CN113867053B - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种显示面板及其制备方法。该显示面板具有显示区域和周边区域，包括阵列基板、对置基板以及密封胶层，密封胶层设置在周边区域，密封胶层具有靠近显示区域的第一边缘和远离显示区域的第二边缘，阵列基板包括衬底基板、驱动电路以及有机绝缘层，有机绝缘层包括第一部分和第二部分，在垂直于衬底基板的板面的方向上，第一部分与密封胶层重叠，第二部分与密封胶层不重叠，且在平行于衬底基板的板面的方向上，第一部分的远离显示区域的边缘位于第一边缘和第二边缘之间，驱动电路包括设置在周边区域的栅扫描驱动电路，在垂直于衬底基板的板面的方向上，栅扫描驱动电路与第一部分至少部分重叠。该显示面板具有较好的封装效果，并且可以实现窄边框。

Description

显示面板及其制备方法
技术领域
本公开的实施例涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
液晶显示面板(Liquid Crystal display，LCD)通常包括阵列基板、对置基板以及在阵列基板和对置基板之间以将阵列基板和对置基板密封的密封胶，在阵列基板和对置基板之间以及密封胶密封的区域内填充有液晶材料，在电场的驱动下，液晶材料的分子排列方向可以发生转变，进而实现显示面板透光率的转变。
目前，显示面板正往大屏化、全屏化发展，而如何实现液晶显示面板的窄边框是该领域关注的焦点问题。
发明内容
本公开至少一实施例提供一种显示面板，该显示面板具有显示区域和围绕所述显示区域的周边区域，包括阵列基板、对置基板以及在所述阵列基板和所述对置基板之间以将所述阵列基板和所述对置基板四周密封的密封胶层，其中，所述密封胶层设置在所述周边区域，所述密封胶层具有靠近所述显示区域的第一边缘和远离所述显示区域的第二边缘，所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的驱动电路以及设置在所述驱动电路远离所述衬底基板一侧的有机绝缘层，所述有机绝缘层包括第一部分和第二部分，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分与所述密封胶层重叠，所述第二部分与所述密封胶层不重叠，且在平行于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的远离所述显示区域的边缘位于所述第一边缘和所述第二边缘之间，所述驱动电路包括设置在所述周边区域的栅扫描驱动电路，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述栅扫描驱动电路与所述第一部分至少部分重叠。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，在平行于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的远离所述显示区域的边缘与所述第一边缘的距离小于所述第一部分的远离所述显示区域的边缘与所述第二边缘的距离。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的平均厚度小于或等于所述第二部分的平均厚度。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述栅扫描驱动电路包括多个有源器件，所述多个有源器件在所述有机绝缘层所在平面上的正投影位于所述有机绝缘层内部。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述第一部分与所述第二部分连续设置，所述第一部分与所述第二部分的截面的远离所述衬底基板的边缘呈阶梯状。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分包括与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案以及与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件不重叠的镂空部。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案包括彼此间隔的多个部分，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述多个部分与所述多个有源器件对应重叠。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述多个有源器件包括多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管包括多个有源层，所述多个有源层在衬底基板上的正投影位于所述多个部分在所述衬底基板上的正投影内。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述阵列基板还包括设置在所述栅扫描驱动电路远离所述显示区域一侧的多条信号线，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述多条信号线与所述有机绝缘层不重叠，所述多条信号线与所述密封胶层重叠。