CN113948657B - 一种晶体管及其制备方法 - Google Patents

一种晶体管及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113948657B
CN113948657B CN202010692304.4A CN202010692304A CN113948657B CN 113948657 B CN113948657 B CN 113948657B CN 202010692304 A CN202010692304 A CN 202010692304A CN 113948657 B CN113948657 B CN 113948657B
Authority
CN
China
Prior art keywords
electrode
transistor
layer
quantum dot
insulating layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010692304.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113948657A (zh
Inventor
马兴远
徐威
张建新
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL Technology Group Co Ltd
Original Assignee
TCL Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TCL Technology Group Co Ltd filed Critical TCL Technology Group Co Ltd
Priority to CN202010692304.4A priority Critical patent/CN113948657B/zh
Publication of CN113948657A publication Critical patent/CN113948657A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113948657B publication Critical patent/CN113948657B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/30Organic light-emitting transistors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/805Electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/85Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/856Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明公开一种晶体管及其制备方法。所述晶体管,包括依次层叠设置的第一电极、量子点发光层、第二电极、绝缘层、第三电极;所述第一电极为全反射电极,所述第二电极为半反射电极,所述第三电极为半反射电极。本发明晶体管具有顶栅极(第三电极和绝缘层)结构。该发光晶体管设置有三个具有较高反射率的电极,在第一电极和第二电极之间、在第二电极和第三电极之间构成两个光学共振微腔,通过调节膜层的厚度,可以提高发光晶体管的出光强度和出光的单色性。顶栅极可以调节晶体管的内部的载流子浓度和注入势垒,从而提高晶体管的发光效率和寿命。

Description

一种晶体管及其制备方法
技术领域
本发明涉及晶体管技术领域,尤其涉及一种晶体管及其制备方法。
背景技术
量子点电致发光显示技术,由于其波长可调,色彩饱和度高,材料稳定性高,和制备成本低廉等优点,成为了下一代显示技术的最佳候选者。经过了将近二十几年的发展,量子点发光二极管的外量子效率已经由0.01%提升至超过20%,从器件效率方面,量子点发光二极管(QLED)已经相当接近有机发光二极管(OLED)。然而,尽管量子点器件拥有上述的优势,目前器件的性能仍未完全达到产业化的要求,特别是对于蓝色QLED器件来说。
