CN114005369A - 一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板 - Google Patents

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CN114005369A CN202111328828.6A CN202111328828A CN114005369A CN 114005369 A CN114005369 A CN 114005369A CN 202111328828 A CN202111328828 A CN 202111328828A CN 114005369 A CN114005369 A CN 114005369A
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Abstract

本申请公开了一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板,所述补偿方法包括如下步骤:显示基板提供步骤,提供一显示基板,包括两个以上显示区域,每一显示区域包括相对设置的第一极板与第二极板,所述第一极板与所述第二极板之间填充有纳米粒子溶液以形成纳米粒子薄膜;厚度获取步骤,获取各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度以及目标膜的厚度;以及厚度比对步骤,比对各个显示区域的纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差;厚度补偿步骤,当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿。

Description

一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板。
背景技术
随着显示技术的发展,图案化的制作技术越来越受到人们的关注,目前的图案化技术主要为黄光制程及喷墨打印技术,其中,黄光制程的工艺步骤多并且繁杂,而喷墨打印在量产时对喷头数量和多次对位均有较高的要求,这些技术在同一基板的多次图案化的过程中都具有一定的局限性。
目前,一般采用黄光制程及喷墨打印技术制备纳米粒子薄膜,但这些技术制备出来的纳米粒子薄膜因厚度不均而导致显示面板无法具有均匀电场。为了解决使得显示面板具有均匀的电场,有人提出通过精确控制显示面板上下电极之间的距离,使得显示面板具有均匀的电场。但是,在控制显示面板上下电极之间的距离时,显示面板的上基板会因为重力的影响会发生形变,以致于上基板与下基板之间的间距无法保持处处相等,因此,设于上基板与下基板之间的纳米粒子薄膜还是无法具有均匀的膜厚。
另外,由于上基板经常会被重复利用,上基板的电极容易出现厚度不均匀的现象。由于上基板的电极厚度不均会影响显示面板的局部电场。因此,在纳米粒子沉积形成纳米粒子薄膜后,纳米粒子薄膜不同位置的膜厚也会不同。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板,以解决显示面板的纳米粒子薄膜正面膜厚不均,以获得均匀电场的技术问题。
为实现上述目的,本发明提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法,所述补偿方法包括如下步骤:显示基板提供步骤,提供一显示基板,包括两个以上显示区域,每一显示区域包括相对设置的第一极板与第二极板,所述第一极板与所述第二极板之间填充有纳米粒子溶液以形成纳米粒子薄膜;厚度获取步骤,获取各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度以及目标膜的厚度;以及厚度比对步骤,比对各个显示区域的纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差;厚度补偿步骤,当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿;和/或当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度大于所述目标膜的厚度时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第二厚度补偿。
进一步的,在所述厚度补偿步骤中,当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度的95%时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿;或者当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度大于所述目标膜的厚度的105%时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第二厚度补偿。
进一步的,所述第一厚度补偿为再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板与所述第二极板之间,或者增加需厚度补偿的显示区域的电压,以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与目标膜的厚度相同。
进一步的,所述第二厚度补偿为降低所述第一极板与所述第二极板之间的纳米粒子溶液的浓度,或者减小需厚度补偿的显示区域的电压,以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与目标膜的厚度相同。
进一步的,在所述厚度补偿步骤之后,还包括:当下一显示基板的结构与上一显示基板的结构相同时,执行提供显示基板步骤及厚度补偿步骤。
进一步的,在所述厚度补偿的步骤中,向所述显示区域的第一子极板及所述第二极板施加电压,以使所述显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与所述目标膜的厚度相同。
