CN112701138A - 一种显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置。所述显示面板的制备方法包括：在基板上形成多个补偿组，以获得阵列基板，其中，多个所述补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，所述第一补偿组和所述第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值；分别计算各所述补偿组对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度；根据计算获得的所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度，在所述第一发光元件的出光侧形成所述第一彩膜层，在所述第二发光元件的出光侧形成所述第二彩膜层，在所述第三发光元件的出光侧形成所述第三彩膜层。本发明实施例提供的技术方案，提高了显示面板的显示均一性。

Description

一种显示面板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
微型无机发光二极管(Micro-Light Emitting Diode，Micro-LED)显示技术是将传统的发光二极管(Light Emitting Diode，LED)进行微型化和矩阵化，并采用互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)集成电路制成驱动电路，来实现每个像素点定址和单独驱动的显示技术，该技术中采用的Micro-LED具有可自发光、结构简单、功耗低以及体积小等诸多优点，成为显示领域的研究热点。
现有技术中通过将Micro-LED转移到电路基板上形成Micro-LED显示面板，为节省转移成本，通常采用批量转移技术，即以晶圆上的区域为单位进行多个Micro-LED的同时转移。受制备工艺误差、转移误差以及电连接结构差异等影响，即便是同一晶圆上相同区域内的Micro-LED，转移至电路基板上后的亮度以及色度也是存在人眼可见的差异的，导致显示面板的显示均一性较差。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以提高显示面板的显示均一性。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：
S11、在基板上形成多个补偿组，以获得阵列基板；所述补偿组包括至少一个像素单元，所述像素单元包括第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件，所述第一发光元件、所述第二发光元件和所述第三发光元件的发光颜色不同；多个所述补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，所述第一补偿组和所述第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值；
S12、分别计算各所述补偿组对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，其中，所述第一彩膜层位于所述第一发光元件的出光侧，所述第二彩膜层位于所述第二发光元件的出光层，所述第三彩膜层位于所述第三发光元件的出光侧；
S13、根据S12中获得的所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度，在所述第一发光元件的出光侧形成所述第一彩膜层，在所述第二发光元件的出光侧形成所述第二彩膜层，在所述第三发光元件的出光侧形成所述第三彩膜层。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，采用上述第一方面所述的显示面板的制备方法制备，所述显示面板包括基板以及位于所述基板上的多个补偿组，所述补偿组包括至少一个像素单元，所述像素单元包括第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件，所述第一发光元件、所述第二发光元件和所述第三发光元件的发光颜色不同；所述第一发光元件的出光侧设置有第一彩膜层，所述第一彩膜层的颜色与所述第一发光元件的发光颜色相同，所述第二发光元件的出光侧设置有第二彩膜层，所述第二彩膜层的颜色和所述第二发光元件的发光颜色相同，所述第三发光元件的出光侧设置有第三彩膜层，所述第三彩膜层的颜色与所述第三发光元件的发光颜色相同；同一所述补偿组中颜色相同的彩膜层的厚度相同；
多个所述补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，所述第一补偿组和所述第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值，所述第一补偿组对应的彩膜层的厚度大于第二补偿组对应的颜色相同的彩膜层的厚度。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述第二方面所述的显示面板。
本发明实施例提供的技术方案，通过在基板上形成多个补偿组，以获得阵列基板，其中，多个补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，第一补偿组和第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值，然后分别计算各补偿组对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，再根据计算获得的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，在补偿组中第一发光元件的出光侧形成第一彩膜层，第二发光元件的出光侧形成第二彩膜层，第三发光元件的出光侧形成第三彩膜层，以补偿组为最小补偿单元，采用彩膜层厚度调节实现了显示面板的显示差异补偿，提升了显示面板的显示均一性。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；
图2是本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；
图3是本发明实施例提供的一种计算彩膜层厚度的方法流程示意图；
图4是本发明实施例提供的一种获得测试亮度和目标亮度的方法流程示意图；
图5是本发明实施例提供的一种获取子测试亮度和子目标亮度的方法流程示意图；
图6是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图7是本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程示意图；
图8是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图9是本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程示意图；
图10是本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程示意图；
图11是本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程示意图；
图12是本发明实施例提供的一种彩膜层透过率随彩膜层厚度的变化曲线图；
图13是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图14是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种显示面板及其制备方法、显示装置的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
本发明实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：
S11、在基板上形成多个补偿组，以获得阵列基板；所述补偿组包括至少一个像素单元，所述像素单元包括第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件，所述第一发光元件、所述第二发光元件和所述第三发光元件的发光颜色不同；多个所述补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，所述第一补偿组和所述第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值；
