CN113878988A

CN113878988A - 压印设备

Info

Publication number: CN113878988A
Application number: CN202110711763.7A
Authority: CN
Inventors: 翁瑞优; 曾仲禾; 郭汉舣; 吕引栋; 蔡瑞彬
Original assignee: Himax Technologies Ltd
Current assignee: Himax Technologies Ltd
Priority date: 2020-07-02
Filing date: 2021-06-25
Publication date: 2022-01-04
Also published as: EP3936340A1; EP3936340B1; JP2022013727A; JP7136969B2; US20220004097A1; KR102630144B1; KR20220003965A; US11531267B2

Abstract

本发明提供一种压印设备，包括压印平台、压印滚轮、转印模块以及离膜模块。压印平台具有彼此相对的第一侧与第二侧。压印滚轮设置于压印平台的上方。转印模块包括转印膜及夹持转印膜相对两侧的固定架与活动架。转印膜位于压印滚轮与压印平台之间。固定架固定于压印平台的第一侧旁。活动架设置于压印平台的第二旁。活动架适于相对于固定架水平移动而改变转印膜的平整度。离膜模块连接转印模块的活动架，且适于带动活动架从第一位置翻转至第二位置，而使转印膜与压印滚轮之间形成圆角。本发明的压印设备，可提升压印良率且具有较佳的操作便利性。

Description

压印设备

技术领域

本发明涉及一种压印设备，尤其涉及一种具有较高产品良率的压印设备。

背景技术

目前在纳米压印机台上压印完成后，转印膜与产品之间的分离大都是通过将位于压印平台上方的转印膜抬升，以慢速拉扯的方式来与产品分离。然而，上述的方式无法因应产品的胶材和参数变化，因而使得压印好的产品结构因离膜程序而受到破坏，进而降低产品的压印良率。

发明内容

本发明是针对一种压印设备，可提升压印良率且具有较佳的操作便利性。

根据本发明的实施例，压印设备包括压印平台、压印滚轮、转印模块以及离膜模块。压印平台具有彼此相对的第一侧与第二侧。压印滚轮设置于压印平台的上方。转印模块包括转印膜及夹持转印膜相对两侧的固定架与活动架。转印膜位于压印滚轮与压印平台之间。固定架固定于压印平台的第一侧旁。活动架设置于压印平台的第二旁。活动架适于相对于固定架水平移动而改变转印膜的平整度。离膜模块连接转印模块的活动架，且适于带动活动架从第一位置翻转至第二位置，而使转印膜与压印滚轮之间形成圆角。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印设备还包括两白光干涉仪，彼此分离地配置于压印平台的第一侧旁，以侦测压印滚轮与压印平台之间的高度。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的转印模块的活动架包括第一部分、第二部分以及多个弹性件。弹性件彼此分离地连接于第一部分与第二部分之间。转印膜的相对两侧夹持在固定架与活动架的第一部分之间。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的弹性件包括多个弹簧。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印设备还包括至少一传感器，设置在活动架的第二部分旁，用以侦测弹性件的拉力值。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印设备还包括移动平台、第一对滑轨以及移动模块。第一对滑轨设置于移动平台上。移动模块滑设于第一对滑轨上，且包括载台以及设置在载台上的框架。框架包括彼此相对的两第一框架部以及连接两第一框架部的第二框架部。两第一框架部分别具有承载槽，而压印滚轮彼此相对的两端分别设置于承载槽。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印设备还包括两传感器，分别设置于承载槽内，且位于压印滚轮的两端与承载槽之间，用以量测压印滚轮的压力值。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印设备还包括第二对滑轨以及可调式导螺杆。移动模块还包括支撑板，支撑板设置于载台上，而第二对滑轨设置于支撑板上，且第二框架部滑设于第二对滑轨上。第一对滑轨的延伸方向垂直于第二对滑轨的延伸方向。可调式导螺杆连接第二框架部上，用以调整框架与载台之间的高度差。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印设备还包括多个弹性件，彼此分离地设置于框架的两第一框架部与载台之间。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的弹性件包括多个压缩弹簧。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印平台与移动平台之间具有间距。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印设备还包括一对滑轨，设置于压印平台彼此相对的第三侧旁与第四侧旁，而离膜模块滑设于对滑轨上。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的离膜模块包括一承载部以及一翻转机构。转印模块的活动架组装于承载部上。翻转机构包括两可调式本体部以及分别连接两可调式本体部的两枢转部。枢转部分别连接承载部彼此相对的两侧边，而两可调式本体部适于沿着对所述滑槽在第一方向滑动，且适于沿着垂直于第一方向的一第二方向移动以调整转印膜与压印平台之间的距离。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的压印设备还包括一张力调整机构，包括两轮轴以及两升降机台。两轮轴的延伸方向平行于压印滚轮的延伸方向。两轮轴抵接转印膜且分别位于转印模块的固定架与压印平台之间以及转印模块的活动架与压印平台之间。两升降机台分别调整两轮轴的升降高度，且转印膜通过两轮轴的举升而撑开产生张力。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的每一轮轴的长度大于转印膜的宽度。