进一步的,所述第一极板包括两个以上间隔设置的第一子极板;在所述厚度补偿的步骤中,向所述显示区域的第一子极板及与该第一子极板相邻设置的另一第一子极板施加电压,以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与所述目标膜的厚度相同。
进一步的,所述显示基板包括:相对设置的第一基板与第二基板;其中,所述第一基板包括第一基底以及所述第一极板,所述第一极板设置于所述第一基底上且靠近所述第二基板的一侧;所述第二基板包括第二基底以及所述第二极板,所述第二极板设置于所述第二基底上且靠近所述第一基板的一侧;以及间隔结构,设置于所述第一基板与所述第二基板之间,且靠近所述第一基板与所述第二基板的边缘处。
进一步的,所述显示基板包括:相对设置的第一基板与第二基板;其中,所述第一基板包括第一基底以及所述第一极板,所述第一极板设置于所述第一基底上且靠近所述第二基板的一侧;所述第二基板包括第二基底以及所述第二极板,所述第二极板设置于所述第二基底上且靠近所述第一基板的一侧;以及间隔结构,设置于所述第一基板与所述第二基板之间;其中,所述间隔结构包括两个以上间隔柱,所述间隔柱间隔设置于所述第一基板与所述第二基板之间。
本发明的技术效果在于,提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板,通过获取各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度以及目标膜的厚度,再比对各个显示区域的纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差,并且根据纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差,对纳米粒子薄膜进行厚度补偿,从而使得显示面板具有均匀的电场。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请实施例提供的显示基板的结构示意图一。
图2为本申请实施例提供的显示基板的结构示意图二。
图3为本申请实施例提供的纳米粒子薄膜的厚度与电场强度和浓度的乘积关系图。
图4为本申请实施例1提供的用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法的流程图。
图5为本申请实施例2提供的用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法的流程图。
附图部件标识如下:
1、第一基板; 2、第二基板;
3、间隔结构; 4、纳米粒子薄膜;
11、第一基底; 12、第一极板;
21、第二基底; 22、第二极板;
31、间隔柱; 10、显示区域;
100、显示基板; 121、第一子基板。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。在本申请的描述中,需要理解的是,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
如图1所示,本申请实施例提供一种显示面板,其包括显示基板100a,显示基板100a包括相对设置的第一基板1与第二基板2以及设置于第一基板1与第二基板2之间的间隔结构3。
具体的,第一基板1包括第一基底11以及第一极板12,第一极板12设置于第一基底11的上表面。本申请实施例中,第一极板12包括两个以上的第一子极板,间隔设置于第一基底11上表面。
第二基板2包括第二基底21以及第二极板22,第二极板22整面设置于第二基底21的下表面。
如图1所示,在一实施例中,显示基板100a的间隔结构3的底面贴附于第一基底11的上表面,其顶面贴附于第二极板22的下表面,其中间隔结构3位于第一基板1与第二基板2的边缘处。
如图2所示,在一实施例中,显示基板100b的间隔结构3可以包括两个以上间隔柱31,与第一极板12间隔设置。间隔柱31可以均匀地或者不均匀地设置于显示面板的驱动区内,用以支撑第二基板2。
本申请实施例提供一种显示面板还包括纳米粒子薄膜4,设置于第一极板12与第二极板22之间,纳米粒子薄膜4包括可被电性的纳米粒子。其中,纳米粒子薄膜4的制备过程为:填充纳米粒子溶液于第一极板12与第二极板22之间,且向第一极板12与第二极板22施加电压,使得纳米粒子薄膜4产生电场。然而,由于第二基板2因其自身的重力以及重复被利用的原因,因此,在第一基板1与第二基板2之间成膜的纳米粒子薄膜4的膜厚不均一,从而导致显示面板内部的电场不均匀。
由于纳米粒子薄膜的膜厚与纳米粒子溶液的浓度、以及电场强度相关。因此,本申请实施例提供一种补偿方法,用于补偿纳米粒子薄膜的厚度。如图3所示,该补偿方法主要是通过获取显示面板各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度L与纳米粒子溶液的浓度c,建立各个显示区域的电场E与纳米粒子薄膜的厚度L、纳米粒子溶液的浓度的c关系,即L=f(E,c),根据L=f(E,c)这一关系反向推定各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度L与对应的电场E。为了详细说明本申请实施例是如何补偿各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度,下面将以实施例的方式展开详细的说明。
实施例1
如图4所示,本实施例提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法,所述补偿方法包括如下步骤S11)-S14)。
S11)显示基板100提供步骤,提供一显示基板100,包括两个以上显示区域10,每一显示区域10包括相对设置的第一极板12与第二极板22,所述第一极板12与所述第二极板22之间填充有纳米粒子溶液以形成纳米粒子薄膜4,参照图1或图2。
S12)厚度获取步骤,获取各个显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度以及目标膜的厚度,参照图1或图2。
具体的,通过测量各个区域纳米粒子薄膜4的厚度,以获得各个区域纳米粒子薄膜4的厚度为L1、L2......Ln,并且已知纳米粒子薄膜4中的纳米粒子溶液的浓度为c。因此,根据L=f(E,c)这一公式,且已知各个区域纳米粒子薄膜4的厚度L与纳米粒子溶液的浓度c,获取各个显示区域10的电场强度E1、E2......En。本实施例中,目标膜的厚度为Lm,厚度Lm的范围为5nm-500um,其中,纳米粒子薄膜4与目标膜中的纳米粒子溶液的浓度均为c,故而目标膜的电场强度Em。
S13)厚度比对步骤,比对各个显示区域10的纳米粒子薄膜4与所述目标膜之间的厚度差,参照图1或图2。
根据各个显示区域10的纳米粒子薄膜4与所述目标膜之间的厚度差,根据L=f(E,c)这一公式,推定出各个显示区域10的纳米粒子薄膜4与所述目标膜之间的电压差,从而确定各个显示区域10的纳米粒子薄膜4需要补偿的电场强度(即电压)。
S14)厚度补偿步骤,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度小于所述目标膜的厚度时,向该显示区域10的纳米粒子薄膜4进行第一厚度补偿,参照图1或图2。
由于显示基板100具有多个显示区域10,在对一显示基板100的各个显示区域10进行厚度比对时,有可能仅获取到一个显示区域10的厚度需要进行厚度补偿,也有可能获取到两个以上显示区域10的厚度需要进行厚度补偿。
本实施例举例说明两个显示区域10的厚度需要进行厚度补偿的情况,当两个显示区域10的厚度均小于所述目标膜的厚度时,向这两个显示区域10的纳米粒子薄膜4进行第一厚度补偿即可。
具体的,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度小于目标膜的厚度的95%时,向该显示区域10的纳米粒子薄膜4进行第一厚度补偿。当然,也可以通过设定显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度在哪个区间范围,从而决定纳米粒子薄膜4是否需要进行厚度补偿。例如,当显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度为目标膜的厚度的95%-105%时,不需要对显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度进行厚度补偿。
本实施例中,所述第一厚度补偿为再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板12与所述第二极板22之间,以使该显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。或者,所述第一厚度补偿为增加需厚度补偿的显示区域10的电压,以使该显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。
在一实施方式中,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度小于目标膜的厚度时,再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板12与所述第二极板22之间,或者,增加所述显示区域10中相对设置的第一子极板与所述第二极板22之间电压,以产生垂直电场,使得该显示区域10的电压与目标膜的电压相同,从而使得所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。其中,向第一子极板与第二极板22施加极性相反的电压。
在一实施方式中,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度小于目标膜的厚度时,再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板12与所述第二极板22之间,或者,增加所述显示区域10的第一子极板与该第一子极板相邻设置的另一第一子极板之间的电压,以产生平行电场,使得该显示区域10的电压与目标膜的电压相同,从而使得所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。其中,向两个相邻设置的第一子极板施加极性相反的电压。
本实施例提供一种补偿方法,在所述厚度补偿步骤之后,还包括:当下一显示基板100的结构与上一显示基板100的结构相同时,执行提供显示基板100步骤及厚度补偿步骤。简单地来说,在同一批次中制备同样规格的显示面板时,每一显示基板100的结构是相同的。因此,本实施例可以通过获取第一显示基板100(即上一显示基板100)的厚度、比对第一显示基板100各个显示区域10的纳米粒子薄膜4与目标膜的厚度,从而得知第一显示基板100的哪个显示区域10的纳米粒子薄膜4需要进行厚度,故而可以根据第一显示基板100需要补偿的显示区域10对第二张显示基板100(即下一显示基板100)的纳米粒子薄膜4进行厚度补偿。
本实施例提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法,仅对纳米粒子薄膜的厚度小于目标膜的厚度的显示区域进行厚度补偿,从而使得显示面板具有均匀的电场。
实施例2
如图5所示,本实施例提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法,所述补偿方法包括如下步骤S21)-S24)。
S21)显示基板100提供步骤,提供一显示基板100,包括两个以上显示区域10,每一显示区域10包括相对设置的第一极板12与第二极板22,所述第一极板12与所述第二极板22之间填充有纳米粒子溶液以形成纳米粒子薄膜4,参照图1或图2。
S22)厚度获取步骤,获取各个显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度以及目标膜的厚度,参照图1或图2。