S12、分别计算各所述补偿组对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，其中，所述第一彩膜层位于所述第一发光元件的出光侧，所述第二彩膜层位于所述第二发光元件的出光层，所述第三彩膜层位于所述第三发光元件的出光侧；
S13、根据S12中获得的所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度，在所述第一发光元件的出光侧形成所述第一彩膜层，在所述第二发光元件的出光侧形成所述第二彩膜层，在所述第三发光元件的出光侧形成所述第三彩膜层。
本发明实施例提供的技术方案，通过在基板上形成多个补偿组，以获得阵列基板，其中，多个补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，第一补偿组和第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值，然后分别计算各补偿组对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，再根据计算获得的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，在补偿组中第一发光元件的出光侧形成第一彩膜层，第二发光元件的出光侧形成第二彩膜层，第三发光元件的出光侧形成第三彩膜层，以补偿组为最小补偿单元，通过合理设置彩膜层厚度实现了发光元件的光特性差异补偿，提升了显示面板的显示均一性。
以上是本申请的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他实施方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
其次，本发明结合示意图进行详细描述，在详述本发明实施例时，为便于说明，表示装置器件结构的示意图并非按照一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本发明保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度以及高度的三维空间尺寸。
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图。该显示面板的制备方法适用于制备如下显示面板：以自发光元件作为子像素的光源，且任意发光元件的出光侧设置有彩膜层，彩膜层的颜色与其对应的发光元件的发光颜色相同。如图1所示，显示面板的制备方法具体可以包括如下：
S11、在基板上形成多个补偿组，以获得阵列基板，其中，补偿组包括至少一个像素单元，像素单元包括第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件，第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件的发光颜色不同，多个补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，第一补偿组和第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值。
示例性的，图2是本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图。如图2所示，阵列基板包括多个补偿组100，补偿组100包括三个像素单元110，像素单元110包括第一发光元件111、第二发光元件112和第三发光元件113。多个补偿组100的数量大于2，且多个补偿组100包括第一补偿组101和第二补偿组102，第一补偿组101和第二补偿组102中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值，预设值例如可以为1jncd，此时，阵列基板的亮度和色度的不均一性是人眼可识别的，需要进行亮度和色度的补偿，以改善亮度和色度的均一性。
需要说明的是，图1仅以补偿组100包括3个像素单元110为例进行说明而非限定，在本实施例的其他实施方式中，补偿组100还可以包括其他数量的像素单元110。值得注意的是，在本实施例中，同一补偿组100中的同色发光元件的亮度和色度补偿参数相同，补偿参数具体是彩膜层的厚度，补偿组100中像素单元110的数量越多，亮度和色度的补偿越细致。因此，对于显示均一性较差的显示面板，可设置补偿组100中像素单元数量较少，对于显示均一性较好的显示面板，可设置补偿组100中像素单元的数量稍多，具体根据实际显示特性进行合理设计。
S12、分别计算各补偿组对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，其中，第一彩膜层位于第一发光元件的出光侧，第二彩膜层位于第二发光元件的出光层，第三彩膜层位于第三发光元件的出光侧。
具体的，第一彩膜层的颜色与第一发光元件的发光颜色相同，第二彩膜层的颜色与第二发光元件的发光颜色相同，第三彩膜层的颜色与第三发光元件的发光颜色相同。示例性的，第一发光元件的发光颜色为红色，第二发光元件的发光颜色为绿色，第三发光元件的发光颜色为蓝色，则第一彩膜层的颜色为红色，第二彩膜层的颜色为绿色，第三彩膜层的颜色为蓝色。
需要说明的是，彩膜层具有亮度和色度调节功能，能够对发光元件出射的光进行亮度和色度的调节，且调节程度与彩膜层的厚度相关，据此可知，以补偿组中同色发光元件对应的彩膜层为最小彩膜厚度调节单位，合理设置彩膜层的厚度，能够减小不同补偿组出射的光之间的亮度差异和色度差异，具体的，可按照预设方式计算获得合理的彩膜层厚度，计算方式在后续实施例中具体说明。
S13、根据S12中获得的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，在第一发光元件的出光侧形成第一彩膜层，在第二发光元件的出光侧形成第二彩膜层，在第三发光元件的出光侧形成第三彩膜层。
具体的，显示装置包括阵列基板，以及位于阵列基板中发光元件出光侧的彩膜层，彩膜层具体包括第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层。显示装置的制备流程包括：制备阵列基板，再在阵列基板中发光元件的出光侧形成彩膜层。可以理解的是，在阵列基板中发光元件的出光侧形成彩膜层之前，需要确定第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度。本实施例中的S11即为制备阵列基板的步骤，S12即为确定第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度的步骤，S13即为在阵列基板中发光元件的出光侧形成彩膜层的步骤。
本实施例提供的技术方案，通过在基板上形成多个补偿组，以获得阵列基板，其中，多个补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，第一补偿组和第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值，然后分别计算各补偿组对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，再根据计算获得的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，在补偿组中第一发光元件的出光侧形成第一彩膜层，第二发光元件的出光侧形成第二彩膜层，第三发光元件的出光侧形成第三彩膜层，通过合理设置第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度消除了阵列基板中不同位置处相同发光颜色的发光元件之间的亮度差异和色度差异，提升了显示面板的显示均一性。
图3是本发明实施例提供的一种计算彩膜层厚度的方法流程示意图。如图3所示，分别计算各补偿组中位于第一发光元件出光侧的第一彩膜层、位于第二发光元件出光侧的第二彩膜层和位于第三发光元件出光侧的第三彩膜层的厚度可以包括如下：
S21、获取各补偿组中第一发光元件的测试亮度和目标亮度、第二发光元件的测试亮度和目标亮度，以及第三发光元件的测试亮度和目标亮度。
其中，测试亮度是基于测试获得的，目标亮度是基于提前设定的亮度值确定的，具体获得测试亮度以及目标亮度的方式在后续实施例中具体说明。
