CN114015978A - 遮挡件、掩模组件、蒸镀装置和蒸镀方法 - Google Patents

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CN114015978A CN202111321030.9A CN202111321030A CN114015978A CN 114015978 A CN114015978 A CN 114015978A CN 202111321030 A CN202111321030 A CN 202111321030A CN 114015978 A CN114015978 A CN 114015978A
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Abstract

本申请实施例提供一种遮挡件、掩模组件、蒸镀装置和蒸镀方法,遮挡件包括:承载部,包括承载框及连接于承载框内的承载梁;支撑柱,连接于承载梁并沿第一方向延伸成型;挡片,连接于支撑柱背离承载梁的一端。当遮挡件用于蒸镀工艺中时,可以利用承载框将遮挡件固定于预设位置,挡片遮挡于待蒸镀基板的预设位置,使得蒸镀材料不会蒸镀在预设位置,提高预设位置的透光率,进而提升显示面板的良率。此外,由于支撑柱的存在,能够增加挡片和承载部的距离,使得承载部不会影响正常材料的蒸镀,进一步提升显示面板的良率。

Description

遮挡件、掩模组件、蒸镀装置和蒸镀方法
技术领域
本申请涉及蒸镀设备技术领域,尤其涉及一种遮挡件、掩模组件、蒸镀装置和蒸镀方法。
背景技术
随着显示技术的发展,越来越多的显示面板和显示装置被应用于人们的日常生活和工作中。为了提高用户体验,现有的显示面板结构中通常集成传感器模块,例如摄像头、红外感测器等。
目前,为满足较高的屏占比,通常在显示面板的一端的中间区域设置透光的挖孔区,在挖孔区内设置传感器模块。在显示面板制备过程中,利用蒸镀掩模板蒸镀形成像素时,需要避开挖孔区,这一掩模板和待蒸镀基板的对位精度要求较高,当对位达不到时,蒸镀材料可能蒸镀于挖孔区而使得挖孔区的透光率较低,显示面板产品良率较低,成本较高。
发明内容
本申请实施例提供一种遮挡件、掩模组件、蒸镀装置和蒸镀方法,旨在提高显示面板的良率。
本申请第一方面的实施例提供了一种遮挡件,用于蒸镀掩模组件,遮挡件包括:承载部,包括承载框及连接于承载框内的承载梁;支撑柱,连接于承载梁并沿第一方向延伸成型;挡片,连接于支撑柱背离承载梁的一端。
根据本申请第一方面的实施方式,挡片背离支撑柱的一侧设置有柔性垫。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,承载梁包括沿第二方向延伸的第一承载梁,多个第一承载梁沿第三方向间隔分布,支撑柱连接于第一承载梁。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,承载梁还包括沿第三方向延伸的第二承载梁,第一承载梁和第二承载梁相交,至少部分支撑柱连接于第一承载梁和第二承载梁的交叉区域。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,多个支撑柱沿第二方向间隔分布于同一第一承载梁。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,多个支撑柱沿第三方向间隔分布于同一第二承载梁。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,挡片具有垂直于第一方向的第一横截面,沿背离承载框的方向,第一横截面尺寸逐渐减小。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,挡片具有朝向承载框的第一表面、背离承载框的第二表面和连接第一表面和第二表面的周侧面,周侧面和第一表面之间的角度小于或等于60°。