面215的方向上,第一主表面215的第一外边缘2527与边缘面2541之间的第一间距长度2551可以是约5μm至约85μm的范围内。在一些实施方式中,在平行于第二主表面216的方向上,第二主表面216的第一外边缘2553与边缘面2541之间的第二间距长度2553可以是约5μm至约85μm的范围内。在一些实施方式中,第一间距长度2551可以基本等于第二间距长度2553。在一些实施方式中,边缘表面2525可以在厚度方向2509上包括可能小于第一厚度2507的高度2561。例如,在一些实施方式中,高度2561的范围可以是约25μm至约75μm。在一些实施方式中,边缘表面2525可以与第一面2503间隔开第一间距厚度2563,以及与第二面2505间隔开第二间距厚度2565。例如,在沿着平行于边缘面2541的方向上,边缘表面2525的第一外边缘2529与第一面2503之间的第一间距厚度2563可以是在约25μm至约100μm的范围内。在一些实施方式中,在沿着平行于边缘面2541的方向上,边缘表面2525的第二外边缘2535与第二面2505之间的第二间距厚度2565可以是在约25μm至约100μm的范围内。在一些实施方式中,第一间距厚度2563可以基本等于第二间距厚度2565。但是,不限制第一间距厚度2563等于第二间距厚度2565,并且在一些实施方式中,第一间距厚度2563可以大于第二间距厚度2565,或者第一间距厚度2563可以小于第二间距厚度2565。
参见图26,显示带材部分701、703、1903、1905中的一个或多个的其他实施方式。在一些实施方式中,可以以类似于图7的第一带材部分701和/或第二带材部分703或者类似于图24的第一带材部分1903和/或第二带材部分1905的方式来形成带材部分2601。可以从图3所示玻璃带104形成带材部分2601,并且可以基本上类似于第一带材部分701、第二带材部分703、第一带材部分1903和/或第二带材部分1905。在一些实施方式中,玻璃带104的带材部分2601可以是未被掩蔽的,从而将第一主表面215和第二主表面216暴露出来。可以以数种方式,例如通过从第一主表面215和/或第二主表面216清洗掉掩模,来使得带材部分2601是未被掩蔽的。在一些实施方式中,可以朝向第一主表面215和第二主表面216引导液体,从而从第一主表面215去除掩模(例如,第一掩模401)和从第二主表面216去除掩模(例如,第五掩模501)。在一些实施方式中,可以以足够的速度引导加压液体来对带材部分2601进行去除掩蔽。在一些实施方式中,带材部分2601可以包括沿着第一面2503延伸的第一主表面215以及沿着基本平行于第一面2503的第二面2505延伸的第二主表面216。可以在第一主表面215与第二主表面216之间限定第一厚度2507。
在一些实施方式中,带材部分2601可以包括锥形边缘2603。锥形边缘2603可以基本上类似于图7和24所示的第一锥形边缘705和/或第二锥形边缘707。例如,锥形边缘2603可以包括沿着第一轴2515以从带材部分2601的中心朝向带材部分2601的周界的第一方向2517是减小的厚度。虽然图26显示的是带材部分2601的一个边缘(例如,锥形边缘2603),但是带材部分2601的余下边缘的尺寸和形状可以基本上类似于图26所示的锥形边缘2603,其中,带材部分2601的余下边缘可以以与锥形边缘2603相似的方式锥形化。
在一些实施方式中,带材部分2601可以包括第一中间表面2521、第二中间表面2523和边缘表面2605。第一中间表面2521可以在第一主表面215的第一外边缘2527与边缘表面2605的第一外边缘2607之间延伸。第二中间表面2523可以在第二主表面216的第一外边缘2533与边缘表面2605的第二外边缘2609之间延伸。在一些实施方式中,边缘表面2605可以在第一面2503与第二面2505之间延伸。边缘表面2605可以是非平坦的,例如包含圆化圆形形状。边缘表面2605可以包括第一外边界729,其可以限定距离带材部分2601的中心的最外位置。在一些实施方式中,边缘表面2605包括的曲率半径可以小于第一厚度2507的约一半。例如,曲率半径可以在约5μm至约100μm的范围内。带材部分2601可以在平行于第一主表面215的方向上包括第一主表面215的第一外边缘2527与边缘表面2605的第一外边界729之间的第一间距长度2615,其可以是在约5μm至约85μm的范围内。带材部分2601可以在平行于第二主表面216的方向上包括第二主表面216的第一外边缘2533与边缘表面2605的第一外边界729之间的第二间距长度2617,其可以是在约5μm至约85μm的范围内。在一些实施方式中,第一间距长度2615可以基本等于第二间距长度2617。在一些实施方式中,边缘表面2605可以在厚度方向2509上包括可能小于第一厚度2507的高度2619。例如,边缘表面2605的高度2619可以是在边缘表面2605的第一外边缘2607与边缘表面2605的第二外边缘2609之间。在一些实施方式中,高度2619的范围可以是约25μm至约75μm。边缘表面2605可以与第一面2503间隔第一间距厚度2623,以及与第二面2505间隔第二间距厚度2625。例如,沿着厚度方向2509,边缘表面2605的第一外边缘2607与第一面2503之间的第一间距厚度2623可以是在约25μm至约100μm的范围内。在一些实施方式中,沿着厚度方向2509,边缘表面2605的第二外边缘2609与第二面2505之间的第二间距厚度2625可以是在约25μm至约100μm的范围内。在一些实施方式中,第一间距厚度2623可以基本等于第二间距厚度2625。但是,不限制第一间距厚度2623等于第二间距厚度2625,并且在一些实施方式中,第一间距厚度2623可以大于第二间距厚度2625,或者第一间距厚度2623可以小于第二间距厚度2625。