目前QLED的器件结构与OLED相似,通过空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层等构成类似p-i-n结的三明治结构,通过平衡电子和空穴的注入,达到高效发光的效果。由于蓝色量子点的带隙较红绿色量子点带隙宽,电子空穴更加难以注入,启动电压进一步增大,界面电荷积累更加严重,对器件的寿命和效率造成了很大影响。特别是,氧化锌和量子点界面间存在电荷转移现象且量子点对电子束缚能力低于对空穴的束缚,这导致了氧化锌和量子点界面出现严重的电荷转移现象,而且伴随着蓝色量子点的导带能级的提高,这种电荷转移更加严重。界面间的激发电子的转移不仅导致了界面处的电荷积累,而且极大提高了非辐射俄歇复合的概率,严重影响了器件的效率和寿命。所以,设计更加合理的器件结构、能级结构和引入稳定性更好的材料体系是进一步提高器件效率和寿命的关键。
从器件结构上分析,影响QLED器件效率和寿命的因素主要包括以下几点:
1、电极与空穴注入层之间的能级差或是空穴注入层对电极的腐蚀,如PEDOT:PSS(聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸盐)对电极的腐蚀导致的界面损坏、电荷积累、注入势垒提高;
2、HIL(空穴注入层)和HTL(空穴传输层)之间的HOMO能级差,即HIL和HTL之间的势垒高度;
3、HTL和量子点界面处的势垒高度和由此引发的电荷积累,如TFB/QD界面处由于电子积累导致的TFB的退化,导致器件失效;
4、QD和ZnO层之间复杂的相互作用,包括QD/ZnO界面处的能级差、激子转移、电子转移,该作用的效果与ZnO中的氧空位浓度、导带位置和电子传输率密切相关,这些在器件的储存老化过程中会发生一定变化;
5、ZnO和阴极之间的反应,ZnO和阴极金属之间的反应会产生金属氧化物,导致界面势垒提高;也可能会提高ZnO的氧空位浓度,提高ZnO导电性等等。
此外,QLED器件中出光效率也是影响器件效率的一个重要因素,通过合理的光学结构设计可以提高器件出光的单色性和出光的强度。
所以,设计更加合理的器件结构、能级结构和引入稳定性更好的材料体系是进一步提高器件效率和寿命的关键。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种晶体管及其制备方法,旨在解决现有器件的效率和寿命仍有待于提高的问题。
本发明的技术方案如下:
一种晶体管,其中,包括依次层叠设置的第一电极、量子点发光层、第二电极、绝缘层、第三电极;
所述第一电极为全反射电极,所述第二电极为半反射电极,所述第三电极为半反射电极。
一种晶体管的制备方法,其中,包括步骤:
提供第一电极;
在所述第一电极上形成量子点发光层;
在所述量子点发光层上形成第二电极;
在所述第二电极上形成绝缘层;
在所述绝缘层上形成第三电极,得到晶体管;
所述第一电极为全反射电极,所述第二电极为半反射电极,所述第三电极为半反射电极。
有益效果:本发明晶体管具有顶栅极(第三电极和绝缘层)结构。具体地,所述晶体管设置有三个具有较高反射率的电极,利用电极作为反射镜,在第一电极和第二电极之间、在第二电极和第三电极之间构成两个光学共振微腔,通过调节膜层的厚度,可以提高晶体管的出光强度和出光的单色性。同时,顶栅极可以调节晶体管的内部的载流子浓度和注入势垒,从而提高晶体管的发光效率和寿命。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种晶体管的结构示意图。
图2为本发明一实施方式提供的一种晶体管的结构示意图。
图3为本发明实施例提供的一种晶体管的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
本发明提供一种晶体管及其制备方法,为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下对本发明进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明实施例提供一种晶体管,如图1所示,包括依次层叠设置的第一电极10、量子点发光层11、第二电极12、绝缘层13、第三电极14;
所述第一电极10为全反射电极,所述第二电极12为半反射电极,所述第三电极14为半反射电极。
需说明的是,所述全反射电极指的是能够将光线全部反射的电极,所述半反射电极指的是能够将部分光线反射、部分光线透射的电极。
本发明实施例所述晶体管为顶发射的量子点场效应发光晶体管,即光从顶部的半反射电极(第三电极14)射出。本发明实施例晶体管具有顶栅极(第三电极和绝缘层)结构。具体地,所述晶体管设置有三个具有较高反射率的电极,利用电极作为反射镜,在第一电极和第二电极之间、在第二电极和第三电极之间构成两个光学共振微腔。通过调节微腔中膜层的厚度,可以控制微腔长度,从而提高晶体管的出光的强度和出光的单色性。具体地,各膜层厚度可以根据量子点的波长确定,通过调节膜层的厚度使得微腔的长度等于量子点半波长或半波长的整数倍,以提高晶体管的出光的强度和出光的单色性。下面对实现本发明实施例技术效果的机理作详细说明。
