CN114032609A - 碲化镉晶体的生长方法 - Google Patents
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Abstract
本公开提供一种碲化镉晶体的生长方法,包括以下步骤:步骤一,将碲化镉籽晶置于坩埚底部,碲‑镉混合料置于籽晶之上,密封坩埚;步骤二,将坩埚放入生长炉内,设置加热器温度T,使碲‑镉混合料熔化;步骤三,碲逐渐蒸发,并在坩埚顶部封泡位置凝固;步骤四,随着碲在混合原料中含量的降低,碲化镉析出,并在籽晶上结晶生长,直至碲完全蒸发,晶体生长完成。本公开的碲化镉晶体的生长方法制备的碲化镉晶体,具有单晶率高、位错密度低等优点。
Description
技术领域
本发明涉及晶体生长领域,具体涉及一种碲化镉晶体的生长方法。
背景技术
碲化镉晶体是一种重要的半导体晶体,闪锌矿结构,具有直接跃迁型能带结构,其禁带宽度1.45eV。CdTe可以通过很容易的通过掺入不同杂质来获取n型或p型半导体材料。当用In取代Cd的位置,便形成n型半导体。当用Cu、Ag、Au取代Cd的位置,形成p型半导体。碲化镉晶体可用于光谱分析、红外电光调制器、红外探测器、红外透镜和窗口、磷光体、常温γ射线探测器、接近可见光区的发光器件等。
碲化镉难以制成大直径体单晶,许多材料多作成外延薄膜应用。碲化镉晶体的堆垛缺陷能(层错)很低,在晶体生长过程中,极易生长成多晶或孪晶。为了克服晶体生长过程中的困难,研究者开发了多种碲化镉晶体生长方法,包括VB法、VGF法、THM法等多种,但均无法解决大尺寸单晶的生长难题。因此,有必要开发一种新的碲化镉晶体生长技术。
发明内容
鉴于背景技术中存在的问题,本公开的目的在于提供一种碲化镉晶体的生长方法。
为了实现上述目的,本公开提供了一种碲化镉晶体的生长方法,包括以下步骤:步骤一,将碲化镉籽晶置于坩埚底部,碲-镉混合料置于籽晶之上,密封坩埚;步骤二,将坩埚放入生长炉内,设置加热器温度T,使碲-镉混合料熔化;步骤三,碲逐渐蒸发,并在坩埚顶部封泡位置凝固;步骤四,随着碲在混合原料中含量的降低,碲化镉析出,并在籽晶上结晶生长,直至碲完全蒸发,晶体生长完成。
在一些实施例中,在步骤一中,所述坩埚内真空度小于1×10-3Pa。
在一些实施例中,在步骤一中,所述碲化镉籽晶置于坩埚底部的高度为30~50mm。
在一些实施例中,在步骤一中,所述碲-镉混合料中碲和镉的摩尔比为2~5∶1。
在一些实施例中,在步骤二中,所述加热器温度T与碲在碲-镉混合料中摩尔比x满足:T=1063+646x-1186x2。
在一些实施例中,在步骤三中,所述封泡位置的温度小于400℃。
在一些实施例中,所述坩埚封泡和碲化镉籽晶位置的温度低于碲-镉混合料部分。
本公开的有益效果如下:
本公开的碲化镉晶体的生长方法制备的碲化镉晶体,具有单晶率高、位错密度低等优点。
具体实施方式
下面详细说明根据本公开的碲化镉晶体的生长方法。
本申请公开一种碲化镉晶体的生长方法,包括以下步骤:步骤一,将碲化镉籽晶置于坩埚底部,碲-镉混合料置于籽晶之上,密封坩埚;步骤二,将坩埚放入生长炉内,设置加热器温度T,使碲-镉混合料熔化;步骤三,碲逐渐蒸发,并在坩埚顶部封泡位置凝固;步骤四,随着碲在混合原料中含量的降低,碲化镉析出,并在籽晶上结晶生长,直至碲完全蒸发,晶体生长完成。
在一些实施例中,在步骤一中,所述坩埚内真空度小于1×10-3Pa。坩埚内真空度过差会在长晶系统中引入氧气,造成污染。
在一些实施例中,在步骤一中,所述碲化镉籽晶置于坩埚底部的高度为30~50mm。碲化镉籽晶在坩埚底部的高度过低容易导致籽晶被完全熔化;碲化镉籽晶在坩埚底部的高度过高,则会增加长晶成本。
在一些实施例中,在步骤一中,所述碲-镉混合料中碲和镉的摩尔比为2~5∶1。碲-镉混合料中碲的含量过高造成原料浪费;碲-镉混合料中碲的含量过低,会升高长晶温度,造成晶体缺陷增多。
在一些实施例中,在步骤二中,所述加热器温度T与碲在碲-镉混合料中摩尔比x满足:T=1063+646x-1186x2。在该温度下,可以保持稳定的晶体生长。
在一些实施例中,在步骤三中,所述封泡位置的温度小于400℃。封泡温度高于400℃时,无法有效冷凝碲,使碲回流,造成晶体生长失败。
在一些实施例中,所述坩埚封泡和碲化镉籽晶位置的温度低于碲-镉混合料部分。装炉时,所述碲-镉混合料位于加热器之中,籽晶和石英坩埚的封泡位于加热器之外。保持籽晶温度稍低于碲-镉混合料,便于引晶,生长晶体。保持封泡位于加热器之外,使封泡保持较低温度,便于冷凝碲熔体。
[测试过程及测试结果]
实施例1
步骤一,将30mm高碲化镉籽晶置于坩埚底部,摩尔比2∶1的碲-镉混合料置于籽晶之上,抽真空至于0.8×10-3Pa,密封坩埚;