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,承载框上设置有卡扣部,以使承载框通过卡扣部固定于预设位置。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,卡扣部的个数为多个,多个卡扣部在承载框上间隔分布。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,卡扣部包括连接臂和卡接臂,连接臂连接于承载框并沿第一方向延伸成型,卡接臂连接于连接臂背离承载框的一端并沿与连接臂相交设置。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,卡接臂由连接臂朝向承载框内部延伸成型。
根据本申请第一方面前述任一实施方式,卡扣部和支撑柱设置于承载框在第一方向的同侧,卡扣部在第一方向上的延伸尺寸小于支撑柱在第一方向上的延伸尺寸。
本申请第二方面的实施例还提供了一种掩模组件,包括上述任第一方面实施例提供的遮挡件。
根据本申请第二方面的实施方式,还包括:掩模板,掩模板包括环状的支撑部和位于支撑部内的蒸镀部,掩模板位于遮挡件朝向待蒸镀基板的一侧。
根据本申请第二方面前述任一实施方式,蒸镀部包括贯穿设置并用于容纳挡片的让位开口。
根据本申请第二方面前述任一实施方式,沿第一方向,支撑柱的延伸尺寸大于支撑部的延伸尺寸。
根据本申请第二方面前述任一实施方式,还包括:固定件,用于固定掩模板和遮挡件。
根据本申请第二方面前述任一实施方式,固定件包括固定臂及由固定臂环绕形成的镂空部,固定臂位于承载框和支撑部之间,以使至少部分支撑柱位于镂空部。
根据本申请第二方面前述任一实施方式,遮挡件的承载框上设置有卡扣部,以通过卡扣部将遮挡件固定于固定臂。
根据本申请第二方面前述任一实施方式,卡扣部包括相交设置的连接于承载框的连接臂、连接于连接臂背离承载框一端的卡接臂,卡接臂卡接于固定臂背离承载框的一侧。
根据本申请第二方面前述任一实施方式,在第一方向上,支撑柱和挡片的延伸尺寸之和大于或等于固定臂和支撑区的延伸尺寸之和。
本申请第三方面的实施例还提供一种蒸镀装置,包括上述任一第二方面实施例提供的掩模组件。
本申请第四方面的实施例还提供一种蒸镀方法,包括:
将掩模板布置于待蒸镀基板的蒸镀侧;
将固定件设置于掩模板背离待蒸镀基板的一侧,以通过固定件固定掩模板,固定件包括固定臂、及由固定臂环绕形成的镂空部;
将遮挡件设置于固定件背离掩模板的一侧,遮挡件包括承载部、支撑柱和挡片,承载部包括承载框、连接于承载框内的承载梁及设置于承载框的卡扣部,遮挡件通过卡扣部固定于固定件,支撑柱由承载梁沿第一方向经由镂空部朝向待蒸镀基板延伸,挡片连接于支撑柱背离承载梁的一端并用于遮挡待蒸镀基板的非蒸镀区。
在本申请实施例提供的遮挡件中,遮挡件包括承载部、支撑柱和挡片,承载部的承载框和承载梁用于承载支撑柱和挡片。挡片通过支撑柱固定于承载部,通过适当调整支撑柱的延伸尺寸,可以调整挡片和承载部之间的距离。当遮挡件用于蒸镀工艺中时,可以利用承载框将遮挡件固定于预设位置,挡片遮挡于待蒸镀基板的预设位置,使得蒸镀材料不会蒸镀在预设位置,提高预设位置的透光率,进而提升显示面板的良率。此外,由于支撑柱的存在,能够增加挡片和承载部的距离,使得承载部不会影响正常材料的蒸镀,进一步提升显示面板的良率。
附图说明
通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显,其中,相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征。
图1是本申请实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图;
图2是本申请实施例提供的一种掩模组件的结构示意图;
图3是本申请实施例提供的一种掩模组件的拆解结构示意图;
图4是本申请实施例提供的一种遮挡件的侧视图;
图5是本申请实施例提供的一种遮挡件的俯视图;
图6是本申请另一实施例提供的一种遮挡件的俯视结构示意图;
图7是又一实施例提供的一种一种遮挡件的俯视结构示意图;
图8是图4中I处的局部放大结构示意图;
图9是本申请实施例提供的一种遮挡件的部分结构示意图;
图10是本申请实施例提供的一种掩模组件中固定件的俯视结构示意图;
图11是图3中II处的局部放大结构示意图;
图12是本申请实施例提供的一种蒸镀方法的流程示意图。
附图标记说明:
1、掩模组件;2、蒸发源;3、蒸镀腔;4、待蒸镀基板;
10、遮挡件;110、承载部;111、承载框;112、承载梁;112a、第一承载梁;112b、第二承载梁;120、支撑柱;130、挡片;131、第一表面;132、第二表面;133、周侧面;140、柔性垫;150、卡扣部;151、连接臂;152、卡接臂;
20、掩模板;210、支撑部;220、蒸镀部;
30、固定件;310、固定臂;320、镂空部。
具体实施方式
下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中,提出了许多具体细节,以便提供对本申请的全面理解。但是,对于本领域技术人员来说很明显的是,本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请的更好的理解。在附图和下面的描述中,至少部分的公知结构和技术没有被示出,以便避免对本申请造成不必要的模糊;并且,为了清晰,可能夸大了部分结构的尺寸。此外,下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有说明,“多个”的含义是两个以上;术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向,并不是对本申请的实施例的具体结构进行限定。在本申请的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可视具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
为了提升消费电子显示屏幕的屏占比,挖孔屏应运而生。挖孔屏包括挖孔区,挖孔区的位置用来放置摄像头等元件。
显示面板包括阵列基板、发光器件和封装层等层结构。发光器件层包括像素电极、发光层和公共电极层,发光层又包括发光材料层和共通层。在发光器件的制备过程中,需要使用蒸镀工艺,例如需要使用共通掩模板(Common Metal Mask;CMM)技术蒸镀形成共通层和公共电极层。为了提高挖孔区的透光率,在蒸镀过程中对挖孔区极性遮挡,且不影响挖孔区周边显示区域的蒸镀效果。
目前在具有挖孔区的显示屏制备过程中,使用CMM拼接等方案形成挖孔区,这些工艺不仅对蒸镀掩模板与待蒸镀基板的对位精度要求较高,且增加了蒸镀工艺步骤,均可能影响显示区公共电极、共通层等层结构的膜厚均一性,因而影响显示面板的良率。
为了解决上述技术问题,提出本申请。为了更好地理解本申请,下面结合图1至图12对本申请实施例的遮挡件、掩模组件和蒸镀方法进行详细描述。
请参阅图1,图1是本申请实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图。
如图1所示,本申请实施例提供的蒸镀装置包括掩模组件1。可选的,蒸镀装置还包括蒸镀腔3和位于蒸镀腔3内的蒸发源2,掩模组件1位于蒸镀腔3内。蒸镀装置用于将蒸镀材料蒸镀于待蒸镀基板4以形成显示面板。
蒸镀腔3用于形成密闭的蒸镀空间,避免杂质影响蒸镀效果。蒸发源2用于容纳蒸镀材料,使得蒸发材料由蒸发源2蒸发形成于待蒸镀基板4上。掩模组件1用于遮挡待蒸镀基板4,使得蒸镀材料只能形成于待蒸镀基板4的目标位置。
