CN114035011A - 一种高功率器件栅电荷提取测试方法 - Google Patents

一种高功率器件栅电荷提取测试方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114035011A
CN114035011A CN202111145623.4A CN202111145623A CN114035011A CN 114035011 A CN114035011 A CN 114035011A CN 202111145623 A CN202111145623 A CN 202111145623A CN 114035011 A CN114035011 A CN 114035011A
Authority
CN
China
Prior art keywords
voltage
current
small
condition
under
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202111145623.4A
Other languages
English (en)
Inventor
闫大为
陈雷雷
王燕平
李金晓
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuxi Xinjian Semiconductor Technology Co ltd
Original Assignee
Wuxi Xinjian Semiconductor Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuxi Xinjian Semiconductor Technology Co ltd filed Critical Wuxi Xinjian Semiconductor Technology Co ltd
Priority to CN202111145623.4A priority Critical patent/CN114035011A/zh
Publication of CN114035011A publication Critical patent/CN114035011A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

本发明涉及一种高功率器件栅电荷提取测试方法,包括:将高功率测试条件划分成高电流小电压条件和高电压小电流条件,在输出特性曲线ID‑VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的栅极电压VGP1和VGP2;分别获取输入电容CISS随VGS、VDS的变化曲线CISS‑VGS、CISS‑VDS以及米勒电容CRSS随VGS、VDS的变化曲线CRSS‑VGS、CRSS‑VDS;选取曲线CISS‑VGS,计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS和Q’GS,选取曲线CRSS‑VGS和CRSS‑VDS,计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD;将QGS、Q’GS和QGD进行拼接,得到高功率条件下的栅电荷特性曲线VGS‑QG。本发明能够避免对设备的高功率要求,同时还减小了由于器件发热而导致的数据误差,具有很好的应用价值。