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述驱动电路还包括设置在所述显示区域的像素驱动电路，所述像素驱动电路包括第一薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管包括第一栅极、第一有源层和第一源漏极，所述多个薄膜晶体管包括第二薄膜晶体管，所述第二薄膜晶体管包括第二栅极、第二有源层和第二源漏极，所述第一栅极与所述第二栅极同层设置，所述第一有源层与所述第二有源层同层设置，所述第一源漏极与所述第二源漏极同层设置。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述多条信号线分别与所述第一栅极和所述第二栅极同层设置。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述阵列基板还包括设置在所述像素驱动电路远离所述衬底基板一侧的第一平坦化层，所述有机绝缘层包括所述第一平坦化层。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述阵列基板还包括设置在所述第一平坦化层远离所述衬底基板一侧的第一驱动电极以及设置在所述第一驱动电极远离所述衬底基板一侧的第二平坦化层，所述有机绝缘层还包括所述第二平坦化层。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述显示面板还包括第二驱动电极，所述第二驱动电极设置在所述阵列基板上，并与所述第一驱动电极同层且间隔设置，或者与所述第一驱动电极异层且间隔设置；或者所述第二驱动电极设置在所述对置基板上。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，阵列基板还包括设置在所述驱动电路和所述有机绝缘层之间的钝化层，所述对置基板还包括黑矩阵层，所述黑矩阵层包括多个像素开口，所述密封胶层与所述黑矩阵和所述钝化层直接接触。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板中，所述第一边缘与所述第二边缘的距离为0.1毫米-1.5毫米。
例如，本公开至少一实施例提供的显示面板还包括设置在所述阵列基板和所述对置基板之间的液晶层。
本公开至少一实施例还提供一种制备显示面板的方法，该显示面板具有显示区域和围绕所述显示区域的周边区域，所述方法包括：提供阵列基板，其中，所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的驱动电路以及设置在所述驱动电路远离所述衬底基板一侧的有机绝缘层，所述有机绝缘层包括第一部分和第二部分；提供对置基板；以及在所述阵列基板和所述对置基板之间形成密封胶层，以将所述阵列基板和所述对置基板结合，其中，所述密封胶层形成在所述周边区域，所述密封胶层具有靠近所述显示区域的第一边缘和远离所述显示区域的第二边缘，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分与所述密封胶层重叠，所述第二部分与所述密封胶层不重叠，且在平行于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的远离所述显示区域的边缘位于所述第一边缘和所述第二边缘之间，所述驱动电路包括设置在所述周边区域的栅扫描驱动电路，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述栅扫描驱动电路与所述第一部分至少部分重叠。
例如，本公开至少一实施例提供的方法中，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的平均厚度小于所述第二部分的平均厚度，其中，形成所述第一部分与所述第二部分包括：采用灰色调掩模板形成所述第一部分和第二部分，其中，所述灰色调掩模板包括对应于所述第一部分的第一掩模部分以及对应于所述第二部分的第二掩模部分，所述第一掩模部分与所述第二掩模部分的透光率不同。
例如，本公开至少一实施例提供的方法中，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的平均厚度小于所述第二部分的平均厚度，所述第一部分包括与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案以及与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件不重叠的镂空部，其中，形成所述第一部分与所述第二部分包括：采用灰色调掩模板形成所述第一部分和第二部分，其中，所述灰色调掩模板包括对应于所述第一部分的有机绝缘图案的第一掩模部分、对应于第一部分的镂空部的第二掩模部分以及对应于所述第二部分的第三掩模部分，所述第一掩模部分、所述第二掩模部分与所述第三掩模部分的透光率互不相同。
例如，本公开至少一实施例提供的中，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的平均厚度小于所述第二部分的平均厚度，所述第一部分包括与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案以及与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件不重叠的镂空部，其中，形成所述第一部分与所述第二部分包括：采用狭缝掩模板形成所述第一部分和第二部分，其中，所述狭缝掩模板包括对应于所述第一部分的有机绝缘图案的狭缝部分、对应于所述第一部分的镂空部的第一掩模部分以及对应于所述第二部分的第二掩模部分，所述第一掩模部分和所述第二掩模部分中的一个透光，另一个不透光。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。
图1为一种显示面板的截面示意图；
图2为另一种显示面板的截面示意图；
图3本公开至少一实施例提供的显示面板的平面示意图；
图4为图3中的显示面板在虚线框区的放大示意图；
图5为图4中的显示面板沿A-A线的截面示意图；
图6A为图3中的显示面板在虚线框区的另一放大示意图；
图6B为图3中的显示面板在虚线框区的再一放大示意图；
图7为图6A中的显示面板沿B-B线的截面示意图；
图8本公开至少一实施例提供的显示面板的驱动电路的部分截面示意图；
图9本公开至少一实施例提供的显示面板的驱动电路的另一部分截面示意图；
图10本公开至少一实施例提供的制备显示面板的方法的流程图；
图11A和图11B为本公开至少一实施例提供的制备显示面板的有机绝缘层的示意图；
图12A和图12B为本公开至少一实施例提供的制备显示面板的有机绝缘层的另一示意图；
图13为本公开至少一实施例提供的用于制备显示面板的有机绝缘层的掩模板的示意图；以及
图14为本公开至少一实施例提供的用于制备显示面板的有机绝缘层的另一掩模板的示意图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
图1示出了一种显示面板的截面示意图。如图1所示，该显示面板包括阵列基板1、对置基板2以及在阵列基板1和对置基板2之间以将阵列基板1和对置基板2密封的密封胶3。该显示面板具有显示区域以及围绕显示区域的周边区域，密封胶3设置在周边区域，以保护显示区域，并避免影响显示区域的显示效果。
当显示面板的周边区域的面积较大时，如图1所示，周边区域具有足够的空间以允许密封胶2以及周边电路4的设置，此时，密封胶3不会覆盖周边电路4(该周边电路4例如与显示区域的驱动电路电连接，进而控制显示区域的显示效果)，周边电路4上覆盖的保护绝缘层5与密封胶3分别设置在不同的区域，而不会相互重叠。
但是，当显示面板进行窄边框设计时，周边区域的面积有限，此时，如图2所示，密封胶2可能会覆盖到周边电路4，为了不影响周边电路4的原有设置环境，如图2所示，周边电路4上设置的保护绝缘层5会与密封胶2重叠，甚至延伸至密封胶2之外，从而被密封胶2暴露，此时，水氧等杂质很容易从保护绝缘层5入侵。在一些实施方式中，可以在保护绝缘层5中形成凹槽51，以阻断水氧等杂质的入侵路径，但是通过实验证明，该方式对水氧等杂质的阻断效果并不理想，水氧等杂质仍会沿保护绝缘层5的其他部分入侵，进而腐蚀周边电路4，甚至延伸至显示区域而腐蚀显示区域的驱动电路，进而影响显示区域的显示效果。
本公开至少一实施例提供一种显示面板及其制备方法，该显示面板具有显示区域和围绕显示区域的周边区域，包括阵列基板、对置基板以及在阵列基板和对置基板之间以将阵列基板和对置基板四周密封的密封胶层，密封胶层设置在周边区域，密封胶层具有靠近显示区域的第一边缘和远离显示区域的第二边缘，阵列基板包括衬底基板、设置在衬底基板上的驱动电路以及设置在驱动电路远离衬底基板一侧的有机绝缘层，有机绝缘层包括第一部分和第二部分，在垂直于衬底基板的板面的方向上，第一部分与密封胶层重叠，第二部分与密封胶层不重叠，且在平行于衬底基板的板面的方向上，第一部分的远离显示区域的边缘位于第一边缘和第二边缘之间，驱动电路包括设置在周边区域的栅扫描驱动电路，在垂直于衬底基板的板面的方向上，栅扫描驱动电路与第一部分至少部分重叠。该显示面板具有更好的密封效果，并且可以实现窄边框。
下面通过几个具体的实施例对本公开的显示面板及其制备方法进行示例性说明。
本公开至少一实施例提供一种显示面板，图3示出了该显示面板的平面示意图，图4示出了图3中的显示面板在虚线框区的放大示意图，图5示出了图4中的显示面板沿A-A线的截面示意图。
如图3所示，该显示面板具有显示区域AA和围绕显示区域AA的周边区域NA。为了实现显示面板的窄边框，需要尽量缩小周边区域NA所占的面积。
如图3-5所示，该显示面板包括阵列基板100、对置基板200以及在阵列基板100和对置基板200之间以将阵列基板100和对置基板200四周密封的密封胶层300，密封胶层300设置在周边区域NA，且环绕显示区域AA，以对显示区域AA进行密封保护，并避免对显示区域AA的显示效果造成不良影响。
如图4和图5所示，密封胶层300具有靠近显示区域AA的第一边缘301和远离显示区域AA的第二边缘302。阵列基板100包括衬底基板110、设置在衬底基板110上的驱动电路120以及设置在驱动电路120远离衬底基板110一侧的有机绝缘层130，有机绝缘层130可以平坦化驱动电路120，且对驱动电路120进行保护。
例如，如图5所示，有机绝缘层130包括第一部分131和第二部分132，在垂直于衬底基板110的板面的方向上，即图中的竖直方向上，第一部分131与密封胶层300重叠，第二部分132与密封胶层300不重叠，且在平行于衬底基板的板面的方向上，即图中的水平方向上，第一部分131的远离显示区域AA的边缘131A位于第一边缘301和第二边缘302之间。由此，密封胶层300完全覆盖第一部分131的边缘131A，而不会暴露第一部分131，以避免水氧等杂质接触到第一部分131的有机绝缘材料，进而避免水氧等杂质沿第一部分131的有机绝缘材料入侵到显示面板内部，提高显示面板的密封效果。