第一,在光学上,晶体管中设置有三个具有较高反射率的电极,它们之间互相平行,利用电极作为反射镜,使得在第一电极和第二电极之间、在第二电极和第三电极之间构成两个光学共振微腔。保持两两电极之间的光学距离L为量子点发光波长的一半或是其半波长的整数倍(L等于不同材料的折射率乘以其厚度的总和),就可以形成对量子点本征发光波长有增强效应、对其他波长有抑制效应的法布里-波罗共振微腔。具体的,由于光在平行电极之间不断反射,只有与微腔长度(L)同量级的波长的光可以得到不断地增强,与微腔长度(L)不同量级的波长的光由于波的互相干涉不断减弱,最后这种经过了选择的光从反射率较低(即透射率较高)的一面射出成为器件的最终发出的光。由此,具有微腔结构的晶体管可以大大提高晶体管的出光的强度和出光的单色性。
第二,在电学上,在发光二极管上增加了一个顶栅极(第三电极和绝缘层)构成场效应晶体管,通过栅极偏压可以调节晶体管内部的载流子密度,从而调节不同功能层界面间的势垒高度和电荷传输效率,进而提高了量子点发光层的电子-空穴辐射复合发光效率。
第三,在结构上,这种垂直结构的场效应晶体管与水平结构的晶体管相比,具有构筑简单,操作便利的优势,有利于降低成本,实现大规模应用。
本发明实施例中,晶体管有多种形式。在一种实施方式中,所述晶体管还包括:设置于所述第一电极和量子点发光层之间的空穴功能层,设置于所述第二电极和量子点发光层之间的电子功能层;或者,还包括:设置于所述第一电极和量子点发光层之间的电子功能层,设置于所述第二电极和量子点发光层之间的空穴功能层。也就是说,所述空穴功能层与所述电子功能层的位置可以交换,所述空穴功能层可以包括空穴注入层、空穴传输层等不限于此中的一种或多种,所述电子功能层可以包括电子注入层、电子传输层等不限于此中的一种或多种。
晶体管的形式多种多样,本发明实施例将主要以如图2所示的晶体管为例,对上述晶体管进行详细介绍。具体地,如图2所示,所述晶体管包括自下而上依次层叠设置的第一电极21(所述第一电极21设置于基板20上)、空穴注入层22、空穴传输层23、量子点发光层24、电子传输层25、第二电极26、绝缘层27、第三电极28;
所述第一电极21为全反射电极,所述第二电极26为半反射电极,所述第三电极28为半反射电极。
本发明实施例晶体管具有顶栅极(第三电极和绝缘层)结构。具体地,所述晶体管设置有三个具有较高反射率的电极,利用电极作为反射镜,在第一电极和第二电极之间、在第二电极和第三电极之间构成两个光学共振微腔。通过调节微腔中膜层的厚度,可以控制微腔长度,从而提高晶体管的出光的强度和出光的单色性。具体地,各膜层厚度可以根据量子点的波长确定,通过调节膜层的厚度使得微腔的长度等于量子点半波长或半波长的整数倍,以提高晶体管的出光的强度和出光的单色性。
在一种实施方式中,所述绝缘层为透明绝缘层,所述透明绝缘层所说的是能够透光的绝缘层,示例性地,对于透光率超过75%,透光率超过85%,透光率超过95%的绝缘层可以被称为透明绝缘层,光在电极之间能够穿过绝缘层来回反射。所述透明绝缘层的材料包括PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PEI(聚乙烯亚胺)、PEIE(聚乙氧基乙烯亚胺)等透明绝缘性材料中的一种或多种,但不限于此。
在一种实施方式中,所述全反射电极的材料包括Al、Ag、Ag基合金(如Mg与Ag构成的合金等)等金属及其合金材料中的一种或多种,但不限于此。需说明的是,本发明实施例中,所述全反射电极两侧还可以设置ITO电极(透明电极),如ITO/Ag/ITO、ITO/Ag基合金/ITO,以降低电极的功函数,利于电荷注入。
在一种实施方式中,所述半反射电极的材料包括Al、Ag、Ag基合金(如Mg与Ag构成的合金等)等金属及其合金材料中的一种或多种,但不限于此。需说明的是,本发明实施例中,所述半反射电极两侧还可以设置ITO电极(透明电极),如ITO/Ag/ITO、ITO/Ag基合金/ITO,以降低电极的功函数,利于电荷注入。
需说明的是,上述全反射电极与半反射电极可选的材料范围相同,具体可选相同范围中的同种或不同种材料。通过控制电极层厚度,使得该层具有全反射或半反射功能。当金属或金属合金材料制作形成的电极层厚度在80nm以上时,具有全反射功能;当金属或金属合金材料制作形成的电极层厚度在10-30nm时,具有半反射功能。在一种实施方式中,所述全反射电极的厚度为80-200nm,所述半反射电极的厚度为10-30nm。
在一种实施方式中,所述量子点发光层的材料可以为油溶性量子点,所述油溶性量子点包括二元相、三元相、四元相量子点等中的一种或多种;其中二元相量子点包括CdS、CdSe、CdTe、InP、AgS、PbS、PbSe、HgS等中的一种或多种,三元相量子点包括ZnCdS、CuInS、ZnCdSe、ZnSeS、ZnCdTe、PbSeS等中的一种或多种,四元相量子点包括ZnCdS/ZnSe、CuInS/ZnS、ZnCdSe/ZnS、CuInSeS、ZnCdTe/ZnS、PbSeS/ZnS等中的一种或多种。所述量子点发光层的材料可以为常见的红、绿、蓝三种中的任意一种量子点或者其它黄光均可以,该量子点可以为含镉或者不含镉。该材料的量子点发光层具有激发光谱宽并且连续分布,发射光谱稳定性高等特点。
在一种实施方式中,所述电子传输层材料可采用本领域常规的电子传输材料,包括但不限于ZnO、MZO(镁锌氧)、AMO(铝锌氧)、MLZO(镁锂锌氧)、TiO2、CsF、LiF、CsCO3和Alq3中的一种或者为其任意组合的混合物。
在一种实施方式中,所述空穴注入层材料包括但不限于:PEDOT:PSS、CuPc、P3HT、过渡金属氧化物、过渡金属硫系化合物中的一种或两种或多种。其中,所述过渡金属氧化物包括NiOx、MoOx、WOx、CrOx、CuO中的一种或两种或多种。所述金属硫系化合物包括MoSx、MoSex、WSx、WSex、CuS中的一种或两种或多种。
在一种实施方式中,所述空穴传输层的材料可以选自具有良好空穴传输性能的材料,例如可以包括但不限于聚(9,9-二辛基芴-CO-N-(4-丁基苯基)二苯胺)(TFB)、聚乙烯咔唑(PVK)、聚(N,N'双(4-丁基苯基)-N,N'-双(苯基)联苯胺)(Poly-TPD)、4,4’,4”-三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)、聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)(PEDOT:PSS)、4,4'-二(9-咔唑)联苯(CBP)、NiO、MoO3等中的一种或多种。
本发明实施例提供一种量子点场效应发光晶体管的制备方法,如图3所示,包括步骤:
S10、提供第一电极;
S20、在所述第一电极上形成量子点发光层;
S30、在所述量子点发光层上形成第二电极;
S40、在所述第二电极上形成绝缘层;
S50、在所述绝缘层上形成第三电极,得到晶体管;
所述第一电极为全反射电极,所述第二电极为半反射电极,所述第三电极为半反射电极。
本发明实施例中,上述各层制备方法可以是化学法或物理法,其中化学法包括但不限于化学气相沉积法、连续离子层吸附与反应法、阳极氧化法、电解沉积法、共沉淀法中的一种或多种;物理法包括但不限于溶液法(如旋涂法、印刷法、刮涂法、浸渍提拉法、浸泡法、喷涂法、滚涂法、浇铸法、狭缝式涂布法或条状涂布法等)、蒸镀法(如热蒸镀法、电子束蒸镀法、磁控溅射法或多弧离子镀膜法等)、沉积法(如物理气相沉积法、元素层沉积法、脉冲激光沉积法等)中的一种或多种。
下面通过具体的实施例对本发明作进一步地说明。
实施例
(1)在基板上沉积ITO/Ag/ITO(Ag层作为第一电极,为全反射电极)作为阳极,其中ITO层的厚度都为15nm,Ag层的厚度为80nm,之后表面用紫外光臭氧(UVO)清洗15分钟,清洗表面同时改变表面的浸润性;
(2)在ITO/Ag/ITO上旋涂一层PEDOT:PSS做空穴注入层,其中旋涂转速为5000转每分钟,旋涂40s,之后在150℃退火15min,整个步骤在空气中进行;
(3)在PEDOT:PSS层上旋涂一层TFB做空穴传输层,其中TFB溶解在氯苯中,浓度为8mg/ml,旋涂转速为3000转每分钟,旋涂30s,之后在150℃下加热30min,该步骤在手套箱中进行;
(4)在TFB层上旋涂一层量子点做量子点发光层,其中量子点溶解在正辛烷中,浓度为20mg/ml,转速为2000转每分钟,旋涂30s,之后在100℃下加热20min,该步骤在手套箱中进行;
(5)在量子点发光层上旋涂一层氧化锌做电子传输层,其中氧化锌胶体溶解在乙醇中,浓度为30mg/ml,旋涂转速为3000转每分钟,旋涂时间30s,之后在100℃下加热30min,该步骤在手套箱中进行;
(6)在氧化锌层上蒸镀一层Mg:Ag(Mg与Ag构成的合金材料,其中Mg:Ag质量比例为5:5,厚度为25nm,Mg:Ag层作为第二电极,为半反射电极)作为阴极;
(7)在Mg:Ag第二电极上旋涂一层PMMA绝缘层;
(8)在PMMA绝缘层上再蒸镀一层Mg:Ag(Mg:Ag质量比例为5:5,厚度为18nm,Mg:Ag层作为第三电极,为半反射电极)作为栅极。
对比例
将ITO/Ag/ITO中的ITO的厚度改为40nm,第二电极改为100nm的Mg:Ag电极(Mg:Ag质量比例为5:5),其他步骤保持不变。
测试结果见下表1:
表1、测试结果
项目组别 半峰宽/(nm) 电流效率(CE)/(cd/A) T95(1000nit)/(h)
实施例 25.36 40 4500
对比例 30.47 25 2500
表中T95(1000nit)表示器件初始亮度为1000nit时衰减到95%亮度所需的时间。从表1可知,实施例的发光光谱半峰宽变窄了约5nm,器件电流效率也提高了15cd/A,器件寿命也有很大改善,提高了上千个小时。
综上所述,本发明提供的一种晶体管及其制备方法。本发明晶体管具有顶栅极(第三电极和绝缘层)结构。具体地,所述晶体管设置有三个具有较高反射率的电极,利用电极作为反射镜,在第一电极和第二电极之间、在第二电极和第三电极之间构成两个光学共振微腔,通过调节膜层的厚度,可以提高晶体管的出光强度和出光的单色性。同时,顶栅极可以调节晶体管的内部的载流子浓度和注入势垒,从而提高晶体管的发光效率和寿命。
应当理解的是,本发明的应用不限于上述的举例,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种晶体管,其特征在于,包括依次层叠设置的第一电极、量子点发光层、第二电极、绝缘层、第三电极;
所述第一电极为全反射电极,所述第二电极为半反射电极,所述第三电极为半反射电极;所述绝缘层为透明绝缘层;
在所述第一电极和所述第二电极之间构成光学共振微腔、在所述第二电极和所述第三电极之间构成光学共振微腔。
2.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,所述绝缘层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯亚胺、聚乙氧基乙烯亚胺中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,所述全反射电极的材料包括Al、Ag、Ag基合金中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,所述半反射电极的材料包括Al、Ag、Ag基合金中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,所述第一电极的材料为Ag,所述第二电极的材料为Mg与Ag构成的合金,所述绝缘层的材料为聚甲基丙烯酸甲酯,所述第三电极的材料为Mg与Ag构成的合金。
6.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,还包括:设置于所述第一电极和量子点发光层之间的空穴功能层,设置于所述第二电极和量子点发光层之间的电子功能层;
或者,还包括:设置于所述第一电极和量子点发光层之间的电子功能层,设置于所述第二电极和量子点发光层之间的空穴功能层。
7.根据权利要求6所述的晶体管,其特征在于,所述晶体管包括自下而上依次层叠设置的第一电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、第二电极、绝缘层、第三电极。
8.一种晶体管的制备方法,其特征在于,包括步骤:
提供第一电极;
在所述第一电极上形成量子点发光层;
在所述量子点发光层上形成第二电极;
在所述第二电极上形成绝缘层;
在所述绝缘层上形成第三电极,得到晶体管;
所述第一电极为全反射电极,所述第二电极为半反射电极,所述第三电极为半反射电极;所述绝缘层为透明绝缘层;
在所述第一电极和所述第二电极之间构成光学共振微腔、在所述第二电极和所述第三电极之间构成光学共振微腔。
9.根据权利要求8所述的晶体管的制备方法,其特征在于,所述绝缘层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯亚胺、聚乙氧基乙烯亚胺中的一种或多种。
CN202010692304.4A 2020-07-17 2020-07-17 一种晶体管及其制备方法 Active CN113948657B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010692304.4A CN113948657B (zh) 2020-07-17 2020-07-17 一种晶体管及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010692304.4A CN113948657B (zh) 2020-07-17 2020-07-17 一种晶体管及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113948657A CN113948657A (zh) 2022-01-18
CN113948657B true CN113948657B (zh) 2022-09-27

Family

ID=79327096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010692304.4A Active CN113948657B (zh) 2020-07-17 2020-07-17 一种晶体管及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113948657B (zh)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2204074B1 (en) * 2007-09-10 2019-11-06 University of Florida Research Foundation, Inc. Nanotube enabled, gate-voltage controlled light emitting diodes
CN105161631B (zh) * 2015-07-21 2019-01-22 上海和辉光电有限公司 一种有机发光二极管器件及制备方法以及有机发光显示面板
WO2017096058A1 (en) * 2015-12-01 2017-06-08 LUAN, Xinning Electron injection based vertical light emitting transistors and methods of making
CN106654031A (zh) * 2016-12-27 2017-05-10 Tcl集团股份有限公司 具有微腔结构的顶发射qled场效应晶体管及制备方法
CN108461643A (zh) * 2017-02-22 2018-08-28 Tcl集团股份有限公司 一种顶发射白光量子点场效应晶体管器件及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN113948657A (zh) 2022-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5102967B2 (ja) Pin型有機発光ダイオードの積層体および製造方法
WO2018090691A1 (zh) 量子点发光二极管及其制备方法与发光模组、显示装置
CN112018254B (zh) 一种基于苯硫醇衍生物的量子点发光二极管及其制备方法
CN110416421B (zh) 一种量子点薄膜及量子点发光二极管
US20230023531A1 (en) Nanomaterial, preparation method thereof, and quantum dot light-emitting diode
CN109935711A (zh) 发光二极管及其制备方法、显示面板
WO2020134148A1 (zh) 一种量子点发光二极管及其制备方法
CN112909193A (zh) 有机发光器件、显示装置以及制作方法
CN113948657B (zh) 一种晶体管及其制备方法
CN112054127A (zh) 一种量子点发光二极管及其制备方法
CN113948656B (zh) 一种晶体管及其制备方法
WO2021136119A1 (zh) 一种量子点发光二极管及其制备方法
WO2022143770A1 (zh) 一种显示器件及其制备方法
WO2022143765A1 (zh) 一种显示器件及其像素点亮控制方法
CN110718638B (zh) 量子点发光二极管及其制备方法
WO2022233145A1 (zh) 一种量子点电致发光器件
CN113130778A (zh) 量子点发光二极管及其制备方法
WO2022188113A1 (zh) 一种绿色量子点发光器件、其制作方法及显示装置
WO2022143882A1 (zh) 一种量子点发光二极管及其制备方法
KR102122710B1 (ko) 나노 화소 유기 발광 다이오드 및 그 제조 방법
CN115000316B (zh) 一种双电子传输层的量子点发光二极管及其制备方法与应用
WO2022111583A1 (zh) 一种量子点发光二极管及其制备方法
WO2023051461A1 (zh) 氧化钼纳米材料及制备方法、光电器件
US20240298456A1 (en) Quantum dot light-emitting device and manufacturing method therefor, and display apparatus
WO2023125072A1 (zh) 一种发光二极管及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant