CN113791464B - 一种同步溅射双面ar玻璃盖板功能膜系叠置方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法，包括功能膜系薄膜层结构叠置方法和薄膜层光学膜厚设置方法，所述功能膜系薄膜层结构叠置方法是采用高透射率薄膜材料二氧化硅和高折射率薄膜材料五氧化二铌叠加叠置的双面膜系结构，所述薄膜层光学膜厚设置方法包括高透射率薄膜材料二氧化硅单薄膜层膜厚设置和高折射率薄膜材料五氧化二铌单薄膜层膜厚设置。通过采用上述不同材料薄膜层叠加叠置方法和单薄膜层光学膜厚为所构成的双面AR玻璃盖板膜系功能膜系，比传统的单面AR玻璃可见光透过率可提高到或超过99％。双面AR玻璃盖板可使视频图像色彩更加清淅逼真。

Description

一种同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法
技术领域
本发明属于电子显示玻璃盖板技术领域，特别是涉及一种同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法。
背景技术
随着电子显示技术的快速发展，人们对电子显示屏图像清晰度也提出了新的更高的要求，目前有镀膜企业在单面AR玻璃基础上将其背面二次加工成双面AR玻璃，该二次镀膜加工工艺过程不仅会给单面AR功能膜层表面带来损伤、而且它在差异溅射气氛中所沉积的双面AR膜系可见光透过率很难达到理想值。
发明内容
为了克服上述问题，本发明提供了一种同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法，使AR玻璃盖板可见光透过率提高≥99％；通过采用同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法，不仅相对老工艺方法在产能上成倍增长，而且功能膜系质量也得到了很大提高，同时可见光透过率也明显优于前者。
本发明所采用的技术方案是：
一种同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法，包括功能膜系薄膜层结构叠置方法和薄膜层光学膜厚设置方法，所述功能膜系薄膜层结构叠置方法是采用高透射率薄膜材料二氧化硅和高折射率薄膜材料五氧化二铌叠加叠置的双面膜系结构，所述薄膜层光学膜厚设置方法包括高透射率薄膜材料二氧化硅单薄膜层膜厚设置和高折射率薄膜材料五氧化二铌单薄膜层膜厚设置；
所述功能膜系薄膜层结构叠置方法，包括如下步骤：
依玻璃基板空气面和玻璃基板锡面两个表面的第一层均叠置第一层高透射率材料二氧化硅薄膜打底层；
依玻璃基板空气面和玻璃基板锡面两个表面的第二层均叠置第二层高折射率材料五氧化二铌薄膜层；
依玻璃基板空气面和玻璃基板锡面两个表面的第三层均叠置第三层高折射率材料五氧化二铌薄膜层；
依玻璃基板空气面和玻璃基板锡面两个表面的第四层均叠置第四层高透射率材料二氧化硅薄膜层；
依玻璃基板空气面和玻璃基板锡面两个表面的第五层均叠置第五层高透射率材料二氧化硅薄膜层；
依玻璃基板空气面和玻璃基板锡面两个表面的第六层均叠置第六层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层；
依玻璃基板空气面和玻璃基板锡面两个表面的第七层均叠置第七层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层；
依玻璃基板空气面和玻璃基板锡面两个表面的第八层均叠置第八层高透射率材料二氧化硅薄膜覆盖层。
其中，第一层高透射率材料二氧化硅薄膜打底层的光学膜厚为23nm。
其中，第二层高折射率材料五氧化二铌薄膜层和所述第七层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层的光学膜厚均为20nm。
其中，第三层高折射率材料五氧化二铌薄膜层和所述第六层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层的光学膜厚均为26nm。
其中，第四层高透射率材料二氧化硅薄膜层的光学膜厚为10nm。
其中，第五层高透射率材料二氧化硅薄膜层的光学膜厚为13nm。
其中，第八层高透射率材料二氧化硅薄膜覆盖层的光学膜厚为25nm。
本发明的优点如下：
通过采用上述不同材料薄膜层叠加叠置方法和单薄膜层光学膜厚为所构成的双面AR玻璃盖板膜系功能膜系，比传统的单面AR玻璃可见光透过率可提高到或超过99％；双面AR玻璃盖板可使视频图像色彩更加清淅逼真。
附图说明
图1为本发明所述一种同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法中功能膜系叠置结构示意图。
附图标记说明如下：
1、第一层高透射率材料二氧化硅薄膜打底层；2、第二层高折射率材料五氧化二铌薄膜层；3、第三层高折射率材料五氧化二铌薄膜层；4、第四层高透射率材料二氧化硅薄膜层；5、第五层高透射率材料二氧化硅薄膜层；6、第六层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层；7、第七层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层；8、第八层高透射率材料二氧化硅薄膜覆盖层；9、玻璃基板空气面；10、玻璃基板锡面；11、玻璃基板。
具体实施方式
下面对本发明作进一步的说明，但本发明并不局限于这些内容。
实施例
如图1所示，一种同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法，包括功能膜系薄膜层结构叠置方法和薄膜层光学膜厚设置方法，功能膜系薄膜层结构叠置方法是采用高透射率薄膜材料二氧化硅和高折射率薄膜材料五氧化二铌叠加叠置的双面膜系结构，即功能膜系薄膜层依玻璃基板11的玻璃基板空气面9和玻璃基板锡面10分别设置第一层高透射率材料二氧化硅薄膜打底层1、第二层高折射率材料五氧化二铌薄膜层2、第三层高折射率材料五氧化二铌薄膜层3、第四层高透射率材料二氧化硅薄膜层4、第五层高透射率材料二氧化硅薄膜层5、第六层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层6、第七层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层7、第八层高透射率材料二氧化硅薄膜覆盖层8；薄膜层光学膜厚设置方法包括高透射率薄膜材料二氧化硅单薄膜层膜厚设置和高折射率薄膜材料五氧化二铌单薄膜层膜厚设置；
具体包括如下步骤：
依玻璃基板空气面9第一层叠置第一层高透射率材料二氧化硅薄膜打底层1，光学膜厚为23nm；
依玻璃基板锡面10第一层叠置第一层高透射率材料二氧化硅薄膜打底层1，光学膜厚为23nm；
依玻璃基板空气面9第二层叠置第二层高折射率材料五氧化二铌薄膜层2，光学膜厚为20nm；
依玻璃基板锡面10第二层叠置第二层高折射率材料五氧化二铌薄膜层2，光学膜厚为20nm；
依玻璃基板空气面9第三层叠置第三层高折射率材料五氧化二铌薄膜层3，光学膜厚为26nm；
依玻璃基板锡面10第三层叠置第三层高折射率材料五氧化二铌薄膜层3，光学膜厚为26nm；
依玻璃基板空气面9第四层叠置第四层高透射率材料二氧化硅薄膜层4，光学膜厚为10nm；
依玻璃基板锡面10第四层叠置第四层高透射率材料二氧化硅薄膜层4，光学膜厚为10nm；
依玻璃基板空气面9第五层叠置第五层高透射率材料二氧化硅薄膜层5，光学膜厚为13nm；
依玻璃基板锡面10第五层叠置第五层高透射率材料二氧化硅薄膜层5，光学膜厚为13nm；
依玻璃基板空气面9第六层叠置第六层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层6，光学膜厚为26nm；
依玻璃基板锡面10第六层叠置第六层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层6，光学膜厚为26nm；
依玻璃基板空气面9第七层叠置第七层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层7，光学膜厚为20nm；
依玻璃基板锡面10第七层叠置第七层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层7，光学膜厚为20nm；
依玻璃基板空气面9第八层叠置第八层高透射率材料二氧化硅薄膜覆盖层8，光学膜厚为25nm。
依玻璃基板锡面10第八层叠置第八层高透射率材料二氧化硅薄膜覆盖层8，光学膜厚为25nm。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效膜系结构或等效膜厚设置，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (1)

1.一种同步溅射双面AR玻璃盖板功能膜系叠置方法，其特征在于：包括功能膜系薄膜层结构叠置方法和薄膜层光学膜厚设置方法，所述功能膜系薄膜层结构叠置方法是采用高透射率薄膜材料二氧化硅和高折射率薄膜材料五氧化二铌叠加叠置的双面膜系结构，所述薄膜层光学膜厚设置方法包括高透射率薄膜材料二氧化硅单薄膜层膜厚设置和高折射率薄膜材料五氧化二铌单薄膜层膜厚设置；
所述功能膜系薄膜层结构叠置方法，包括如下步骤：
依玻璃基板空气面(9)和玻璃基板锡面(10)两个表面的第一层均叠置第一层高透射率材料二氧化硅薄膜打底层(1)；
依玻璃基板空气面(9)和玻璃基板锡面(10)两个表面的第二层均叠置第二层高折射率材料五氧化二铌薄膜层(2)；
依玻璃基板空气面(9)和玻璃基板锡面(10)两个表面的第三层均叠置第三层高折射率材料五氧化二铌薄膜层(3)；
依玻璃基板空气面(9)和玻璃基板锡面(10)两个表面的第四层均叠置第四层高透射率材料二氧化硅薄膜层(4)；
依玻璃基板空气面(9)和玻璃基板锡面(10)两个表面的第五层均叠置第五层高透射率材料二氧化硅薄膜层(5)；
依玻璃基板空气面(9)和玻璃基板锡面(10)两个表面的第六层均叠置第六层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层(6)；
依玻璃基板空气面(9)和玻璃基板锡面(10)两个表面的第七层均叠置第七层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层(7)；
依玻璃基板空气面(9)和玻璃基板锡面(10)两个表面的第八层均叠置第八层高透射率材料二氧化硅薄膜覆盖层(8)；
所述第一层高透射率材料二氧化硅薄膜打底层(1)的光学膜厚为23nm，所述第二层高折射率材料五氧化二铌薄膜层(2)和所述第七层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层(7)的光学膜厚均为20nm，所述第三层高折射率材料五氧化二铌薄膜层(3)和所述第六层高折射率薄膜材料五氧化二铌薄膜层(6)的光学膜厚均为26nm，所述第四层高透射率材料二氧化硅薄膜层(4)的光学膜厚为10nm，所述第五层高透射率材料二氧化硅薄膜层(5)的光学膜厚为13nm，所述第八层高透射率材料二氧化硅薄膜覆盖层(8)的光学膜厚为25nm。
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