CN113985504A - 光学镜片 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光学镜片,包括镜片主体和形成于所述镜片主体上的抗反射膜层,所述抗反射膜层包括由片状结构形成的超疏松多孔抗反射膜层;所述超疏松多孔抗反射膜层的孔隙率大于50%。本发明的光学镜片对380 nm~1050 nm的宽范围波长的光均具有低于0.3%的超低反射率。

Description

光学镜片
技术领域
本发明涉及光学成像设备技术领域,尤其涉及一种光学镜片。
背景技术
随着手机镜头的不断发展,对光学镜片的抗反射率要求越来越高,即不仅需使光学镜片的反射率越来越低,而且要求抗反射对应的波长范围越来越宽,即在可见光波长范围内均具有较低的反射率,以避免高反射造成的成像出现鬼影的问题。
然而,现有光学镜片的反射率与波长的对应关系如图1所示,从图中可以看到:现有光学镜片对400nm~700nm的波长的光的平均反射率大于0.2%,且当波长大于800nm后,反射率急剧升高,低反射率的波长宽度过窄。
发明内容
本发明的目的在于提供一种对380 nm~1050 nm的宽范围波长的光均具有低于0.3%的超低反射率的光学镜片。
本发明的技术方案如下:
一种光学镜片,包括镜片主体和形成于所述镜片主体上的抗反射膜层,所述抗反射膜层包括由片状结构形成的超疏松多孔抗反射膜层;所述超疏松多孔抗反射膜层的孔隙率大于50%;
所述片状结构的厚度为0.7 nm~1.3 nm;所述片状结构的径厚比为50~500,其中,所述径厚比=
Figure DEST_PATH_IMAGE001
,其中S表示所述片状结构的面积,m表示所述片状结构的厚度;
所述片状结构为片状水合氧化铝。
优选的,所述超疏松多孔抗反射膜层的厚度为100 nm~500 nm。
优选的,所述超疏松多孔抗反射膜层由非晶态氧化铝层在60 ℃~100 ℃热水中处理形成,所述非晶态氧化铝层通过物理气相沉积、化学气相沉积、磁控溅射或溶胶凝胶获得。
优选的,所述抗反射膜层对波长范围为380 nm~1050 nm的光的平均反射率小于0.2%。
优选的,所述抗反射膜层对波长范围为400 nm~700nm的光的平均反射率小于0.1%,所述抗反射膜层对波长范围为400 nm~700nm的光的最高反射率小于0.2%,以及所述抗反射膜层对波长范围为700 nm~1050nm的光的最高反射率小于0.3%。
优选的,还包括设置于所述镜片主体和所述抗反射膜层之间的多层介质膜层,所述多层介质膜层由高折射率膜层和低折射率膜层交替构成。
优选的,各所述高折射率膜层分别独立选自氧化钛膜层、氧化铌膜层、氟化钇膜层、氧化钽膜层和氧化铪膜层中的一种或两种以上;
各所述低折射率膜层分别独立选自氧化硅膜层、氮化硅膜层、氧化铝膜层和硅铝混合物膜层中的一种或两种以上。
优选的,所述镜片主体包括塑胶镜片或玻璃镜片。
本发明的有益效果在于:
通过形成厚度为0.7 nm~1.3 nm且径厚比为50~500的超薄片状水合氧化铝颗粒,水合氧化铝颗粒越薄,反射率越低;通过形成孔隙率大于50%的超疏松多孔抗反射膜层,结构越疏松,反射率越低,因此,本发明形成的抗反射膜层能够显著降低宽范围波长的光线的反射率,经实验验证,不仅具有超低的反射率,在400 nm~700 nm波长范围内的平均反射率小于0.1%,最高反射率小于0.2%,而且在超宽的波长范围内反射率均比较低,在380 nm~1050 nm范围内最高反射率小于0.3%,因此,本发明的光学镜片在较宽波长范围内均具有显著的低反射率,可以避免成像出现鬼影的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术的光学镜片的反射率与波长的对应关系图。
图2为本发明一具体实施例的光学镜片的结构示意图。
图3为本发明一具体实施例制备的光学镜片的抗反射膜层的SEM图片。
图4为本发明一具体实施例制备的光学镜片的抗反射膜层的TEM图片。
图5是图4所示抗反射膜层的反射率与波长的对应关系图。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。
参考图2,本发明公开了一种光学镜片,包括镜片主体01和形成于镜片主体01上的抗反射膜层02,抗反射膜层02包括由片状结构04形成的超疏松多孔抗反射膜层,具体的,参考图2,超疏松多孔抗反射膜层的微观结构包括错落堆叠的片状结构04,超疏松多孔抗反射膜层的孔隙率大于50%,超疏松多孔抗反射膜层的厚度为100 nm~500 nm。通过形成由片状结构04形成的孔隙率大于50%的超疏松多孔抗反射膜层,能够显著降低宽范围波长的光线的反射率,经实验验证,不仅具有超低的反射率,在400 nm~700 nm波长范围内的平均反射率小于0.1%,最高反射率小于0.2%,而且在超宽的波长范围内反射率均比较低,在380 nm~1050 nm范围内最高反射率小于0.3%,因此,本发明的光学镜片在较宽波长范围内均具有显著的低反射率,可以避免成像出现鬼影的问题。
在本发明中,孔隙率是指抗反射膜层02内部孔隙的体积占抗反射膜层02总体积的百分率。
在一具体实施例中,片状结构04的厚度可以为0.7 nm~1.3 nm,参考图3,具体的,在图3所示的图片中,测量不同片状结构04的厚度,分别为1.028 nm、1.115 nm、0.8499 nm以及0.9502 nm。
在一具体实施例中,参考图4,片状结构04的径厚比可以为50~500,其中,径厚比=
Figure 823666DEST_PATH_IMAGE002
,其中S表示片状结构04的面积,m表示片状结构04的厚度。上述形貌的片状结构04错落堆叠形成孔隙率大于50%的超疏松多孔抗反射层。
进一步的,在一具体实施例中,片状结构04为片状水合氧化铝,片状水合氧化铝的厚度可以为0.7 nm~1.3 nm,径厚比为50~500。
具体的,在一具体实施例中,超疏松多孔抗反射膜层由非晶态氧化铝层通过热水处理形成,其中,非晶态氧化铝层可以通过物理气相沉积、化学气相沉积、磁控溅射或溶胶凝胶等方法获得。具体的,可以先采用物理气相沉积、化学气相沉积、磁控溅射或溶胶凝胶等方法在镜片主体01表面沉积形成厚度为20 nm~80 nm的非晶态氧化铝层,然后将形成有非晶态氧化铝层的镜片主体01浸入60 ℃~100 ℃的热水中处理,非晶态氧化铝层与水发生水解反应生成厚度为100 nm~500 nm的超疏松多孔抗反射膜层,超疏松多孔抗反射膜层的微观结构包括错落堆叠的片状水合氧化铝。上述制备方法制得的片状水合氧化铝的厚度可以为0.7 nm~1.3 nm,径厚比可以为50~500,其中,热水的温度对形成的片状水合氧化铝的形貌和尺寸具有重要影响。
参考图2,在一具体实施例中,光学镜片还包括设置于镜片主体01和抗反射膜层02之间的多层介质膜层03,多层介质膜层03可以由高折射率膜层和低折射率膜层交替构成。多层介质膜层03可以包括2层~8层的依次交替的高折射率膜层和低折射率膜层。多层介质膜层03的总厚度可以为50 nm~200 nm。
具体的,各高折射率膜层可以分别独立选自氧化钛膜层(包括TiO2膜层或Ti3O5膜层等)、氧化铌膜层、氟化钇膜层、氧化钽膜层和氧化铪膜层中的一种或两种以上。当选择上述两种以上膜层时,表示由依次层叠的两种以上膜层复合形成一个高折射率膜层。
各低折射率膜层分别独立选自氧化硅膜层、氮化硅膜层、氧化铝膜层和硅铝混合物膜层中的一种或两种以上。当选择上述两种以上膜层时,表示由依次层叠的两种以上膜层复合形成一个低折射率膜层。
上述多层介质膜层的任意一膜层均可以通过物理气相沉积、化学气相沉积、磁控溅射或溶胶凝胶等方法获得。
镜片主体01可以包括塑胶镜片或玻璃镜片。塑胶镜片的材料可以包括聚甲基丙烯酸甲酯、环氧树脂、聚烯烃、环烯烃共聚物、环烯烃和乙烯共聚物等中的一种或两种以上。
本发明还提供了一种上述光学镜片的制备方法,包括以下步骤:
步骤1:提供镜片主体01。
步骤2:将镜片主体01置于真空镀膜腔,具体的,真空镀膜腔的真空度可以在1.5E-2 Pa~1.0E-3 Pa之间。
步骤3:蒸发抗反射膜层02材料,抗反射膜层02材料被气化形成原子、分子或离子,原子、分子或离子形态的抗反射膜层02材料沉积在镜片主体01表面形成抗反射膜层02。
进一步的,在一具体实施例中,蒸发的抗反射膜层02材料为氧化铝,氧化铝在沉积过程中,被气化形成氧原子和铝原子,气化的氧原子和铝原子在镜片主体01表面沉积形成非晶态氧化铝层。非晶态氧化铝层的厚度为20 nm~80 nm。
在另一具体实施例中,光学镜片还包括设置于镜片主体01和抗反射膜层02之间的多层介质膜层03,多层介质膜层03由高折射率膜层和低折射率膜层交替构成,多层介质膜层03的总厚度可以为50 nm~200 nm。在本实施例中,也采用蒸镀的方法形成多层介质膜层03,具体的,在形成抗反射膜层02之前,将镜片主体01置于真空镀膜腔后,先依次蒸发高折射率膜层材料和低折射率膜层材料,沉积形成多层介质膜层03。
步骤4:将形成有非晶态氧化铝层的镜片主体01浸入60 ℃~100 ℃的热水中进行水解处理,非晶态氧化铝与水发生水解反应生成超疏松多孔抗反射膜层,超疏松多孔抗反射膜层的厚度为100 nm~500 nm,超疏松多孔抗反射膜层的微观结构包括乱序堆叠的片状水合氧化铝。由片状水合氧化铝形成的超疏松多孔抗反射膜层,其SEM图片和TEM图片分别如图3和图4所示。参考图3,具体的,在图3所示的图片中,测量不同片状结构04的厚度,分别为1.028 nm、1.115 nm、0.8499 nm以及0.9502 nm。参考图4,片状结构04的径厚比可以为50~500。
对图4所得到的光学镜片的抗反射膜层02进行孔隙率测试,其孔隙率为86%。
对图4所得到的光学镜片的抗反射膜层02进行反射率测试,得到波长与反射率的关系图,如图5所示,从图中可以看到:
第一,本发明的抗反射膜层02具有超低的反射率,抗反射膜层02对波长范围为400nm~700nm的光的平均反射率小于0.1%,最高反射率也小于0.2%,比图1所示的现有技术的光学镜片的反射率(平均反射率大于0.2%)明显更低。
第二,本发明的抗反射膜层02的低反射率的波长范围超宽,在380 nm~1050 nm波长范围内,平均反射率小于0.2%,最高反射率也不超过0.3%,具体的,抗反射膜层02对波长范围为400 nm~700nm的光的平均反射率小于0.1%,抗反射膜层02对波长范围为400 nm~700nm的光的最高反射率小于0.2%,以及抗反射膜层02对波长范围为700 nm~1050nm的光的最高反射率小于0.3%。因此,能够满足670nm宽度的波长范围的反射率均较低,比图1所示的现有技术的光学镜片的低反射率的光波宽度(300 nm)明显宽得多。
第三,分别用光照射现有技术的光学镜片和本发明的光学镜片,可以看到:照射现有技术的光学镜片出现明显的鬼影,然而,照射本发明的光学镜片未出现鬼影,或者鬼影程度轻微。
以上所述的仅是本发明的实施方式,在此应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出改进,但这些均属于本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种光学镜片,其特征在于,包括镜片主体和形成于所述镜片主体上的抗反射膜层,所述抗反射膜层包括由片状结构形成的超疏松多孔抗反射膜层;所述超疏松多孔抗反射膜层的孔隙率大于50%;
所述片状结构的厚度为0.7 nm~1.3 nm;
所述片状结构的径厚比为50~500,其中,所述径厚比=
Figure 68685DEST_PATH_IMAGE001
,其中S表示所述片状结构的面积,m表示所述片状结构的厚度;
所述片状结构为片状水合氧化铝。
2.根据权利要求1所述的光学镜片,其特征在于:所述超疏松多孔抗反射膜层的厚度为100 nm~500 nm。
3.根据权利要求2所述的光学镜片,其特征在于:所述超疏松多孔抗反射膜层由非晶态氧化铝层在60 ℃~100 ℃热水中处理形成,所述非晶态氧化铝层通过物理气相沉积、化学气相沉积、磁控溅射或溶胶凝胶获得。
4.根据权利要求1~3中任意一项所述的光学镜片,其特征在于:所述抗反射膜层对波长范围为380 nm~1050 nm的光的平均反射率小于0.2%。
5.根据权利要求4所述的光学镜片,其特征在于:所述抗反射膜层对波长范围为400 nm~700nm的光的平均反射率小于0.1%,所述抗反射膜层对波长范围为400 nm~700nm的光的最高反射率小于0.2%,以及所述抗反射膜层对波长范围为700 nm~1050nm的光的最高反射率小于0.3%。
6.根据权利要求1~3中任意一项所述的光学镜片,其特征在于:还包括设置于所述镜片主体和所述抗反射膜层之间的多层介质膜层,所述多层介质膜层由高折射率膜层和低折射率膜层交替构成。
7.根据权利要求6所述的光学镜片,其特征在于:各所述高折射率膜层分别独立选自氧化钛膜层、氧化铌膜层、氟化钇膜层、氧化钽膜层和氧化铪膜层中的一种或两种以上;
各所述低折射率膜层分别独立选自氧化硅膜层、氮化硅膜层、氧化铝膜层和硅铝混合物膜层中的一种或两种以上。
8.根据权利要求6所述的光学镜片,其特征在于:所述镜片主体包括塑胶镜片或玻璃镜片。
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