CN114035258A - 一种可提高摄影原画效果的偏光片结构及其方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种可提高摄影原画效果的偏光片结构及其方法，通过采用透过率为35％～45％之间，偏光度为99％以上的偏光片，使应用在相机中时能提高摄影原画的效果，能够有效避免反光给拍摄带来的不利影响，摄影时可使摄影原画的对比鲜明，色彩饱和；通过溶胶凝胶法在第一光学玻璃层表面和第二光学玻璃层表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层，该界面活性剂层的纳米柱之间间隔设置，可以减少相邻叠放的两个偏光片结构表面之间的接触面积，再配合界面活性剂的作用，进一步减少相邻叠放的两个偏光片结构之间粘片现象的发生，即使不能完全消除粘片现象，也能减小粘片的程度，使后期需要分开安装时省时省力，不会损坏偏光片结构。
Description
技术领域
本发明涉及光学元件技术领域，尤其涉及的是一种可提高摄影原画效果的偏光片结构。
背景技术
摄影原画，是指经过机械照相机或者数码照相机进行摄影得到的、没有经过处理的原始图片，而为了能够有效避免反光给拍摄带来的不利影响，一般会在相机中设置偏光片结构。现有的相机中的偏光片结构设置不合理，导致影响相机的原画效果，不能满足使用要求。而且偏光片结构在安装前是会叠放在一起的，而上下相邻叠放的两个偏光片结构表面之间的空气吸收空气中的水分之后，平滑地填补了表面之间的空隙，使得两张偏光片结构之间形成了真空状态，出现粘片现象，在后期需要分开安装时会导致不宜分离，分离操作费时费力，而且容易损坏偏光片结构。
因此，现有的技术还有待于改进和发展。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可提高摄影原画效果的偏光片结构及其方法，旨在解决现有技术中存在的一个或多个问题。
本发明的技术方案如下：
本技术方案提供一种可提高摄影原画效果的偏光片结构，包括由上到下依次包括第一光学玻璃层、第一光学胶层、四分之一玻片、第二光学胶层、偏光片、第三光学胶层和第二光学玻璃层，所述偏光片的透过率为35％～45％之间，偏光度为99％以上。
进一步地，所述偏光片包括由上到下依次设置的第一偏光元件保护层、偏光元件层和第二偏光元件保护层，所述第一偏光元件保护层与所述第二光学胶层粘接，所述第二偏光元件保护层与所述第三光学胶层粘接。
进一步地，所述第一偏光元件保护层和所述第二偏光元件保护层采用TAC薄膜保护层。
进一步地，所述第一光学胶层、第二光学胶层和第三光学胶层均采用PSA胶粘层。
进一步地，所述偏光片还包括分别在所述第一偏光元件保护层上、第二偏光元件保护层上的一层表面保护薄膜层。
进一步地，还包括分别在所述第一光学玻璃层上和第二光学玻璃层上设置一层界面活性剂层，所述界面活性剂层通过溶胶凝胶法形成一层纳米级柱状矩阵覆盖在所述第一光学玻璃层上和第二光学玻璃层上。
进一步地，所述界面活性剂层的厚度为5-20μm。
进一步地，所述界面活性剂层包括硅源化合物、有机硅修饰剂、强碱物质，将硅源化合物加入水解介质中，搅拌均匀形成水解体系；在搅拌条件下，调节得到的水解体系的pH使硅源化合物发生水解，并在调节pH时加入有机硅修饰剂，搅拌得到表面改性纳米二氧化硅的分散液；向得到的分散液中加入强碱物质，形成反应体系；将得到的反应体系持续搅拌即得分散于溶液中的二氧化硅纳米表面活性剂；其中，硅源化合物的加入量以二氧化硅计，水解体系中含二氧化硅的浓度为0.1～4.0mol/L，二氧化硅、有机硅修饰剂及强碱物质的摩尔比为1：0.05～1：0.5～3。
进一步地，在所述第一光学玻璃层上和所述界面活性剂层之间、所述第二光学玻璃层和所述界面活性剂层之间还设置有功能材料层。
本技术方案还提供一种如上述任一所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构的制备方法，具体包括以下步骤：
S1：在偏光片的两面分别粘接第二光学胶层和第三光学胶层；
S2：将第二光学玻璃层与所述第三光学胶层粘接；
S3：将四分之一玻片与所述第二光学胶层粘接；
S4：将第一光学胶层与所述四分之一玻片粘接；
S5：将第一光学玻璃层与所述第一光学胶层粘接；
S6：分别在第一光学玻璃层表面和第二光学玻璃层表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层。
通过上述可知，本技术方案通过采用透过率为35％～45％之间，偏光度为99％以上的偏光片，使应用在相机中时能提高摄影原画的效果，能够有效避免反光给拍摄带来的不利影响，摄影时可使摄影原画的对比鲜明，色彩饱和；通过溶胶凝胶法在第一光学玻璃层表面和第二光学玻璃层表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层，该界面活性剂层的纳米柱之间间隔设置，可以减少相邻叠放的两个偏光片结构表面之间的接触面积，再配合界面活性剂的作用，进一步减少相邻叠放的两个偏光片结构之间粘片现象的发生，即使不能完全消除粘片现象，也能减小粘片的程度，使后期需要分开安装时省时省力，不会损坏偏光片结构。
附图说明
图1是本发明中可提高摄影原画效果的偏光片结构的结构示意图。
图2是本发明中偏光片的结构示意图。
图3是本发明中界面活性剂层的纳米级柱状矩阵示意图。
图4是本发明中可提高摄影原画效果的偏光片结构的制备方法的步骤流程图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
如图1所示，一种可提高摄影原画效果的偏光片结构，包括由上到下依次包括第一光学玻璃层1、第一光学胶层2、四分之一玻片3、第二光学胶层4、偏光片5、第三光学胶层6和第二光学玻璃层7，所述偏光片5的透过率为35％～45％之间，偏光度为99％以上。
