CN113993621B - 可扩展的真空室和用于制造可扩展的真空室的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种可扩展的真空室(10),其具有扁平的框架元件(14)和端板(12),并且涉及一种用于制造这种真空室(10)的方法。在轴向方向(Ra)上,端板(12)在框架元件(14)之前和之后排列成行,并且与框架元件(14)一同限定真空室(10)的腔室容积。

Description

可扩展的真空室和用于制造可扩展的真空室的方法
技术领域
本发明涉及一种可扩展的真空室和一种用于制造可扩展的真空室的方法。
背景技术
根据现有技术,基本上已知了两种真空室的基本变体。在这种情况下,真空室或者由实心材料坯件铣削而成,或者由横向于彼此布置的单个板件焊接在一起而成。
由实心材料坯件制造真空室关于非期望的泄露开口方面提供了高安全性。然而,特别是对于大型真空室,为此需要非常大的待加工材料块,这些待加工材料块由于其重量而很难供货并且只能用大型且昂贵的铣床进行进一步加工。因此,对于这种类型的真空室的制造,大多使用铝。而且,在由实心材料坯件制造真空室的过程中,产生许多废料,这对制造成本进一步造成不利影响。
因此,对于大型真空室的制造,板件和管件的焊接已作为标准被普遍接受。在这种情况下,会积累明显更少的废料,并且在制造和进一步加工过程中,可以更简单地操作要焊接的单个部件。然而,必要的焊接连接关于非期望的泄露开口方面呈现出风险。
实际上,有时候会出现混合形式。由实心材料坯件铣削而成的框架形成例如用于焊接或者螺接于其上的板壁的支撑性结构。而且,为了制造大型真空室,会用到大量彼此流体连接的更小的真空室。
US 9,969,527 B2描述了一种这种模块化的真空室系统,其由多个相互连接的腔室容积构成。单个腔室容积的框架结构具有立方体状的外形。
尽管由多个更小的真空室制造大型真空室已被确立为标准,但是实心材料坯件的加工还是花费高昂的并且由于使用昂贵的铣床而与大量材料废料相关。相反,用于通过焊接板件来制造真空室的替代方案提高了出现非期望的泄露开口的风险。
发明内容
因此,本发明的目的在于,通过使用简单且成本低廉的板坯以及方便的工具,提供一种防泄露且可扩展的真空室,并且在此减少制造真空室过程中的材料废料。
根据本发明的装置的描述
根据本发明,该目的通过一种包括两个端板和至少两个板状的框架元件的真空室得以实现,其中框架元件分别:
-在周向上是基本封闭的;并且
-形成具有环绕的壁的框架内部区域;
-由此在周向方向上限定真空室的子容积;并且
-包括用于布置另外的框架元件或者端板的、环绕的、正面的框架接触面;并且
-包括用于布置另外的框架元件或者端板的、环绕的、背面的框架接触面;并且其中
-至少两个板状的框架元件被布置在端板之间;并且其中
-两个端板包括用于布置在框架元件上的、正面的和/或背面的接触面;并且
-在基本上轴向方向上限定腔室容积。
另外,“轴向方向”理解为横向于框架元件和端板的板型延伸部的方向。“宽度”理解为板型延伸部方向上的尺寸;“厚度”理解为横向于板型延伸部方向的尺寸。
根据本发明的真空室主要由板坯制成,相较于大且重的实心材料坯件,板坯在购置和进一步加工中明显更加方便。这可以归因于板坯的特别方便处理的标准尺寸。板坯可以包括至少一个凹槽,特别是至少一个贯通凹槽。传统板坯的板厚为10到750毫米,特别是10到500毫米,特别优选是10到200毫米。由于更低的材料厚度,在进一步加工板坯时,可以如下地使用更低功率的且成本更低廉的工具,特别是铣床。板坯可以特别地被设计为半成品或者铸件,特别优选地被设计为铸件框架。
不同于根据现有技术已知的、被设计为大容积的框架结构,根据本发明,使用扁平的、实际二维的、板型的框架元件。
板型的框架元件在周向上是基本(特别地完全)封闭的。完全封闭的框架元件具有就非期望的泄露开口而言的最高安全性。然而,根据之后的真空室的实施,会需要在框架元件内预设开口和/或凹槽,以与外部区域流体连接。
可以早在由板坯生产框架元件的过程中或者在紧接着的步骤中,特别有成本效益地在框架元件中加工出凹槽。
优选地,这种凹槽并非被实施为框架厚度方向上的贯通凹槽,而是仅被实施为框宽度方向上的贯通凹槽,以避免过多地削弱框架元件的强度。
框架元件形成环绕的壁和框架内部区域。框架内部区域与框架厚度一同形成对应于真空室子容积的容积。在局部观察框架元件时,该子容积仅在周向方向上由框架元件的壁限定。
而且,框架元件形成正面的环绕接触面和背面的环绕接触面。换言之,框架元件在轴向方向上形成这些接触面。这种接触面的形成使得在框架元件上布置另外的框架元件和/或端板具备可能。
根据本发明的真空室包括两个端板和至少两个(特别地至少三个,特别优选地至少四个)板状的框架元件。在这种情况下,板状的框架元件被布置在端板之间,其中端板包括用于布置在框架元件上的正面的和/或背面的接触面。由此,可以通过在轴向上布置多个框架元件(但是至少两个框架元件)并且最后在框架元件的复合结构的轴向上相对的侧面上布置一对端板,形成真空室。在该布置结构中,框架元件的子容积相加得到真空室的总容积。在这种情况下,总容积在周向方向上基本(特别地完全)由框架元件的壁限定,并且在轴向方向上基本(特别地完全)由端板限定。
优选的改进方案和实施方案
在一种优选的改进方案中,至少一个端板具有凸起,该凸起形成凸起内部区域和环绕的壁,由此在周向方向上限定真空室的子容积。当板坯的材料厚度对应于框架元件的框宽度时,可以通过选择适当的板坯材料厚度,将端板的生产花费降至最低值。举例而言,当板坯的材料厚度对应于框架元件的最小框宽度时,通常可以放弃端板的粗加工。由此,在最小材料用量下实现均匀的壁强度。
如果板坯的材料厚度超过框架元件的框宽度,则对于至少一个端板,可以预设去除板坯的内部部分,直至特定的深度。在这种情况下,端板型成包括基本上环绕的壁的轴向凸起。这样实施的端板的内部区域对应地由基本上环绕的壁并且在轴向方向上通过端板的未去除的部分限定。
在一种优选的实施方案中,将至少一个端板(特别是两个端板)和至少两个框架元件相互粘合。由此,可以实现特别成本低廉且简单地制造真空室。特别地,在使用由玻璃制成的板坯时,粘合至少一个端板(特别是两个端板)和至少两个框架元件是适合的。通过将仅一个端板与至少两个框架元件粘合,可以特别简单地扩展真空室,因为可以将另外的框架元件布置在由端板和至少两个框架元件构成的已经粘合的复合结构与另外的端板之间。
一种实施方案是特别优选的,其中至少一个正面的框架接触面具有用于布置密封件的环绕框架凹槽,其特别地在横截面中为梯形槽的形式。在布置另外的框架元件或者端板时,关于密封件在接触面上的定位以及就为密封件提供挤压区而言,环绕框架凹槽是特别有益的。框架凹槽可以具有任意的横截面。在成本低廉的且简单的制造的意义上,可在仅一个加工步骤中生产并且因此具有无底切矩形横截面的框架凹槽是适合的。如果为框架凹槽设计有底切,则在布置密封件时,实现了改善的框架凹槽的夹持效果。在这种情况下,框架凹槽特别地具有梯形的横截面。为了进一步提高密封效果,则特别地,可以预设另外的用于布置密封件的环绕框架凹槽。
另一优选的实施方案预设了:在至少一个正面的框架接触面上布置有真空室的密封件,特别是O形环。密封件相对于外部区域,密封真空室的内部区域。当被布置在两个框架元件之间或者框架元件与端板之间时,可以特别有效地利用密封件。使用弹性体(特别是橡胶衬面)作为密封件是特别有意义的。结合框架凹槽,密封件作为橡胶环,特别地作为O形环,特别优选地作为矩形环的设计是特别适合的。因此,在特别的设计方案中,密封效果可以适应于真空室的使用区域。另外,还可以考虑更复杂的密封件,例如迷宫式密封装置。
在一种优选的实施方案中,至少一个背面的框架接触面具有用于布置在密封件上的环绕凹槽,其特别地在横截面中为半圆形槽的形式。背面的框架凹槽使得部分地容纳密封件具备可能,并且由此引起存在于两个框架元件之间或者框架元件与端板之间的间隙与密封件的重叠,其对于密封件的密封效果有特别有益的影响。
此外,一种实施方案是优选的,其中框架元件分别包括用于容纳紧固件的至少两个框架贯通凹槽,特别地至少三个框架贯通凹槽,特别优选地至少四个框架贯通凹槽。在横向于框架元件的板型延伸部的轴向方向上,框架贯通凹槽被设计在框架区域内,并且用于容纳连接框架元件和/或端板所用的紧固件。至少两个紧固件(特别是所有紧固件)在框架元件上的对称布置是在生产花费方面特别有益的。通过增加紧固件数量,可以在连接框架元件和/或端板时实现改善的表面压力,这对密封效果造成特别有益的影响。框架贯通凹槽还可以特别地具有螺纹,以使得可拧紧的连接具备可能。在这种情况下,螺纹可以被设计在框架元件内,或者被布置在框架贯通凹槽上。在这种情况下,可以例如借助于螺纹套管,实现螺纹在框架贯通凹槽中的布置。
在一种优选的改进方案中,至少两个框架贯通凹槽与至少一个邻接的框架元件的框架贯通凹槽齐平。借助于完全的或者部分的插入连接,框架贯通凹槽的这种布置使得框架元件的特别有益的连接具备可能。举例而言,紧固件可以被插入穿过第一框架元件的框架元件贯通凹槽并且穿过第二框架元件的第二框架元件贯通凹槽,以最终被紧固在第三框架元件的第三框架元件贯通凹槽中。在这种情况下,可以考虑各种不同的组合。
此外,一种实施方案是优选的,其中至少一个端板包括用于容纳紧固件的至少两个端板凹槽,特别地至少三个端板凹槽,特别优选地至少四个端板凹槽,特别是端板贯通凹槽。由此,为了生产端板,可以应用与生产框架元件类似的操作方式,这对真空室的生产过程产生了特别有益的影响。
一种优选的改进方案预设了:至少两个端板凹槽,特别是端板贯通凹槽与邻接的框架元件的框架贯通凹槽齐平,特别地与所有框架元件的框架贯通凹槽齐平。由此,可以在很大程度上统一所有框架元件和端板的生产过程。此外,能够以特别简单的方式,将框架元件和端板相互连接。特别地,通过对齐至少两个端板贯通凹槽与所有框架元件的框架贯通凹槽,可以特别简单地将框架元件连接成真空室。
一种改进方案是优选的,其中至少一个端板凹槽(特别是端板贯通凹槽)具有螺纹。在这种情况下,螺纹可以被设计在端板内,或者被布置在端板贯通凹槽上。在这种情况下,可以例如借助于螺纹套管,实现螺纹在端板贯通凹槽中的布置。由此,可以特别有益地借助于螺接,建立端板的连接。
在一种优选的改进方案中,至少两个框架元件和两个端板通过至少两个紧固件,特别地通过螺旋连接,相互压在一起连接。
一种优选的实施方案预设了:至少一个端板具有至少一个贯通凹槽,其将腔室内部与腔室外部流体地连接并且具有针对管线的连接可能性。
一种实施方案是特别优选的,其中至少一个端板具有可打开的分区,特别是包括布置于其上的门的门缘。通过可打开的分区,可以为了维护目的或者为了装备物品而特别简单地进入真空室,而不用进行拆卸。在这种情况下,可打开的分区特别优选地使得经由位于其后方的框架元件的整个框架内部区域的面无障碍地伸入到真空室内具备可能。换言之,端板的可打开的分区由此与框架元件的位于其后的框架内部区域至少一样大。
在一种优选的改进方案中,可打开的分区(特别是布置在门缘上的门)具有观察窗。在这种情况下,观察窗使得在真空室处于运行中时观察真空室内部具备可能。
一种实施方案预设了:至少两个框架元件,特别是大多数框架元件,特别优选所有框架元件的框架内部区域的净横截面都是相同的。
在一种优选的实施方案中,至少两个框架元件,特别是大多数框架元件,优选所有框架元件都是相同设计的,特别地都是一致设计的。通过使框架元件彼此同化,提高了生产中的通用件数量。由此,可以特别成本低廉地且高效地实现生产。而且,真空室的扩展通过增加框架元件的数量特别简单地实现。在这种情况下,如果框架元件造型相同,就无需注意其相互间的兼容性和布置顺序。
一种优选的实施方案预设了:至少两个框架元件的框宽度在周向方向上变化。由此,可以使框架元件的强度有针对性地适应于真空室的环境条件。举例而言,框架元件的壁的分区可以被实施得更宽或者更窄。
在一种优选的改进方案中,在根据需要的真空室安装位置中,至少两个框架元件的下部框架部分的框宽度比剩余框架部分的框宽度更厚。由此,形成真空室的特别牢固的底板。
一种实施方案是优选的,其中端板以至少一个外形尺寸超出至少两个框架元件和另一端板,以形成轴向的止挡面。在这种情况下,当真空室应被布置在互补的容纳部中时,止挡面适合于以特别有益的方式用作其定位辅助工具。
一种优选的实施方案预设了:至少两个框架元件和/或两个端板在其外轮廓上被设计为基本上是矩形的,特别地是正方形的。外轮廓的造型特别有益地取决于所使用的板坯的形状,因为由此在制造过程中材料废料产生最少。
一种实施方案是优选的,其中至少两个框架元件围出基本上矩形的内部区域,特别是正方形的内部区域。结合矩形的(特别是正方形的)外轮廓设计,可以特别材料高效地实现生产,因为通过铣出第一框架元件的内轮廓,在同一工作步骤中已经产生下一更小的框架元件的外轮廓。由此,可以特别有效地进行生产。
框架元件和端板优选地由铝制成,特别地由铸铝板制成,因为在重量和生产方面,铝已被证明是特别有利的。除此之外,可以考虑根据对真空室的要求,使用其它材料,特别是使用其它金属或者玻璃。
根据本发明的方法的描述
此外,该目的通过一种用于制造特别是前文中描述的真空室的方法得以实现,其中真空室包括两个端板和至少两个板状的框架元件,该方法包括以下方法步骤:
A)用板坯制作框架元件;
G)用板坯制作至少一个另外的框架元件;
M)将端板和框架元件连接成真空室。
在提出的方法步骤之前、之间和/或之后,根据本发明的方法还可以包括一个或更多个其它方法步骤。
优选地,在第一加工步骤中,工具(特别是铣床)用板坯产生框架元件。用于制作框架元件的板坯被特别地设计为具有凹槽的半成品,特别优选地被设计为铸件框架。已经设计在板坯中的凹槽降低了板坯的加工花费和在加工过程中产生的材料废料。另一方法步骤预设了:特别地,类似于方法步骤A),制作至少一个另外的框架元件。在制作至少两个框架元件后,其在特别是最后的方法步骤中与端板连接成真空室。
优选的改进方案和方法步骤
一种包括以下方法步骤的方法是优选的:
B)从用于制作框架元件的板坯中取出框架内部区域。
优选地,在板坯的第一加工步骤中,工具(特别是铣床)仅从板坯中产生框架元件的内轮廓,其中板坯的内部部分保持为未加工状态。换言之,从板坯中裁出框架形的部分。由此,该铣出的部分可以继续用于减少了框宽度的、更小的真空室的框架元件。可以继续该方法,直至获得框架元件的不经济的最小尺寸,从而将材料废料降低至最低值。
可以如所提出的,借助于铣床进行板坯的加工。一般而言,还有其它方法适合于从板坯中取出框架内部区域,例如锯开、激光切割、高压水射流切割等。在这种情况下,框架内部区域优选地对应于板坯的被冲裁出的包含铣削路径的内部部分。
该方法的一种优选的改进方案预设了以下方法步骤:
C)做出用于布置密封件的环绕框架凹槽。
为了密封框架元件之间以及框架元件与端板之间可能的泄露开口,可以使用密封件。在特别的设计方案中,密封件被布置在环绕框架凹槽上。特别优选地,早在从板坯中取出框架内部区域的过程中或者说直接在此之前或者之后,特别地用相同的工具,从框架元件中做出该环绕框架凹槽。这样的优点是特别简单地制造框架元件。
此外,一种包括以下方法步骤的方法是优选的:
D)做出至少两个框架贯通凹槽,特别是至少三个框架贯通凹槽,特别优选至少四个框架贯通凹槽。
直接位于方法步骤A)之前或者之后的做出框架贯通凹槽的方法步骤使得将框架贯通凹槽精确地布置在框架元件中具备可能,因为取消了将框架元件重新定位在工具装置中。因此,可以进一步提高生产精度。替代地,可以预设:在方法的之后的时间点,在包括其它框架元件和端板的复合结构中做出框架贯通凹槽。由此,可以特别精确地实现凹槽彼此间的定向。
在一种优选的改进方案中,该方法包含以下步骤:
E)在框架元件上做出至少一个凹槽,以在真空室的安装状态下,使框架内部区域与外部环境流体连接。
根据框架元件的实施方案,可以预设:在框架元件的延伸方向上,在框架元件上形成贯通凹槽形式的连接件。在此,特别有益的是,在取出框架内部区域的过程中或者说直接在此之前或者之后,特别地用相同的工具,做出凹槽。
此外,一种包括以下方法步骤的方法是优选的:
F)对制作出的框架元件进行表面加工。
所产生的框架元件的表面加工有利于随后尽可能无公差地接合框架元件。因此,特别有益的是,紧接着框架元件的粗加工,进行更精细的表面加工,以避免在之后的时间点重新定位框架元件。
此外,包括以下方法步骤的方法是优选的:
H)从板坯中做出凹槽,以制作具有轴向凸起的端板;
由此,通过相同的工具,既可以实现框架元件的制造,也可以实现端板的制造。
一种优选的改进方案预设了以下方法步骤:
I)通过做出用于布置密封件的环绕端板凹槽,制作出端板。
为了密封框架元件与端板之间可能的泄露开口,可以使用密封件。在特别的设计方案中,密封件被布置在环绕端板凹槽上。特别优选地,早在从板坯中做出凹槽以制作轴向凸起的过程中或者说直接在此之前或者之后,特别地用相同的工具,从端板中做出该环绕端板凹槽。这样的优点是特别简单地制造端板。
在一种优选的改进方案中,预设了以下方法步骤:
J)做出至少两个端板凹槽,特别是至少三个端板凹槽,特别优选至少四个端板凹槽。
直接位于用于制造端板的方法步骤之前或者之后的做出端板凹槽(特别是端板贯通凹槽)的方法步骤使得将端板凹槽精确地布置在端板上具备可能,因为取消了将端板重新定位在工具装置中。因此,可以进一步提高生产精度。替代地,可以预设:在方法的之后的时间点,在包括其它框架元件和另外的端板的复合结构中做出端板凹槽。由此,可以特别精确地实现凹槽彼此间的定向。
一种优选的方法包含以下方法步骤:
K)对制作出的端板进行表面加工。
直接紧跟制作端板的、用于表面加工的方法步骤降低了制造公差,并且使得在安装真空室时更好地接合端板具备可能。
此外,一种包括以下方法步骤的方法是优选的:
L)使用取出的框架内部区域来制作下一更小的端板或者下一更小的框架元件。
通过继续使用在制造框架元件时取出的框架内部区域,可以进一步降低制造真空室的材料用量。在这种情况下,取出的框架内部区域被用于制造用于下一更小的真空室的下一更小的框架元件和/或下一更小的端板。
此外,在本发明的一个独立方面中,预设了一种用于制造用于真空室的端板和/或框架元件的方法,该方法包括依次用板坯做出框架元件。由此,可以特别经济地利用板坯,因为取出的框架内部区域可以被用于制造另外的下一更小的框架元件或者下一更小的端板。在这种情况下,可以继续该方法,直至获得框架内部区域的不经济的最小尺寸。此外,能够以在此描述的方法步骤的任意组合,执行该方法。
“板型”或者说“板状框架元件”理解为限定真空室的至少一个子容积的元件,其中主要在由主要延伸方向张开的平面内实现元件的延伸,并且其中被限定的子容积位于该平面内或者位于与该平面平行的平面内。
该板型或者说板状框架元件由单个板坯构成,其中板型或者说板状框架元件在所有延伸方向上都等于或者小于板坯的尺寸。优选地,板坯在其外部尺寸上对应于待生产的框架元件的外部尺寸。
框架元件具有的框架元件厚度或者说板坯厚度与其中一个平面的延伸方向上的最小延伸的延伸比为1:3,特别地为1:5,特别优选地为1:10。
框架元件优选地被布置为在横向于主要延伸方向或者说横向于板型延伸部的方向上,特别地垂直于板坯的平面排列成行。
框架元件的主要延伸方向或者说平面的/板型的延伸部对应于板坯的主要延伸方向或者说平面的延伸部。
框架内部区域的壁被设计为相对于框架元件的平面延伸部成45到90°之间的角,特别是60到90°之间的角,特别优选是80到90°之间的角。
优选地,框架元件是一件式的。
端板具有环绕接触面。
优选地,端板的环绕接触面与框架元件的环绕接触面基本上(特别地全覆盖地)处于直接接触和/或处于通过密封件建立的接触,该密封件特别地是弹性体的形式,特别优选地是橡胶O形环的形式。
特别优选地,通过用工具取出另外的框架内部区域,制造方法步骤G)中的另外的框架元件。
附图说明
本发明的其它优点得自说明书和附图。同样地,根据本发明,可以分别单独地或者多个任意组合地应用前文中提及的以及还要继续阐述的特征。所示和所描述的实施方案不应被理解为穷举,而更确切地说,对于描绘本发明具有示例性的特性。
发明和附图的详细说明
图1示出了根据本发明的真空室的一种实施方案的立体视图;
图2示出了根据图1的真空室的后视图;
图3示出了根据图1的真空室的正视图;
图4示出了沿着根据图3的线A-A的真空室的剖面侧视图;
图5示出了根据图4的真空室的片段X;
图6示出了根据图1至图5的真空室的框架元件;
图7示出了根据本发明的用于制造端板和/或框架元件的方法步骤。
具体实施方式
图1示出了根据本发明的真空室10的一种实施方案的立体视图,其包括两个有角的端板12和十个有角的、板状的框架元件14。板状的框架元件14在轴向方向Ra上,换言之,在横向于框架元件14和端板12的板状延伸部的方向上,被布置在端板12之间。端板12具有包括布置于其上的门18的门缘16。门18具有观察窗20。
图2示出了根据图1的真空室10的后视图。在这种情况下,轴向方向Ra(见图1)上前部的、设计为门缘16的端板12在其外形尺寸上超出后部端板12和位于其间的框架元件(见图1)。由此,背面的端板接触面22形成轴向方向Ra(见图1)上的止挡面24,通过该止挡面,真空室10可以特别简单地根据用途定位在容纳部中。轴向方向Ra(见图1)上后部的端板12包括多个(特别是八个)贯通凹槽26,其将真空室10的内部与外部相连。为了真空室10的运行或者说为了执行特定的方法,可以通过这些贯通凹槽26,连接所需的装备。出于清楚的原因,只为一个贯通凹槽26配备了附图标记。
图3示出了真空室10的正视图。在这种情况下,观察窗20被居中地布置在门18中。门18通过两个铰链28,紧固在门缘16上,并且具有把手30。门缘16和门18以及门18和观察窗20在其布置结构中是相对于彼此密封的(未示出)。
图4示出了真空室10的沿着根据图3的剖面标记A-A剖开的侧视图。框架元件14形成在周向上基本封闭的并且环绕的壁32,该壁围出框架内部区域Ri(见图6),其中为了清楚起见,只为其中一个框架元件配备有附图标记。环绕的壁32与框架厚度S结合,在周向方向上限定真空室10的子容积VT。由此,通过框架元件14的轴向布置,产生真空室10的总容积,由端板12主要在轴向方向Ra上限定该总容积。
真空室10具有端板12,其形成具有基本上环绕的壁的轴向凸起34。除了由轴向壁,还由凸起34的周向方向上环绕的壁,限定这样实施的端板12的内部区域。除此之外,端板12包括贯通凹槽26和管线接口36。这使得无泄漏地连接对于真空室的运行而言或者说对于特殊方法的执行而言必要的装备具备可能。
框架元件14在环绕的、正面的框架接触面38上具有环绕框架凹槽40,并且端板12在正面的端板接触面42上具有环绕端板凹槽44。在环绕框架凹槽40并且优选地在环绕端板凹槽44上,在框架元件14之间或者说在框架元件14与端板12之间都布置密封件46。通过正面的和背面的接触面38、48、42和22,在轴向方向Ra上彼此紧靠地布置端板12和框架元件14。
框架元件14包括(优选四个)框架贯通凹槽50,端板12和门缘16分别具有(优选四个)端板凹槽52,其与各自另外的凹槽齐平。此外,(优选四个)紧固件54被布置在框架元件14和端板12上,以使其彼此挤压。以此方式,可以特别成本低廉地且简单地进行真空室10的装配,因为可以上下重叠地布置框架元件14和端板12,并且可以紧接着将紧固件54布置在整个复合结构上。然而,同样可以考虑,通过紧固件54预制不同的子复合结构,并且紧接着将子复合结构连接成整体的真空室10。
图5示出了图4的放大片段X。在这种情况下,O形环46被布置在两个框架元件14之间。框架元件14在其正面的接触面38上具有用于容纳O形环46的、特别地被设计为槽的环绕框架凹槽40。环绕框架凹槽40在其横截面上优选地被设计为梯形,以确保O形环46的最佳位置。
图6示出了图1至图4中示出的真空室10的单个框架元件14,其包括四个框架贯通凹槽50。环绕的壁32框出框架内部区域Ri。框宽度D决定真空室10的壁厚。框架元件14具有在周向方向上变化的框宽度D。虽然框架元件14在安装位置中在框架元件14的侧面部分和上部部分上具有保持不变的框宽度D,但框架元件14的下部部分上的框宽度D被加厚,以形成牢固的底板。
图7示出了用于制造根据本发明的框架元件14或者根据本发明的端板12的方法步骤。借助于工具58,特别地借助于铣刀,取出板坯56的框架内部区域Ri。在另一方法中,这样产生的框架内部区域Ri用作用于下一更小的框架元件14或者下一更小的端板12的板坯56。
通过概览附图的所有图,本发明涉及一种可扩展的真空室10,其具有扁平的框架元件14和端板12,并且涉及一种用于制造这种真空室10的方法。在轴向方向Ra上,端板12在框架元件14之前和之后排列成行,并且与框架元件14一同限定真空室10的腔室容积。
附图标记列表
10 真空室
12 端板
14 板状的框架元件
16 门缘
18 门
20 观察窗
22 背面的端板接触面
24 止挡面
26 贯通凹槽
28 铰链
30 把手
32 环绕的壁
34 凸起
36 管线接口
38 正面的框架接触面
40 环绕框架凹槽
42 正面的端板接触面
44 环绕端板凹槽
46 密封件
48 背面的框架接触面
50 框架贯通凹槽
52 端板凹槽
54 紧固件
56 板坯
58 工具
Ra 轴向方向
Ri 框架内部区域
A-A 剖面标记
X 片段
D 框宽度
S 框架厚度
VT 子容积。

Claims (26)

1.一种真空室(10),包括两个端板(12)和至少两个扁平的、实际二维的、板型的、板状的框架元件(14),其中所述框架元件(14)分别:
- 在周向上是基本封闭的;并且
- 形成具有环绕的壁(32)的框架内部区域(Ri);并且
- 由此在周向方向上限定所述真空室(10)的子容积(VT);并且
- 包括用于布置另外的框架元件(14)或者端板(12)的、环绕的、正面的框架接触面(38);并且
- 包括用于布置另外的框架元件(14)或者端板(12)的、环绕的、背面的框架接触面(48);并且其中
- 至少两个板状的所述框架元件(14)被布置在所述端板(12)之间;并且其中
- 两个所述端板(12)都包括用于布置在框架元件(14)上的、正面的和/或背面的接触面(42;22);并且
- 在基本上轴向方向(Ra)上限定腔室容积。
2.根据权利要求1所述的真空室,其中至少一个正面的框架接触面(38)具有用于布置密封件(46)的环绕框架凹槽(40)。
3.根据权利要求2所述的真空室,其中所述环绕框架凹槽(40)在横截面中为梯形槽的形式。
4.根据权利要求1所述的真空室,其中在至少一个正面的框架接触面(38)上布置有所述真空室(10)的密封件(46)。
5.根据权利要求4所述的真空室,其中所述真空室(10)的密封件(46)是O形环。
6.根据权利要求1所述的真空室,其中至少一个背面的框架接触面(48)具有用于布置密封件(46)的环绕框架凹槽(40)。
7.根据权利要求6所述的真空室,其中所述环绕框架凹槽在横截面中为半圆形槽的形式。
8.根据权利要求1所述的真空室,其中所述框架元件(14)均包括用于容纳紧固件(54)的至少两个框架贯通凹槽(50)。
9.根据权利要求8所述的真空室,其中所述框架元件(14)均包括用于容纳紧固件(54)的至少三个所述框架贯通凹槽(50)。
10.根据权利要求9所述的真空室,其中所述框架元件(14)均包括用于容纳紧固件(54)的至少四个所述框架贯通凹槽(50)。
11.根据权利要求8至10中任一项所述的真空室,其中至少两个框架贯通凹槽(50)与至少一个邻接的框架元件(14)的框架贯通凹槽(50)齐平。
12.根据权利要求1所述的真空室,其中至少一个端板(12)包括用于容纳紧固件(54)的至少两个端板凹槽(52)。
13.根据权利要求12所述的真空室,其中至少一个端板(12)包括用于容纳所述紧固件(54)的至少三个端板凹槽。
14.根据权利要求13所述的真空室,其中至少一个端板(12)包括用于容纳所述紧固件(54)的至少四个端板凹槽。
15.根据权利要求12所述的真空室,其中至少两个端板凹槽(52)与邻接的框架元件(14)的框架贯通凹槽(50)齐平。
16.根据权利要求15所述的真空室,其中至少两个端板凹槽(52)与所有框架元件(14)的框架贯通凹槽(50)齐平。
17.根据权利要求12所述的真空室,其中至少一个端板凹槽(52)具有螺纹。
18.根据权利要求12至17中任一项所述的真空室,其中所述端板凹槽(52)是端板贯通凹槽。
19.根据权利要求12至17中任一项所述的真空室,其中至少两个所述框架元件(14)和两个所述端板(12)通过至少两个紧固件(54),相互压在一起地连接。
20.根据权利要求19所述的真空室,其中至少两个所述框架元件(14)和两个所述端板(12)通过螺旋连接相互压在一起地连接。
21.根据权利要求1所述的真空室,其中至少一个端板(12)具有能打开的分区。
22.根据权利要求21所述的真空室,其中所述至少一个端板(12)具有包括布置于其上的门(18)的门缘(16)。
23.根据权利要求1至10、12至17、21、22中任一项所述的真空室,其中至少两个所述框架元件(14)都是相同设计的。
24.根据权利要求23所述的真空室,其中所有框架元件(14)都是相同设计的。
25.根据权利要求1至10、12至17、21、22中任一项所述的真空室,其中至少两个所述框架元件(14)的框宽度(D)在周向方向上变化。
26.根据权利要求1至10、12至17、21、22中任一项所述的真空室,其中端板(12)以至少一个外形尺寸超出至少两个所述框架元件(14)和另一所述端板(12),以形成轴向的止挡面(24)。
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