S22、根据彩膜层厚度计算公式、各补偿组中第一发光元件的测试亮度和目标亮度，以及第一彩膜层的单位厚度透过率，计算获得第一彩膜的厚度；根据彩膜层厚度计算公式、各补偿组中第二发光元件的测试亮度和目标亮度，以及第二彩膜层的单位厚度透过率，计算获得第二彩膜层的厚度；根据彩膜层厚度计算公式、各补偿组中第三发光元件的测试亮度和目标亮度，以及第三彩膜层的单位厚度透过率，计算获得第三彩膜层的厚度。
需要说明的是，第一彩膜层、第二彩膜层以及第三彩膜层采用同一彩膜层厚度计算公式，可以理解的是，彩膜层的厚度计算公式与测试亮度、目标亮度以及彩膜层厚度相关，在获得补偿组中任意发光颜色的发光元件的测试亮度和目标亮度之后，将测试亮度和目标亮度带入彩膜层的厚度计算公式，即可计算获得相同颜色的彩膜层的厚度。可以理解的是，补偿组中同色发光元件对应的彩膜层为最小彩膜厚度调节单位，同一补偿组中相同发光颜色的发光元件对应的彩膜层厚度相同，因此计算彩膜层厚度时以补偿组为单位进行计算。
可选的，彩膜层厚度计算公式可以为：H＝L1/(L2×a),其中，H为彩膜层的厚度，L1为发光元件的目标亮度，L2为发光元件的测试亮度，a为彩膜层的单位厚度透过率。
示例性的，阵列基板包括多个补偿组，多个补偿组中任一补偿组为基础补偿组。基础补偿组中第一发光元件的目标亮度为L11，第一发光元件的测试亮度为L21,a1为第一彩膜层的单位厚度透过率，则基础补偿组中第一发光元件对应的第一彩膜层的厚度H1＝L11/(L21×a1)；基础补偿组中第二发光元件的目标亮度为L12，第二发光元件的测试亮度为L22,a2为第二彩膜层的单位厚度透过率，则基础补偿组中第二发光元件对应的第二彩膜层的厚度H2＝L12/(L22×a2)；基础补偿组中第三发光元件的目标亮度为L13，第三发光元件的测试亮度为L23,a3为第三彩膜层的单位厚度透过率，则基础补偿组中第三发光元件对应的第三彩膜层的厚度H3＝L13/(L23×a3)。
其中，基础补偿组中第一发光元件的测试亮度为基础补偿组中所有第一发光元件的整体测试亮度，第二发光元件的测试亮度为基础补偿组中所有第二发光元件的整体测试亮度，第三发光元件的测试亮度为基础补偿组中所有第三发光元件的整体测试亮度；基础补偿组中第一发光元件的补偿亮度为基础补偿组中所有第一发光元件的整体补偿亮度，第二发光元件的补偿亮度为基础补偿组中所有第二发光元件的整体补偿亮度，第三发光元件的补偿亮度为基础补偿组中所有第三发光元件的整体补偿亮度。
图4是本发明实施例提供的一种获得测试亮度和目标亮度的方法流程示意图。如图4所示，获取各补偿组中第一发光元件的测试亮度和目标亮度、第二发光元件的测试亮度和目标亮度，以及第三发光元件的测试亮度和目标亮度具体可以包括如下：
S31、分别获取第一纯色画面下、第二纯色画面下和第三纯色画面下，各补偿组中第一发光元件的子测试亮度和子目标亮度，第二发光元件的子测试亮度和子目标亮度，以及第三发光元件的子测试亮度和子目标亮度。
其中，第一纯色画面的颜色与第一发光元件的发光颜色相同，第二纯色画面的颜色与第二发光元件的发光颜色相同，第三纯色画面的颜色与第三发光元件的发光颜色相同。示例性的，第一发光元件的发光颜色为红色，第二发光元件的发光颜色为绿色，第三发光元件的发光颜色为蓝色，则第一纯色画面为红色的纯色画面，第二纯色画面为绿色的纯色画面，第三纯色画面为蓝色的纯色画面。
需要说明的是，子测试亮度为同一补偿组中的所有同色发光元件在单一纯色画面下通过亮度测试获得的亮度值，子目标亮度为同一补偿组中的所有同色发光元件在单一纯色画面下最终需要达到的目标亮度，通过计算获得，计算方式在后续实施例中进行具体说明。
S32、将第一纯色画面下、第二纯色画面下和第三纯色画面下，同色发光元件的子测试亮度之和作为该色发光元件的测试亮度；将第一纯色画面下、第二纯色画面下和第三纯色画面下，同色发光元件的子目标亮度之和作为该色发光元件的目标亮度。
需要说明的是，第一纯色画面、第二纯色画面和第三纯色画面的显示方式具体为：显示面板内所有像素单元中的第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件共同点亮，配合显示。示例性的，第一纯色画面为红色，显示红色画面时，显示面板内所有像素单元中的第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件均发光，三种不同颜色的光混色形成红色的光。
还需要说明的是，第一纯色画面的颜色为第一色，第二纯色画面的颜色为第二色，第三纯色画面的颜色为第三色，第一色、第二色和第三色的光混色形成白光，实际采用显示面板进行画面显示时，相当于第一纯色画面、第二纯色画面和第三纯色画面的叠加显示。
据此，将补偿组中第一发光元件在第一纯色画面、第二纯色画面和第三纯色画面下的子测试亮度之和作为第一发光元件的测试亮度，第二发光元件在第一纯色画面、第二纯色画面和第三纯色画面下的子测试亮度之和作为第二发光元件的测试亮度，第三发光元件在第一纯色画面、第二纯色画面和第三纯色画面下的子测试亮度之和作为第三发光元件的测试亮度。并将补偿组中第一发光元件在第一纯色画面、第二纯色画面和第三纯色画面下的子目标亮度之和作为第一发光元件的目标亮度，第二发光元件在第一纯色画面、第二纯色画面和第三纯色画面下的子目标亮度之和作为第二发光元件的目标亮度，第三发光元件在第一纯色画面、第二纯色画面和第三纯色画面下的子目标亮度之和作为第三发光元件的目标亮度。
图5是本发明实施例提供的一种获取子测试亮度和子目标亮度的方法流程示意图。如图5所示，分别获取第一纯色画面下、第二纯色画面下和第三纯色画面下，各补偿组中第一发光元件的子测试亮度和子目标亮度，第二发光元件的子测试亮度和子目标亮度，以及第三发光元件的子测试亮度和子目标亮度具体可以包括如下：
S111、控制阵列基板显示第一纯色画面；测试获得第一纯色画面下，各补偿组中第一发光元件的子测试亮度和测试色坐标，第二发光元件的子测试亮度和测试色坐标，第三发光元件的子测试亮度和测试色坐标；分别获取预设的第一纯色画面中像素单元的目标亮度以及目标色坐标，根据子目标亮度计算公式以及第一纯色画面下，各补偿组中第一发光元件的测试色坐标，第二发光元件的测试色坐标，第三发光元件的测试色坐标，以及像素单元的目标亮度和目标色坐标，计算获得第一纯色画面下各补偿组中第一发光元件的子目标亮度，第二发光元件的子目标亮度和第三发光元件的子目标亮度。
具体的，子测试亮度和测试色坐标均在阵列基板显示第一纯色画面后,通过直接测试的方式获得,测试方式例如可以是通过图像采集器拍摄显示第一纯色画面后的阵列基板,通过对拍摄的图像进行分析,获得阵列基板中每个补偿组中第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件的子测试亮度和测试色坐标。
值得注意的是，对于补偿组包括多个像素单元的情况，补偿组中第一发光元件的子测试亮度和测试色坐标为该补偿组中所有像素单元的第一发光元件整体的亮度和色坐标，补偿组中第二发光元件的子测试亮度和测试色坐标为该补偿组中所有像素单元的第二发光元件整体的亮度和色坐标，补偿组中第三发光元件的子测试亮度和测试色坐标为该补偿组中所有像素单元的第三发光元件整体的亮度和色坐标。
另一方面，子目标亮度通过计算获得，示例性的，可选的，子目标亮度计算公式具体可以包括：
LR＝(RY*(L*BX*GY-L*GX*BY-L*BX*Y+L*X*BY+L*GX*Y-L*X*GY))/(BX*GY*Y-GX*BY*Y-BX*RY*Y+RX*BY*Y+GX*RY*Y-RX*GY*Y)；
------公式1
LG＝-(GY*(L*BX*RY-L*RX*BY-L*BX*Y+L*X*BY+L*RX*Y-L*X*RY))/(BX*GY*Y-GX*BY*Y-BX*RY*Y+RX*BY*Y+GX*RY*Y-RX*GY*Y)；
------公式2
LB＝(L*GX*BY*RY-L*RX*BY*GY-L*GX*BY*Y+L*X*BY*GY+L*RX*BY*Y-L*X*BY*RY)/(BX*GY*Y-GX*BY*Y-BX*RY*Y+RX*BY*Y+GX*RY*Y-RX*GY*Y)；------公式3
其中，LR为第一发光元件的子目标亮度，LG为第二发光元件的子目标亮度，LB为第三发光元件的子目标亮度，RX和RY为第一发光元件的测试色坐标，GX和GY为第二发光元件的测试色坐标，BX和BY为第三发光元件的测试色坐标，L为纯色画面下像素单元的目标亮度，X和Y为纯色画面下像素单元的目标色坐标。