在某些具体实施例中，所述偏光片5包括由上到下依次设置的第一偏光元件保护层51、偏光元件层52和第二偏光元件保护层53，所述第一偏光元件保护层51与所述第二光学胶层4粘接，所述第二偏光元件保护层53与所述第三光学胶层6粘接,如图2所示。
在某些具体实施例中，所述第一偏光元件保护层51和所述第二偏光元件保护层53采用TAC(三醋酸纤维素，Triacety1Cellulose)薄膜保护层，所述TAC薄膜保护层可以有效削减强光，消除耀眼的反射光和散射光，让凌乱的光线变成平行的光线，使视物更加清晰柔和、清晰。
在某些具体实施例中，所述第一光学胶层2、第二光学胶层4和第三光学胶层6均采用PSA(pressure sensitive adhesive，压敏胶)胶粘层，所述PSA胶粘层耐高温、耐腐蚀百，有较高透明度。
在某些具体实施例中，所述偏光片5还包括分别在所述第一偏光元件保护层51上、第二偏光元件保护层53上的一层表面保护薄膜层55，对偏光片5的表面进行保护。
因为偏光片结构在安装前是会叠放在一起的，而上下相邻叠放的两个偏光片结构表面之间的空气吸收空气中的水分之后，平滑地填补了表面之间的空隙，使得两张偏光片结构之间形成了真空状态，出现粘片现象，在后期需要分开安装时会导致不宜分离，分离操作费时费力，而且容易损坏偏光片结构，为了解决这一问题，分别在所述第一光学玻璃层1上和第二光学玻璃层7上设置一层界面活性剂层8，所述界面活性剂层8通过溶胶凝胶法形成一层纳米级柱状矩阵覆盖在所述第一光学玻璃层1上和第二光学玻璃层7上,如图3所示。
具体地，所述界面活性剂层8的厚度为5-20μm。通过溶胶凝胶法在第一光学玻璃层1表面和第二光学玻璃层7表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层8，该界面活性剂层8的纳米柱之间间隔设置，可以减少相邻叠放的两个偏光片结构表面之间的接触面积，再配合界面活性剂的作用，进一步减少相邻叠放的两个偏光片结构之间粘片现象的发生，即使不能完全消除粘片现象，也能减小粘片的程度，使后期需要分开安装时省时省力，不会损坏偏光片结构。
在某些具体实施例中，所述界面活性剂层8包括硅源化合物、有机硅修饰剂、强碱物质，将硅源化合物加入水解介质中，于20～100℃搅拌均匀，形成水解体系；于20～100℃的搅拌条件下，调节得到的水解体系的pH使硅源化合物发生水解，并在调节pH时加入有机硅修饰剂，搅拌1～5小时，得到表面改性纳米二氧化硅的分散液；向得到的分散液中加入强碱物质，形成反应体系；将得到的反应体系于40～90℃搅拌2～10小时，即得分散于溶液中的二氧化硅纳米表面活性剂；其中，硅源化合物的加入量以二氧化硅计，水解体系中含二氧化硅的浓度为0.1～4.0mol/L，二氧化硅、有机硅修饰剂及强碱物质的摩尔比为1：0.05～1：0.5～3。
在某些具体实施例中，所述硅源化合物为硅酸酯或硅酸钠或偏硅酸钠。
在某些具体实施例中，所述水解介质为水、C1～C10的醇中的一种或两种以上。
在某些具体实施例中，所述有机硅修饰剂为一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物的有机官能团为甲基、乙基、乙烯基及卤代烷基中的一种或两种以上。
在某些具体实施例中，所述强碱物质为氢氧化钠、氢氧化钾及氢氧化钙中的一种或两种以上。
在某些具体实施例中，所述反应介质为水、C1～C10的醇中的一种或两种以上。
在某些具体实施例中，在所述第一光学玻璃层1上和所述界面活性剂层8之间、所述第二光学玻璃层7和所述界面活性剂层8之间还设置有功能材料层9。
其中，所述功能材料层9包括但不限于抗放射材料层、抗炫目材料层、增透材料层、抗红外图层的一种或多种组合。
如图4所示，一种如上述所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构的制备方法，具体包括以下步骤：
S1：在偏光片5的两面分别粘接第二光学胶层4和第三光学胶层6；
S2：将第二光学玻璃层7与所述第三光学胶层6粘接；
S3：将四分之一玻片3与所述第二光学胶层4粘接；
S4：将第一光学胶层2与所述四分之一玻片3粘接；
S5：将第一光学玻璃层1与所述第一光学胶层2粘接；
S6：通过溶胶凝胶法分别在第一光学玻璃层1表面和第二光学玻璃层7表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层8。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，包括由上到下依次包括第一光学玻璃层、第一光学胶层、四分之一玻片、第二光学胶层、偏光片、第三光学胶层和第二光学玻璃层，所述偏光片的透过率为35％～45％之间，偏光度为99％以上。
2.根据权利要求1所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，所述偏光片包括由上到下依次设置的第一偏光元件保护层、偏光元件层和第二偏光元件保护层，所述第一偏光元件保护层与所述第二光学胶层粘接，所述第二偏光元件保护层与所述第三光学胶层粘接。
3.根据权利要求2所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，所述第一偏光元件保护层和所述第二偏光元件保护层采用TAC薄膜保护层。
4.根据权利要求1所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，所述第一光学胶层、第二光学胶层和第三光学胶层均采用PSA胶粘层。