在一些实施方式中,在形成了包含锥形边缘705、707、1201、1207、2513、2603的带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601之后,可以将带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601暴露于强化浴。强化浴可以沿着带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601的一个或多个表面产生压缩应力区域。可以以数种方式将带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601暴露于强化浴。在一些实施方式中,可以将带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601浸入包含强化浴的罐中。在一些实施方式中,带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601可以喷洒强化浴溶液以产生压缩应力区域。在产生压缩应力区域之后,可以向带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601的一个或多个表面施加保护覆盖。
图27显示经受弯曲测试的带材部分2501,从而确定带材部分2501的不同位置处的应力。例如,第一板2701可以接触带材部分2501的第一平坦区段2702并且以第一方向向带材部分2501施加第一作用力2703。第二板2705可以接触带材部分2501的第二平坦区段2704并且以与第一方向相反的第二方向向带材部分2501施加第二作用力2707。在一些实施方式中,第一板2701和第二板2705可以取向成基本相互平行,并且可以间隔开间距2709。带材部分2501可以包括在第一平坦区段2702与第二平坦区段2704之间延伸的弯曲区段2711。在一些实施方式中,弯曲区段2711可以为非平坦的并且可以包括弯曲形状。通过增加第一作用力2703和/或第二作用力2707,可以增加或者减小第一板2701与第二板2705之间的间距2709。在一些实施方式中,可以减小间距2709来确定带材部分2501在失效之前所能够经受住的最大弯曲程度。参见图28,显示图27的带材部分2501沿线28-28的截面图。在一些实施方式中,带材部分2501可以在弯曲区段2711经受最大应力。例如,最大应力可以位于弯曲区段2711的外表面处。在一些实施方式中,最大应力会基于沿着弯曲区段2711的宽度方向2801的位置发生变化。例如,弯曲区段2711的中心位置2803处的最大应力会不同于弯曲区段2711的边缘位置2805处的最大应力。中心位置2803会位于沿着宽度方向2801的相对边缘之间的带材部分2501的中点,而边缘位置2805会位于沿着宽度方向2801的带材部分2501的边缘处。
图29显示在宽度方向2801上的沿着弯曲区段2711的宽度的位置与该位置处的最大应力之间的关系。X轴(例如,横轴)代表沿着宽度方向2801相对于中心位置2803的距离(例如,μm),而Y轴(例如,纵轴)代表最大应力(例如,兆帕斯卡,“MPa”)。线2901代表中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的弯曲区段2711的最大应力。在一些实施方式中,线2901代表包含非锥形边缘的带材部分2501(例如,其中带材部分2510的厚度从中心到边缘是恒定的),并且第一厚度2507可以是约100μm。X轴上的0μm距离代表中心位置2803处的最大应力,而X轴上的50μm距离代表边缘位置2805处的最大应力。X轴上的0μm距离与50μm距离之间的其他位置(例如,10μm、20μm、30μm、40μm等)代表了沿着宽度方向2801弯曲区段2711在中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的最大应力。例如,10μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是10μm且距离边缘位置2805可以是40μm的位置。20μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是20μm且距离边缘位置2805可以是30μm的位置。30μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是30μm且距离边缘位置2805可以是20μm的位置。40μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是40μm且距离边缘位置2805可以是10μm的位置。在一些实施方式中,如线2901所代表的那样,从0μm位置(例如,中心位置2803)到40μm位置的弯曲区段2711的最大应力可以是基本恒定的,该最大应力在约506MPa至约507MPa的范围内。最大应力可能在约45μm位置处下降,其中,最大应力达到约505MPa的最小值。在达到这个最小值之后,最大应力从45μm位置到50μm位置(例如,边缘位置2805)是增加的,最大应力超过517MPa。从中心位置2803到边缘位置2805的这种最大应力的增加可能部分是由于当带材部分2501的第一厚度2507可以是约100μm时包含非锥形边缘的带材部分2501所导致的。
图30显示在宽度方向2801上的沿着弯曲区段2711的宽度的位置与该位置处的最大应力之间的关系。X轴(例如,横轴)代表沿着宽度方向2801相对于中心位置2803的距离(例如,μm),而Y轴(例如,纵轴)代表最大应力(例如,兆帕斯卡,“MPa”)。线3001代表中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的弯曲区段2711的最大应力。在一些实施方式中,线3001代表包含非锥形边缘的带材部分2501(例如,其中带材部分2510的厚度从中心到边缘是恒定的),并且第一厚度2507是约75μm。X轴上的0μm距离代表中心位置2803处的最大应力,而X轴上的50μm距离代表边缘位置2805处的最大应力。X轴上的0μm距离与50μm距离之间的其他位置(例如,10μm、20μm、30μm、40μm等)代表了沿着宽度方向2801弯曲区段2711在中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的最大应力。例如,10μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是10μm且距离边缘位置2805可以是40μm的位置。20μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是20μm且距离边缘位置2805可以是30μm的位置。30μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是30μm且距离边缘位置2805可以是20μm的位置。40μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803是40μm且距离边缘位置2805是10μm的位置。在一些实施方式中,如线3001所代表的那样,从0μm位置(例如,中心位置2803)到40μm位置的弯曲区段2711的最大应力可以是基本恒定的,该最大应力在约456MPa至约457MPa的范围内。最大应力可能在约45μm位置处下降,其中,最大应力达到约455.5MPa的最小值。在达到这个最小值之后,最大应力从45μm位置到50μm位置(例如,边缘位置2805)是增加的,最大应力超过462MPa。从中心位置2803到边缘位置2805的这种最大应力的增加可能部分是由于当带材部分2501的第一厚度2507可以是约75μm时包含非锥形边缘的带材部分2501所导致的。
图31显示在宽度方向2801上的沿着弯曲区段2711的宽度的位置与该位置处的最大应力之间的关系。X轴(例如,横轴)代表沿着宽度方向2801相对于中心位置2803的距离(例如,μm),而Y轴(例如,纵轴)代表最大应力(例如,兆帕斯卡,“MPa”)。线3101代表中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的弯曲区段2711的最大应力。在一些实施方式中,线3101代表包含可以是非锥形边缘的带材部分2501(例如,其中带材部分2510的厚度从中心到边缘可以是恒定的),并且第一厚度2507可以是约50μm。X轴上的0μm距离可以代表中心位置2803处的最大应力,而X轴上的50μm距离可以代表边缘位置2805处的最大应力。X轴上的0μm距离与50μm距离之间的其他位置(例如,10μm、20μm、30μm、40μm等)代表了沿着宽度方向2801弯曲区段2711在中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的最大应力。例如,10μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是10μm且距离边缘位置2805可以是40μm的位置。20μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是20μm且距离边缘位置2805可以是30μm的位置。30μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是30μm且距离边缘位置2805可以是20μm的位置。40μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是40μm且距离边缘位置2805可以是10μm的位置。在一些实施方式中,如线3101所代表的那样,从0μm位置(例如,中心位置2803)到40μm位置的弯曲区段2711的最大应力可以是基本恒定的,该最大应力在约417.5MPa至约418MPa的范围内。最大应力可能在约45μm位置是减小的,其中,最大应力达到可能是在约417MPa至约417.5MPa范围内的最小值。在达到这个最小值之后,最大应力从45μm位置到50μm位置(例如,边缘位置2805)是增加的,最大应力超过421MPa。从中心位置2803到边缘位置2805的这种最大应力的增加可能部分是由于当带材部分2501的第一厚度2507可以是约75μm时包含非锥形边缘的带材部分2501所导致的。
图32显示在宽度方向2801上的沿着弯曲区段2711的宽度的位置与该位置处的最大应力之间的关系。X轴(例如,横轴)代表沿着宽度方向2801相对于中心位置2803的距离(例如,μm),而Y轴(例如,纵轴)代表最大应力(例如,兆帕斯卡,“MPa”)。线3201代表中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的弯曲区段2711的最大应力。在一些实施方式中,线3201可以代表包含锥形边缘2513的带材部分2501,以及第一厚度2507可以是约100μm。X轴上的0μm距离可以代表中心位置2803处的最大应力,而X轴上的50μm距离可以代表边缘位置2805处的最大应力。X轴上的0μm距离与50μm距离之间的其他位置(例如,10μm、20μm、30μm、40μm等)代表了沿着宽度方向2801弯曲区段2711在中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的最大应力。例如,10μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是10μm且距离边缘位置2805可以是40μm的位置。20μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是20μm且距离边缘位置2805可以是30μm的位置。30μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是30μm且距离边缘位置2805可以是20μm的位置。40μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是40μm且距离边缘位置2805可以是10μm的位置。在一些实施方式中,如线3201所代表的那样,从0μm位置(例如,中心位置2803)到45μm位置的弯曲区段2711的最大应力可以是基本恒定的,该最大应力在约500MPa至约505MPa的范围内。然后,最大应力可能在约48μm位置是增加的,其中,最大应力达到可能是在约505MPa至约510MPa范围内的最大值。在达到这个最大值之后,最大应力从48μm位置到50μm位置(例如,边缘位置2805)会是减小的,最大应力落在低于约500MPa且接近440MPa。
从中心位置2803到边缘位置2805的这种最大应力的减小可能部分是由于当带材部分2501的第一厚度2507可以是约100μm时包含锥形边缘2513的带材部分2501所导致的。不同于包含非锥形边缘(例如,图29-31)的带材部分(其中,最大应力在靠近边缘位置2805是增加的),包含锥形边缘2513的带材部分2501的最大应力在靠近边缘位置2805会是减小的。例如,对比图29(其中,带材部分2501包括约100μm的厚度且不包括锥形边缘)和图32(其中,带材部分2501包括约100μm的厚度且包括锥形边缘2513),在锥形边缘2513处的最大应力可能是不同的。例如,对于100μm厚度的情况,非锥形边缘(例如,图29中的50μm位置)处的最大应力可以约为516MPa,而对于100μm厚度的情况,锥形边缘2513(例如,图32中的50μm位置)处的最大应力可以约为440MPa。边缘处的约76MPa的差异会实现使得带材部分2501在弯曲过程中发生破坏的可能性下降,并且当带材部分2501包含锥形边缘2513时还为带材部分2501提供了更大的弯曲度。尽管厚度大致相同(例如,约100μm),但是图32中的弯曲区段2711从0μm到40μm的最大应力可能略微不同于图29中的弯曲区段2711从0μm到40μm的最大应力。这可能部分是由于线3201代表的是包含锥形边缘2513的带材部分2501所导致的。在一些实施方式中,锥形边缘2513会导致第一主表面215和第二主表面216这两者的表面积的减小。这种表面积的减小会导致带材部分的中心(例如,0μm至40μm)的最大应力的略微下降(例如,从图29的约507MPa下降到图32的约504MPa)。
图33是图28的视图33处的带材部分2501的弯曲区段2711处的锥形边缘2513的放大图。例如,图33中的第二主表面216表示图28的弯曲区段2711的底表面(例如,或者来说,是相对于曲率半径的内表面)。图33中的第一主表面215表示图28的弯曲区段2711的顶表面(例如,或者来说,是相对于曲率半径的外表面)。在一些实施方式中,图33的带材部分2501的第一厚度2507可以是约100μm,而边缘表面2525的高度2561可以是约50μm,以及与第一板2701和第二板2705间隔开的间距2709(例如,图27所示)可以是约30μm。图33所示的带材部分2501代表的是尚未经过化学强化(例如,通过离子交换过程进行)的带材部分。
在一些实施方式中,带材部分2501可以包括沿着第一主表面215延伸的第一应力区域3301。在一些实施方式中,第一应力区域3301可以包括约510MPa至约520MPa范围内的应力(例如,拉伸应力)。在一些实施方式中,带材部分2501可以包括以与第一应力区域3301相邻的方式延伸的第二应力区域3303。第二应力区域3303可以与第一主表面215间隔一段距离,并且第二应力区域3303可以包括一部分的第一中间表面2521。在一些实施方式中,第二应力区域3303可以包括约480MPa至约510MPa范围内的应力(例如,拉伸应力)。在一些实施方式中,带材部分2501可以包括以与第二应力区域3303相邻的方式延伸的第三应力区域3305,其中,第二应力区域3303可以位于第一应力区域3301与第三应力区域3305之间。相比于第二应力区域3303,第三应力区域3303可以与第一主表面215间隔更大的距离,并且第三应力区域3303可以包括一部分的第一中间表面2521。在一些实施方式中,第三应力区域3305可以包括约440MPa至约480MPa范围内的应力(例如,拉伸应力)。在一些实施方式中,带材部分2501可以包括以与第三应力区域3305相邻的方式延伸的第四应力区域3307,其中,第三应力区域3303可以位于第二应力区域3303与第四应力区域3307之间。相比于第三应力区域3305,第四应力区域3307可以与第一主表面215间隔更大的距离,并且第四应力区域3307可以包括一部分的第一中间表面2521和一部分的边缘表面2525。在一些实施方式中,第四应力区域3307可以包括约400MPa至约440MPa范围内的应力(例如,拉伸应力)。在一些实施方式中,带材部分2501可以包括以与第四应力区域3307相邻的方式延伸的第五应力区域3309,其中,第四应力区域3307可以位于第三应力区域3305与第五应力区域3309之间。相比于第四应力区域3307,第五应力区域3309可以与第一主表面215间隔更大的距离,并且第五应力区域3309可以包括一部分的边缘表面2525、第二中间表面2523和第二主表面216。在一些实施方式中,第五应力区域3309可以包括可能小于约400MPa的应力。例如,第五应力区域3309可以包括非均匀应力,其中,第五应力区域3309的压缩应力从第四应力区域3307(例如,或者来说,带材部分2501的中心)朝向第二主表面216可以是增加的。由于带材部分2501的锥形边缘2513,弯曲区段2711处的应力从带材部分2501的中心朝向边缘表面2525会是减小的。在一些实施方式中,第一主表面215所包含的拉伸应力可能高于第二主表面216,例如较低的压缩应力,所述第二主表面可能具有较低的拉伸应力,例如但是具有较高的压缩应力。
图34显示在宽度方向2801上的沿着弯曲区段2711的宽度的位置(例如,图28所示)与该位置处的最大应力之间的关系。X轴(例如,横轴)代表沿着宽度方向2801相对于中心位置2803的距离(例如,μm),而Y轴(例如,纵轴)代表最大应力(例如,兆帕斯卡,“MPa”)。线3401代表中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的弯曲区段2711的最大应力。线3401代表的是包括锥形边缘2603的带材部分2601(例如,图26所示),所述锥形边缘2603包含约50μm的曲率半径。例如,带材部分2601可以放置在第一板2701与第二板2705之间并弯曲(例如,类似于图27的形状),其中,第一板2701与第二板2705之间的间距2709可以是约30μm。在一些实施方式中,锥形边缘2603包括第一主表面216的第一外边缘527与第二主表面216的第一外边缘2533之间的圆化的半圆形状。带材部分2601的第一厚度2507可以是约100μm。X轴上的0μm距离可以代表中心位置2803处的最大应力,而X轴上的50μm距离可以代表边缘位置2805处的最大应力。X轴上的0μm距离与50μm距离之间的其他位置(例如,10μm、20μm、30μm、40μm等)代表了沿着宽度方向2801弯曲区段2711在中心位置2803与边缘位置2805之间的位置处的最大应力。例如,10μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是10μm且距离边缘位置2805可以是40μm的位置。20μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是20μm且距离边缘位置2805可以是30μm的位置。30μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是30μm且距离边缘位置2805可以是20μm的位置。40μm位置可以表示沿着宽度方向2801距离中心位置2803可以是40μm且距离边缘位置2805可以是10μm的位置。在一些实施方式中,如线3401所代表的那样,从0μm位置(例如,中心位置2803)到45μm位置的弯曲区段2711的最大应力可以是基本恒定的,该最大应力在约500MPa至约510MPa的范围内。然后,最大应力可能在约49μm位置是增加的,其中,最大应力达到可能是在约510MPa至约515MPa范围内的最大值。在达到这个最大值之后,最大应力从49μm位置到50μm位置(例如,边缘位置2805)会是减小的,最大应力落在低于约500MPa且接近400MPa。
图35是图28的视图33处的带材部分2601的弯曲区段2711处的锥形边缘2603的放大图,其包括图34中的线34所表示的最大应力。例如,图35中的第二主表面216表示图28的弯曲区段2711的底表面(例如,或者来说,是相对于曲率半径的内表面)。图33中的第一主表面215表示图28的弯曲区段2711的顶表面(例如,或者来说,是相对于曲率半径的外表面)。在一些实施方式中,带材部分2601的第一厚度2507可以是约100μm,同时锥形边缘2603可以包括约50μm的曲率半径。图33所示的带材部分2601代表的是尚未经过化学强化(例如,通过离子交换过程进行)的带材部分。
在一些实施方式中,带材部分2601可以包括沿着第一主表面215延伸的第一应力区域3501。在一些实施方式中,第一应力区域3501可以包括约469MPa至约512MPa范围内的应力(例如,拉伸应力)。在一些实施方式中,带材部分2601可以包括以与第一应力区域3501相邻的方式延伸的第二应力区域3503。第二应力区域3503可以包括约427MPa至约469MPa范围内的应力(例如,拉伸应力)。在一些实施方式中,带材部分2601可以包括以与第二应力区域3503相邻的方式延伸的第三应力区域3505,其中,第二应力区域3503可以位于第一应力区域3501与第三应力区域3505之间。相比于第二应力区域3503,第三应力区域3505可以与第一主表面215间隔开更大的间距。在一些实施方式中,第三应力区域3505可以包括约394MPa至约427MPa范围内的应力(例如,拉伸应力)。在一些实施方式中,带材部分2601可以包括以与第三应力区域3505相邻的方式延伸的第四应力区域3507,其中,第三应力区域3505可以位于第二应力区域3503与第四应力区域3507之间。相比于第三应力区域3505,第四应力区域3507可以与第一主表面215间隔开更大的间距。在一些实施方式中,第四应力区域3507可以包括约0MPa至约394MPa范围内的应力(例如,拉伸应力)。在一些实施方式中,带材部分2601可以包括以与第四应力区域3507相邻且沿着第二主表面216的方式延伸的第五应力区域3509。在一些实施方式中,第五应力区域3509可以包括可能小于约0MPa的应力。第五应力区域3509可以包括非均匀应力,其中,第五应力区域3509的压缩应力从第四应力区域3507(例如,或者来说,带材部分2601的中心)朝向第二主表面216可以是增加的。由于带材部分2601的锥形边缘2603包含圆化的半圆形状,弯曲区段2711处的应力从带材部分2601的中心朝向锥形边缘2603会是减小的。在一些实施方式中,第一主表面215所包含的拉伸应力可能高于第二主表面216(例如,以及较低的压缩应力),所述第二主表面可能具有较低的拉伸应力(例如但是具有较高的压缩应力)。
如本文所揭示的那样,带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601会是薄的,例如包含的厚度范围是约20微米(μm)至约200μm或者范围是约25μm至约125μm。可以以连续方式形成带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601,其中,可以将玻璃带104分离成具有锥形边缘形状(例如,锥形边缘705、707、1201、1207、2513、2603)的离散带材部分(例如,带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601等)。在一些实施方式中,玻璃带104可以包括初始厚度,其可以是目标厚度或者可以是大于目标厚度。在任一种情况下,可以将玻璃带104分离成具有锥形边缘形状和目标厚度的离散带材部分。由于没有对边缘进行研磨或抛光,并且由于没有对带材部分进行堆叠,还可以降低带材部分(例如,带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601等)发生破坏的可能性。通过经由化学形式产生锥形边缘,还可以避免边缘处的锋利角度。带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601的锥形边缘705、707、1201、1207、2513、2603还可以降低弯曲过程中带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601发生破坏的可能性。例如,在弯曲过程中,带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601的弯曲区段处的最大应力可以包括在靠近锥形边缘705、707、1201、1207、2513、2603处减小的应力,这是相比于具有非锥形边缘的带材部分而言。由于这种靠近锥形边缘705、707、1201、1207、2513、2603的较低应力,可以实现带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601的弯曲改善。此外,带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601的靠近锥形边缘705、707、1201、1207、2513、2603的较低应力可以改善带材部分701、703、1403、1405、1903、1905、2501、2601的强度,从而降低了例如弯曲过程中发生无意间破坏的可能性。
如本文所用,术语“该”、“一个”或“一种”表示“一个(一种)或多个(多种)”,并且不应限制为“仅一个”,除非另有明确相反说明。因此,例如,提到的“一种组件”包括具有两种或更多种这类组件的实施方式,除非文本中有另外的明确表示。
如本文所用,术语“约”表示量、尺寸、制剂、参数和其他变量和特性不是也不需要是确切的,而是可以按照需要是近似的和/或更大或更小的,反映了容差、转换因子、舍入和测量误差等,以及本领域技术人员已知的其他因素。当使用术语“约”来描述范围的值或端点时,应理解本公开内容包括所参考的具体值或者端点。无论本说明书的数值或者范围的端点有没有陈述“约”,该数值或者范围的端点旨在包括两种实施方式:一种用“约”修饰,一种没有用“约”修饰。还会理解的是,每个范围的端点在与另一个端点有关及独立于另一个端点时都是重要的。
本文所用术语“基本”、“基本上”及其变化形式旨在表示所描述的特征与数值或描述相等同或近似相同。例如,“基本平面”表面旨在表示平面或近似平面的表面。此外,如上文所定义,“基本类似”旨在表示两个值是相等或者近似相等的。在一些实施方式中,“基本类似”可以表示数值相互相差在约为10%之内,例如相互相差在约为5%之内,或者相互相差在约为2%之内。
如本文所用,除非另有说明,否则术语“包含”和“包括”及其变化形式应该理解为同义词且是开放式的。
应理解的是,虽然已经参照某些示意性和具体实施方式描述了各种实施方式,但是并不应该认为本公开内容限于此,因为可以对公开的特征进行许多改进和组合,这没有背离所附权利要求的范围。
Claims (31)
1.一种制造玻璃带的方法,其包括:
对玻璃带的第一主表面的第一区域和第二区域进行掩蔽,从而使得第一主表面包括位于第一区域与第二区域之间的第一暴露区域;
对玻璃带的第二主表面的第三区域和第四区域进行掩蔽,从而使得第二主表面包括位于第三区域与第四区域之间的第二暴露区域;以及
对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻从而使得包含第一区域和第三区域的第一带材部分与包含第二区域和第四区域的第二带材部分分离开,以及在第一带材部分形成第一锥形边缘和在第二带材部分形成第二锥形边缘。
2.如权利要求1所述的方法,其还包括:在蚀刻之前,在第一暴露区域形成初始凹槽。
3.如权利要求2所述的方法,其中,形成初始凹槽包括在多个位置处对第一暴露区域进行打孔。
4.如权利要求2所述的方法,其中,形成初始凹槽包括对第一暴露区域进行划线。
5.如权利要求1-4中任一项所述的方法,其中,对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻包括将第一暴露区域和第二暴露区域暴露于蚀刻剂持续一段时间,直到第一带材部分与第二带材部分分离开并且在第一带材部分的第一锥形边缘与第二带材部分的第二锥形边缘之间形成间隙。
6.如权利要求1-4中任一项所述的方法,其中,对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻包括将第一暴露区域和第二暴露区域暴露于蚀刻剂,以及在第一带材部分与第二带材部分分离开之前终止第一暴露区域和第二暴露区域相对于蚀刻剂的暴露。
7.如权利要求6所述的方法,其还包括在终止第一暴露区域和第二暴露区域相对于蚀刻剂的暴露之后,向玻璃带施加机械作用力从而使得第一带材部分与第二带材部分分离开。
8.如权利要求7所述的方法,其中,对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻包括:在第一带材部分与第二带材部分分离开之后,将第一锥形边缘和第二锥形边缘暴露于第二蚀刻剂。
9.一种制造玻璃带的方法,其包括:
在玻璃带的第一主表面或者玻璃带的第二主表面中的一个或多个处形成初始凹槽,所述初始凹槽形成在玻璃带的第一带材部分与玻璃带的第二带材部分之间;以及
对玻璃带进行蚀刻从而降低玻璃带的厚度,以及沿着初始凹槽将第一带材部分与第二带材部分分离开,从而使得在第一带材部分形成第一锥形边缘和在第二带材部分形成第二锥形边缘。
10.如权利要求9所述的方法,其中,形成初始凹槽包括在第一带材部分与第二带材部分之间的多个位置处对第一主表面进行打孔。
11.如权利要求9所述的方法,其中,形成初始凹槽包括在第一带材部分与第二带材部分之间对第一主表面进行划线。
12.如权利要求9-11中任一项所述的方法,其中,对玻璃带进行蚀刻包括将第一主表面和第二主表面暴露于蚀刻剂持续一段时间,直到第一带材部分与第二带材部分分离开并且在第一带材部分的第一锥形边缘与第二带材部分的第二锥形边缘之间形成间隙。
13.如权利要求9-11中任一项所述的方法,其中,对玻璃带进行蚀刻包括将第一主表面和第二主表面暴露于蚀刻剂,以及在第一带材部分与第二带材部分分离开之前终止第一主表面和第二主表面相对于蚀刻剂的暴露。
14.如权利要求13所述的方法,其还包括在终止第一主表面和第二主表面相对于蚀刻剂的暴露之后,向玻璃带施加机械作用力从而使得第一带材部分与第二带材部分分离开。
15.一种制造玻璃带的方法,其包括:
对玻璃带的第一主表面和第二主表面进行掩蔽;
对第一主表面的第一暴露区域和第二主表面的第二暴露区域去除掩蔽;
在第一暴露区域或第二暴露区域中的一个或多个处形成初始凹槽,所述初始凹槽形成在玻璃带的第一带材部分与玻璃带的第二带材部分之间;以及
对第一暴露区域和第二暴露区域进行蚀刻从而沿着初始凹槽将第一带材部分与第二带材部分分离开,以及在第一带材部分形成第一锥形边缘和在第二带材部分形成第二锥形边缘。
16.如权利要求15所述的方法,其中,对第一暴露区域和第二暴露区域去除掩蔽包括将激光束导向到覆盖了第一暴露区域的掩模和覆盖了第二暴露区域的第二掩模。
17.如权利要求16所述的方法,其中,形成初始凹槽包括将激光束导向到第一暴露区域从而在多个位置处对第一暴露区域进行打孔。
18.如权利要求16所述的方法,其中,形成初始凹槽包括对第一暴露区域进行划线。
19.如权利要求15-18中任一项所述的方法,其还包括:维持玻璃带的初始厚度,从而使得在蚀刻之前的限定为第一位置处的第一主表面与第二主表面之间的玻璃带的初始厚度基本等于在蚀刻之后的限定为所述第一位置处的第一主表面与第二主表面之间的第一带材部分的最终厚度,所述第一位置与第一暴露区域和第二暴露区域间隔开一段距离。
20.如权利要求19所述的方法,其中,维持玻璃带的初始厚度包括将初始厚度维持在约20μm至约200μm的范围内。
21.一种玻璃带,其包括:
沿着第一面延伸的第一主表面;
沿着基本平行于第一面的第二面延伸的第二主表面,其中,沿着垂直于第一主表面的厚度方向在第一主表面与第二主表面之间限定了第一厚度,其中,所述第一厚度是在约25μm至约125μm的范围内;以及
在第一面与第二面之间延伸的边缘表面,所述边缘表面在厚度方向上所包含的厚度小于所述第一厚度。
22.如权利要求21所述的玻璃带,其中,边缘表面沿着基本垂直于第一面的边缘面延伸,所述边缘表面距离第一面为第一间距厚度并且距离第二面为第二间距厚度。
23.如权利要求22所述的玻璃带,其中,第一间距厚度基本等于第二间距厚度。
24.如权利要求21所述的玻璃带,其中,边缘表面为非平坦的。
25.一种玻璃带,其包括:
沿着第一面延伸的第一主表面;
沿着基本平行于第一面的第二面延伸的第二主表面,其中,沿着垂直于第一主表面的厚度方向在第一主表面与第二主表面之间限定了第一厚度,其中,所述第一厚度是在约25μm至约125μm的范围内;
在第一面与第二面之间沿着基本垂直于第一面的边缘面延伸的边缘表面;
在第一主表面的第一外边缘与边缘表面的第一外边缘之间延伸的第一中间表面;
在第二主表面的第一外边缘与边缘表面的第二外边缘之间延伸的第二中间表面,其中,在平行于第一主表面的方向上的第一主表面的第一外边缘与边缘面之间的第一间距长度是在约5μm至约85μm的范围内,以及在沿着平行于边缘面的方向上的边缘表面的第一外边缘与第一面之间的第一间距厚度是在约25μm至约100μm的范围内。
26.如权利要求25所述的玻璃带,其中,在平行于第二主表面的方向上的第二主表面的第一外边缘与边缘面之间的第二间距长度是在约5μm至约85μm的范围内。
27.如权利要求26所述的玻璃带,其中,第一间距长度基本等于第二间距长度。
28.如权利要求25-27中任一项所述的玻璃带,其中,在沿着平行于边缘面的方向上的边缘表面的第二外边缘与第二面之间的第二间距厚度是约25μm至约100μm的范围内。
29.如权利要求28所述的玻璃带,其中,第一间距厚度基本等于第二间距厚度。
30.如权利要求25-29中任一项所述的玻璃带,其中,第一中间表面不平行于第二中间表面。
31.如权利要求25-30中任一项所述的玻璃带,其中,边缘表面包括在厚度方向上小于第一厚度的高度。
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