Description

一种高功率器件栅电荷提取测试方法
技术领域
本发明涉及功率器件技术领域,尤其是指一种高功率器件栅电荷提取测试方法。
背景技术
传统的对功率器件的测试电路如图1所示,栅极输入脉冲,负载电阻调节漏电流,示波器探头分别监控栅极(VGS)和漏极电压(VDS)随时间的关系,由Q=I*t得到各部分电荷量。但是这种测试方法存在以下缺点:1)当漏-源电压很高时,栅极达到开启电压值所需的时间极短,此时漏端的瞬时功率密度极高,这就要求了直流电源要有很高的功率输出;2)为满足不同的测试电流,该电路需要频繁的更换负载电阻RL,操作步骤繁琐且引进了额外的寄生参数;3)器件处于高功率区时会存在严重的自热效应,该效应会影响器件的输出特性从而引起实验误差。
发明内容
为此,本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术存在的缺陷,提供一种高功率器件栅电荷提取测试方法,能够避免对设备的高功率要求,同时还减小了由于器件发热而导致的数据误差。
为解决上述技术问题,本发明提供了一种高功率器件栅电荷提取测试方法,包括:
将高功率测试条件划分成高电流小电压条件和高电压小电流条件,在输出特性曲线ID-VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的栅极电压VGP1和VGP2
分别获取输入电容CISS随VGS、VDS的变化曲线CISS-VGS、CISS-VDS以及米勒电容CRSS随VGS、VDS的变化曲线CRSS-VGS、CRSS-VDS,其中测试频率为1MHZ,输入的VGS的范围为0-VGDR,VGDR为驱动电压,VDS的范围为0-VDD
选取所述曲线CISS-VGS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS和Q’GS,选取所述曲线CRSS-VGS和CRSS-VDS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD
将所述QGS、Q’GS和QGD进行拼接,得到高功率条件下的栅电荷特性曲线VGS-QG
在本发明的一个实施例中,在所述高电压小电流条件下,其电压VDS选该条件下的电压范围的最大值。
在本发明的一个实施例中,在所述高电流小电压条件下,其电流ID选该条件下的电流范围的最大值。
在本发明的一个实施例中,在输出特性曲线ID-VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的栅极电压VGP1和VGP2包括:
在输出特性曲线ID-VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的电流值ID1和ID2,并在输出特性曲线ID-VDS的恒流区找到该电流值对应的曲线,读出对应的栅极电压VGS并定义为VGP1和VGP2
在本发明的一个实施例中,选取所述曲线CISS-VGS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS包括:
运用如下的计算公式计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS
Figure BDA0003285332340000031
式中,QGS表示栅源电荷,VGP为米勒平台电压,CISS为输入电容,VGS表示栅极电压。
在本发明的一个实施例中,选取所述曲线CISS-VGS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的Q’GS包括:
运用如下的计算公式计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的Q’GS
Figure BDA0003285332340000032
式中,Q’GS表示栅源电荷,VGP为米勒平台电压,VGDR为驱动电压,CISS为输入电容,VGS表示栅极电压。
在本发明的一个实施例中,选取所述曲线CRSS-VGS和CRSS-VDS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD包括:
运用如下的计算公式计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD
Figure BDA0003285332340000033
式中,QGD表示米勒电荷,VGP表示米勒平台电压,CRSS表示米勒电容,VDD表示漏源电压。
在本发明的一个实施例中,所述米勒平台电压VGP在高电流小电压条件下选取VGP1
在本发明的一个实施例中,所述米勒平台电压VGP在高电压小电流条件下选取VGP2
在本发明的一个实施例中,将所述QGS、Q’GS和QGD进行拼接,得到高功率条件下的栅电荷特性曲线VGS-QG包括:
总栅电荷QG的计算公式如下:
QG=QGS+QGD+Q'GS
式中,QGS表示栅源电荷,QGD表示米勒电荷,Q’GS表示栅源电荷。
本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点:
本发明首先将高功率测试条件划分成高电流小电压条件和高电压小电流条件,然后求出两种条件下的栅源电荷和米勒电荷,并将其进行拼接得到高功率条件下的栅电荷特性曲线,能够避免对设备的高功率要求,同时还减小了由于器件发热而导致的数据误差,具有很好的应用价值。
附图说明
为了使本发明的内容更容易被清楚的理解,下面根据本发明的具体实施例并结合附图,对本发明作进一步详细的说明。
图1是传统测试电路的原理示意图。
图2是本发明提取栅极电压的示意图。
图3是本发明拼接得到的高功率条件下的栅电荷特性曲线VGS-QG的示意图。
图4是传统方法和本发明提供的方法的测试结果的对比示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明,以使本领域的技术人员可以更好地理解本发明并能予以实施,但所举实施例不作为对本发明的限定。
本发明实施例提供一种高功率器件栅电荷提取测试方法,包括如下步骤:
S100:将高功率测试条件划分成高电流小电压条件和高电压小电流条件,在输出特性曲线ID-VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的栅极电压VGP1和VGP2
示例地,在高电压小电流条件下,其电压VDS选该条件下的电压范围的最大值,例如最大值VDD;在高电流小电压条件下,其电流ID选该条件下的电流范围的最大值。
示例地,在输出特性曲线ID-VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的电流值ID1和ID2,并在输出特性曲线ID-VDS的恒流区找到该电流值对应的曲线,读出对应的栅极电压VGS并定义为VGP1和VGP2,提取方法如图2所示。
S200:分别获取输入电容CISS随VGS、VDS的变化曲线CISS-VGS、CISS-VDS以及米勒电容CRSS随VGS、VDS的变化曲线CRSS-VGS、CRSS-VDS,其中测试频率为1MHZ,输入的VGS的范围为0-VGDR,VGDR为驱动电压,VDS的范围为0-VDD
S300:选取曲线CISS-VGS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS和Q’GS,选取所述曲线CRSS-VGS和CRSS-VDS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD
S400:将所述QGS、Q’GS和QGD进行拼接,得到高功率条件下的栅电荷特性曲线VGS-QG如图3所示。
其中,在步骤S300中,选取曲线CISS-VGS,计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS包括:
运用如下的计算公式计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS,对应于图3的QGS1和QGS2
Figure BDA0003285332340000061
式中,QGS表示栅源电荷,VGP为米勒平台电压,CISS为输入电容,VGS表示栅极电压,其中,米勒平台电压VGP在高电流小电压条件下选取VGP1,米勒平台电压VGP在高电压小电流条件下选取VGP2
其中,在步骤S300中,选取曲线CISS-VGS,计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的Q’GS包括:
运用如下的计算公式计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的Q’GS,对应于图3的Q’GS1和Q’GS2
Figure BDA0003285332340000062
式中,Q’GS表示栅源电荷,VGP为米勒平台电压,VGDR为驱动电压,CISS为输入电容,VGS表示栅极电压,其中,米勒平台电压VGP在高电流小电压条件下选取VGP1,米勒平台电压VGP在高电压小电流条件下选取VGP2
其中,在步骤S300中,选取曲线CRSS-VGS和CRSS-VDS,计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD包括:
运用如下的计算公式计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD,对应于图3的QGD1和QGD2
Figure BDA0003285332340000063
式中,QGD表示米勒电荷,VGP表示米勒平台电压,CRSS表示米勒电容,VDD表示漏源电压,其中,米勒平台电压VGP在高电流小电压条件下选取VGP1,米勒平台电压VGP在高电压小电流条件下选取VGP2
其中,在步骤S400中,总栅电荷QG的计算公式如下:
QG=QGS+QGD+Q'GS
式中,QGS表示栅源电荷,QGD表示米勒电荷,Q’GS表示栅源电荷。
请参阅图4所示,图中矩形对应的曲线是器件规格书上的参考值,三角形对应的曲线是采用传统方法得到的测试结果,圆形对应的曲线是采用本发明提供的方法得到的测试结果,从图中能够得出,圆形对应的曲线与形对应的曲线基本重合,其表明采用本发明提供的方法得到的测试结果的准确度是非常高的。
本发明首先将高功率测试条件划分成高电流小电压条件和高电压小电流条件,然后求出两种条件下的栅源电荷和米勒电荷,并将其进行拼接得到高功率条件下的栅电荷特性曲线,能够避免对设备的高功率要求,同时还减小了由于器件发热而导致的数据误差,具有很好的应用价值。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于,包括:
将高功率测试条件划分成高电流小电压条件和高电压小电流条件,在输出特性曲线ID-VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的栅极电压VGP1和VGP2
分别获取输入电容CISS随VGS、VDS的变化曲线CISS-VGS、CISS-VDS以及米勒电容CRSS随VGS、VDS的变化曲线CRSS-VGS、CRSS-VDS,其中测试频率为1MHZ,输入的VGS的范围为0-VGDR,VGDR为驱动电压,VDS的范围为0-VDD
选取所述曲线CISS-VGS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS和Q’GS,选取所述曲线CRSS-VGS和CRSS-VDS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD
将所述QGS、Q’GS和QGD进行拼接,得到高功率条件下的栅电荷特性曲线VGS-QG
2.根据权利要求1所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:在所述高电压小电流条件下,其电压VDS选该条件下的电压范围的最大值。
3.根据权利要求1所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:在所述高电流小电压条件下,其电流ID选该条件下的电流范围的最大值。
4.根据权利要求1所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:在输出特性曲线ID-VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的栅极电压VGP1和VGP2包括:
在输出特性曲线ID-VDS上提取出高电流小电压条件和高电压小电流条件下的漏电流对应的电流值ID1和ID2,并在输出特性曲线ID-VDS的恒流区找到该电流值对应的曲线,读出对应的栅极电压VGS并定义为VGP1和VGP2
5.根据权利要求1所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:选取所述曲线CISS-VGS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS包括:
运用如下的计算公式计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGS
Figure FDA0003285332330000021
式中,QGS表示栅源电荷,VGP为米勒平台电压,CISS为输入电容,VGS表示栅极电压。
6.根据权利要求1所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:选取所述曲线CISS-VGS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的Q’GS包括:
运用如下的计算公式计算得到高电流小电压条件和高电压小电流条件下的Q’GS
Figure FDA0003285332330000022
式中,Q’GS表示栅源电荷,VGP为米勒平台电压,VGDR为驱动电压,CISS为输入电容,VGS表示栅极电压。
7.根据权利要求1所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:选取所述曲线CRSS-VGS和CRSS-VDS,计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD包括:
运用如下的计算公式计算得到所述高电流小电压条件和高电压小电流条件下的QGD
Figure FDA0003285332330000031
式中,QGD表示米勒电荷,VGP表示米勒平台电压,CRSS表示米勒电容,VDD表示漏源电压。
8.根据权利要求5、6和7中任意一项所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:所述米勒平台电压VGP在高电流小电压条件下选取VGP1
9.根据权利要求5、6和7中任意一项所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:所述米勒平台电压VGP在高电压小电流条件下选取VGP2
10.根据权利要求1所述的一种高功率器件栅电荷提取测试方法,其特征在于:将所述QGS、Q’GS和QGD进行拼接,得到高功率条件下的栅电荷特性曲线VGS-QG包括:
总栅电荷QG的计算公式如下:
QG=QGS+QGD+Q'GS
式中,QGS表示栅源电荷,QGD表示米勒电荷,Q’GS表示栅源电荷。
CN202111145623.4A 2021-09-28 2021-09-28 一种高功率器件栅电荷提取测试方法 Pending CN114035011A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111145623.4A CN114035011A (zh) 2021-09-28 2021-09-28 一种高功率器件栅电荷提取测试方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111145623.4A CN114035011A (zh) 2021-09-28 2021-09-28 一种高功率器件栅电荷提取测试方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN114035011A true CN114035011A (zh) 2022-02-11