5.根据权利要求2任一所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，所述偏光片还包括分别在所述第一偏光元件保护层上、第二偏光元件保护层上的一层表面保护薄膜层。
6.根据权利要求1所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，还包括分别在所述第一光学玻璃层上和第二光学玻璃层上设置一层界面活性剂层，所述界面活性剂层通过溶胶凝胶法形成一层纳米级柱状矩阵覆盖在所述第一光学玻璃层上和第二光学玻璃层上。
7.根据权利要求6所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，所述界面活性剂层的厚度为5-20μm。
8.根据权利要求6或7任一所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，所述界面活性剂层包括硅源化合物、有机硅修饰剂、强碱物质，将硅源化合物加入水解介质中，搅拌均匀形成水解体系；在搅拌条件下，调节得到的水解体系的pH使硅源化合物发生水解，并在调节pH时加入有机硅修饰剂，搅拌得到表面改性纳米二氧化硅的分散液；向得到的分散液中加入强碱物质，形成反应体系；将得到的反应体系持续搅拌即得分散于溶液中的二氧化硅纳米表面活性剂；其中，硅源化合物的加入量以二氧化硅计，水解体系中含二氧化硅的浓度为0.1～4.0mol/L，二氧化硅、有机硅修饰剂及强碱物质的摩尔比为1：0.05～1：0.5～3。
9.根据权利要求8所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构，其特征在于，在所述第一光学玻璃层上和所述界面活性剂层之间、所述第二光学玻璃层和所述界面活性剂层之间还设置有功能材料层。
10.一种如权利要求1至9任一所述的可提高摄影原画效果的偏光片结构的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：
S1：在偏光片的两面分别粘接第二光学胶层和第三光学胶层；
S2：将第二光学玻璃层与所述第三光学胶层粘接；
S3：将四分之一玻片与所述第二光学胶层粘接；
S4：将第一光学胶层与所述四分之一玻片粘接；
S5：将第一光学玻璃层与所述第一光学胶层粘接；
S6：分别在第一光学玻璃层表面和第二光学玻璃层表面制备一层具有纳米级柱状矩阵的界面活性剂层。
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| CN202111318548.7A CN114035258A (zh) | 2021-11-09 | 2021-11-09 | 一种可提高摄影原画效果的偏光片结构及其方法 |
Publications (1)
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|---|---|
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111318548.7A Pending CN114035258A (zh) | 2021-11-09 | 2021-11-09 | 一种可提高摄影原画效果的偏光片结构及其方法 |
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6144433A (en) * | 1996-06-26 | 2000-11-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | LCD in which two regions of liquid crystal layer act as two optical retarders having inclined optic axes |
| JP2004133155A (ja) * | 2002-10-10 | 2004-04-30 | Marumi Koki Kk | 写真撮影用カメラ等のフィルター |
| CN110632695A (zh) * | 2019-08-20 | 2019-12-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种偏光片及其制备方法、显示装置 |
-
2021
- 2021-11-09 CN CN202111318548.7A patent/CN114035258A/zh active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6144433A (en) * | 1996-06-26 | 2000-11-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | LCD in which two regions of liquid crystal layer act as two optical retarders having inclined optic axes |
| JP2004133155A (ja) * | 2002-10-10 | 2004-04-30 | Marumi Koki Kk | 写真撮影用カメラ等のフィルター |
| CN110632695A (zh) * | 2019-08-20 | 2019-12-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种偏光片及其制备方法、显示装置 |
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