具体的,通过测量各个区域纳米粒子薄膜4的厚度,以获得各个区域纳米粒子薄膜4的厚度为L1、L2......Ln,并且已知纳米粒子薄膜4中的纳米粒子溶液的浓度为c。因此,根据L=f(E,c)这一公式,且已知各个区域纳米粒子薄膜4的厚度L与纳米粒子溶液的浓度c,获取各个显示区域10的电场强度E1、E2......En。本实施例中,目标膜的厚度为Lm,厚度Lm的范围为5nm-500um,其中,纳米粒子薄膜4与目标膜中的纳米粒子溶液的浓度均为c,故而目标膜的电场强度Em。
S23)厚度比对步骤,比对各个显示区域10的纳米粒子薄膜4与所述目标膜之间的厚度差,参照图1或图2。
根据各个显示区域10的纳米粒子薄膜4与所述目标膜之间的厚度差,根据L=f(E,c)这一公式,推定出各个显示区域10的纳米粒子薄膜4与所述目标膜之间的电压差,从而确定各个显示区域10的纳米粒子薄膜4需要补偿的电场强度(即电压)。
S24)厚度补偿步骤,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度小于所述目标膜的厚度时,向该显示区域10的纳米粒子薄膜4进行第一厚度补偿;当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度大于目标膜的厚度时,向该显示区域10的纳米粒子薄膜4进行第二厚度补偿,参照图1或图2。
由于显示基板100具有多个显示区域10,在对一显示基板100的各个显示区域10进行厚度比对时,有可能仅获取到一个显示区域10的厚度需要进行厚度补偿,也有可能获取到两个以上显示区域10的厚度需要进行厚度补偿。
本实施例举例说明两个显示区域10的厚度需要进行厚度补偿的情况,当两个显示区域10其中一个的厚度小于所述目标膜的厚度的95%,另一个的厚度小于105%时,则需向厚度小于所述目标膜的厚度的显示区域10进行第一厚度补偿,向厚度大于所述目标膜的厚度的显示区域10进行第二厚度补偿。
本实施例中,所述第一厚度补偿为再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板12与所述第二极板22之间,以使所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。或者,所述第一厚度补偿为增加需厚度补偿的10的电压,以使所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。
在一实施方式中,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度小于目标膜的厚度时,再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板12与所述第二极板22之间,一增加纳米粒子溶液的浓度,或者,增加所述显示区域10中相对设置的第一子极板与所述第二极板22之间电压,以产生垂直电场,使得该显示区域10的电压与目标膜的电压相同,从而使得所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。其中,向第一子极板与第二极板22施加极性相反的电压。
所述第二厚度补偿为降低所述第一极板12与所述第二极板22之间的纳米粒子溶液浓度,以使所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。或者,所述第二厚度补偿为减小需厚度补偿的显示区域10的电压,以使所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。
在一实施方式中,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度大于目标膜的厚度时,降低所述第一极板12与所述第二极板22之间纳米粒子溶液浓度,或者,减小所述显示区域10的电压,使得该显示区域10的电压与目标膜的电压相同,从而使得所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。其中,向第一子极板与第二极板22施加极性相反的电压。
因此,本实施例提供一种补偿方法,可以根据显示基板100各个显示区域10的情况,选择性地进行厚度补偿。
进一步地,本实施例提供一种补偿方法,在所述厚度补偿步骤之后,还包括:当下一显示基板100的结构与上一显示基板100的结构相同时,执行提供显示基板100步骤及厚度补偿步骤。简单地来说,在同一批次中制备同样规格的显示面板时,每一显示基板100的结构是相同的。因此,本实施例可以通过获取第一显示基板100(即上一显示基板100)的厚度、比对第一显示基板100各个显示区域10的纳米粒子薄膜4与目标膜的厚度,从而得知第一显示基板100的哪个显示区域10的纳米粒子薄膜4需要进行厚度,故而可以根据第一显示基板100需要补偿的显示区域10对第二张显示基板100(即下一显示基板100)的纳米粒子薄膜4进行厚度补偿。
本实施例提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法,对纳米粒子薄膜的厚度小于目标膜的厚度的显示区域进行厚度补偿,也对纳米粒子薄膜的厚度大于目标膜的厚度的显示区域进行厚度补偿,从而使得显示面板具有均匀的电场。
实施例3
本实施例提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法,其包括实施例1的大部分特征,其区别在于,厚度补偿步骤,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度大于目标膜的厚度时,降低所述第一极板12与所述第二极板22之间纳米粒子溶液的浓度,且减小所述显示区域10的电压,其中第一子极板和第二极板22的极性相反,使得该显示区域10的电压与目标膜的电压相同,从而使得所述显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度与目标膜的厚度相同。