Family

ID=80140298

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111145623.4A Pending CN114035011A (zh) 2021-09-28 2021-09-28 一种高功率器件栅电荷提取测试方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114035011A (zh)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2215369A1 (en) * 1997-09-12 1999-03-12 Nicholas Garry Tarr Method of monitoring radiation using a floating gate field effect transistor dosimeter, and dosimeter for use therein
CN1327564A (zh) * 1999-06-15 2001-12-19 精工爱普生株式会社 薄膜晶体管的电学性能模型
US20070040571A1 (en) * 2005-08-22 2007-02-22 Dolian Krikor M Method and apparatus for testing power MOSFET devices
JP2015161627A (ja) * 2014-02-28 2015-09-07 キーサイト テクノロジーズ, インク. パワーデバイスのゲート電荷測定方法及びパワーデバイスの特性測定装置
CN107833840A (zh) * 2017-10-27 2018-03-23 西安电子科技大学 AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的结温测试方法
CN108732480A (zh) * 2018-05-24 2018-11-02 江苏矽导集成科技有限公司 基于SiCMOSFET器件并联使用的自动化分拣电路及自动化分拣方法
CN109918857A (zh) * 2019-04-19 2019-06-21 南京大学 GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法
US20190346501A1 (en) * 2018-05-09 2019-11-14 Keithley Instruments, Llc Gate Charge Measurements Using Two Source Measure Units
CN211905576U (zh) * 2020-03-26 2020-11-10 江阴新顺微电子有限公司 一种功率mosfet栅电荷测试装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2215369A1 (en) * 1997-09-12 1999-03-12 Nicholas Garry Tarr Method of monitoring radiation using a floating gate field effect transistor dosimeter, and dosimeter for use therein
CN1327564A (zh) * 1999-06-15 2001-12-19 精工爱普生株式会社 薄膜晶体管的电学性能模型
US20070040571A1 (en) * 2005-08-22 2007-02-22 Dolian Krikor M Method and apparatus for testing power MOSFET devices
JP2015161627A (ja) * 2014-02-28 2015-09-07 キーサイト テクノロジーズ, インク. パワーデバイスのゲート電荷測定方法及びパワーデバイスの特性測定装置
CN107833840A (zh) * 2017-10-27 2018-03-23 西安电子科技大学 AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的结温测试方法
US20190346501A1 (en) * 2018-05-09 2019-11-14 Keithley Instruments, Llc Gate Charge Measurements Using Two Source Measure Units
CN108732480A (zh) * 2018-05-24 2018-11-02 江苏矽导集成科技有限公司 基于SiCMOSFET器件并联使用的自动化分拣电路及自动化分拣方法
CN109918857A (zh) * 2019-04-19 2019-06-21 南京大学 GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法
CN211905576U (zh) * 2020-03-26 2020-11-10 江阴新顺微电子有限公司 一种功率mosfet栅电荷测试装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103837731B (zh) 用于测量晶体管的特性的电压检测电路和方法
US8633726B2 (en) Semiconductor device evaluation apparatus and semiconductor device evaluation method
US8935117B2 (en) Circuit and method for measuring voltage
US20210132136A1 (en) Method for measuring current-voltage characteristic
US20050024081A1 (en) Testing apparatus and method for thin film transistor display array
US20170011144A1 (en) High-voltage device simulation model and modeling method therefor
US20060145708A1 (en) Method for measuring characteristics of FETs
US9696371B2 (en) Test method and system for cut-in voltage
CN110376539B (zh) 一种校准示波器通道的测量延时方法、装置及校准设备
KR20060113499A (ko) Fet 특성 측정 시스템
TWI484755B (zh) 切換裝置以及測試裝置
CN111368490A (zh) 横向双扩散晶体管的电路模型及其建模方法
CN114035011A (zh) 一种高功率器件栅电荷提取测试方法
US10962585B2 (en) Gate charge measurements using two source measure units
US10339914B2 (en) Transmit/receive channel for ultrasound applications
Hai et al. Comprehensive Analysis of RF Hot-Carrier Reliability Sensitivity and Design Explorations for 28GHz Power Amplifier Applications
Guvench SPICE Parameter Extraction from Automated Measurement of JFET and MOSFET Characteristics in The Computer-Integrated-Electronics Laboratory
CN115605769B (zh) 用于测量氮化物基半导体器件的动态导通电阻的设备
CN112710940B (zh) 一种SiC MOSFET反向转移电容测量方法
CN109239566B (zh) 一种模拟功率型开关管寄生电容预调驱动信号的方法
CN114002572B (zh) 一种用于测试功率器件的共源电感的测试电路及测试方法
US20230367937A1 (en) System and Method for Generating Device Model Parameter
CN218917514U (zh) 功率半导体器件的等效输出电容的测试电路
JP2002353440A (ja) 半導体素子の特性シミュレーション方法及び特性シミュレーション装置
Fuchs et al. A new method for measuring parasitics of super junction power MOSFETs

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination