CN113957403A - 一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层及其制备方法 - Google Patents
一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113957403A CN113957403A CN202111155886.3A CN202111155886A CN113957403A CN 113957403 A CN113957403 A CN 113957403A CN 202111155886 A CN202111155886 A CN 202111155886A CN 113957403 A CN113957403 A CN 113957403A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- alloy
- substrate
- metallic glass
- strength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 55
- QQHSIRTYSFLSRM-UHFFFAOYSA-N alumanylidynechromium Chemical compound [Al].[Cr] QQHSIRTYSFLSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 42
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 238000007373 indentation Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 5
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 abstract description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- 229910002060 Fe-Cr-Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000137852 Petrea volubilis Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- -1 blocks Substances 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003758 nuclear fuel Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000004098 selected area electron diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
- C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/08—Amorphous alloys with aluminium as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高强度的Al‑Cr金属玻璃涂层及其制备方法，玻璃涂层原子百分比为：铬20.3，其余为铝；涂层厚度为2.1±0.05μm，整体致密，表面粗糙度为1.9±0.1nm；涂层为单相非晶组织，合金元素Cr在涂层中完全均匀分布；其纳米压痕硬度为7.4±0.6GPa；方法如下：清洗基体表面；采用射频+直流电源共溅射制备Al‑Cr合金涂层；真空条件下充分冷却后得到高强度的Al‑Cr金属玻璃涂层。该技术的突出优势是离化率高，沉积速率快，工作温度低且元素含量可调可控，不易造成靶材元素的团聚和反溅射现象，最后在高真空镀膜室自然冷却至室温，避免因薄膜、基体热膨胀系数的不同而导致薄膜从基体脱粘，并防止高温情况下薄膜与空气接触发生氧化，使沉积原子充分扩散形成最终的Al‑Cr合金涂层。
Description
技术领域
本发明属于金属表面改性领域，具体涉及一种高强度度的Al-Cr金属玻璃涂层及其制备方法。
背景技术
Al及Al合金材料具有高比强度、导电性好、且在地壳中存储丰度较高等特点，因此广泛应用于航空航天领域、电子互联器件以及涂层领域，是第二大结构类金属材料。此外，Al还具有较好的高温抗氧化性能，因此是核燃料包壳材料Zr合金的表面保护涂层中的常见元素。但是相较目前开发较为成熟的Cr-Al、Fe-Cr-Al合金等涂层，Al合金涂层虽然比强度较高，但是其绝对强度/硬度则相对较差，因此需要进一步的开发与研究。
近期关于金属结构材料的强韧化研究表明，相比晶体材料，非晶金属及合金往往表现出更高的强度与硬度；且非晶合金的表面粗糙度低、具有更低的摩擦系数，作为涂层材料可能存在较大的开发潜力。过去关于非晶金属材料的研究主要集中在Zr、Fe、Mg等合金中，而通常认为Al合金材料形成非晶，即金属玻璃的能力差，因此对其研究相对较少。如何通过调整合金成分、制备工艺等条件，开发出Al合金金属玻璃涂层，便成为了新的机遇与挑战。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层及其制备方法，以克服现有Al合金金属玻璃涂层材料制备技术的不足，实现制备同时具有高强度与高比强度的金属涂层。
本发明通过以下技术方案来实现：一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层，原子百分比为：铬20.3，其余为铝；涂层厚度为2.1±0.05μm，整体致密，表面粗糙度为1.9±0.1nm；涂层为单相非晶组织，合金元素Cr在涂层中完全均匀分布；其纳米压痕硬度为7.4±0.6GPa。