在根据本发明的实施例的压印设备中，上述的张力调整机构还包括两张力传感器，分别配置于两轮轴与两升降机台之间，以侦测转印膜的及时张力。

基于上述，在本发明的压印设备中，离膜模块连接转印模块的活动架，且适于带动活动架从第一位置翻转至第二位置，而使转印膜与压印滚轮之间形成圆角。意即，离膜模块可将与活动架固定的转印膜翻转且呈多角度变化，使压印好的产品结构不会因为离膜不当而受到破坏，进而可提升压印良率且具有较佳的操作便利性。

附图说明

图1是本发明的一实施例的一种压印设备的立体图；

图2A是图1压印设备中的压印平台与白光干涉仪的立体图；

图2B是图2A的侧视图；

图3是图1压印设备的局部俯视图；

图4A是图1压印设备于另一视角的局部放大立体图；

图4B是图4A的侧视图；

图5A是图1压印设备于又一视角的局部放大立体图；

图5B是图1压印设备中的转印模块的活动架位于第二位置的局部放大立体图；

图5C为离膜模块带动活动架翻转时转印膜与压印滚轮之间的作动示意图；

图6A是本发明的另一实施例的一种压印设备的俯视示意图；

图6B是图6A的压印设备的侧视示意图。

附图标记说明

10:校正治具；

20:产品；

100、100a:压印设备；

110:压印平台；

111:平台；

112:第一侧；

113:晶圆；

114:第二侧；

116:第三侧；

118:第四侧；

120:压印滚轮；

122、124:端；

130:转印模块；

132:转印膜；

134:固定架；

136:活动架；

136a:第一部分；

136b:第二部分；

136c:弹性件；

140:离膜模块；

142:承载部；

144:翻转机构；

144a:可调式本体部；

144b:枢转部；

150:白光干涉仪；

160、180:传感器；

165:盖板；

170:移动模块；

171:移动平台；

172:载台；

174:框架；

174a:第一框架部；

174b:第二框架部；

175:承载槽；

176:支撑板；

185:可调式导螺杆；

187:弹性件；

190:张力调整机构；

192:轮轴；

194:升降机台；

196:张力传感器；

D:间距；

D1:第一方向；

D2:第二方向；

L:长度；

F:焦点；

P:水平线；

P1:第一位置；

P2:第二位置；

R:圆角；

S:滑轨；

S1:第一对滑轨；

S2:第二对滑轨；

W:宽度。

具体实施方式

现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同元件符号在图式和描述中用来表示相同或相似部分。

图1是依照本发明的一实施例的一种压印设备的立体图。图2A是图1压印设备中的压印平台与白光干涉仪的立体图。图2B是图2A的侧视图。图3是图1压印设备的局部俯视图。图4A是图1压印设备于另一视角的局部放大立体图。图4B是图4A的侧视图。图5A是图1压印设备于又一视角的局部放大立体图。图5B是图1压印设备中的转印模块的活动架位于第二位置的局部放大立体图。图5C为离膜模块带动活动架翻转时转印膜与压印滚轮之间的作动示意图。为了方便说明起见，图1、图3、图5A及图5B中以局部透视的方式进行绘示，而图2A、图3、图4A、图5A及图5B中省略部分构件。

请先同时参考图1、图2A以及图3，在本实施例中，压印设备100包括压印平台110、压印滚轮120、转印模块130以及离膜模块140。压印平台110具有彼此相对的第一侧112与第二侧114。压印滚轮120设置于压印平台110的上方。转印模块130包括转印膜132及夹持转印膜132相对两侧的固定架134与活动架136。转印膜132位于压印滚轮120与压印平台110之间。固定架134固定于压印平台110的第一侧112旁，而活动架136设置于压印平台110的第二旁114。特别是，活动架136适于相对于固定架134水平移动而改变转印膜132的平整度。离膜模块140连接转印模块130的活动架136，且适于带动活动架136从第一位置P1(请参考图5A)翻转至第二位置P2(请参考图5B)，而使转印膜132与压印滚轮120之间形成圆角R(请参考图5C)。也就是说，本实施例的离膜模块140可将与活动架136固定的转印膜132翻转且呈多角度变化，使压印好的产品结构不会因为离膜不当而受到破坏，进而可提升压印良率且具有较佳的操作便利性。

详细来说，请参考图1、图2A以及图2B，本实施例的压印平台110是由平台111与晶圆113组成，其例如为精密六轴压印平台，但不以此为限。压印平台110与压印滚轮120之间的水平度是压出结构均匀深度的重要条件，因此本实施例的压印设备100还包括两白光干涉仪150，彼此分离地配置于压印平台110的第一侧112旁，以侦测压印滚轮120与压印平台110之间的高度。详细来说，本实施例可先通过放置在压印平台110上的校正治具10，将两白光干涉仪150所发出的光的焦点F，以两点成一线的方式来调整至与压印平台110呈水平线P。接着，通过使白光干涉仪150投射不同波长的光，来校正压印滚轮120与压印平台110之间的水平度。白光干涉仪150除了可投射不同波长的光之外，还可侦测到位于压印滚轮120与压印平台110之间的转印膜132，且也能穿透转印膜132而侦测到上方的压印滚轮120。利用高度数据，可将压力滚轮120调整到与压印平台110呈水平。

简言之，本实施例利用白光干涉仪150可投射不同波长的光，且能穿透透明物件(如转印膜132)的优势，来达到侦测压印平台110与压印滚轮120的高度。白光干涉仪150是以两个光源的焦点F成直线的方式，来调整及确认压印平台110与压印滚轮120之间的水平度。白光干涉仪150的水平度仅需调整一次，在每次压印时都能事先检测压印滚轮120与压印平台110的水平。此外，白光干涉仪150精密度达±0.2微米，因此水平度误差相对小。

再者，请参考图3，本实施例的转印模块130的转印膜132通过固定架134与活动架136来夹持，其中转印膜132上具有多个纳米微结构，适于通过压印滚轮120而转印制压印平台110上。固定架134顾名思义为固定不动的框架，而活动架136则为可相对于固定架134移动的框架。详细来说，转印模块130的活动架136包括第一部分136a、第二部分136b以及多个弹性件136c。弹性件136c彼此分离地连接于第一部分136a与第二部分136b之间，而转印膜132的相对两侧夹持在固定架134与活动架136的第一部分136a之间。此处，弹性件136c例如是弹簧，但不以此为限。也就是说，本实施例的活动架136可视为一种分离式且可自由凹折的软膜安装夹具，其中夹具上的弹性件136c的拉力可使转印膜132保持平整。

请再同时参考图1与图3，为了有效且精确的侦测弹性件136c的拉力，本实施例的压印设备100还包括至少一传感器160(示意地绘示两个传感器160)，设置在活动架136的第二部分136b旁，用以侦测弹性件136c的拉力值。传感器160例如是拉压式传感器，其利用弹性材料(如压电材料)受力的变形量，将物理信号转换为电信号以便进行准确的测量。此处，传感器160可通过盖板165而锁固于离膜模块140的承载部142上，以有效地侦测活动架136的弹性件136c的拉力数值。拉力达到要求值并调整左右拉力成一致，完全由传感器160所侦测并呈现出拉力数值来决定。也就是说，传感器160便于检测并调整转印膜132左右拉力平均，且便于侦测拉力值是否维持在压印时需求的力道，且也能观察活动架136的第二部分136b相对于第一部分136a作动时的拉力变化。传感器160受力后转换电信号输出，其中传感器160的精密度达±0.3﹪RO，因此侦测到的拉力数值误差小。

简言之，本实施例的转印模块130的活动架136的弹性件136c的拉力，可使转印膜132保持平整，且可达到左边与右边拉力相同及达到要求的拉力数值，进而可压印出结构优良的产品。

请参考图4A，本实施例的压印设备100还包括移动平台171、第一对滑轨S1以及移动模块170。第一对滑轨S1设置于移动平台171上。移动模块170滑设于第一对滑轨S1上，且包括载台172以及设置在载台172上的框架174。框架174包括彼此相对的两第一框架部174a以及连接两第一框架部174a的第二框架部174b。两第一框架部174a分别具有承载槽175，而压印滚轮120彼此相对的两端122、124分别设置于承载槽175。为了有效地控制产品结构的深度，本实施例的压印设备100还包括两传感器180，其中传感器180分别设置于承载槽175内，且位于压印滚轮120的两端122、124与承载槽175之间，用以量测压印滚轮120的压力值。

详细来说，当移动模块170带动压印滚轮120往下贴合至压印平台110时，移动模块170会持续往下形成压印平台110顶住压印滚轮120的状态。但，安装于压印滚轮120相对两侧的传感器180则随移动模块170作动持续往下，所以被压印平台110顶住的压印滚轮120与传感器180之间形成反作用拉力，而此反作用拉力等于压印滚轮120在压印平台110上施加的下压力。此处，传感器180例如是拉压式传感器，其利用弹性材料(如压电材料)受力的变形量，将物理信号转换为电信号以便进行准确的测量。也就是说，传感器180可将压印滚轮120施力变形量转换电信号输出，能有效侦测压印滚轮120的压力数值并且便利调整压印滚轮120的下压力道，来控制产品结构的深度。

简言之，传感器180的设置可便于侦测压印时压印滚轮120的下压力数值与辨别压印滚轮120左右施力是否平均。再者，通过传感器180的设置，可调整压印滚轮120下压力道，进而可控制产品的压印深度。此外，传感器180受力后转换电信号输出，精密度可达±0.3﹪RO，因此侦测到的施力数值误差小。

请同时参考图4A及图4B，为了进一步调整压印滚轮120的下压力，本实施例的压印设备100还包括第二对滑轨S2以及可调式导螺杆185。移动模块170还包括支撑板176，支撑板176设置于载台172上，而第二对滑轨S2设置于支撑板176上，且第二框架部174b滑设于第二对滑轨S2上。第一对滑轨S1的延伸方向垂直于第二对滑轨S2的延伸方向。可调式导螺杆185连接第二框架部174b上，用以调整框架174与载台172之间的高度差。再者，压印设备100还包括多个弹性件187，彼此分离地设置于框架174的两第一框架部174a与载台172之间。此处，压印平台110与移动平台171之间具有间距D，且弹性件187例如是压缩弹簧，但不以此为限。