例如，如图3所示，驱动电路120包括设置在周边区域NA的栅扫描驱动电路(GOA)G，栅扫描驱动电路G所设置的区域在图4和图5中标示为栅扫描驱动电路区GOA。显示区域AA具有阵列排布的多个子像素。栅扫描驱动电路G例如包括多个级联的扫描驱动移位寄存器单元，例如每个扫描驱动移位寄存器单元的输出一端与一行中多个子像素电连接，用于为多个子像素提供栅扫描信号，用于向显示区域AA中的阵列排布的多行子像素提供例如逐行移位的栅扫描信号。
例如，在垂直于衬底基板100的板面的方向上，栅扫描驱动电路G与有机绝缘层130的第一部分131至少部分重叠。由此，有机绝缘层130的第一部分131可以保护在密封胶层300下方的栅扫描驱动电路G，并且保持密封胶层300下方的栅扫描驱动电路G所处的环境与有机绝缘层130的第二部分132覆盖的栅扫描驱动电路G所处的环境基本相同，进而保证不同位置的栅扫描驱动电路G具有基本相同的电学特性。
例如，在一些实施例中，在平行于衬底基板110的板面的方向上，第一部分131的远离显示区域AA的边缘131A与第一边缘301的距离小于第一部分131的远离显示区域AA的边缘131A与第二边缘302的距离。即第一部分131的远离显示区域AA的边缘131A不超出密封胶层300宽度的一半，从而增加有机绝缘层130与外界环境的距离，此时，密封胶层300可有效避免水氧等杂质进入到有机绝缘层130。
例如，在一些实施例中，第一边缘131与第二边缘132的距离为0.1毫米-1.5毫米，即密封胶层300的宽度为0.1毫米-1.5毫米，例如0.5微米或者1微米等，以保证密封胶层300的密封效果。
例如，在一些实施例中，在垂直于衬底基板110的板面的方向上，第一部分131的平均厚度等于第二部分132的平均厚度，或者，如图5所示，第一部分131的平均厚度小于第二部分132的平均厚度。由此可减少水氧等杂质的延伸路径，并减薄显示面板的整体厚度，实现显示面板的薄型化。
例如，在一些示例中，第一部分131的平均厚度大于0且小于3微米，例如为1微米、1.5微米或者2微米等，第二部分132的平均厚度大于0且小于等于3微米，例如为2微米、2.5微米或者3微米等。
需要注意的是，在本公开的实施例中，一个结构层的平均厚度是指在垂直于衬底基板110的板面的方向上，该结构层的远离衬底基板110的表面上的各点到靠近衬底基板110的表面的距离的平均值。
例如，如图5所示，栅扫描驱动电路G包括多个级联的扫描驱动移位寄存器单元，每个扫描驱动移位寄存器单元包括多个有源器件121，例如，该多个有源器件包括多个薄膜晶体管，并且例如还可以包括例如电容、导线等其他器件。本公开的实施例对于栅扫描驱动电路G包括的扫描驱动移位寄存器单元的具体构成(例如所采用的器件结构、数量、布置等)没有限制，只要多个扫描驱动移位寄存器单元级联以形成栅扫描驱动电路G即可。
例如，多个有源器件131在有机绝缘层130所在平面上的正投影位于有机绝缘层130内部。由此，有机绝缘层130完全覆盖栅扫描驱动电路G，以保护栅扫描驱动电路G，并保证不同位置的栅扫描驱动电路G具有基本相同的设置环境，进而具有基本相同的电学特性。
例如，在一些实施例中，如图5所示，有机绝缘层130的第一部分131与第二部分132连续设置，第一部分131与第二部分132的截面的远离衬底基板110的边缘呈阶梯状。由此，栅扫描驱动电路G上全面覆盖有机绝缘层130，以进一步保证不同位置的栅扫描驱动电路G具有基本相同的设置环境，进而具有基本相同的电学特性。
例如，在另一些实施例中，如图6A和图7所示，在垂直于衬底基板110的板面的方向上，有机绝缘层130的第一部分131包括与栅扫描驱动电路G的多个有源器件121重叠的有机绝缘图案1311以及与栅扫描驱动电路G的多个有源器件121不重叠的镂空部1312。由此，仅栅扫描驱动电路G的多个有源器件121上方覆盖有机绝缘层130，以保证不同位置的多个有源器件121具有基本相同的设置环境，进而具有基本相同的电学特性；并且，有机绝缘层130的第一部分131所覆盖的面积减小，进而水氧等杂质的延伸路径被进一步减少。
例如，在一些实施例中，图6B示出了栅扫描驱动电路G的电路示意图，其中的多个虚线框所圈出的区域即为多个有源器件121设置的区域。
例如，如图6A和图7所示，与栅扫描驱动电路G的多个有源器件121重叠的有机绝缘图案1311包括彼此间隔的多个部分1311A，在垂直于衬底基板110的板面的方向上，多个部分1311A与多个有源器件121对应重叠，例如，一个有源器件121对应设置一个或多个部分1311A，以保证多个有源器件121被有机绝缘图案1311完全覆盖。
例如，在一些实施例中，如图8所示，多个有源器件121包括多个薄膜晶体管(图8中示出一个薄膜晶体管T2作为示例)，多个薄膜晶体管包括多个有源层(图8中示出一个有源层T21作为示例)，该多个有源层在衬底基板110上的正投影位于多个部分1311A在衬底基板110上的正投影内。由于在多个薄膜晶体管的平面排布中，多个薄膜晶体管在衬底基板110上的正投影与多个有源层在衬底基板110上的正投影的范围相似或者基本相同，因此可以以多个有源层的排布范围为参考，确定多个部分1311A的设置范围，以使得多个部分1311A可以基本完全覆盖多个薄膜晶体管，以保证不同位置处多个薄膜晶体管具有基本相同的设置环境，进而具有基本相同的电学特性。
同样地，本公开的实施例对于栅扫描驱动电路G中的薄膜晶体管的结构不做限制，例如薄膜晶体管可以为底栅型、顶栅型；薄膜晶体管的有源层可以采用各种适当的半导体材料，例如，多晶硅(例如低温多晶硅或高温多晶硅)、非晶硅、氧化铟镓锡(IGZO)等；薄膜晶体管的栅极、源极、漏极等则采用金属材料，例如金属铝或铝合金。例如，薄膜晶体管的有源层可以为长条形，源极和漏极分别位于该长条形有源层的两端，有源层的两端之间的部分与栅极重叠而成为沟道区。或者，薄膜晶体管的有源层可以为方块状，栅极也为方块状且与有缘层重叠，源极和漏极位于同一平面内，其中之一为I型而另一个为U型，I型电极插入到U型电极的开口中。
例如，在一些实施例中，如图5和图7所示，阵列基板100还包括设置在栅扫描驱动电路G远离显示区域AA一侧的多条信号线123，在图4-图6A中，多条信号线123所设置的区域标示为信号线区SL。例如，在垂直于衬底基板110的板面的方向上，多条信号线123与有机绝缘层130不重叠，多条信号线123与密封胶层300重叠。由此，多条信号线123上方不具有有机绝缘层130，从而减少有机绝缘层130在密封胶层300下方的设置范围。
例如，如图5和图7所示，驱动电路120还包括设置在显示区域AA的像素驱动电路122，如图8所示，像素驱动电路122包括第一薄膜晶体管T1，第一薄膜晶体管T1包括第一栅极T12、第一有源层T11和第一源漏极T13。栅扫描驱动电路G的多个薄膜晶体管包括第二薄膜晶体管T2，第二薄膜晶体管T2包括第二栅极T22、第二有源层T21和第二源漏极T23。例如，第一栅极T12与第二栅极T2同层设置，第一有源层T11与第二有源层T2同层设置，第一源漏极T13与第二源漏极T23同层设置。由此简化显示面板的制备工艺。
需要注意的是，在本公开的实施例中，“同层设置”为两个功能层或结构层在显示基板的层级结构中同层且同材料形成，即在制备工艺中，该两个功能层或结构层可以由同一个材料层形成，且可以通过同一构图工艺形成所需要的图案和结构。另外，图8和图9示出的实施例是以第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2均为顶栅型薄膜晶体管作为示例进行介绍的，在本公开的其他实施例中，第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2还可以为底栅型薄膜晶体管或双栅型薄膜晶体管等其他形式的薄膜晶体管，本公开的实施例对此不作限定。
例如，有源层T11和T21可以为非晶硅层、多晶硅层或金属氧化物半导体层。例如，多晶硅可以为高温多晶硅或低温多晶硅，氧化物半导体可以为氧化铟镓锌(IGZO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化镓锌(GZO)等。第一栅极T12与第二栅极T2可以采用铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)等金属材料或者合金材料，例如形成为单层金属层结构或者多层金属层结构，例如钛/铝/钛等多层金属层结构。第一源漏极T13与第二源漏极T23可以采用铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)等金属材料或者合金材料，例如形成为单层金属层结构或者多层金属层结构，例如钛/铝/钛等多层金属层结构。
例如，多条信号线123分别与第一栅极T12和第二栅极T22同层设置，以进一步简化制备工艺。例如，多条信号线123可以与栅扫描驱动电路G电连接，为栅扫描驱动电路G传输驱动信号。
例如，如图8所示，阵列基板100还包括设置在像素驱动电路远离衬底基板110一侧的第一平坦化层150，以平坦化并保护像素驱动电路。例如，上述有机绝缘层130包括第一平坦化层150，即第一平坦化层150形成为有机绝缘层130的至少一部分。
例如，如图8所示，阵列基板还包括设置在第一平坦化层150远离衬底基板100一侧的第一驱动电极E1以及设置在第一驱动电极E1远离衬底基板110一侧的第二平坦化层160。例如，有机绝缘层130还包括第二平坦化层160，即第二平坦化层160也形成为有机绝缘层130的至少一部分。
例如，显示面板还包括第二驱动电极E2，在一些示例中，如图8所示，第二驱动电极E2设置在阵列基板100上，并与第一驱动电极E1同层且间隔设置；或者，在另一些示例中，如图9所示，第二驱动电极E2设置在阵列基板100上，且与第一驱动电极E1异层且间隔设置，此时，第二驱动电极E2的远离衬底基板110的一侧还设置有第三平坦化层170。例如，有机绝缘层130还包括第三平坦化层170，即第三平坦化层170也形成为有机绝缘层130的至少一部分。或者，在另一些示例中，第二驱动电极E2也可以设置在对置基板200上。本公开的实施例对第一驱动电极E1和第二驱动电极E2的具体排布方式不做限定。
例如，第一平坦化层150、第二平坦化层160以及第三平坦化层170等有机绝缘层可以采用聚酰亚胺或者丙烯酸树脂等有机绝缘材料。
例如，如图5和图7所示，显示面板还包括设置在阵列基板100和对置基板200之间的液晶层400，液晶层400包括液晶材料，该液晶材料可在上述第一驱动电极E1和第二驱动电极E2的驱动下发生不同的偏转，进而实现不同的透光率，以实现显示。此时，显示面板实现为液晶显示面板。
例如，阵列基板100还包括第一偏光片(未示出)，该第一偏光片例如设置在阵列基板的显示用光的入光侧；对置基板200还包括第二偏光片(未示出)，该第二偏光片例如设置在对置基板200的显示用光的出光侧。例如，第一偏光片的偏光轴和第二偏光片的偏光轴彼此垂直，由此液晶400在第一偏光片和第二偏光片的配合下能够控制对应区域的透光程度，例如对于灰阶范围0～255，可以实现基本上不透光的0灰阶或最大透光程度的255灰阶。
例如，如图5和图7-图9所示，阵列基板100还包括设置在驱动电路120和有机绝缘层130之间的钝化层140，钝化层140例如采用氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等无机绝缘材料。对置基板200还包括黑矩阵层201，黑矩阵层201包括多个像素开口202，多个像素开口202分别对应显示区域AA中的多个子像素。例如，多个像素开口202可以对应设置不同颜色的滤光片，从而在液晶层400透光时，不同的像素开口202可以透过不同颜色的光，例如红光、绿光、蓝光等，以实现彩色显示。例如，密封胶层300分别与黑矩阵201和钝化层140直接接触，以将阵列基板100和对置基板200密封。
需要注意的是，本公开实施例提供的显示面板还可以包括触控层、封装层等其他功能层，这些功能层可以参考常规技术，在此不再赘述。另外，本公开实施例提供的显示面板也可以其他类型的显示面板，例如有机发光显示面板或者量子点发光显示面板等，本公开的实施例对显示面板的种类不作具体限定。
本公开至少一实施例还提供一种制备显示面板的方法，该显示面板具有显示区域和围绕显示区域的周边区域，如图10所示，该方法包括步骤S101-S103。
步骤S101：提供阵列基板。
例如，该阵列基板包括衬底基板、设置在衬底基板上的驱动电路以及设置在驱动电路远离衬底基板一侧的有机绝缘层，有机绝缘层包括第一部分和第二部分。
步骤S102：提供对置基板。
本公开的实施例对对置基板的具体结构不做限定，例如，对置基板包括黑矩阵层等功能层。
步骤S103：在阵列基板和对置基板之间形成密封胶层，以将阵列基板和对置基板结合。
例如，密封胶层形成在周边区域，密封胶层具有靠近显示区域的第一边缘和远离显示区域的第二边缘，在垂直于衬底基板的板面的方向上，第一部分与密封胶层重叠，第二部分与密封胶层不重叠，且在平行于衬底基板的板面的方向上，第一部分的远离显示区域的边缘位于第一边缘和第二边缘之间，驱动电路包括设置在周边区域的栅扫描驱动电路，在垂直于衬底基板的板面的方向上，栅扫描驱动电路与第一部分至少部分重叠。
例如，形成阵列基板包括在衬底基板上形成驱动电路，驱动电路的制备过程可以参考相关技术，这里不再赘述。然后，在驱动电路远离衬底基板一侧形成有机绝缘层，有机绝缘层包括第一部分和第二部分。
例如，在一些实施例中，如图5和图7所示，在垂直于衬底基板的板面的方向上，第一部分的平均厚度小于第二部分的平均厚度。此时，形成第一部分与第二部分包括：采用灰色调掩模板形成第一部分和第二部分，该灰色调掩模板包括对应于第一部分的第一掩模部分以及对应于第二部分的第二掩模部分，第一掩模部分与第二掩模部分的透光率不同。
例如，当有机绝缘层的材料为光刻胶材料时，可以直接对整面形成的有机绝缘材料层进行曝光与显影以形成具有图案的有机绝缘层。或者，当有机绝缘层的材料为非光刻胶材料时，可以在整面形成的有机绝缘材料层上方通过曝光与显影形成光刻胶图案，然后以该光刻胶图案为掩模对有机绝缘材料层进行刻蚀以形成具有图案的有机绝缘层。
下面，以有机绝缘层的材料为光刻胶材料为例，对有机绝缘层的形成方式进行详细描述。
例如，在一些实施例中，有机绝缘层的材料为丙烯酸树脂等负性光刻胶材料，此时，有机绝缘材料层的未曝光部分可以通过显影去除，而曝光部分可以被保留。在另一些实施例中，有机绝缘层的材料为聚酰亚胺等正性光刻胶材料，此时，有机绝缘材料层的曝光部分可以通过显影去除，而未被曝光部分可以被保留。
例如，图11A和图11B示出了形成图5所示的有机绝缘层的制备过程。如图11A和图11B所示，采用灰色调掩模板形成第一部分131和第二部分132，该灰色调掩模板包括对应于第一部分131的第一掩模部分M1以及对应于第二部分132的第二掩模部分M2，第一掩模部分M1与第二掩模部分M2的透光率不同。
例如，在有机绝缘层的材料为丙烯酸树脂等负性光刻胶材料的情况下，第一掩模部分M1半透光，第二掩模部分M2完全透光，另外，该灰色调掩模板还包括除第一掩模部分M1与第二掩模部分M2之外的第三掩模部分M3，第三掩模部分M3不透光。例如，在另一些实施例中，在有机绝缘层的材料为聚酰亚胺等正性光刻胶材料的情况下，第一掩模部分M1半透光，第二掩模部分M2不透光，第三掩模部分M3完全透光。
如图11A所示，在阵列基板的驱动电路形成后，在驱动电路上形成有机绝缘材料层1300，然后利用该灰色调掩模板对有机绝缘材料层1300进行曝光，之后进行显影，如图11B所示，在显影后，有机绝缘材料层1300的对应于第三掩模部分M3的部分被完全去除，有机绝缘材料层1300的对应于第一掩模部分M1的部分被部分去除，有机绝缘材料层1300的对应于第二掩模部分M2的部分不被去除，即完全保留，由此形成的有机绝缘层130中，第一部分131的平均厚度小于第二部分132的平均厚度。
例如，图12A和图12B示出了形成图7所示的有机绝缘层的制备过程。该示例中，在垂直于衬底基板的板面的方向上，第一部分的平均厚度小于第二部分的平均厚度，第一部分包括与栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案以及与栅扫描驱动电路的多个有源器件不重叠的镂空部。
如图12A和图12B所示，采用灰色调掩模板形成第一部分131和第二部分132，图13示出了该灰色调掩模板的平面示意图，如图12A、图12B和图13所示，该灰色调掩模板包括对应于第一部分131的有机绝缘图案的第一掩模部分M1、对应于第一部分131的镂空部的第二掩模部分M2以及对应于第二部分的第三掩模部分M3，第三掩模部分M3例如还对应于其他有机绝缘层需要被去除的部分。
例如，在有机绝缘层的材料为丙烯酸树脂等负性光刻胶材料的情况下，第一掩模部分M1半透光、第二掩模部分M2完全透光，第三掩模部分M3不透光。例如，在另一些实施例中，在有机绝缘层的材料为聚酰亚胺等正性光刻胶材料的情况下，第一掩模部分M1半透光、第二掩模部分M2不透光，第三掩模部分M3完全透光。
如图12A所示，在阵列基板的驱动电路形成后，在驱动电路上形成有机绝缘材料层1300，然后利用该灰色调掩模板对有机绝缘材料层1300进行曝光，之后进行显影，如图12B所示，在显影后，有机绝缘材料层1300的对应于第三掩模部分M3的部分被完全去除，有机绝缘材料层1300的对应于第一掩模部分M1的部分被部分去除，有机绝缘材料层1300的对应于第二掩模部分M2的部分不被去除，即完全保留，由此形成的有机绝缘层130中，第一部分131的平均厚度小于第二部分132的平均厚度，且第一部分131包括与栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案以及与栅扫描驱动电路的多个有源器件不重叠的镂空部。
例如，在另一些实施例中，也可以采用狭缝掩模板形成如图7所示的有机绝缘层。例如，图14示出了该狭缝掩模板的平面示意图。如图14所示，狭缝掩模板包括对应于第一部131的有机绝缘图案的狭缝部分S1、对应于第一部分131的镂空部的第一掩模部分S2以及对应于第二部分132的第二掩模部分S3。狭缝部分S1包括多个狭缝，每个狭缝的宽度小于用于曝光的曝光机的分辨率极限，从而利用光的衍射效应实现半曝光的效果。第一掩模部分S2和第二掩模部分S3中的一个透光，另一个不透光。
例如，在有机绝缘层的材料为丙烯酸树脂等负性光刻胶材料的情况下，第一掩模部分S2不透光，第二掩模部分S3透光。例如，在其他实施例中，在有机绝缘层的材料为聚酰亚胺等正性光刻胶材料的情况下，第一掩模部分S2透光，第二掩模部分S3不透光。
例如，在形成了有机绝缘层130后，阵列基板上还可以形成第一驱动电极、第二驱动电极等其他结构，本公开的实施例对此不作限定。
例如，在阵列基板和对置基板形成好之后，在阵列基板和对置基板之间形成密封胶层，以将阵列基板和对置基板结合，并在阵列基板和对置基板之间注入液晶材料以形成液晶层。
例如，本公开的制备方法还可以包括在阵列基板和对置基板上贴附偏光片等其他工艺，这些工艺可以参见相关技术，本公开的实施例不再赘述。
还有以下几点需要说明：
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (13)

1.一种显示面板，具有显示区域和围绕所述显示区域的周边区域，包括阵列基板、对置基板以及在所述阵列基板和所述对置基板之间以将所述阵列基板和所述对置基板四周密封的密封胶层，
其中，所述密封胶层设置在所述周边区域，所述密封胶层具有靠近所述显示区域的第一边缘和远离所述显示区域的第二边缘，
所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的驱动电路以及设置在所述驱动电路远离所述衬底基板一侧的有机绝缘层，
所述有机绝缘层包括第一部分和第二部分，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分与所述密封胶层重叠，所述第二部分与所述密封胶层不重叠，且在平行于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的远离所述显示区域的边缘位于所述第一边缘和所述第二边缘之间，
所述驱动电路包括设置在所述周边区域的栅扫描驱动电路，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述栅扫描驱动电路与所述第一部分至少部分重叠，
所述栅扫描驱动电路包括多个有源器件，所述多个有源器件在所述有机绝缘层所在平面上的正投影位于所述有机绝缘层内部，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分包括与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案以及与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件不重叠的镂空部，
与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案包括彼此间隔的多个部分，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述多个部分与所述多个有源器件对应重叠，
所述多个有源器件包括多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管包括多个有源层，所述多个有源层在衬底基板上的正投影位于所述多个部分在所述衬底基板上的正投影内，
所述阵列基板还包括设置在所述栅扫描驱动电路远离所述显示区域一侧的多条信号线，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述多条信号线与所述有机绝缘层不重叠，所述多条信号线与所述密封胶层重叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其中，在平行于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的远离所述显示区域的边缘与所述第一边缘的距离小于所述第一部分的远离所述显示区域的边缘与所述第二边缘的距离。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述驱动电路还包括设置在所述显示区域的像素驱动电路，所述像素驱动电路包括第一薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管包括第一栅极、第一有源层和第一源漏极，
所述多个薄膜晶体管包括第二薄膜晶体管，所述第二薄膜晶体管包括第二栅极、第二有源层和第二源漏极，
所述第一栅极与所述第二栅极同层设置，所述第一有源层与所述第二有源层同层设置，所述第一源漏极与所述第二源漏极同层设置。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其中，所述多条信号线分别与所述第一栅极和所述第二栅极同层设置。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其中，所述阵列基板还包括设置在所述像素驱动电路远离所述衬底基板一侧的第一平坦化层，
所述有机绝缘层包括所述第一平坦化层。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述阵列基板还包括设置在所述第一平坦化层远离所述衬底基板一侧的第一驱动电极以及设置在所述第一驱动电极远离所述衬底基板一侧的第二平坦化层，
所述有机绝缘层还包括所述第二平坦化层。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述显示面板还包括第二驱动电极，所述第二驱动电极设置在所述阵列基板上，并与所述第一驱动电极同层且间隔设置，或者与所述第一驱动电极异层且间隔设置；或者
所述第二驱动电极设置在所述对置基板上。
8.根据权利要求1或2所述的显示面板，其中，阵列基板还包括设置在所述驱动电路和所述有机绝缘层之间的钝化层，所述对置基板还包括黑矩阵层，所述黑矩阵层包括多个像素开口，
所述密封胶层与所述黑矩阵和所述钝化层直接接触。
9.根据权利要求1或2所述的显示面板，其中，所述第一边缘与所述第二边缘的距离为0.1毫米-1.5毫米。
10.根据权利要求1或2所述的显示面板，还包括设置在所述阵列基板和所述对置基板之间的液晶层。
11.一种制备显示面板的方法，该显示面板具有显示区域和围绕所述显示区域的周边区域，所述方法包括：
提供阵列基板，其中，所述阵列基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的驱动电路以及设置在所述驱动电路远离所述衬底基板一侧的有机绝缘层，所述有机绝缘层包括第一部分和第二部分；
提供对置基板；以及
在所述阵列基板和所述对置基板之间形成密封胶层，以将所述阵列基板和所述对置基板结合，
其中，所述密封胶层形成在所述周边区域，所述密封胶层具有靠近所述显示区域的第一边缘和远离所述显示区域的第二边缘，
在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分与所述密封胶层重叠，所述第二部分与所述密封胶层不重叠，且在平行于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分的远离所述显示区域的边缘位于所述第一边缘和所述第二边缘之间，
所述驱动电路包括设置在所述周边区域的栅扫描驱动电路，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述栅扫描驱动电路与所述第一部分至少部分重叠，
所述栅扫描驱动电路包括多个有源器件，所述多个有源器件在所述有机绝缘层所在平面上的正投影位于所述有机绝缘层内部，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述第一部分包括与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案以及与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件不重叠的镂空部，
与所述栅扫描驱动电路的多个有源器件重叠的有机绝缘图案包括彼此间隔的多个部分，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述多个部分与所述多个有源器件对应重叠，
所述多个有源器件包括多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管包括多个有源层，所述多个有源层在衬底基板上的正投影位于所述多个部分在所述衬底基板上的正投影内，
所述阵列基板还包括设置在所述栅扫描驱动电路远离所述显示区域一侧的多条信号线，在垂直于所述衬底基板的板面的方向上，所述多条信号线与所述有机绝缘层不重叠，所述多条信号线与所述密封胶层重叠。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，形成所述第一部分与所述第二部分包括：
采用灰色调掩模板形成所述第一部分和第二部分，其中，所述灰色调掩模板包括对应于所述第一部分的有机绝缘图案的第一掩模部分、对应于第一部分的镂空部的第二掩模部分以及对应于所述第二部分的第三掩模部分，所述第一掩模部分、所述第二掩模部分与所述第三掩模部分的透光率互不相同。
13.根据权利要求11所述的方法，其中，形成所述第一部分与所述第二部分包括：
采用狭缝掩模板形成所述第一部分和第二部分，其中，所述狭缝掩模板包括对应于所述第一部分的有机绝缘图案的狭缝部分、对应于所述第一部分的镂空部的第一掩模部分以及对应于所述第二部分的第二掩模部分，所述第一掩模部分和所述第二掩模部分中的一个透光，另一个不透光。
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