本发明所述高强度的Al-Cr金属玻璃涂层的制备方法，具体如下：
步骤1，清洗基体表面；
步骤2，采用射频+直流电源共溅射制备Al-Cr合金涂层；
步骤3，真空条件下充分冷却后得到高强度的Al-Cr金属玻璃涂层。
清洗基体表面具体如下：
首先对抛光后的基体表面进行超声清洗并烘干；
去除其表面的氧化膜；
然后在真空条件下用Ar+离子对基体表面进行轰击预处理。
去除氧化膜时采用酸浸泡基体。
表面超声清洗为将单面抛光后的基体先后在丙酮和酒精中超声清洗。
抛光后的基体表面粗糙度在0.5-0.8nm以下。
本地真空度在5.0×10-4Pa以下。
用射频+直流电源共溅射制备Al-Cr合金涂层时，Cr靶采用直流电源，功率为30～80W，Cr靶纯度不小于99.95wt.％；Al靶采用射频电源，功率为200W，Al靶纯度不小于99.999wt.％；沉积气压恒定为0.3Pa，沉积速率为1.25nm/s。
本发明所述高强度的Al-Cr金属玻璃涂层应用，将其制备在锆-4合金表面，提高锆-4合金表面强度。
本发明Al-Cr金属玻璃涂层的微观结构为单相非晶组织；合金元素Cr在涂层中完全均匀分布；涂层致密，且与基体结合良好；Al-Cr金属玻璃涂层的表面粗糙度极低，且具有高比强度、高硬度等优异力学性能。
本发明的突出优点在于利用磁控溅射技术的优势，沉积过程中温度较低，冷却速度快，且不同靶材共溅射使得合金元素分布均匀，有利于非晶相的形成，从而获得单一非晶相且性能优异的Al-Cr金属玻璃涂层；
采用磁控溅射共溅射技术在经过刻蚀的、超声清洗洁净的单晶硅片表面沉积Al合金薄膜，其原理是通过Ar气电离产生Ar+离子，其在阴极电位吸引下加速轰击阴极靶材(Cr和Al)，靶材原子以及二次电子由此溅射出来，其中靶材原子朝相反方向沉积到阳极基板，二次电子在正交电磁场中的运动方向与电场、磁场垂直，呈现圆滚线运动轨迹，增强了同Ar分子的碰撞，提高了Ar电离的几率。该技术的突出优势是离化率高，沉积速率快，工作温度低且元素含量可调可控，不易造成靶材元素的团聚和反溅射现象，造成微观组织的不均匀。最后在高真空镀膜室自然冷却至室温，避免因薄膜、基体热膨胀系数的不同而导致薄膜从基体脱粘，并防止高温情况下薄膜与空气接触发生氧化，使沉积原子充分扩散形成最终的Al-Cr合金涂层。
进一步的，利用丙酮和酒精对抛光后的单晶硅基体进行超声清洗，去除表面有机污渍及灰尘，有利于生成光滑、致密的薄膜，利用酸刻蚀氧化层并利用Ar+离子进一步轰击基体表面，使得薄膜中的原子和基体硅直接结合，有利于进行外延生长控制取向，并提高薄膜与基体的结合能力。
进一步的，在进行沉积前对基体进行轰击预处理为采用磁控溅射设备的刻蚀功能对基体表面利用Ar离子轰击2min以增加涂层-基体的结合力
进一步的，在真空室充分冷却后退出是由于沉积过程中溅射原子长时间轰击基体，导致其有一定的温升，沉积结束后在高真空镀膜室进行随炉冷却，以防止内应力导致薄膜从基体上脱粘、断裂，并防止薄膜氧化。
附图说明
图1：磁控溅射制备的Al-Cr金属玻璃的XRD图谱；
图2：磁控溅射制备的Al-Cr金属玻璃的表面AFM图谱；
图3：磁控溅射制备的Al-Cr金属玻璃的平面TEM照片及高分辨照片；
图4：磁控溅射制备的Al-Cr金属玻璃的能谱结果；
图5：磁控溅射制备的Al-Cr金属玻璃与其他Al基金属玻璃的硬度对比结果。
具体实施例
以下结合具体实施例对本发明作进一步详细的说明。
实施例1
本实施例1是在以下实施条件和技术要求下实施的：
首先在分析纯丙酮和乙醇中先后对单晶硅基体进行超声清洗各10min，然后使用暖风迅速烘干。
随后在浓度为41wt.％的氢氟酸中浸泡5min，去除氧化膜后快速烘干；
接着立刻将其固定在基盘上，机械自动伴送进入磁控溅射真空镀膜室，抽至本地真空度在4.0×10-4Pa。
然后采用磁控溅射射频+直流电源共溅射在超声清洗的单晶硅片上沉积Al-Cr金属玻璃涂层，其中Cr靶纯度为99.95wt.％，采用直流电源，功率为50W；Al靶纯度为99.999wt.％，采用射频电源，功率为200W。沉积气压设定0.3Pa，沉积温度为室温，基盘转速15r/min，同时开启直流电源和射频电源开始共溅射沉积，沉积时间12000s。
最后，待样品在高真空镀膜室中自然冷却3-4小时至室温退出，得到Al-20.3at.％Cr合金涂层，涂层厚度2.1μm。
实施例2
本实施例2是在以下实施条件和技术要求下实施的：
首先在分析纯丙酮和乙醇中先后对Zr-4基体进行超声清洗各10min，然后使用暖风迅速烘干。
随后依次在400、1000、3000目的砂纸上进行抛光，去除Zr-4合金基体上的氧化膜；所用抛光剂溶液的浓度配比为盐酸：硝酸＝1：1；去除氧化膜后再次用丙酮进行超声清洗10min，随后快速烘干。
然后采用磁控溅射射频+直流电源共溅射在Zr-4合金上沉积Al-Cr金属玻璃涂层，其中Cr靶纯度为99.95wt.％，采用直流电源，功率为50W；Al靶纯度为99.999wt.％，采用射频电源，功率为200W。沉积气压设定0.3Pa，沉积温度为室温，基盘转速15r/min，同时开启直流电源和射频电源开始共溅射沉积，沉积时间12000s。
最后，待样品在高真空镀膜室中自然冷却3-4小时至室温退出，得到Al-20.3at.％Cr合金涂层，涂层厚度2.05μm。