详细来说，纳米压印时，压印滚轮120的下压力量对于产品微结构是一重要参数。本实施例的移动模块170可通过可调式导螺杆185控制压印滚轮120的上升或下降，进而可调整压印滚轮120在压印平台110上的施力，而压印力道的大小则决定产品微结构的深浅，并且足够的下压力量能将胶材内部气泡驱赶至产品外部，而使得压印出的微结构不受气泡影响，进而可提升产品良率。也就是说，本实施例利用可调式导螺杆185的上升或下降，调整压印滚轮120下压在压印平台110上的施力大小，并且藉由第一对滑轨S1来移动移动模块170而完成压印动作。此处，可调式导螺杆185可达到10微米的上下微小调整，进而精密的控制压印滚轮120的下压力道。此外，弹性件187的设置在于可作为支撑压印滚轮120悬臂变形量，且可调整可调式导螺杆185升降的阻尼力。简言之，压印滚轮120可通过可调式导螺杆185的上升或下降来调整压印滚轮120的下压力道，由此可控制压印时的力量大小，并且有足够的下压力可解决气泡残留的问题。

此外，请参考图5A，本实施例的压印设备100还包括一对滑轨S，设置于压印平台110彼此相对的第三侧116旁与第四侧118旁，而离膜模块140滑设于所述对滑轨S上。本实施例的离膜模块140包括承载部142以及翻转机构144。转印模块130的活动架136组装于承载部142上。翻转机构144包括两可调式本体部144a以及分别连接两可调式本体部144a的两枢转部144b。枢转部144b分别连接承载部142彼此相对的两侧边，而两可调式本体部144a适于沿着对所述滑槽S在第一方向D1滑动，且适于沿着垂直于第一方向D1的第二方向D2移动以调整转印膜132与压印平台110之间的距离。

详细来说，请再参考图5A，压印完成后的转印膜132需要离膜时，此时，连接离膜模块140的承载部142的活动架136是位于第一位置P1上。接着，请同时参考图5B及图5C，离膜模块140的翻转机构144带动活动架136及固定于活动架136的转印膜132翻转至转印膜132与压印滚轮120之间形成圆角R，而活动架136位于第二位置P2上。此时，压印滚轮120与翻转机构144等速向左(即往压印平台110的第一侧112)移动，而圆角R可消除转印膜132与产品20分开时的拉扯力，使转印膜132与产品20的结构能顺利分离。也就是说，本实施例的压印设备100包括可自由凹折的活动架136、可将转印膜132翻折并调整角度高度来进行转印膜132与产品20分离的离膜模块140以及压印滚轮120的R角的连贯性剥离动作，使压印好的产品20不因强力拉扯分离而受到破坏，进而提升压印良率。换言之，本实施例通过离膜模块140的机构设计，因而可进行多变化的离膜动作，进而调整至最合适的离膜角度，避免转印膜132不当破坏产品微结构，可提升产品良率。此外，本实施例的离膜模块140除了可将转印膜132翻转呈现多角度变化之外，也可搭配翻转机构144可在第二D2移动以微调整转印膜132与压印平台110之间的距离，意即翻转机构144可上升高度来调整多样的离膜动作。因此，压印好的产品结构不因离膜不当而受到破坏，进而提升压印良率。

简言之，本实施例的离膜模块140可将与活动架136固定的转印膜132翻转且呈多角度变化，进而调整至最合适的离膜角度，使压印好的产品结构不会因为离膜不当而受到破坏，进而可提升压印良率且具有较佳的操作便利性。再者，本实施例通过白光干涉仪150的设置，可使压印平台110与压印滚轮120之间达到精确的水平度。通过传感器160的设置来精准的侦测转印模块130的活动架136的弹性件136c的拉力，而通过传感器180来有效侦测压印滚轮120的压力数值，并调整压印滚轮120下压力道，进而控制产品结构深度。此外，压印滚轮120还可通过可调式导螺杆185的上升或下降来调整压印滚轮120的下压力道，由此可控制压印时的力量大小，并且有足够的下压力可解决气泡残留的问题。换言之，本实施例优化了压印设备100的压印和离膜动作，进而可提高压印设备100的压印良率和操作便利性。另外，通过上述的机构设计，本实施例的压印设备100可具有高自由度调整离膜动作，可找出最适合产品20与转印膜132的剥离方式，且多轴结构便于细部测试调整，可避免因单一方式离膜不当而使压印好的产品20受到破坏，可提升产品良率。

在此必须说明的是，下述实施例沿用前述实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，下述实施例不再重复赘述。

图6A是依照本发明的另一实施例的一种压印设备的俯视示意图。图6B是图6A的压印设备的侧视示意图。为了方便说明起见，图6A及图6B中仅示意地绘示部分构件，省略的部分可参考前述实施例的相关图式。请同时参考图3、图6A与图6B，本实施例的压印设备100a与上述的压印设备100相似，两者的差异在于：本实施例的压印设备100a还包括一张力调整机构190，包括两轮轴192以及两升降机台194。两轮轴192的延伸方向平行于压印滚轮120的延伸方向。两轮轴192抵接转印膜132且分别位于转印模块130的固定架134与压印平台110之间以及转印模块130的活动架136的第一部分136a与压印平台110之间。两升降机台194分别调整两轮轴192的升降高度，且转印膜132通过两轮轴192的举升而撑开产生张力。换言之，纵向前后轮轴192可利用升降机台194(例如是电动缸)举升，而使转印膜132紧绷产生张力，而转印膜132的张力大小则靠轮轴192升降高度前后可独立调整。

再者，本实施例的张力调整机构190还包括两张力传感器196，其中两张力传感器196分别配置于两轮轴192与两升降机台194之间，可用以侦测转印膜132的及时张力。较佳地，在本实施例中，每一轮轴192的长度L大于转印膜132的宽度W。由于本实施例的轮轴192的长度L大于转印膜132的宽度W，且轮轴192是抵接转印膜132而形成一直线均匀的张力，故张力能均匀传递于转印膜132的横向边(即图6A中的箭头方向)。

简言之，本实施例的张力调整机构190的机制是在转印膜132纵向前后安装两轮轴192，利用轮轴192的举升使转印膜撑开产生张力。轮轴192下方可加装张力传感器196，以侦测转印膜132的及时张力，并且随着轮轴192的升降幅度来调整紧绷度(即张力)。再者，由于每一个轮轴192接对应设置有一个升降机台194，因此可对转印膜132的纵向边前后进行独立调整。此外，每一轮轴192的长度L大于转印膜132的宽度W，因此轮轴19一线式撑开转印膜132时，形成一直线张力均匀分布于转印膜132横向边。

综上所述，在本发明的压印设备中，离膜模块连接转印模块的活动架，且适于带动活动架从第一位置翻转至第二位置，而使转印膜与压印滚轮之间形成圆角。意即，离膜模块可将与活动架固定的转印膜翻转且呈多角度变化，使压印好的产品结构不会因为离膜不当而受到破坏，进而可提升压印良率且具有较佳的操作便利性。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims

1.一种压印设备，其特征在于，包括：

压印平台，具有彼此相对的第一侧与第二侧；

压印滚轮，设置于所述压印平台的上方；

转印模块，包括转印膜及夹持所述转印膜相对两侧的固定架与活动架，其中所述转印膜位于所述压印滚轮与所述压印平台之间，而所述固定架固定于所述压印平台的所述第一侧旁，且所述活动架设置于所述压印平台的所述第二旁，所述活动架适于相对于所述固定架水平移动而改变所述转印膜的平整度；以及

离膜模块，连接所述转印模块的所述活动架，且适于带动所述活动架从第一位置翻转至第二位置，而使所述转印膜与所述压印滚轮之间形成圆角。

2.根据权利要求1所述的压印设备，其特征在于，还包括：

两白光干涉仪，彼此分离地配置于所述压印平台的所述第一侧旁，以侦测所述压印滚轮与所述压印平台之间的高度。

3.根据权利要求1所述的压印设备，其特征在于，所述转印模块的所述活动架包括第一部分、第二部分以及多个弹性件，所述多个弹性件彼此分离地连接于所述第一部分与所述第二部分之间，而所述转印膜的相对两侧夹持在所述固定架与所述活动架的所述第一部分之间。

4.根据权利要求3所述的压印设备，其特征在于，所述多个弹性件包括多个弹簧。

5.根据权利要求3所述的压印设备，其特征在于，还包括：

至少一传感器，设置在所述活动架的所述第二部分旁，用以侦测所述多个弹性件的拉力值。

6.根据权利要求1所述的压印设备，其特征在于，还包括：

移动平台；

第一对滑轨，设置于所述移动平台上；以及

移动模块，滑设于所述第一对滑轨上，且包括载台以及设置在所述载台上的框架，所述框架包括彼此相对的两第一框架部以及连接所述两第一框架部的第二框架部，所述两第一框架部中的每一个具有承载槽，而所述压印滚轮彼此相对的两端分别设置于所述两第一框架部中的每一个的所述承载槽。

7.根据权利要求6所述的压印设备，其特征在于，还包括：

两传感器，分别设置于所述两第一框架部中的每一个的所述承载槽内，且位于所述压印滚轮的所述两端与所述承载槽之间，用以量测所述压印滚轮的压力值。

8.根据权利要求6所述的压印设备，其特征在于，还包括：

第二对滑轨，所述移动模块还包括支撑板，所述支撑板设置于所述载台上，而所述第二对滑轨设置于所述支撑板上，且所述第二框架部滑设于所述第二对滑轨上，其中所述第一对滑轨的延伸方向垂直于所述第二对滑轨的延伸方向；以及

可调式导螺杆，连接所述第二框架部上，用以调整所述框架与所述载台之间的高度差。

9.根据权利要求8所述的压印设备，其特征在于，还包括：

多个弹性件，彼此分离地设置于所述框架的所述两第一框架部与所述载台之间。

10.根据权利要求9所述的压印设备，其特征在于，所述多个弹性件包括多个压缩弹簧。

11.根据权利要求6所述的压印设备，其特征在于，所述压印平台与所述移动平台之间具有间距。

12.根据权利要求1所述的压印设备，其特征在于，还包括：

一对滑轨，设置于所述压印平台彼此相对的第三侧旁与第四侧旁，而所述离膜模块滑设于所述对滑轨上。

13.根据权利要求12所述的压印设备，其特征在于，所述离膜模块包括：

承载部，所述转印模块的所述活动架组装于所述承载部上；以及

翻转机构，包括两可调式本体部以及分别连接所述两可调式本体部的两枢转部，其中所述两枢转部分别连接所述承载部彼此相对的两侧边，而所述两可调式本体部适于沿着所述对滑槽在第一方向滑动，且适于沿着垂直于所述第一方向的第二方向移动以调整所述转印膜与所述压印平台之间的距离。

14.根据权利要求1所述的压印设备，其特征在于，还包括：

张力调整机构，包括两轮轴以及两升降机台，其中所述两轮轴的延伸方向平行于所述压印滚轮的延伸方向，所述两轮轴抵接所述转印膜且分别位于所述转印模块的所述固定架与所述压印平台之间以及所述转印模块的所述活动架与所述压印平台之间，所述两升降机台分别调整所述两轮轴的升降高度，且所述转印膜通过所述两轮轴的举升而撑开产生张力。

15.根据权利要求14所述的压印设备，其特征在于，所述两轮轴中的每一个的长度大于所述转印膜的宽度。

16.根据权利要求14所述的压印设备，其特征在于，所述张力调整机构还包括两张力传感器，分别配置于所述两轮轴与所述两升降机台之间，以侦测所述转印膜的及时张力。