在待蒸镀基板4的蒸镀过程中,可以将待蒸镀基板4设置于蒸发源2的上方,将掩模组件1布置于待蒸镀基板4朝向蒸发源2的一侧,在蒸发源2内设置蒸发材料,使得蒸发材料从蒸发源2蒸发,并形成于待蒸镀基板4的目标位置。
请一并参阅图1至图3,图2是本申请实施例提供的一种掩模组件1的结构示意图。图3是本申请实施例提供的一种掩模组件1的拆解结构示意图。
如图1至图3所示,本申请实施例提供的掩模组件1包括:遮挡件10。遮挡件10用于遮挡待蒸镀基板4的指定位置。例如,当待蒸镀基板4用于蒸镀形成显示面板,显示面板包括挖孔区和位于挖孔区周侧的显示区时,指定位置为挖孔区,遮挡件10用于遮挡挖孔区,使得蒸镀材料不会落在挖孔区,提高挖孔区的透光率,进而提高显示面板的良率。
请参阅图4和图5,图4是本申请实施例提供的一种遮挡件10的侧视图。图5是本申请实施例提供的一种遮挡件10的俯视图。
如图4和图5示,本申请实施例提供的遮挡件10包括:承载部110,包括承载框111及连接于承载框111内的承载梁112;支撑柱120,连接于承载梁112并沿第一方向(图4中的Z方向)延伸成型;挡片130,连接于支撑柱120背离承载梁112的一端。
挡片130用于遮挡待蒸镀基板4的指定位置,例如当待蒸镀基板4用于蒸镀形成显示面板,显示面板包括挖孔区和位于挖孔区周侧的显示区时,指定位置为挖孔区,挡片130用于遮挡挖孔区,使得蒸镀材料不会落在挖孔区,提高挖孔区的透光率,进而提高显示面板的良率。
在本申请实施例提供的遮挡件10中,遮挡件10包括承载部110、支撑柱120和挡片130,承载部110的承载框111和承载梁112用于承载支撑柱120和挡片130。挡片130通过支撑柱120固定于承载部110,通过适当调整支撑柱120的延伸尺寸,可以调整挡片130和承载部110之间的距离。当遮挡件10用于蒸镀工艺中时,可以利用承载框111将遮挡件10固定于预设位置,挡片130遮挡于待蒸镀基板4的挖孔区,使得蒸镀材料不会蒸镀在挖孔区,提高挖孔区的透光率,进而提升显示面板的良率。由于支撑柱120的存在,能够增加挡片130和承载部110的距离,使得承载部110不会影响显示区的蒸镀,进一步提升显示面板的良率。
此外,本申请实施例提供的遮挡件10可以直接用于待蒸镀基板4的蒸镀过程中,无需增加新的工艺步骤,且能够提高显示面板的良率。
可选的,如图4所示,支撑柱120呈杆状,且支撑柱120上垂直于第一方向的截面尺寸小于挡件上垂直于第一方向的截面尺寸,即支撑柱120的截面尺寸较小。在蒸镀过程中,可以减小支撑柱120遮挡的面积,使得支撑柱120不会影响显示区的蒸镀效果。
可选的,如图5所示,承载框111呈封闭环状,以提高承载框111的承载能力。承载梁112在承载框111内且承载梁112的两端连接于承载框111。
承载梁112的设置方式有多种,在一些可选的实施例中,请继续参阅图5,承载梁112包括沿第二方向(图5中的X方向)延伸的第一承载梁112a,多个第一承载梁112a沿第三方向(图5中的Y方向)间隔分布,支撑柱120连接于第一承载梁112a。在承载框111内设置多个第一承载梁112a,各第一承载梁112a上均设置有支撑柱120和挡片130,可以一次蒸镀形成多个显示面板,各挡片130分别对应于各显示面板的挖孔区。
可选的,如图5所示,多个支撑柱120沿第二方向间隔分布于同一第一承载梁112a。使得可以一次蒸镀形成多行多列排布的显示面板。
请参阅图6和图7,图6是本申请另一实施例提供的一种遮挡件10的俯视结构示意图。图7是又一实施例提供的一种遮挡件10的俯视结构示意图。
在另一些可选的实施例中,如图6和图7所示,承载梁112还包括沿第三方向延伸的第二承载梁112b,第一承载梁112a和第二承载梁112b相交,至少部分支撑柱120连接于第一承载梁112a和第二承载梁112b的交叉区域。如图6所示,所有的支撑柱120均设置于交叉区域,如图7所示,部分支撑柱120设置于交叉区域,另一部分支撑柱120设置于第一承载梁112a。
在这些可选的实施例中,通过增设第二承载梁112b,可以进一步提高承载部110件对支撑柱120的承载能力。第一承载梁112a和第二承载梁112b的交叉区域的支撑能力高于其他位置,将支撑柱120设置于交叉位置能够提高承载部110对支撑柱120的支撑。在蒸镀过程中,能够保证支撑柱120位置的稳定性,进而保证挡片130和待蒸镀基板4之间相对位置的稳定性,提高蒸镀良率和显示面板良率。
可选的,多个支撑柱120沿第三方向间隔分布于同一第二承载梁112b。使得可以一次蒸镀形成多行多列排布的显示面板。
在一些可选的实施例中,请继续参阅图4,承载框111上设置有卡扣部150,以使承载框111通过卡扣部150固定于预设位置。例如,承载框111可以通过卡扣部150悬挂于蒸镀腔3内。
可选的,卡扣部150的个数为多个,多个卡扣部150在承载框111上间隔分布。使得遮挡件10可以通过多个卡扣部150固定于预设位置,提高遮挡件10位置的稳定性,避免遮挡件10在蒸镀过程中晃动而影响蒸镀精度。
请参阅图8,图8是图4中I处的局部放大结构示意图。
如图8所示,在一些可选的实施例中,卡扣部150包括连接臂151和卡接臂152,连接臂151连接于承载框111并沿第一方向延伸成型,卡接臂152连接于连接臂151背离承载框111的一端并沿与连接臂151相交设置。在遮挡件10的使用过程中,遮挡件10可以通过卡接臂152和连接臂151卡接于预设位置。
可选的,卡接臂152由连接臂151朝向承载框111内部延伸成型,令卡扣部150从预设位置的外部卡接于预设位置。
在一些可选的实施例中,卡扣部150和支撑柱120设置于承载框111在第一方向的同侧,卡扣部150在第一方向上的延伸尺寸小于支撑柱120在第一方向上的延伸尺寸。使得支撑柱120可以伸出于卡扣部150,伸出于卡扣部150卡接的部件,增加挡片130和承载框111之间的距离,避免承载框111影响蒸镀效果。
请参阅图9,图9是本申请实施例提供的一种遮挡件10的部分结构示意图。
挡片130的形状设置方式有多种,在一些可选的实施例中,如图9所示,挡片130具有垂直于第一方向的第一横截面,沿背离承载框111的方向,第一横截面尺寸逐渐减小。
在这些可选的实施例中,在挡片130用于蒸镀时,沿朝向蒸发源2的方向,第一横截面尺寸逐渐减小,沿朝向待蒸镀基板4的方向,第一横截面的尺寸逐渐增大。一方面能够减小挡片130的空间尺寸,改善挡片130对显示区蒸镀效果的影响;另一方面能够增大挡片130的遮挡尺寸,提高待蒸镀基板4上挖孔区的透光率。
可选的,请继续参阅图9,挡片130具有朝向承载框111的第一表面131、背离承载框111的第二表面132和连接第一表面131和第二表面132的周侧面133,周侧面133和第一表面131之间的角度小于或等于第一预设角度b。
第一预设角度的设置方式有多种,例如在一些可选的实施例中,请继续参阅图1,蒸发源2具有蒸发角度a。蒸发源2的蒸发区域通常呈圆锥形,且由蒸发源2朝向待蒸镀基板4的方向,蒸发区域的尺寸逐渐增大。蒸发角度a为蒸发区域形成的圆锥形外表面与水平之间的锐角夹角。
在蒸镀过程中,当周侧面133和水平面之间的锐角夹角小于或等于蒸发角度时,能够改善挡片130对显示区蒸镀效果的影响,即第一预设角度b小于或等于蒸发角度a时能够改善挡片130对显示区蒸镀效果的影响。蒸发角度a通常大于60°,因此第一预设角度b小于或等于60°。当第一预设角度b满足上述角度要求时,能够改善挡片130对显示区蒸镀效果的影响。
在一些可选的实施例中,请继续参阅图9,挡片130背离承载框111的一侧设置有柔性垫140。在蒸镀过程中,挡片130可以通过柔性垫140和待蒸镀基板4接触连接,避免挡片130刮伤待蒸镀基板4。
可选的,柔性垫140和挡片130上背离承载框111的表面尺寸相适配。能够避免柔性垫140过大而遮挡了显示区,影响显示区的蒸镀,也能够避免柔性垫140过小而导致挡片130的边缘刮伤待蒸镀基板4。
在一些可选的实施例中,请继续参阅图2和图3,掩模组件1还包括掩模板20,掩模板20包括环状的支撑部210和位于支撑部210内的蒸镀部220,掩模板20位于遮挡件10朝向待蒸镀基板4的一侧。。图2为掩模组件1的结构示意图。在掩模组件1用于蒸镀待蒸镀基板4的过程中,可以先将掩模板20布置于待蒸镀基板4朝向蒸发源2的一侧,再将遮挡件10布置于掩模板20背离待蒸镀基板4的一侧。支撑柱120由承载框111穿过支撑部210内,使得挡片130可以遮挡挖孔区。
可选的,蒸镀部220包括贯穿设置并用于容纳挡片130的让位开口(图中未示出)。当掩模组件1用于蒸镀待蒸镀基板4时,挡片130位于让位开口,以使挡片130能够与待蒸镀基板4接触连接。减小挡片130和待蒸镀基板4之间的距离,提高挡片130的遮挡效果。
可选的,沿第一方向,支撑柱120的延伸尺寸大于支撑部210的延伸尺寸。使得支撑柱120能够穿过支撑部210,挡片130在支撑柱120的支撑下能够与待蒸镀基板4接触连接,提高挡片130的遮挡效果。
在一些可选的实施例中,请继续参阅图2和图3,掩模组件1还包括:固定件30,用于固定掩模板20和遮挡件10。通过一个固定件30固定掩模板20和遮挡件10两个部件,能够简化掩模组件1的安装,便于掩模组件1的使用。
请一并参阅图2、图3和图10,图10是本申请实施例提供的一种掩模组件1中固定件30的俯视结构示意图。
在一些可选的实施例中,如图2、图3和图10所示,固定件30包括固定臂310及由固定臂310环绕形成的镂空部320,固定臂310位于承载框111和支撑部210之间,以使至少部分支撑柱120位于镂空部320。当掩模组件1用于蒸镀待蒸镀基板4时,固定臂310位于承载框111和支撑部210之间,支撑柱120由镂空部320穿过,且至少部分支撑柱120位于镂空部320内。
在这些可选的实施例中,在掩模组件1的使用过程中,可以先将掩模板20布置于待蒸镀基板4朝向蒸发源2的一侧;再将固定件30固定于掩模板20背离待蒸镀基板4的一侧,能够将待蒸镀基板4夹设于固定件30和待蒸镀基板4之间;最后将遮挡件10固定于固定件30背离掩模板20的一侧,使得支撑柱120穿过镂空部320朝向待蒸镀基板4延伸,挡片130可以遮挡挖孔区。
可选的,固定件30可以通过悬挂件悬挂固定于蒸镀腔3内。
请参阅图11,图11是图3中II处的局部放大结构示意图。
在一些可选的实施例中,如图3所示,遮挡件10的承载框111上设置有卡扣部150,以通过卡扣部150将遮挡件10固定于固定臂310。承载框111的结构强度较高,将卡扣部150设置于承载框111,能够提高固定件30和遮挡件10相对位置的稳定性,且使得卡扣部150不会遮挡显示区,不影响显示区的蒸镀效果。
在一些可选的实施例中,卡扣部150包括相交设置的连接于承载框111的连接臂151、连接于连接臂151背离承载框111一端的卡接臂152,卡接臂152卡接于固定臂310背离承载框111的一侧。
在这些可选的实施例中,在将固定件30悬挂于蒸镀腔3内时,可以将卡接臂152卡接于固定臂310背离承载框111的一侧,将遮挡件10悬挂于固定件30上。
可选的,卡接臂152和连接臂151可以旋转连接,通过旋转卡接臂152,可以将卡接臂152脱离于固定臂310完成遮挡件10的拆卸,也可以将卡接臂152旋转于固定臂310上完成遮挡件10的安装。
可选的,卡接臂152由所述连接臂151朝向所述承载框111内部延伸成型。即连接臂151位于固定臂310背离镂空部320的外侧,连接臂151不会位于镂空部320内而影响蒸镀效果。
可选的,在第一方向上,支撑柱120和挡片130的延伸尺寸之和大于或等于固定臂310和支撑区的延伸尺寸之和。使得挡片130可以穿过镂空部320、遮挡部以和待蒸镀基板4接触连接,且承载框111和固定件30之间间隔设置。
请参阅图12,图12是本申请实施例提供的一种蒸镀方法的流程示意图。该蒸镀方法可以使用上述任一实施例的掩模组件1进行蒸镀。
如图1至图12所示,蒸镀方法包括:
步骤S01:将掩模板20布置于待蒸镀基板4的蒸镀侧。
蒸镀侧即待蒸镀基板4朝向蒸发源2的一侧。
步骤S02:将固定件30设置于掩模板20背离待蒸镀基板4的一侧,以通过固定件30固定掩模板20,固定件30包括固定臂310、及由固定臂310环绕形成的镂空部320。
步骤S03:将遮挡件10设置于固定件30背离掩模板20的一侧。
遮挡件10包括承载部110、支撑柱120和挡片130,承载部110包括承载框111、连接于承载框111内的承载梁112及设置于承载框111的卡扣部150,遮挡件10通过卡扣部150固定于固定件30,支撑柱120由承载梁112沿第一方向经由镂空部320朝向待蒸镀基板4延伸,挡片130连接于支撑柱120背离承载梁112的一端并用于遮挡待蒸镀基板4的非蒸镀区。
待蒸镀件的非蒸镀区,即上述的待蒸镀件的显示区。
在本申请实施例提供的蒸镀方法中,只需要依次将掩模板20、固定件30和遮挡件10布置于待蒸镀基板4的蒸镀侧,通过固定件30将掩模板20和遮挡件10固定于待蒸镀基板4上,利用掩模板20蒸镀待蒸镀基板4的显示区,利用遮挡件10的挡片130遮挡挖孔区,可以完成蒸镀。使得待蒸镀基板4上的公共电极和阴极层等单层结构可以一次蒸镀成型,且遮挡件10不会影响掩模板20和固定件30的固定,蒸镀工艺简单,蒸镀效率较高。
虽然已经参考优选实施例对本申请进行了描述,但在不脱离本申请的范围的情况下,可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是,只要不存在结构冲突,各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本申请并不局限于文中公开的特定实施例,而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (10)

1.一种遮挡件,用于蒸镀掩模组件,其特征在于,所述遮挡件包括:
承载部,包括承载框及连接于所述承载框内的承载梁;
支撑柱,连接于所述承载梁并沿第一方向延伸成型;
挡片,连接于所述支撑柱背离所述承载梁的一端。
2.根据权利要求1所述的遮挡件,其特征在于,所述挡片背离所述支撑柱的一侧设置有柔性垫。
3.根据权利要求1所述的遮挡件,其特征在于,
所述承载梁包括沿第二方向延伸的第一承载梁,多个所述第一承载梁沿第三方向间隔分布,所述支撑柱连接于所述第一承载梁;
优选的,所述承载梁还包括沿第三方向延伸的第二承载梁,所述第一承载梁和所述第二承载梁相交,至少部分所述支撑柱连接于所述第一承载梁和所述第二承载梁的交叉区域;
优选的,多个所述支撑柱沿所述第二方向间隔分布于同一所述第一承载梁;
优选的,多个所述支撑柱沿所述第三方向间隔分布于同一所述第二承载梁。
4.根据权利要求1所述的遮挡件,其特征在于,
所述挡片具有垂直于所述第一方向的第一横截面,沿背离所述承载框的方向,所述第一横截面尺寸逐渐减小;
优选的,所述挡片具有朝向所述承载框的第一表面、背离所述承载框的第二表面和连接所述第一表面和所述第二表面的周侧面,所述周侧面和所述第一表面之间的角度小于或等于60°。
5.根据权利要求1所述的遮挡件,其特征在于,所述承载框上设置有卡扣部,以使所述承载框通过所述卡扣部固定于预设位置;
优选的,所述卡扣部的个数为多个,多个所述卡扣部在所述承载框上间隔分布;
优选的,所述卡扣部包括连接臂和卡接臂,所述连接臂连接于所述承载框并沿所述第一方向延伸成型,所述卡接臂连接于所述连接臂背离所述承载框的一端并沿与所述连接臂相交设置;
优选的,所述卡接臂由所述连接臂朝向所述承载框内部延伸成型。
6.根据权利要求5所述的遮挡件,其特征在于,所述卡扣部和所述支撑柱设置于所述承载框在所述第一方向的同侧,所述卡扣部在所述第一方向上的延伸尺寸小于所述支撑柱在所述第一方向上的延伸尺寸。
7.一种掩模组件,用于蒸镀待蒸镀基板,其特征在于,包括权利要求1-6任一项所述的遮挡件。
8.根据权利要求7所述的掩模组件,其特征在于,还包括:
掩模板,所述掩模板包括环状的支撑部和位于所述支撑部内的蒸镀部,所述掩模板位于所述遮挡件朝向所述待蒸镀基板的一侧;
优选的,所述蒸镀部包括贯穿设置并用于容纳所述挡片的让位开口;
优选的,沿所述第一方向,所述支撑柱的延伸尺寸大于所述支撑部的延伸尺寸;
优选的,所述掩模组件还包括:固定件,用于固定所述掩模板和所述遮挡件;
优选的,所述固定件包括固定臂及由所述固定臂环绕形成的镂空部,所述固定臂位于所述承载框和所述支撑部之间,以使至少部分所述支撑柱位于所述镂空部;
优选的,所述遮挡件的所述承载框上设置有卡扣部,以通过所述卡扣部将所述遮挡件固定于所述固定臂;
优选的,所述卡扣部包括相交设置的连接于所述承载框的连接臂、连接于所述连接臂背离所述承载框一端的卡接臂,所述卡接臂卡接于所述固定臂背离所述承载框的一侧;
优选的,在所述第一方向上,所述支撑柱和所述挡片的延伸尺寸之和大于或等于所述固定臂和所述支撑区的延伸尺寸之和。
9.一种蒸镀装置,其特征在于,包括权利要求7-8任一项所述的掩模组件。
10.一种蒸镀方法,其特征在于,包括:
将掩模板布置于待蒸镀基板的蒸镀侧;
将固定件设置于掩模板背离所述待蒸镀基板的一侧,以通过所述固定件固定所述掩模板,所述固定件包括固定臂、及由所述固定臂环绕形成的镂空部;
将遮挡件设置于固定件背离掩模板的一侧,所述遮挡件包括承载部、支撑柱和挡片,所述承载部包括承载框、连接于所述承载框内的承载梁及设置于所述承载框的卡扣部,所述遮挡件通过所述卡扣部固定于所述固定件,所述支撑柱由所述承载梁沿第一方向经由所述镂空部朝向所述待蒸镀基板延伸,所述挡片连接于所述支撑柱背离所述承载梁的一端并用于遮挡所述待蒸镀基板的非蒸镀区。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011117028A (ja) * 2009-12-02 2011-06-16 Seiko Epson Corp 蒸着用マスク
CN109182967A (zh) * 2018-10-18 2019-01-11 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及蒸镀装置、基板的制备方法
CN109306448A (zh) * 2018-11-12 2019-02-05 上海天马有机发光显示技术有限公司 掩膜组件、蒸镀装置、蒸镀方法、阵列基板及显示面板
CN110265449A (zh) * 2019-06-24 2019-09-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及掩膜板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011117028A (ja) * 2009-12-02 2011-06-16 Seiko Epson Corp 蒸着用マスク
CN109182967A (zh) * 2018-10-18 2019-01-11 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及蒸镀装置、基板的制备方法
CN109306448A (zh) * 2018-11-12 2019-02-05 上海天马有机发光显示技术有限公司 掩膜组件、蒸镀装置、蒸镀方法、阵列基板及显示面板
CN110265449A (zh) * 2019-06-24 2019-09-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及掩膜板

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