CN113894089A - 在线清洁靶头的方法及装置 - Google Patents

Abstract

本发明申请涉及一种在线清洁靶头的方法及装置，其中在线清洁靶头的方法，包括下列步骤：检测到待清洁的靶头位于暂存工位，启动喷头；通过所述喷头，持续喷淋清水到所述靶头上；检测到所述靶头离开所述暂存工位并移向电镀工位，关闭所述喷头。本发明申请提供的在线清洁靶头的方法及装置改变以前依靠人工对靶头做定期保养清洁的低效率方式，将工作后的靶头放入到暂存工位，并朝向靶头喷水，持续对靶头进行清洁，有效防止靶头氧化，也避免了因靶头电路电阻增大导致的电镀质量问题，靶头的清洁效率高，效果显著。

Description

在线清洁靶头的方法及装置

技术领域

本发明涉及电路板电镀设备领域，特别是涉及一种在线清洁靶头的方法及装置。

背景技术

目前印刷电路板电镀制程中，龙门式电镀设备因产能较大，能够满足生产产能需求而被广泛应用。电镀过程中，电镀阴极是利用铜质的飞靶头与铜质的V型座接触导电，充当电镀电路的开关功能。在龙门电镀设备内，电镀药水被盛装在开放式槽体内，周围的环境湿度较高，未与空气隔绝的铜靶头上的导电面很容易发生氧化。另外，加上电镀都采用低电压高电流的整流机提供恒电流的电源设计，故需要避免铜靶头上导电面电阻增大而产生耗能过大。根据欧姆定律I＝U/R，要保持恒流输出，若电阻变大，电压也要增加，当电压超过整流机额定电压时整流机将过载，跳电发生，被电镀的产品还可能发生千层镀或被反蚀。因此，为确保电阻的稳定，操作人员需要每周进行清洁靶头的作业，耗用大量的工时对靶头做定期保养清洁，以防止因靶头氧化导致电路电阻增大。

清洁靶头需要操作人员在电镀药水槽的边缘作业，存在湿滑跌倒的安全隐患，并且清洁效率较低，清洁效果难以稳定和均质化。

发明内容

基于此，有必要针对上述提到的至少一个问题，提供一种在线清洁靶头的方法及装置。

第一个方面，本申请提供了一种在线清洁靶头的方法，包括下列步骤：

检测到待清洁的靶头位于暂存工位，启动喷头；

通过所述喷头，持续喷淋清水到所述靶头上；

检测到所述靶头离开所述暂存工位并移向电镀工位，关闭所述喷头。

在第一个方面的某些实现方式中，所述通过所述喷头，持续喷淋清水到所述靶头上的步骤，还包括：

回收喷淋到所述靶头上的清水，重新进入所述喷头并被喷淋到所述靶头上。

结合第一个方面和上述实现方式，在第一个方面的某些实现方式中，所述检测到所述靶头离开所述暂存工位并移向电镀工位的步骤，包括：

移动所述靶头，在所述靶头上的清水完全滴落前到达所述电镀工位。

第二个方面，本发明申请提供了一种在线清洁靶头的装置，包括靶座、导水盘、喷管固定架、若干根喷管、水泵和控制器；

所述喷管固定架设置在所述靶座附近，所述喷管设置在所述喷管固定架上，所述喷管的喷口面向所述靶座上的暂存工位；

所述水泵分别与所述导水盘和所述喷管连接，所述导水盘位于所述靶座上的暂存工位正下方；

所述控制器分别与所述靶座和所述水泵电连接。

在第二个方面的某些实现方式中，所述喷管固定架分别设置在所述导水盘长度方向的两端和宽度方向的两侧，所述喷管均匀设置在所述喷管固定架上。

结合第二个方面和上述实现方式，在第二个方面的某些实现方式中，还包括压力感应器，所述压力感应器设置在所述靶座内，所述压力感应器与所述控制器电连接。

结合第二个方面和上述实现方式，在第二个方面的某些实现方式中，所述水泵为磁力泵。

结合第二个方面和上述实现方式，在第二个方面的某些实现方式中，还包括耐酸碱管，所述耐酸碱管连接所述水泵和所述导水盘。

本发明申请的实施例中提供的技术方案带来如下有益技术效果：

本发明申请提供的在线清洁靶头的方法及装置改变以前依靠人工对靶头做定期保养清洁的低效率方式，将工作后的靶头放入到暂存工位，并朝向靶头喷水，持续对靶头进行清洁，有效防止靶头氧化，也避免了因靶头电路电阻增大导致的电镀质量问题，靶头的清洁效率高，效果显著。

本申请附加的方面和优点将在后续部分中给出，并将从后续的描述中详细得到理解，或通过对本发明的具体实施了解到。

附图说明

图1为本发明申请一实施例中在线清洁靶头的方法的流程示意图；

图2为本发明申请一实施例中在线清洁靶头的装置的第一视角结构示意图；

图3为本发明申请一实施例中在线清洁靶头的装置的第二视角结构示意图。

附图标记说明：

10-飞靶，11-靶头；

100-靶座，200-导水盘，300-喷管固定架，400-喷管，500-水泵。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的可能的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文已经通过附图描述的实施例。通过参考附图描述的实施例是示例性的，用于使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面，而不能解释为对本发明的限制。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本发明的特征是非必要技术的，则可能将这些技术细节予以省略。

相关领域的技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本发明所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

下面以具体地实施例对本发明的技术方案以及该技术方案如何解决上述的技术问题进行详细说明。

本发明申请第一个方面的实施例提供了一种在线清洁靶头的方法，如图1所示，包括下列步骤：

S100：检测到待清洁的靶头11位于暂存工位，启动喷头。在实际生产中，天车将电镀池中的电镀靶头11吊起，转移到旁边的专门设置的暂存工位内，通过相关传感器，获取到靶头11放置到暂存工位内，再启动能够喷淋清水的喷头。

S200：通过喷头，持续喷淋清水到靶头11上。启动喷头开始喷水后，需要将靶头11放置在暂存工位上一段时间，期间喷头保持喷淋状态，保持靶头11上一直被水冲浇。

S300：检测到靶头11离开暂存工位并移向电镀工位，关闭喷头。当再次需要启动电镀程序，驾驶天车将靶头11吊离暂存工位，移动到电镀工位放下开始电镀。当靶头11离开暂存工位，朝向靶头11喷水的作业便停止。

本发明申请采用对靶头11持续采用清水喷淋的方式，养护离开电镀池的铜靶头11，采用清水或者水溶液将铜靶头11中的铜导体与氧气隔离，有效避免铜导体因暴露在空气中而氧化，防止了因靶头11氧化导致电路电阻增大，也就避免了后续需要人工对靶头11做定期保养清洁。

可选的，在第一个方面实施例的一些实现方式中，S200通过喷头，持续喷淋清水到靶头11上的步骤，具体还包括：回收喷淋到靶头11上的清水，重新进入喷头并被喷淋到靶头11上。在S200中，喷淋的清水在清洁作业后，流入到水回收装置中，可直接将其再循环利用。由于靶头11上存在镀液，被清水冲洗后，回收的水溶液呈弱酸性，在不断冲洗的过程中可使靶头11上形成一层水膜，增加靶头11的导电性，同时弱酸洗的清水可清洗掉靶头11表面的氧化铜。

可选的，结合第一个方面的实施例和上述的实现方式，在第一个方面实施例的另一些实现方式中，S300中检测到靶头11离开暂存工位并移向电镀工位的步骤，具体还包括：移动靶头11，在靶头11上的清水完全滴落前到达电镀工位。该步骤要求在移动靶头11时，不宜使靶头11在空气中停留过久，保持靶头11湿润，或者尽可能保持靶头11完全被液体覆盖，隔绝空气中的氧气。

基于同一技术构思，本发明申请第二个方面的实施例提供了一种在线清洁靶头的装置，如图2和图3所示，包括靶座100、导水盘200、喷管固定架300、若干根喷管400、水泵500和控制器；喷管固定架300设置在靶座100附近，喷管400设置在喷管固定架300上，喷管400的喷口面向靶座100上的暂存工位；水泵500分别与导水盘200和喷管400连接，导水盘200位于靶座100上的暂存工位正下方；控制器分别与靶座100和水泵500电连接。

靶座100用于承载电镀靶头11，可以将靶座100设置在一专门为暂存电镀靶头11的容纳槽两端，靶头11可悬置在容纳槽内。导水盘200放置在容纳槽内，用于承接从靶头11上流下的冲洗液，当然也用于承载原始的清水。喷管固定架300设置在靶头11两端的喷管固定架300上，通过水泵500将导水盘200中的溶液泵入喷管400，从喷管400向靶头11喷淋。控制器用于自动化控制靶座100和水泵500，尤其是靶座100中设置的多种传感器，例如可在靶座100内设置压力传感器，该压力传感器与控制器电连接，当靶头11被安放在靶座100内，压力传感器被触发，控制器即可检测到靶头11进入到暂存工位。

特别需要说明的，控制器中的处理器加载有本装置的运行程序，从硬件角度而言，处理器可以是CPU(Central Processing Unit，中央处理器)，通用处理器，DSP(DigitalSignal Processor，数据信号处理器)，ASIC(Application Specific IntegratedCircuit，专用集成电路)，FPGA(Field－Programmable Gate Array，现场可编程门阵列)或者其他可编程逻辑器件、晶体管逻辑器件、硬件部件或者其任意组合。其可以实现或执行结合本发明公开内容所描述的各种示例性的逻辑方框，模块和电路。处理器也可以是实现计算功能的组合，例如包含一个或多个微处理器组合，DSP和微处理器的组合等。

本发明申请提供的在线清洁靶头的方法及装置改变以前依靠人工对靶头11做定期保养清洁的低效率方式，将工作后的靶头11放入到暂存工位，并朝向靶头11喷水，持续对靶头11进行清洁，有效防止靶头11氧化，也避免了因靶头11电路电阻增大导致的电镀质量问题，靶头11的清洁效率高，效果显著。

可选的，在本发明申请第二个方面实施例的一些实现方式中，喷管固定架300分别设置在导水盘200长度方向的两端和宽度方向的两侧，喷管400均匀设置在喷管固定架300上。也即，在一种具体的情况中，喷管固定架300围绕在导水盘200四周，更具体而言是围绕在靶头11四周，通过在喷管固定架300上以一定的间距设置喷管400，可充分使得靶头11得到清水或清洗液的喷淋。

可选的，水泵500为磁力泵。靶座100上存在的压力传感器或者其他的感应器用于感应飞靶10是否到位，将其信号通过控制器与磁力泵并联。天车将飞靶10放置到靶座100内时，控制器接到信号，飞靶10向下定位装载入靶座100内，控制器通过与磁力泵连接的接触器吸合磁力泵运行。待清洁或者暂存流程结束后，天车将飞靶10吊离靶座100，压力传感器或者其他的近接感应器未感应到飞靶10，控制器接收到飞靶10离开的信号，输出控制信号，接触器断开，磁力泵停止运行，完成清洗过程。

可选的，还包括耐酸碱管，耐酸碱管连接水泵500和导水盘200。耐酸碱管更接近导水盘200，处于清水或者清洗液的飞溅范围内，采用耐酸碱的管道，能够确保装置的运行稳定性和寿命。

本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，其可以以其他的顺序执行。而且，附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段，这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，其执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (8)

1.一种在线清洁靶头的方法，其特征在于，包括下列步骤：

检测到待清洁的靶头位于暂存工位，启动喷头；

通过所述喷头，持续喷淋清水到所述靶头上；

检测到所述靶头离开所述暂存工位并移向电镀工位，关闭所述喷头。

2.根据权利要求1所述的在线清洁靶头的方法，其特征在于，所述通过所述喷头，持续喷淋清水到所述靶头上的步骤，还包括：

回收喷淋到所述靶头上的清水，重新进入所述喷头并被喷淋到所述靶头上。

3.根据权利要求1所述的在线清洁靶头的方法，其特征在于，所述检测到所述靶头离开所述暂存工位并移向电镀工位的步骤，包括：

移动所述靶头，在所述靶头上的清水完全滴落前到达所述电镀工位。

4.一种在线清洁靶头的装置，其特征在于，包括靶座、导水盘、喷管固定架、若干根喷管、水泵和控制器；

所述喷管固定架设置在所述靶座附近，所述喷管设置在所述喷管固定架上，所述喷管的喷口面向所述靶座上的暂存工位；

所述水泵分别与所述导水盘和所述喷管连接，所述导水盘位于所述靶座上的暂存工位正下方；

所述控制器分别与所述靶座和所述水泵电连接。

5.根据权利要求4所述的在线清洁靶头的装置，其特征在于，所述喷管固定架分别设置在所述导水盘长度方向的两端和宽度方向的两侧，所述喷管均匀设置在所述喷管固定架上。

6.根据权利要求4所述的在线清洁靶头的装置，其特征在于，还包括压力感应器，所述压力感应器设置在所述靶座内，所述压力感应器与所述控制器电连接。

7.根据权利要求4所述的在线清洁靶头的装置，其特征在于，所述水泵为磁力泵。

8.根据权利要求4所述的在线清洁靶头的装置，其特征在于，还包括耐酸碱管，所述耐酸碱管连接所述水泵和所述导水盘。

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