由于显示基板100具有多个显示区域10,在对一显示基板100的各个显示区域10进行厚度比对时,有可能仅获取到一个显示区域10的厚度需要进行厚度补偿,也有可能获取到两个以上显示区域10的厚度需要进行厚度补偿。
本实施例举例说明两个显示区域10的厚度需要进行厚度补偿的情况,当两个显示区域10的厚度均大于所述目标膜的厚度时,向这两个显示区域10的纳米粒子薄膜4进行第二厚度补偿即可。
具体的,当一显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度大于目标膜的厚度时,向该显示区域10的纳米粒子薄膜4进行第二厚度补偿。当然,可以通过设定显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度在哪个区间范围,从而决定纳米粒子薄膜4是否需要进行厚度补偿。例如,当显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度大于目标膜的厚度的105%时,需要对显示区域10的纳米粒子薄膜4的厚度进行第二厚度补偿。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法,其特征在于,所述补偿方法包括如下步骤:
显示基板提供步骤,提供一显示基板,包括两个以上显示区域,每一显示区域包括相对设置的第一极板与第二极板,所述第一极板与所述第二极板之间填充有纳米粒子溶液以形成纳米粒子薄膜;
厚度获取步骤,获取各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度以及目标膜的厚度;以及
厚度比对步骤,比对各个显示区域的纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差;
厚度补偿步骤,当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿;和/或
当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度大于所述目标膜的厚度时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第二厚度补偿。
2.根据权利要求1所述的补偿方法,其特征在于,
在所述厚度补偿步骤中,
当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度的95%时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿;或者
当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度大于所述目标膜的厚度的105%时,向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第二厚度补偿。
3.根据权利要求1或2所述的补偿方法,其特征在于,
所述第一厚度补偿为再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板与所述第二极板之间,或者增加需厚度补偿的显示区域的电压,以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与目标膜的厚度相同。
4.根据权利要求1所述的补偿方法,其特征在于,
所述第二厚度补偿为降低所述第一极板与所述第二极板之间的纳米粒子溶液的浓度,或者减小需厚度补偿的显示区域的电压,以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与目标膜的厚度相同。
5.根据权利要求1所述的补偿方法,其特征在于,
在所述厚度补偿步骤之后,还包括:
当下一显示基板的结构与上一显示基板的结构相同时,执行提供显示基板步骤及厚度补偿步骤。
6.根据权利要求1所述的补偿方法,其特征在于,
在所述厚度补偿的步骤中,
向所述显示区域的第一子极板及所述第二极板施加电压,以使所述显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与所述目标膜的厚度相同。
7.根据权利要求1所述的补偿方法,其特征在于,
所述第一极板包括两个以上间隔设置的第一子极板;
在所述厚度补偿的步骤中,
向所述显示区域的第一子极板及与该第一子极板相邻设置的另一第一子极板施加电压,以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与所述目标膜的厚度相同。
8.一种显示面板,其特征在于,包括根据权利要求1-7任一项所述的补偿方法制备的显示基板。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述显示基板包括:
相对设置的第一基板与第二基板;其中,所述第一基板包括第一基底以及所述第一极板,所述第一极板设置于所述第一基底上且靠近所述第二基板的一侧;所述第二基板包括第二基底以及所述第二极板,所述第二极板设置于所述第二基底上且靠近所述第一基板的一侧;以及
间隔结构,设置于所述第一基板与所述第二基板之间,且靠近所述第一基板与所述第二基板的边缘处。
10.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述显示基板包括:
相对设置的第一基板与第二基板;其中,所述第一基板包括第一基底以及所述第一极板,所述第一极板设置于所述第一基底上且靠近所述第二基板的一侧;所述第二基板包括第二基底以及所述第二极板,所述第二极板设置于所述第二基底上且靠近所述第一基板的一侧;以及
间隔结构,设置于所述第一基板与所述第二基板之间;其中,所述间隔结构包括两个以上间隔柱,所述间隔柱间隔设置于所述第一基板与所述第二基板之间。
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