示例性的，阵列基板包括多个补偿组，选择多个补偿组中任一补偿组为目标补偿组，下面以目标补偿组为例，具体说明第一纯色画面下补偿组中第一发光元件的子目标亮度、第二发光元件的子目标亮度以及第三发光元件的子目标亮度的计算方式，可以理解的是，第一纯色画面下，阵列基板中其他补偿组中第一发光元件的子目标亮度、第二发光元件的子目标亮度以及第三发光元件的子目标亮度的计算方式，与目标补偿组中第一发光元件的子目标亮度、第二发光元件的子目标亮度以及第三发光元件的子目标亮度的计算方式相同，此处不再赘述。
具体的，第一纯色画面下目标补偿组中第一发光元件的子目标亮度、第二发光元件的子目标亮度以及第三发光元件的子目标亮度的计算方式为：
步骤1、获取测试获得的第一纯色画面下目标补偿组中第一发光元件的测试色坐标RX1和RY1、第二发光元件的测试色坐标GX1和GY1以及第三发光元件的测试色坐标BX1和BY1。
步骤2、获取第一纯色画面下像素单元的目标亮度L1，以及第一纯色画面下像素单元的目标色坐标X1和Y1。需要说明的是，第一纯色画面下像素单元的目标亮度以及目标色坐标均为预设的已知参数。
步骤3、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式1，既得第一纯色画面下第一发光元件的子目标亮度LR1＝(RY1*(L1*BX1*GY1–L1*GX1*BY1–L1*BX1*Y1+L1*X1*BY1+L1*GX1*Y1-L1*X1*GY1))/(BX1*GY1*Y1-GX1*BY1*Y1-BX1*RY1*Y1+RX1*BY1*Y1+GX1*RY1*Y1–RX1*GY1*Y1)，等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LR1。
步骤4、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式2，既得第一纯色画面下第二发光元件的子目标亮度LG1＝-(GY1*(L1*BX1*RY1–L1*RX1*BY1–L1*BX1*Y1+L1*X1*BY1+L1*RX1*Y1-L1*X1*RY1))/(BX1*GY1*Y1-GX1*BY1*Y1-BX1*RY1*Y1+RX1*BY1*Y1+GX1*RY1*Y1–RX1*GY1*Y1)，等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LG1。
步骤5、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式3，既得第一纯色画面下第三发光元件的子目标亮度
B1＝(L1*GX1*BY1*RY1-L1*RX1*BY1*GY1-L1*GX1*BY1*Y1+L1*X1*BY1*GY1+L1*RX1*BY1*Y1-L1*X1*BY1*RY1)/(BX1*GY1*Y1-GX1*BY1*Y1-BX1*RY1*Y1+RX1*BY1*Y1+GX1*RY1*Y1-RX1*GY1*Y1)，等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LB1。
S112、按照S111的方法，获得第二纯色画面下各补偿组中第一发光元件的子测试亮度和子目标亮度，第二发光元件的子测试亮度和子目标亮度，和第三发光元件的子测试亮度和子目标亮度，以及第三纯色画面下各补偿组中第一发光元件的子测试亮度和子目标亮度，第二发光元件的子测试亮度和子目标亮度，和第三发光元件的子测试亮度和子目标亮度。
示例性的，仍以第二纯色画面下和第三纯色画面下目标补偿组中第一发光元件的子目标亮度、第二发光元件的子目标亮度以及第三发光元件的子目标亮度的计算方式为例进行说明。
具体的，第二纯色画面下目标补偿组中第一发光元件的子目标亮度、第二发光元件的子目标亮度以及第三发光元件的子目标亮度的计算方式：
步骤1、获取测试获得的第二纯色画面下目标补偿组中第一发光元件的测试色坐标RX2和RY2、第二发光元件的测试色坐标GX2和GY2以及第三发光元件的测试色坐标BX2和BY2。
步骤2、获取第二纯色画面下像素单元的目标亮度L2，以及第二纯色画面下像素单元的目标色坐标X2和Y2。需要说明的是，第二纯色画面下像素单元的目标亮度以及目标色坐标均为预设的已知参数。
步骤3、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式1，即得第二纯色画面下第一发光元件的子目标亮度LR2＝(RY2*(L2*BX2*GY2–L2*GX2*BY2–L2*BX2*Y2+L2*X2*BY2+L2*GX2*Y2-L2*X2*GY2))/(BX2*GY2*Y2-GX2*BY2*Y2-BX2*RY2*Y2+RX2*BY2*Y2+GX2*RY2*Y2–RX2*GY2*Y2)，等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LR2。
步骤4、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式2，即得第二纯色画面下第二发光元件的子目标亮度LG2＝-(GY2*(L2*BX2*RY2–L2*RX2*BY2–L2*BX2*Y2+L2*X2*BY2+L2*RX2*Y2-L2*X2*RY2))/(BX2*GY2*Y2-GX2*BY2*Y2-BX2*RY2*Y2+RX2*BY2*Y2+GX2*RY2*Y2–RX2*GY2*Y2)，等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LG2。
步骤5、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式3，即得第二纯色画面下第三发光元件的子目标亮度LB2＝(L2*GX2*BY2*RY2-L2*RX2*BY2*GY2-L2*GX2*BY2*Y2+L2*X2*BY2*GY2+L2*RX2*BY2*Y2-L2*X2*BY2*RY2)/(BX2*GY2*Y2-GX2*BY2*Y2-BX2*RY2*Y2+RX2*BY2*Y2+GX2*RY2*Y2-RX2*GY2*Y2)，等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LB2。
此外，第三纯色画面下目标补偿组中第一发光元件的子目标亮度、第二发光元件的子目标亮度以及第三发光元件的子目标亮度的计算方式：
步骤1、获取测试获得的第三纯色画面下目标补偿组中第一发光元件的测试色坐标RX3和RY3、第二发光元件的测试色坐标GX3和GY3以及第三发光元件的测试色坐标BX3和BY3。
步骤2、获取第三纯色画面下像素单元的目标亮度L3，以及第三纯色画面下像素单元的目标色坐标X3和Y2。需要说明的是，第三纯色画面下像素单元的目标亮度以及目标色坐标均为预设的已知参数。
步骤3、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式1，即得第三纯色画面下第一发光元件的子目标亮度LR3＝(RY3*(L3*BX3*GY3–L3*GX3*BY3–L3*BX3*Y3+L3*X3*BY3+L3*GX3*Y3-L3*X3*GY3))/(BX3*GY3*Y3-GX3*BY3*Y3-BX3*RY3*Y3+RX3*BY3*Y3+GX3*RY3*Y3–RX3*GY3*Y3)，该式等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LR3。
步骤4、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式2，即得第三纯色画面下第二发光元件的子目标亮度LG3＝-(GY3*(L3*BX3*RY3–L3*RX3*BY3–L3*BX3*Y3+L3*X3*BY3+L3*RX3*Y3-L3*X3*RY3))/(BX3*GY3*Y3-GX3*BY3*Y3-BX3*RY3*Y3+RX3*BY3*Y3+GX3*RY3*Y3–RX3*GY3*Y3)，等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LG3。
步骤5、将步骤1和步骤2中获得的参数带入公式3，即得第三纯色画面下第三发光元件的子目标亮度LB3＝(L3*GX3*BY3*RY3-L3*RX3*BY3*GY3-L3*GX3*BY3*Y3+L3*X3*BY3*GY3+L3*RX3*BY3*Y3-L3*X3*BY3*RY3)/(BX3*GY3*Y3-GX3*BY3*Y3-BX3*RY3*Y3+RX3*BY3*Y3+GX3*RY3*Y3-RX3*GY3*Y3)，等号右侧的参数均为已知参数，可具体计算获得LB3。
可选的，图6是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图6所示，显示面板包括在第一方向X上依次排列的显示区200和绑定区300，像素单元400位于显示区200，像素单元400包括第一像素单元410和第二像素单元420，第二像素单元420位于第一像素单元410和绑定区300之间。图7是本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程示意图。对应与图6所示显示面板，如图7所示，在图3的基础上，在S12之后，还可以包括：
S23、保持第一像素单元对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度比例不变，第二像素单元对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度比例不变，调节第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，第一像素单元中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量分别小于第二像素单元中同色彩膜层的厚度调节量。
需要说明的是，绑定区用于绑定驱动芯片或绑定与驱动芯片电连接的柔性印制电路板，受电压降影响，距离绑定区越远的像素单元的电压降越大，亮度越小，其也是导致显示面板亮度均一性差的原因之一。考虑到电压降问题，在S21计算获得第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之后，进一步对第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度进行调整，以弱化甚至消除电压降对显示面板亮度均一性的影响。
具体的，彩膜具有滤光作用，调节第一像素单元和第二像素单元对应的彩膜层的厚度，可实现第一像素单元和第二像素单元中子像素的发光亮度调节，由于第一像素单元相对于第二像素单元更远离绑定区，其电压降更大，因此设置第一像素单元中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量分别小于第二像素单元中同色彩膜层的厚度调节量，以使得彩膜层厚度的变化能够补偿电压降导致的亮度差异，进一步提高亮度均一性，具体调节方式例如可以为，减小第一像素单元对应的彩膜层的厚度，或增大第二像素单元对应的彩膜层的厚度。
值得注意的是，为避免针对电压降的彩膜层的厚度调节操作影响S21计算获得的彩膜层的亮度和色度调节效果，需在保持S21计算获得的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度比例不变的前提下，对第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度做进一步的调节。
可选的，图8是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图8所示，显示面板中全部像素单元110在显示区200呈矩阵排列，矩阵的列方向与第一方向X相同，同行像素单元110中的同色发光元件属于同一晶圆，同行像素单元110中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比相同。
示例性的，继续参见图8，阵列基板例如包括呈3行3列排列的9个像素单元21、22、23、24、25、26、27、28、29。其中，像素单元21、22、23中的第一发光元件111属于同一晶圆，像素单元21、22、23中的第二发光元件112属于同一晶圆，像素单元21、22、23中的第三发光元件113属于同一晶圆；像素单元24、25、26中的第一发光元件111属于同一晶圆，像素单元24、25、26中的第二发光元件112属于同一晶圆，像素单元24、25、26中的第三发光元件113属于同一晶圆；像素单元27、28、29中的第一发光元件111属于同一晶圆，像素单元27、28、29中的第二发光元件112属于同一晶圆，像素单元27、28、29中的第三发光元件113属于同一晶圆。像素单元21、22、23中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比相同，像素单元24、25、26中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比相同，像素单元27、28、29中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比相同。
对应的，图9是本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程示意图。如图9所示，S12之后，还可以包括：
S24、保持各行像素单元中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比不变，以行为单位调节第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，沿第一方向上，同色彩膜层的厚度调节量递增。
示例性的，参见图8，S21计算获得的像素单元21、22、23中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比为a：b：c，像素单元24、25、26中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比为d：e：f，像素单元27、28、29中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比为g：h：i，在此基础上，保持上述厚度之比不变，调节位于第一行的像素单元21、22、23中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度,位于第二行的像素单元24、25、26中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度,位于第三行的像素单元27、28、29中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，第一行的像素单元21、22、23中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量例如分别为a1、b1和c1，位于第二行的像素单元24、25、26中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量例如分别为d1、e1和f1，位于第三行的像素单元27、28、29中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度例如分别为g1、h1和i1，则a1＜d1＜g1,b1＜e1＜h1,c1＜f1＜i1。
此时，同行像素单元属于同一补偿组，属于同一晶圆的发光元件对应的彩膜层的厚度调节量相同，可以理解的是，属于同一晶圆的发光元件的制备工艺参数相同，器件性能相同，发光亮度和色度几乎相同，同时调节对应的彩膜层的厚度可在保证调节后显示面板具有良好均一性的基础上，简化计算和设计难度。
在本实施例的其他实施方式中，图10是本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程示意图。如图10所示，全部像素单元110在显示区200呈矩阵排列，矩阵的列方向与第一方向X相同，每行像素单元110包括至少两个依次排列的子像素单元行500，子像素单元行500包括多个像素单元110；同一子像素单元行500中：像素单元110的同色发光元件属于同一晶圆，各像素单元110对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比相同；不同子像素单元行500中：像素单元110的同色发光元件属于不同晶圆，像素单元110对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比不同。