步骤二,将坩埚放入生长炉内,碲-镉混合料位于加热器之中,籽晶和石英坩埚的封泡位于加热器之外,设置加热器温度966℃,使碲-镉混合料熔化,控制坩埚顶部封泡位置300℃;
步骤三,碲逐渐蒸发,并在坩埚顶部封泡位置凝固;
步骤四,随着碲在混合原料中含量的降低,碲化镉析出,并在籽晶上结晶生长,直至碲完全蒸发,晶体生长完成。
经检测,碲化镉单晶率75%,位错密度为3×103cm-2。
实施例2
步骤一,将50mm高碲化镉籽晶置于坩埚底部,摩尔比5∶1的碲-镉混合料置于籽晶之上,抽真空至于0.5×10-3Pa,密封坩埚;
步骤二,将坩埚放入生长炉内,碲-镉混合料位于加热器之中,籽晶和石英坩埚的封泡位于加热器之外,设置加热器温度778℃,使碲-镉混合料熔化,控制坩埚顶部封泡位置200℃;
步骤三,碲逐渐蒸发,并在坩埚顶部封泡位置凝固;
步骤四,随着碲在混合原料中含量的降低,碲化镉析出,并在籽晶上结晶生长,直至碲完全蒸发,晶体生长完成。
经检测,碲化镉单晶率80%,位错密度为1.5×103cm-2。
对比例1
步骤一,将15mm高碲化镉籽晶置于坩埚底部,摩尔比5∶1的碲-镉混合料置于籽晶之上,抽真空至于0.5×10-3Pa,密封坩埚;
步骤二,将坩埚放入生长炉内,碲-镉混合料位于加热器之中,籽晶和石英坩埚的封泡位于加热器之外,设置加热器温度778℃,使碲-镉混合料熔化,控制坩埚顶部封泡位置200℃;
步骤三,碲逐渐蒸发,并在坩埚顶部封泡位置凝固;
步骤四,随着碲在混合原料中含量的降低,碲化镉析出,并在籽晶上结晶生长,直至碲完全蒸发,晶体生长完成。
经检测,碲化镉单晶率15%,位错密度为6×104cm-2。
对比例2
步骤一,将30mm高碲化镉籽晶置于坩埚底部,摩尔比1∶1的碲-镉混合料置于籽晶之上,抽真空至于0.8×10-3Pa,密封坩埚;
步骤二,将坩埚放入生长炉内,碲-镉混合料位于加热器之中,籽晶和石英坩埚的封泡位于加热器之外,设置加热器温度996℃,使碲-镉混合料熔化,控制坩埚顶部封泡位置300℃。
试验发现,无碲蒸发,试验失败。
对比例3
步骤一,将30mm高碲化镉籽晶置于坩埚底部,摩尔比2∶1的碲-镉混合料置于籽晶之上,抽真空至于0.8×10-3Pa,密封坩埚;
步骤二,将坩埚放入生长炉内,碲-镉混合料位于加热器之中,籽晶和石英坩埚的封泡位于加热器之外,设置加热器温度1093℃,使碲-镉混合料熔化,控制坩埚顶部封泡位置300℃;
步骤三,碲逐渐蒸发,并在坩埚顶部封泡位置凝固,直至完全蒸发。
取出晶体,发现碲-镉混合料和籽晶完全蒸发至坩埚顶部封泡位置,无单晶产出。
表1测试结果
碲化镉单晶率 | 位错密度 | |
实施例1 | 75% | 3×10<sup>3</sup>cm<sup>-2</sup> |
实施例2 | 80% | 1.5×10<sup>3</sup>cm<sup>-2</sup> |
对比例1 | 15% | 6×10<sup>4</sup>cm<sup>-2</sup> |
对比例2 | 无碲蒸发 | 试验失败 |
对比例3 | 无单晶产出 | 试验失败 |
从表1可以看出,本申请的技术方案得到的碲化镉单晶率高,位错密度小。
上述公开特征并非用来限制本公开的实施范围,因此,以本公开权利要求所述内容所做的等效变化,均应包括在本公开的权利要求范围之内。
Claims (7)
1.一种碲化镉晶体的生长方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一,将碲化镉籽晶置于坩埚底部,碲-镉混合料置于籽晶之上,密封坩埚;
步骤二,将坩埚放入生长炉内,设置加热器温度T,使碲-镉混合料熔化;
步骤三,碲逐渐蒸发,并在坩埚顶部封泡位置凝固;
步骤四,随着碲在混合原料中含量的降低,碲化镉析出,并在籽晶上结晶生长,直至碲完全蒸发,晶体生长完成。
2.根据权利要求1所述的碲化镉晶体的生长方法,其特征在于,
在步骤一中,所述坩埚内真空度小于1×10-3Pa。
3.根据权利要求1所述的碲化镉晶体的生长方法,其特征在于,
在步骤一中,所述碲化镉籽晶置于坩埚底部的高度为30~50mm。
4.根据权利要求1所述的碲化镉晶体的生长方法,其特征在于,
在步骤一中,所述碲-镉混合料中碲和镉的摩尔比为2~5∶1。
5.根据权利要求1所述的碲化镉晶体的生长方法,其特征在于,在步骤二中,所述加热器温度T与碲在碲-镉混合料中摩尔比x满足:T=1063+646x-1186x2。
6.根据权利要求1所述的碲化镉晶体的生长方法,其特征在于,
在步骤三中,所述封泡位置的温度小于400℃。
7.根据权利要求1所述的碲化镉晶体的生长方法,其特征在于,
所述坩埚封泡和碲化镉籽晶位置的温度低于碲-镉混合料部分。
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