对所制备的Al-Cr涂层进行微观结构表征、表面粗糙度分析和力学性能测试，并与目前其他Al基金属玻璃(包含块体、薄膜与涂层)进行对比，结果如图1～图5所示。图1为Al-Cr涂层的XRD图谱进行分析，在30～90°之间无明显Al特征峰位，而在40～45°之间存在馒头峰，表明涂层整体为单相非晶(即金属玻璃)组织。对沉积所得的Al-Cr金属玻璃涂层表面进行原子力显微镜表征粗糙度，结果如图2(a)和图2(b)所示，所得其表面平均粗糙度为1.9±0.1nm，显著低于常规的Al-Cr基晶体金属涂层。晶体金属材料的表面粗糙度主要来源是晶界处过剩能较高，从而形成的沟槽；而非晶金属不存在晶界，因此普遍具有较低的表面粗糙度。对Al-Cr金属玻璃涂层进行TEM与EDX分析，选区电子衍射的衍射晕环及高分辨照片中的无序结构进一步证实了其为单相非晶，且通过能谱确定了Al-Cr金属玻璃的具体成分为Al-20.3at.％Cr，结果如图3(a)、图3(b)、图4(a)、图4(b)图4(c)和图4(d)所示。对比Al-Cr金属玻璃与其他多组元Al基金属玻璃的强(硬)度可知，Al-Cr金属玻璃的强(硬)度高于如Al-TM-RE系的三组元或是多组元的金属玻璃；且因为添加重元素的种类、数量较少，Al-Cr金属玻璃涂层具有更优异的比强度性能。
Claims (9)
1.一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层，其特征在于，原子百分比为：铬20.3，其余为铝；涂层厚度为2.1±0.05μm，整体致密，表面粗糙度为1.9±0.1nm；涂层为单相非晶组织，合金元素Cr在涂层中完全均匀分布；其纳米压痕硬度为7.4±0.6GPa。
2.权利要求1所述高强度的Al-Cr金属玻璃涂层的制备方法，其特征在于，具体如下：
步骤1，清洗基体表面；
步骤2，采用射频+直流电源共溅射制备Al-Cr合金涂层；
步骤3，真空条件下充分冷却后得到高强度的Al-Cr金属玻璃涂层。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，清洗基体表面具体如下：
首先对抛光后的基体表面进行超声清洗并烘干；
去除其表面的氧化膜；
然后在真空条件下用Ar+离子对基体表面进行轰击预处理。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，去除氧化膜时采用酸浸泡基体。
5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，表面超声清洗为将单面抛光后的基体先后在丙酮和酒精中超声清洗。
6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，抛光后的基体表面粗糙度在0.5-0.8nm以下。
7.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，本地真空度在5.0×10-4Pa以下。
8.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，用射频+直流电源共溅射制备Al-Cr合金涂层时，Cr靶采用直流电源，功率为30～80W，Cr靶纯度不小于99.95wt.％；Al靶采用射频电源，功率为200W，Al靶纯度不小于99.999wt.％；沉积气压恒定为0.3Pa，沉积速率为1.25nm/s。
9.权利要求2-8所述高强度的Al-Cr金属玻璃涂层应用，其特征在于，将其制备在锆-4合金表面，提高锆-4合金表面强度。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111155886.3A CN113957403A (zh) | 2021-09-29 | 2021-09-29 | 一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111155886.3A CN113957403A (zh) | 2021-09-29 | 2021-09-29 | 一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层及其制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113957403A true CN113957403A (zh) | 2022-01-21 |
Family
ID=79462921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111155886.3A Pending CN113957403A (zh) | 2021-09-29 | 2021-09-29 | 一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113957403A (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008028981A2 (fr) * | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Procédé pour déposer sur un substrat une couche mince d'alliage métallique et un alliage métallique sous forme de couche mince |
| CN112813399A (zh) * | 2021-02-04 | 2021-05-18 | 郑州大学 | 一种高熵金属玻璃防护涂层及制备方法 |
-
2021