示例性的，继续参见图10，阵列基板包括呈3行4列排列的12个像素单元110，以靠近绑定区300的第三行像素单元为例，第三行像素单元包括2个子像素单元行510、520，子像素单元行510中的2个像素单元31、32中的第一发光元件111属于同一晶圆，子像素单元行510中的2个像素单元31、32中的第二发光元件112属于同一晶圆，子像素单元行510中的2个像素单元31、32中的第三发光元件113属于同一晶圆。子像素单元行520中的2个像素单元33、34中的第一发光元件111属于同一晶圆，子像素单元行520中的2个像素单元33、34中的第二发光元件112属于同一晶圆，子像素单元行520中的2个像素单元33、34中的第三发光元件113属于同一晶圆。子像素单元行510中的2个像素单元31、32中的第一发光元件111和子像素单元行520中的2个像素单元33、34中的第一发光元件111分别属于不同晶圆，子像素单元行510中的2个像素单元31、32中的第二发光元件112和子像素单元行520中的2个像素单元33、34中的第二发光元件112分别属于不同晶圆，子像素单元行510中的2个像素单元31、32中的第三发光元件113和子像素单元行520中的2个像素单元33、34中的第三发光元件113分别属于不同晶圆。
对应的，图11是本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程示意图。如图11所示，S12之后，还可以包括：
S25、保持各子像素单元行内像素单元中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比不变，以子像素单元行为单位调节第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，沿第一方向，同色彩膜层的厚度调节量递增。
示例性的，继续参见图10，显示面板包括6个子像素单元行510、520、530、540、550、560，S21计算获得的子像素单元行510、520、530、540、550、560中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度之比分别为a1：b1：c1，a2：b2：c2，a3：b3：c3，a4：b4：c4，a5：b5：c5，a6：b6：c6，在此基础上，保持上述厚度之比不变，以子像素单元行为单位调节第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，子像素单元行510中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量例如分别为e1、f1和g1，子像素单元行520中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量例如分别为e2、f2和g2，子像素单元行530中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量例如分别为e3、f3和g3，子像素单元行540中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量例如分别为e4、f4和g4，子像素单元行550中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量例如分别为e5、f5和g5，子像素单元行560中第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度调节量例如分别为e6、f6和g6，则e1＞e3＞e5，e2＞e4＞e6，f1＞f3＞f5，f2＞f4＞f6，g1＞g3＞g5，g2＞g4＞g6。
如此，不同晶圆上的同色发光元件可转移至同一像素单元行，增大像素单元行的长度，适用于大尺寸且高像素密度的显示面板。
可选的，沿所述第一方向，同色彩膜层的厚度调节量差值递增，其中，厚度调节量差值为相邻同色彩膜层中靠近所述绑定区一侧的彩膜层与远离所述绑定区一侧的彩膜层的厚度调节量之差。
示例性的，继续参见图10，e1-e3＞e3-e5，e2-e4＞e4-e6，f1-f3＞f3-f5，f2-f4＞f4-f6，g1-g3＞g3-g5，g2-g4＞g4-g6。
需要说明的是，针对电压降调节彩膜层的厚度时，越靠近绑定区的彩膜层的厚度越厚，另一方面，电压降引起的亮度变化接近线性变化，采用增大彩膜层的厚度来减小亮度差异时，若彩膜层厚度和透过率也是线性的，则相邻彩膜层厚度调节量之差是固定的，但如图12所示，随着彩膜层厚度的增加，彩膜层透过率变化量变小，补偿相同的亮度变化时，靠近绑定区较厚的彩膜层的调节量需相对较大，才能实现有效的补偿，因此本实施例设置沿所述第一方向，同色彩膜层的厚度调节量差值递增，以更有效的补偿电压降导致的亮度不均，提升显示面板的亮度均一性。
图13是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。该显示面板采用本发明任意实施例提供的显示面板的制备方法制备。如图13所示，显示面板包括基板10以及位于基板10上的多个补偿组100，补偿组100包括至少一个像素单元110，像素单元110包括第一发光元件111、第二发光元件112和第三发光元件113，第一发光元件111、第二发光元件112和第三发光元件113的发光颜色不同。第一发光元件111的出光侧设置有第一彩膜层211，第一彩膜层211的颜色与第一发光元件111的发光颜色相同，第二发光元件112的出光侧设置有第二彩膜层212，第二彩膜层212的颜色和第二发光元件112的发光颜色相同，第三发光元件113的出光侧设置有第三彩膜层213，第三彩膜层213的颜色与第三发光元件113的发光颜色相同，同一补偿组100中颜色相同的彩膜层的厚度相同。
多个补偿组100至少包括第一补偿组101和第二补偿组102，第一补偿组101和第二补偿组102中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值，第一补偿组101对应的彩膜层的厚度大于第二补偿组102对应的颜色相同的彩膜层的厚度。
其中，预设值的取值范围可以为大于1jncd，说明发光元件存在人眼可识别的不均一性，需要通过彩膜厚度进行亮度和色度的调节。
在本实施例中，第一发光元件111、第二发光元件112和第三发光元件113可以均为micro-LED。
可选的，继续参见图13，补偿组100包括一个像素单元110。
在本实施例的其他实施方式中，补偿组100中的至少一个像素单元110的数量可以大于或等于2，同一补偿组100中的发光元件属于同一晶圆，不同补偿组100中的发光元件属于不同晶圆。
相较于不同晶圆，同一晶圆上的发光元件的电特性更相近，为保证以补偿组100中同色彩膜层为最小单元进行彩膜层厚度调节后，同一补偿组100中各像素单元的均一性更好，设置同一补偿组100中的发光元件属于同一晶圆，不同补偿组100中的发光元件属于不同晶圆。
可选的，第一发光元件111、第二发光元件112和第三发光元件113的发光颜色分别为红色、绿色和蓝色中的任一种，且颜色各不相同。
需要说明的是，红色、绿色以及蓝色是光的三原色，不同强度的红色、绿色和蓝色能够混合得到各种颜色的光，因此，设置第一发光元件111、第二发光元件112和第三发光元件113的发光颜色分别为红色、绿色和蓝色中的任一种，且颜色各不相同，使得显示面板显示颜色多样，丰富显示面板的显示色彩。
图14是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图14所示，显示装置1包括本发明任意实施例提供的显示面板2。由于本实施例提供的显示装置1包括如本发明实施例提供的任意所述的显示面板2，其具有其所包括的显示面板2相同或相应的有益效果，此处不再赘述。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (17)

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
S11、在基板上形成多个补偿组，以获得阵列基板；所述补偿组包括至少一个像素单元，所述像素单元包括第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件，所述第一发光元件、所述第二发光元件和所述第三发光元件的发光颜色不同；多个所述补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，所述第一补偿组和所述第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值；
S12、分别计算各所述补偿组对应的第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层的厚度，其中，所述第一彩膜层位于所述第一发光元件的出光侧，所述第二彩膜层位于所述第二发光元件的出光层，所述第三彩膜层位于所述第三发光元件的出光侧；
S13、根据S12中获得的所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度，在所述第一发光元件的出光侧形成所述第一彩膜层，在所述第二发光元件的出光侧形成所述第二彩膜层，在所述第三发光元件的出光侧形成所述第三彩膜层。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，分别计算各所述补偿组中位于所述第一发光元件出光侧的第一彩膜层、位于所述第二发光元件出光侧的第二彩膜层和位于所述第三发光元件出光侧的第三彩膜层的厚度包括：
获取各所述补偿组中所述第一发光元件的测试亮度和目标亮度、所述第二发光元件的测试亮度和目标亮度，以及所述第三发光元件的测试亮度和目标亮度；
根据彩膜层厚度计算公式、各所述补偿组中所述第一发光元件的测试亮度和目标亮度，以及第一彩膜层的单位厚度透过率，计算获得所述第一彩膜的厚度；根据彩膜层厚度计算公式、各所述补偿组中所述第二发光元件的测试亮度和目标亮度，以及第二彩膜层的单位厚度透过率，计算获得所述第二彩膜层的厚度；根据彩膜层厚度计算公式、各所述补偿组中所述第三发光元件的测试亮度和目标亮度，以及第三彩膜层的单位厚度透过率，计算获得所述第三彩膜层的厚度。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，彩膜层厚度计算公式为：H＝L1/(L2×a),其中，H为彩膜层的厚度，L1为发光元件的目标亮度，L2为发光元件的测试亮度，a为彩膜层的单位厚度透过率。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，获取各所述补偿组中所述第一发光元件的测试亮度和目标亮度、所述第二发光元件的测试亮度和目标亮度，以及所述第三发光元件的测试亮度和目标亮度包括：
分别获取第一纯色画面下、第二纯色画面下和第三纯色画面下，各所述补偿组中所述第一发光元件的子测试亮度和子目标亮度，第二发光元件的子测试亮度和子目标亮度，以及第三发光元件的子测试亮度和子目标亮度；
将第一纯色画面下、第二纯色画面下和第三纯色画面下，同色发光元件的子测试亮度之和作为该色发光元件的测试亮度；将第一纯色画面下、第二纯色画面下和第三纯色画面下，同色发光元件的子目标亮度之和作为该色发光元件的目标亮度。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，分别获取第一纯色画面下、第二纯色画面下和第三纯色画面下，各所述补偿组中所述第一发光元件的子测试亮度和子目标亮度，第二发光元件的子测试亮度和子目标亮度，以及第三发光元件的子测试亮度和子目标亮度包括：
S111、控制所述阵列基板显示第一纯色画面；
测试获得第一纯色画面下，各所述补偿组中所述第一发光元件的子测试亮度和测试色坐标，所述第二发光元件的子测试亮度和测试色坐标，所述第三发光元件的子测试亮度和测试色坐标；
分别获取预设的所述第一纯色画面中像素单元的目标亮度以及目标色坐标；
根据子目标亮度计算公式以及所述第一纯色画面下，各所述补偿组中所述第一发光元件的测试色坐标，所述第二发光元件的测试色坐标，所述第三发光元件的测试色坐标，以及像素单元的目标亮度和目标色坐标，计算获得第一纯色画面下各所述补偿组中所述第一发光元件的子目标亮度，所述第二发光元件的子目标亮度和所述第三发光元件的子目标亮度；
S112、按照S111的方法，获得第二纯色画面下各所述补偿组中所述第一发光元件的子测试亮度和子目标亮度，所述第二发光元件的子测试亮度和子目标亮度，和第三发光元件的子测试亮度和子目标亮度，以及第三纯色画面下各所述补偿组中所述第一发光元件的子测试亮度和子目标亮度，所述第二发光元件的子测试亮度和子目标亮度，和所述第三发光元件的子测试亮度和子目标亮度。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述子目标亮度计算公式包括：
LR＝(RY*(L*BX*GY-L*GX*BY-L*BX*Y+L*X*BY+L*GX*Y-L*X*GY))/(BX*GY*Y-GX*BY*Y-BX*RY*Y+RX*BY*Y+GX*RY*Y-RX*GY*Y)；
LG＝-(GY*(L*BX*RY-L*RX*BY-L*BX*Y+L*X*BY+L*RX*Y-L*X*RY))/(BX*GY*Y-GX*BY*Y-BX*RY*Y+RX*BY*Y+GX*RY*Y-RX*GY*Y)；
LB＝(L*GX*BY*RY-L*RX*BY*GY-L*GX*BY*Y+L*X*BY*GY+L*RX*BY*Y-L*X*BY*RY)/(BX*GY*Y-GX*BY*Y-BX*RY*Y+RX*BY*Y+GX*RY*Y-RX*GY*Y)；
其中，LR为第一发光元件的子目标亮度，LG为第二发光元件的子目标亮度，LB为第三发光元件的子目标亮度，RX和RY为第一发光元件的测试色坐标，GX和GY为第二发光元件的测试色坐标，BX和BY为第三发光元件的测试色坐标，L为纯色画面下像素单元的目标亮度，X和Y为纯色画面下像素单元的目标色坐标。
7.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括在第一方向上依次排列的显示区和绑定区，所述像素单元位于所述显示区，所述像素单元包括第一像素单元和第二像素单元，所述第二像素单元位于所述第一像素单元和所述绑定区之间；
S12之后还包括：
保持所述第一像素单元对应的所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度比例不变，所述第二像素单元对应的所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度比例不变，调节所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度，所述第一像素单元中所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度调节量分别小于所述第二像素单元中同色彩膜层的厚度调节量。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，全部所述像素单元在所述显示区呈矩阵排列，所述矩阵的列方向与所述第一方向相同；
同行所述像素单元中的同色发光元件属于同一晶圆，同行所述像素单元中所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度之比相同；
S12之后还包括：
保持各行所述像素单元中所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度之比不变，以行为单位调节所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度，沿所述第一方向，同色彩膜层的厚度调节量递增。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，全部所述像素单元在所述显示区呈矩阵排列，所述矩阵的列方向与所述第一方向相同；
每行所述像素单元包括至少两个依次排列的子像素单元行，所述子像素单元行包括多个像素单元；同一子像素单元行中：所述像素单元的同色发光元件属于同一晶圆，各所述像素单元对应的所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度之比相同；不同子像素单元行中：所述像素单元的同色发光元件属于不同晶圆，所述像素单元对应的所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度之比不同；
S12之后还包括：
保持各所述子像素单元行内所述像素单元中所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度之比不变，以子像素单元行为单位调节所述第一彩膜层、所述第二彩膜层和所述第三彩膜层的厚度，沿所述第一方向，同色彩膜层的厚度的调节量递增。
10.根据权利要求8或权9所述的制备方法，其特征在于，沿所述第一方向，同色彩膜层的厚度调节量差值递增，其中，厚度调节量差值为相邻同色彩膜层中靠近所述绑定区一侧的彩膜层与远离所述绑定区一侧的彩膜层的厚度调节量之差。
11.一种显示面板，其特征在于，采用权利要求1-10任一项所述的显示面板的制备方法制备，所述显示面板包括基板以及位于所述基板上的多个补偿组，所述补偿组包括至少一个像素单元，所述像素单元包括第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件，所述第一发光元件、所述第二发光元件和所述第三发光元件的发光颜色不同；所述第一发光元件的出光侧设置有第一彩膜层，所述第一彩膜层的颜色与所述第一发光元件的发光颜色相同，所述第二发光元件的出光侧设置有第二彩膜层，所述第二彩膜层的颜色和所述第二发光元件的发光颜色相同，所述第三发光元件的出光侧设置有第三彩膜层，所述第三彩膜层的颜色与所述第三发光元件的发光颜色相同；同一所述补偿组中颜色相同的彩膜层的厚度相同；
多个所述补偿组至少包括第一补偿组和第二补偿组，所述第一补偿组和所述第二补偿组中发光颜色相同的发光元件在相同灰阶下的亮度之差大于预设值，所述第一补偿组对应的彩膜层的厚度大于第二补偿组对应的颜色相同的彩膜层的厚度。
12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第一发光元件、所述第二发光元件和所述第三发光元件均为micro-LED。
13.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述预设值的取值范围为大于1jncd。
14.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述补偿组包括一个像素单元。
15.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述至少一个像素单元的数量大于或等于2，同一所述补偿组中的发光元件属于同一晶圆，不同补偿组中的发光元件属于不同晶圆。
16.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第一发光元件、所述第二发光元件和所述第三发光元件的发光颜色分别为红色、绿色和蓝色中的任一种,且颜色各不相同。
17.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求11-16中任一项所述的显示面板。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114005369A (zh) * 2021-11-10 2022-02-01 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100066952A1 (en) * 2008-09-12 2010-03-18 Seiko Epson Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus
CN106773239A (zh) * 2016-11-28 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 显示面板及显示装置
CN108319055A (zh) * 2018-02-14 2018-07-24 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
CN108428436A (zh) * 2018-05-08 2018-08-21 京东方科技集团股份有限公司 亮度补偿方法、亮度补偿装置、显示装置及存储介质
CN109559683A (zh) * 2017-09-25 2019-04-02 上海和辉光电有限公司 一种有机发光显示面板的灰阶补偿方法、装置和系统
CN109686302A (zh) * 2019-03-04 2019-04-26 京东方科技集团股份有限公司 一种显示装置及其控制方法
CN109904348A (zh) * 2019-03-18 2019-06-18 京东方科技集团股份有限公司 像素单元、显示面板及显示装置
CN110233171A (zh) * 2019-06-24 2019-09-13 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法
WO2019228212A1 (zh) * 2018-05-31 2019-12-05 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN110827745A (zh) * 2019-12-26 2020-02-21 武汉天马微电子有限公司 显示面板的像素补偿数据生成方法、装置及显示面板
CN111968570A (zh) * 2020-09-04 2020-11-20 京东方科技集团股份有限公司 显示补偿信息的获取方法、显示补偿方法及装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100939615B1 (ko) * 2002-12-13 2010-02-01 엘지디스플레이 주식회사 색재현성과 휘도를 증가시킨 반투과형 액정표시장치 및이의 구동방법
KR20090026871A (ko) * 2007-09-11 2009-03-16 삼성전자주식회사 유기 발광 장치 및 그 제조 방법
JP4762297B2 (ja) * 2008-12-08 2011-08-31 東芝モバイルディスプレイ株式会社 液晶表示装置
TW201248604A (en) * 2011-05-16 2012-12-01 Novatek Microelectronics Corp Display apparatus and image compensating method thereof
TWI672683B (zh) * 2018-04-03 2019-09-21 友達光電股份有限公司 顯示面板

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100066952A1 (en) * 2008-09-12 2010-03-18 Seiko Epson Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus
CN106773239A (zh) * 2016-11-28 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 显示面板及显示装置
CN109559683A (zh) * 2017-09-25 2019-04-02 上海和辉光电有限公司 一种有机发光显示面板的灰阶补偿方法、装置和系统
CN108319055A (zh) * 2018-02-14 2018-07-24 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
CN108428436A (zh) * 2018-05-08 2018-08-21 京东方科技集团股份有限公司 亮度补偿方法、亮度补偿装置、显示装置及存储介质
WO2019228212A1 (zh) * 2018-05-31 2019-12-05 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN109686302A (zh) * 2019-03-04 2019-04-26 京东方科技集团股份有限公司 一种显示装置及其控制方法
CN109904348A (zh) * 2019-03-18 2019-06-18 京东方科技集团股份有限公司 像素单元、显示面板及显示装置
CN110233171A (zh) * 2019-06-24 2019-09-13 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法
CN110827745A (zh) * 2019-12-26 2020-02-21 武汉天马微电子有限公司 显示面板的像素补偿数据生成方法、装置及显示面板
CN111968570A (zh) * 2020-09-04 2020-11-20 京东方科技集团股份有限公司 显示补偿信息的获取方法、显示补偿方法及装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114005369A (zh) * 2021-11-10 2022-02-01 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板
CN114005369B (zh) * 2021-11-10 2023-05-02 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板

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