- 2021-09-29 CN CN202111155886.3A patent/CN113957403A/zh active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008028981A2 (fr) * | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Procédé pour déposer sur un substrat une couche mince d'alliage métallique et un alliage métallique sous forme de couche mince |
| CN112813399A (zh) * | 2021-02-04 | 2021-05-18 | 郑州大学 | 一种高熵金属玻璃防护涂层及制备方法 |
Non-Patent Citations (6)
| Title |
|---|
| QIANG LI: "High-strength and tunable plasticity in sputtered Al–Cr alloys with multistage phase transformations", 《INTERNATIONAL JOURNAL OF PLASTICITY》 * |
| QIANG LI: "High-strength and tunable plasticity in sputtered Al–Cr alloys with multistage phase transformations", 《INTERNATIONAL JOURNAL OF PLASTICITY》, 30 November 2020 (2020-11-30) * |
| XIA NIE.ET AL: "Structure and property transitions of Al-based binary alloy coatings by magnetron sputtering", 《SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY》 * |
| XIA NIE.ET AL: "Structure and property transitions of Al-based binary alloy coatings by magnetron sputtering", 《SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY》, 8 July 2014 (2014-07-08), pages 1 - 6 * |
| 刘林根等: "金属玻璃薄膜的研究进展", 《表面技术》 * |
| 刘林根等: "金属玻璃薄膜的研究进展", 《表面技术》, no. 05, 20 May 2020 (2020-05-20) * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN113151795A (zh) | 一种NbMoTaWAl难熔高熵合金薄膜及其制备方法 | |
| CN113789503B (zh) | 一种具有抗氧化特性的高熵硅化物薄膜的原位合成方法 | |
| CN107620033B (zh) | 一种高纯强致密max相涂层的制备方法 | |
| CN113913751B (zh) | 一种Cu-高熵合金薄膜及其制备方法 | |
| CN112481589B (zh) | 一种具有可控相变特性的纯金属/高熵合金纳米多层薄膜及其制备方法 | |
| CN114657525B (zh) | 一种FeCrAl/Ta合金涂层及其制备方法 | |
| CN110144484B (zh) | 一种Cu-NbMoTaW合金及其制备方法 | |
| CN114921757A (zh) | 一种非晶态高熵合金厚膜制备设备及制备方法 | |
| CN114574827A (zh) | 一种含碳高熵合金薄膜及其制备方法与应用 | |
| CN114717516A (zh) | 一种强结合高耐蚀TiAl/Ti2AlC涂层的制备方法 | |
| CN110512181B (zh) | 一种纳米晶Al-Zr合金薄膜及其制备方法 | |
| CN114672778A (zh) | 一种纳米晶NbMoTaWTi难熔高熵合金涂层及其制备方法 | |
| CN116288205A (zh) | 一种钽钛锆铬高熵合金及其制备方法 | |
| CN113957403A (zh) | 一种高强度的Al-Cr金属玻璃涂层及其制备方法 | |
| CN114672777B (zh) | 一种抗氧化Cr/CrAl纳米多层涂层及其制备方法 | |
| CN114959584A (zh) | 一种TaNbTi基难熔中熵非晶合金涂层及其制备方法 | |
| CN108149198B (zh) | 一种wc硬质合金薄膜及其梯度层技术室温制备方法 | |
| JP3281173B2 (ja) | 高硬度薄膜及びその製造方法 | |
| CN112962060B (zh) | 一种Cr3Al/Zr多层薄膜及其制备方法 | |
| CN114959582A (zh) | 一种高硬度六元高熵合金薄膜及其制备方法 | |
| CN110144483B (zh) | 一种铜镁合金及其制备方法 | |
| CN109487209B (zh) | 一种高硬度max相陶瓷涂层及其制备方法 | |
| CN110144485B (zh) | 一种Cu-Ta合金及其制备方法 | |
| CN114807880B (zh) | 一种纳米晶TaWMoCrZr难熔高熵合金涂层及其制备方法 | |
| CN113235060B (zh) | 一种全α相钽涂层的制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20220121 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |