CN113727851A - 光学膜层叠体 - Google Patents

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CN113727851A CN202080030656.1A CN202080030656A CN113727851A CN 113727851 A CN113727851 A CN 113727851A CN 202080030656 A CN202080030656 A CN 202080030656A CN 113727851 A CN113727851 A CN 113727851A
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Abstract

提供一种低反射且适合应用于触摸面板显示器的光学膜层叠体。依次层叠有透明基材和防反射层。反射色度在L*a*b*表色系中为‑10≤a*≤5、‑10≤b*≤10。上述防反射层的与上述透明基材对置的面的相反侧的面的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上。

Description

光学膜层叠体
技术领域
本发明涉及光学膜层叠体。详细而言，本发明涉及具备透明基材和防反射层的光学膜层叠体。
背景技术
要求导航系统等中使用的触摸面板显示器的高品质化，例如，为了提高显示器中显示的信息的可视性，进行了使光反射率降低的操作。作为降低反射率的手段，可举出防反射膜。例如专利文献1、2和3中公开了防反射膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第6244760号公报
专利文献2：日本特开2014-145914号公报
专利文献3：日本特开2005-301004号公报
发明内容
专利文献1和2所述的防反射膜仅使特定波长的反射率降低，因此来自于反射率未降低的上述特定波长以外的波长的特定色反而被强烈地视觉辨认到。因此，存在使显示器显示的可视性降低、或者即使在暗处，上述特定色有时也显眼等问题。
另外，专利文献3的防反射膜由于使表面电阻率降低，所以不能说适合于静电电容式的触摸面板显示器。
本发明的目的在于提供一种低反射且适合应用于触摸面板显示器的光学膜层叠体。
本发明的一个方式的光学膜层叠体依次层叠有透明基材和防反射层。光学膜层叠体的反射色度在L*a*b*表色系中为-10≤a*≤5、-10≤b*≤10。防反射层的与透明基材对置的面的相反侧的面的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上。
附图说明
[图1]图1是表示本发明的一个实施方式的光学膜层叠体的一个例子的示意性截面图。
[图2]图2A是表示带金属基材的薄膜金属箔的一个例子的示意性截面图。图2B是表示覆金属透明基材材料的一个例子的示意性截面图。
[图3]图3A是表示透视型电极用层叠板的一个例子的示意性截面图。图3B是表示透视型电极原材料的一个例子的示意性截面图。图3C是表示器件的一个例子的示意性截面图。
具体实施方式
1.概要
如图1所示，本发明的一个实施方式的光学膜层叠体100依次层叠有透明基材1和防反射层6。防反射层6从下方(透明基材1侧)依次层叠有中折射率层2、高折射率层3和低折射率层4。中折射率层2的折射率为1.56以上且1.66以下。高折射率层3的折射率为1.74以上且1.90以下。低折射率层4的折射率为1.34以上且1.38以下。防反射层6的与透明基材1对置的面的相反侧的面的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上。
在本实施方式的光学膜层叠体100中，通过满足低折射率层4的折射率＜中折射率层2的折射率＜高折射率层3的折射率的条件，并且中折射率层2、高折射率层3和低折射率层4的折射率在上述范围内，能够降低光学膜层叠体100的光反射率。另外，通过这些构成，能够使光学膜层叠体100接近于中性色(无色)。由此，能够提高显示器等的显示的可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。
在将表面电阻值低的层叠体应用于静电电容式的触摸面板显示器的情况下，有时无法准确地测定静电电容值。对此，在本实施方式的光学膜层叠体100中，通过防反射层6的与透明基材1对置的面的相反侧的面的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上，从而容易准确地测定静电电容值，例如能够抑制出厂检查时的静电电容值测定错误的产生、触摸面板操作时的误动作。因此，本实施方式的光学膜层叠体100适合应用于触摸面板显示器。
2.详细
2-1.光学膜层叠体
如上所述，本实施方式的光学膜层叠体100包含透明基材1和防反射层6。防反射层6包含中折射率层2、高折射率层3和低折射率层4。本实施方式的光学膜层叠体100可以进一步包含硬涂层5。该硬涂层5设置于透明基材1与防反射层6之间(参照图1)。详细而言，硬涂层5设置于透明基材1与中折射率层2之间(参照图1)。因此，在光学膜层叠体100中，依次层叠有透明基材1、硬涂层5、中折射率层2、高折射率层3和低折射率层4。以下，对光学膜层叠体100所具备的各层的构成进行详细说明。
(1)透明基材
透明基材1是防反射膜中使用的膜状或片状的透明的基材。
透明基材1的俯视的形状和尺寸没有特别限定，根据贴附光学膜层叠体100的对象物的俯视的形状和尺寸适当设定。透明基材1的厚度没有特别限定。
透明基材1的材质没有特别限定，例如优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)制、三乙酰纤维素制或环烯烃聚合物(COP)制。
(2)硬涂层
硬涂层5是硬度大于中折射率层2、高折射率层3和低折射率层4的层。通过硬涂层5，能够提高层叠体100的耐擦伤性。
硬涂层5设置于透明基材1上。本实施方式的硬涂层5与透明基材1接触。
硬涂层5的俯视的形状和尺寸根据透明基材1的俯视的形状和尺寸适当设定。例如硬涂层5的俯视的形状优选与透明基材1的俯视的形状相同。另外，例如硬涂层5的尺寸优选与透明基材1的尺寸相同。
硬涂层5的折射率例如优选为1.54以上且1.57以下。在该情况下，硬涂层5的厚度例如优选为3μm以上且7μm以下。由此，能够使光学膜层叠体100更低反射，并且能够接近于中性色(无色)。另外，能够提高硬涂层5的强度，也能够提高光学膜层叠体100的强度。
硬涂层5优选为紫外线固化型树脂组合物制。紫外线固化型树脂组合物例如优选包含丙烯酸系树脂。即，硬涂层5优选包含丙烯酸系树脂。用于制作硬涂层5的紫外线固化型树脂组合物优选包含光聚合引发剂。光聚合引发剂的例子包括苯乙酮类、二苯甲酮类、α-酰胺肟酯、噻吨酮类等。用于制作硬涂层5的紫外线固化型树脂组合物例如可以包含反应性稀释剂、光聚合引发剂、光敏剂等。
(3)中折射率层
中折射率层2是用于降低光学膜层叠体100的反射率的层。中折射率层2的折射率大于低折射率层4的折射率，并且小于高折射率层3的折射率。
中折射率层2设置于透明基材1上，详细而言，设置于层叠于透明基材1上的硬涂层5上。因此，在光学膜层叠体100中，按照透明基材1、硬涂层5、中折射率层2的顺序进行层叠。另外，中折射率层2与硬涂层5接触。
中折射率层2的俯视的形状和尺寸根据透明基材1的俯视的形状和尺寸适当设定。例如，中折射率层2的俯视的形状优选与透明基材1的俯视的形状相同。另外，例如，中折射率层2的尺寸优选与透明基材1的尺寸相同。对于中折射率层2的折射率和厚度，在后文进行叙述。
中折射率层2优选为紫外线固化型树脂组合物制。紫外线固化型树脂组合物例如优选包含丙烯酸系树脂。即，中折射率层2优选包含丙烯酸系树脂。在本实施方式的光学膜层叠体100中，由于硬涂层5也包含丙烯酸系树脂，所以能够减小硬涂层5与中折射率层2的线膨胀系数差，能够抑制在光学膜层叠体100的加热时产生翘曲。丙烯酸系树脂可以与硬涂层5中所含的丙烯酸系树脂相同，也可以不同。丙烯酸系树脂例如优选包含具有羟基的(甲基)丙烯酸系化合物。
进一步对本实施方式中的丙烯酸系树脂进行说明。需要说明的是，在下述说明中，“(甲基)丙烯酸-”是指“丙烯酸-”和“甲基丙烯酸-”中的至少一者。例如，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯中的至少一者。
本实施方式中的丙烯酸系树脂为(甲基)丙烯酸酯的固化物，即含有(甲基)丙烯酰基的单体或低聚物的固化物。作为这样的(甲基)丙烯酸酯，例如可举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯和聚酯(甲基)丙烯酸酯等。
上述(甲基)丙烯酸酯可以是含有1个丙烯酰基作为官能团的单官能丙烯酸酯，也可以是含有多个丙烯酰基作为官能团的多官能丙烯酸酯。本实施方式中的丙烯酸系树脂优选为含有3个以上丙烯酰基作为官能团的化合物。在该情况下，在上述硬涂层和防反射层中，存在多个来自于丙烯酰基的交联结构，因此能够提高耐擦伤性。丙烯酸系树脂例如可举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三2-羟基乙基异氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和二(三羟甲基丙烷)三(甲基)丙烯酸酯等3官能丙烯酸酯；季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯和二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等4官能丙烯酸酯；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯和二(三羟甲基丙烷)五(甲基)丙烯酸酯等5官能丙烯酸酯；二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯和二(三羟甲基丙烷)六(甲基)丙烯酸酯等6官能丙烯酸酯；以及这些丙烯酸酯中的基团被烷基或ε-己内酯取代的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
此外，通过使上述(甲基)丙烯酸酯含有聚合性官能团和氟烷基，能够对本实施方式中的光学膜层叠体赋予防污性，在这一点上是优选的。作为这样的含有聚合性官能团和氟烷基的(甲基)丙烯酸酯，可以含有烯键式不饱和基团作为聚合性官能团。上述聚合性官能团可以仅由(甲基)丙烯酰基构成，含有聚合性官能团和氟烷基的(甲基)丙烯酸酯可以进一步含有选自乙烯基、烯丙基和苯乙烯基中的至少一种基团作为聚合性官能团。
例如，可举出(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟正丁酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟正戊酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟正己酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟正辛酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟正癸酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟异丁酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟异辛酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-全氟异十二烷基酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,5H-全氟戊酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,7H-全氟庚酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,9H-全氟壬酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,11H-全氟十一烷基酯、(甲基)丙烯酸3,3,3-三氟丙酯、(甲基)丙烯酸3,3,4,4,4-五氟丁酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟正丙基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟正丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟正己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟正辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟正癸基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟异丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟异辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸3,3,4,4-四氟丁酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,6H-全氟己酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,8H-全氟辛酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,10H-全氟癸酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,12H-全氟十二烷基酯、季戊四醇二丙烯酸酯二氟丁酸酯等。含有聚合性官能团和氟烷基的(甲基)丙烯酸酯可以为全氟聚醚丙烯酸酯化合物。该全氟聚醚丙烯酸酯化合物优选具有全氟烷基作为主链，并且在主链的末端或侧链具有聚合性官能团。
用于制作中折射率层2的紫外线固化型树脂组合物优选包含光聚合引发剂。光聚合引发剂的例子包括苯乙酮类、二苯甲酮类、α-酰胺肟酯、噻吨酮类等。
用于制作中折射率层2的紫外线固化型树脂组合物优选含有高折射率且绝缘性高的微粒。即，中折射率层2优选含有高折射率且绝缘性高的微粒，具体而言，优选含有氧化锆。在该情况下，容易使中折射率层2的折射率大于低折射率层4的折射率。另外，能够降低光学膜层叠体100的表面电阻值。该氧化锆优选为粒子状。即，中折射率层2优选含有氧化锆粒子。氧化锆粒子的平均粒径没有特别限定，例如优选为10nm以上且100nm以下。
在用于制作中折射率层2的紫外线固化型树脂组合物中，丙烯酸系树脂与氧化锆粒子的固体成分质量比优选为29：70～90：9的范围内，更优选为39：60～80：19的范围内。在该情况下，能够在将中折射率层2的折射率调整为适度的范围的同时确保中折射率层2的强度，能够提高光学膜层叠体100的耐擦伤性。
光聚合引发剂相对于用于制作中折射率层2的紫外线固化型树脂组合物总量的比例没有特别限定，优选为0.5质量％以上且5质量％以下，更优选为1质量％以上且3质量％以下。在该情况下，能够提高紫外线固化型树脂组合物的固化性。
用于制作中折射率层2的紫外线固化型树脂组合物例如可以包含反应性稀释剂、光敏剂等。
(4)高折射率层
高折射率层3是用于降低光学膜层叠体100的反射率的层。高折射率层3的折射率大于低折射率层4和高折射率层2的折射率。
高折射率层3设置于透明基材1上，详细而言，设置于中折射率层2上。因此，在光学膜层叠体100中，按照透明基材1、硬涂层5、中折射率层2、高折射率层3的顺序进行层叠。另外，高折射率层3与中折射率层2接触。
高折射率层3的俯视的形状和尺寸根据透明基材1的俯视的形状和尺寸适当设定。例如，高折射率层3的俯视的形状优选与透明基材1的俯视的形状相同。另外，例如，高折射率层3的尺寸优选与透明基材1的尺寸相同。对于高折射率层3的折射率和厚度，在后文进行叙述。
高折射率层3优选为紫外线固化型树脂组合物制。紫外线固化型树脂组合物例如优选包含丙烯酸系树脂。即，高折射率层3优选包含丙烯酸系树脂。在本实施方式的光学膜层叠体100中，由于中折射率层2包含丙烯酸系树脂，所以能够减小中折射率层2与高折射率层3的线膨胀系数差，能够抑制在光学膜层叠体100的加热时产生翘曲。丙烯酸系树脂可以与硬涂层5中所含的丙烯酸系树脂相同，也可以不同。丙烯酸系树脂可以与低折射率层4中所含的丙烯酸系树脂相同，也可以不同。丙烯酸系树脂可以与中折射率层2中所含的丙烯酸系树脂相同，也可以不同。丙烯酸系树脂例如优选包含具有羟基的(甲基)丙烯酸系化合物。
用于制作高折射率层3的紫外线固化型树脂组合物优选包含光聚合引发剂。光聚合引发剂的例子包括苯乙酮类、二苯甲酮类、α-酰胺肟酯、噻吨酮类等。
用于制作高折射率层3的紫外线固化型树脂组合物特别优选含有高折射率且绝缘性高的微粒。即，高折射率层3特别优选含有高折射率且绝缘性高的微粒，具体而言，优选含有氧化锆或二氧化钛。在该情况下，容易使高折射率层3的折射率大于低折射率层4和中折射率层2的折射率。另外，能够降低光学膜层叠体100的表面电阻值。该氧化锆或二氧化钛优选为粒子状。即，高折射率层3优选含有氧化锆粒子或二氧化钛粒子。氧化锆粒子或二氧化钛粒子的平均粒径没有特别限定，例如优选为10nm以上且100nm以下。
在用于制作高折射率层3的紫外线固化型树脂组合物中，丙烯酸系树脂与氧化锆粒子或二氧化钛粒子的固体成分质量比优选为9：90～60：39的范围内，更优选为19：80～50：49的范围内。在该情况下，能够在将高折射率层3的折射率调整为适度的范围的同时确保高折射率层3的强度，能够提高光学膜层叠体100的耐擦伤性。
光聚合引发剂相对于用于制作高折射率层3的紫外线固化型树脂组合物总量的比例没有特别限定，优选为0.5质量％以上且5质量％以下，更优选为1质量％以上且3质量％以下。在该情况下，能够提高紫外线固化型树脂组合物的固化性。
用于制作高折射率层3的紫外线固化型树脂组合物例如可以包含反应性稀释剂、光敏剂等。
(5)低折射率层
低折射率层4是用于降低光学膜层叠体100的反射率的层。低折射率层4的折射率小于中折射率层2和高折射率层3的折射率。
低折射率层4设置于透明基材1上，详细而言，设置于高折射率层3上。因此，在光学膜层叠体100中，按照透明基材1、硬涂层5、中折射率层2、高折射率层3的顺序进行层叠。这样，通过按照中折射率层2、高折射率层3、低折射率层4的顺序进行层叠，能够降低光学膜层叠体100的光反射率。另外，在本实施方式的光学膜层叠体100中，低折射率层4与高折射率层3接触。
低折射率层4的俯视的形状和尺寸根据透明基材1的俯视的形状和尺寸适当设定。例如低折射率层4的俯视的形状优选与透明基材1的俯视的形状相同。另外，例如低折射率层4的尺寸优选与透明基材1的尺寸相同。对于低折射率层4的折射率和厚度，在后文进行叙述。
低折射率层4优选为紫外线固化型树脂组合物制。紫外线固化型树脂组合物例如优选包含丙烯酸系树脂。即，低折射率层4优选包含丙烯酸系树脂。在本实施方式的光学膜层叠体100中，由于高折射率层3包含丙烯酸系树脂，所以能够减小低折射率层4与高折射率层3的线膨胀系数差，能够抑制在光学膜层叠体100的加热时产生翘曲。丙烯酸系树脂可以与硬涂层5中所含的丙烯酸系树脂相同，也可以不同。丙烯酸系树脂可以与中折射率层2中所含的丙烯酸系树脂相同，也可以不同。丙烯酸系树脂可以与高折射率层3中所含的丙烯酸系树脂相同，也可以不同。丙烯酸系树脂例如优选包含具有羟基的(甲基)丙烯酸系化合物。
用于制作低折射率层4的紫外线固化型树脂组合物优选包含光聚合引发剂。光聚合引发剂的例子包括苯乙酮类、二苯甲酮类、α-酰胺肟酯、噻吨酮类等。
用于制作低折射率层4的紫外线固化型树脂组合物优选含有低折射率且绝缘性高的微粒。即，低折射率层4优选含有低折射率且绝缘性高的微粒，具体而言，优选含有中空二氧化硅。在该情况下，容易使低折射率层4的折射率小于中折射率层2和高折射率层3的折射率。另外，能够降低光学膜层叠体100的表面电阻值。中空二氧化硅的平均粒径没有特别限定，例如优选为10nm以上且100nm以下。
在用于制作低折射率层4的紫外线固化型树脂组合物中，丙烯酸系树脂与中空二氧化硅的固体成分质量比优选为19：80～70：29的范围内，更优选为29：70～60：39的范围内。在该情况下，能够在将低折射率层4的折射率调整为适度的范围的同时确保低折射率层4的强度，能够提高光学膜层叠体100的耐擦伤性。
光聚合引发剂相对于用于制作低折射率层4的紫外线固化型树脂组合物总量的比例没有特别限定，优选为0.5质量％以上且5质量％以下，优选为1质量％以上且3质量％以下。在该情况下，能够提高紫外线固化型树脂组合物的固化性。
用于制作低折射率层4的紫外线固化型树脂组合物例如可以包含反应性稀释剂、光敏剂等。
(6)关于中折射率层、高折射率层和低折射率层的折射率和厚度
在本实施方式的光学膜层叠体100中，中折射率层2的折射率为1.56以上且1.66以下，高折射率层3的折射率为1.74以上且1.90以下，低折射率层4的折射率为1.34以上且1.38以下。通过使各层的折射率为上述范围内，能够降低光学膜层叠体100的光反射率，并且能够接近于中性色(无色)。由此，能够提高显示器等的可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。为了进一步降低光学膜层叠体100的光反射率并且接近于中性色(无色)，中折射率层2的折射率优选为1.58以上且1.64以下，高折射率层3的折射率优选为1.82以上且1.88以下，优选为低折射率层4的折射率1.35以上且1.37以下。
在本实施方式的光学膜层叠体100中，在高折射率层3的折射率为1.74以上且小于1.80的情况下，中折射率层2的厚度优选为55nm以上且80nm以下。另外，在高折射率层3的折射率为1.80以上且1.90以下的情况下，中折射率层2的厚度优选为10nm以上且80nm以下。高折射率层3的厚度优选为110nm以上且140nm以下，低折射率层4的厚度优选为80nm以上且100nm以下。通过使各层的厚度为上述范围内，能够使光学膜层叠体100接近于中性色(无色)，另外，即使在暗处也能够抑制特定色的反射。为了使光学膜层叠体100更接近于中性色(无色)，中折射率层2的厚度更优选为20nm以上且60nm以下，高折射率层3的厚度更优选为120nm以上且130nm以下，低折射率层4的厚度更优选为85nm以上且95nm以下。
(7)关于光学膜层叠体的物性
(表面电阻值)
本实施方式的光学膜层叠体100的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上。因此，在将光学膜层叠体100应用于静电电容式的触摸面板显示器等的情况下，容易准确地测定静电电容值，例如能够抑制出厂检查时的静电电容值测定错误的产生、触摸面板操作时的误动作。层叠体100的表面电阻值优选为1.0×1012Ω/□以上，更优选为1.0×1013Ω/□以上。需要说明的是，光学膜层叠体100的表面电阻值可以利用公知的高电阻率计测定。作为高电阻率计，例如可例示三菱化学Analytech株式会社制的商品名Hiresta IP MCP-HT260。需要说明的是，本实施方式的光学膜层叠体100的表面电阻值是指依次层叠有透明基材1和防反射层6且防反射层6的与透明基材1对置的面的相反侧的面的表面电阻值。
(反射色度)
本实施方式的光学膜层叠体100优选其反射色度在L*a*b*表色系中为-10≤a*≤5、-10≤b*≤10。在该情况下，能够使光学膜层叠体100成为接近于无色的中性色调(中性色)。为了使光学膜层叠体100更接近于中性色(无色)，光学膜层叠体100的反射色度更优选为-5≤a*≤2、-5≤b*≤5。需要说明的是，光学膜层叠体100的反射色度可以通过公知的分光测色系进行测定。作为分光测色计，例如可例示柯尼卡美能达日本株式会社制的产品编号CM-3600d。
(总光线透射率)
本实施方式的光学膜层叠体100的总光线透射率优选为94.0％以上，更优选为95.0％以上。由此，光学膜层叠体100的透明性高，因此能够提高显示器等的可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。
(雾度)
本实施方式的光学膜层叠体100的雾度优选为1.0％以下，更优选为0.5％以下。由此，光学膜层叠体100的透明性高，因此能够提高显示器等的可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。
(视觉反射率)
本实施方式的光学膜层叠体100的视觉反射率优选为0.1％以上且0.8％以下，更优选为0.1％以上且0.5％以下。由此，光学膜层叠体100的透明性高，因此能够提高显示器等的可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。
(8)关于光学膜层叠体的用途
如上所述，本实施方式的光学膜层叠体100适合应用于触摸面板显示器。具体而言，例如能够将光学膜层叠体100用作触摸面板显示器所具备的防反射膜(反射降低层、反射降低图案)。
以下，对具备光学膜层叠体100的带金属基材的薄膜金属箔200和覆金属透明基材材料300、透视型电极用层叠板400、透视型电极原材料500和器件600进行说明。带金属基材的薄膜金属箔200、覆金属透明基材材料300、透视型电极用层叠板400和透视型电极原材料500也是用于制造器件600的原材料。
(i)带金属基材的薄膜金属箔
如图2A所示，带金属基材的薄膜金属箔200具备薄膜金属箔21、剥离层22、金属基材23和反射降低层24。薄膜金属箔21具有第一主面T21和第二主面B21。剥离层22和金属基材23依次设置于第一主面T21上。反射降低层24设置于第二主面B21上。
薄膜金属箔21例如为适合用作触摸面板传感器、电磁波吸收片、或车载用天线、印刷布线板等的电极材料的金属箔。薄膜金属箔21例如优选为选自铜、镍、铝和银中的至少1种材料制，特别优选铜为主成分。
在薄膜金属箔21的第一主面T21上设置有剥离层22，在第二主面B21上形成有反射降低层24。可以在第一主面T21与剥离层22之间以及第二主面B21与反射降低层24之间形成防锈处理层、硅烷偶联处理层等。
剥离层22主要使金属基材23容易从带金属基材的薄膜金属箔200剥离。剥离层22具有第一主面T22和第二主面B22，覆盖薄膜金属箔21的第一主面T21的整个面。剥离层22例如可以由包含镍、钼、铬、铁、钛、钨、磷中的一种或多种的合金、氧化物形成。剥离层22具有导通性，可以在剥离层22上使用电镀形成薄膜金属箔21。优选为剥离层22的第一主面T22侧主要由合金形成、第二主面B22侧主要由氧化物形成的剥离层。由此，金属基材23能够与剥离层22一起从带金属基材的薄膜金属箔200剥离，剥离层22能够从薄膜金属箔21剥离。
金属基材23作为因厚度薄而机械强度低的薄膜金属箔21的增强材料(载体)发挥功能。金属基材23具有第一主面T23和第二主面B23，覆盖剥离层22的第一主面T22的整个面。金属基材23例如优选为选自铜、镍、铝、镁、钨、钼、铂、金和钯中的至少1种材料制。从成本的观点出发，金属基材23优选为铜制。作为使用铜的金属基材23，例如可以使用电解铜箔、电解铜合金箔、压延铜箔、压延铜合金箔等。
作为反射降低层24，可以使用本实施方式的光学膜层叠体100。反射降低层24是在图3B所示的透视型电极原材料500中第一反射降低图案层51A和第二反射降低图案层51B的材料。
由于本实施方式的光学膜层叠体100的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上，所以通过使用带金属基材的薄膜金属箔200来制作触摸面板显示器，能够准确地测定静电电容值，可以得到不易发生出厂检查时的静电电容值测定错误、触摸面板操作时的误动作的触摸面板显示器。另外，由于本实施方式的光学膜层叠体100的光反射率低，且为中性的色调，所以通过使用带金属基材的薄膜金属箔200来制作触摸面板显示器，能够提高其可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。
(ii)覆金属透明基材材料
如图2B所示，覆金属透明基材材料300具备透明基材31、第一透明粘接层32A、第一带金属基材的薄膜金属箔200A、第二透明粘接层32B和第二带金属基材的薄膜金属箔200B。透明基材31具有第一主面T31和第二主面B31。在透明基材31的第一主面T31上依次层叠有第一透明粘接层32A和第一带金属基材的薄膜金属箔200A。在透明基材31的第二主面B31上依次层叠有第二透明粘接层32B和第二带金属基材的薄膜金属箔200B。即，覆金属透明基材材料300是通过在透明基材31的两面介由第一透明粘接层32A或第二透明粘接层32B贴附图2A所示的带金属基材的薄膜金属箔200而形成的。因此，第一带金属基材的薄膜金属箔200A和第二带金属基材的薄膜金属箔200B与图2A所示的带金属基材的薄膜金属箔200相同。另外，覆金属透明基材材料300包含光学膜层叠体100作为第一反射降低层24A，包含光学膜层叠体100作为第二反射降低层24B。
透明基材31为片状(膜状)。作为构成透明基材31的材质，例如可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等透明树脂。透明基材31可以含有四溴双酚A等添加型、反应型的阻燃剂。透明基材31可以是包含环烯烃、聚酯的透明树脂制，所述聚酯通过在膜制作时强力拉伸而提高结晶性，从而提高了双折射率。
第一透明粘接层32A将第一带金属基材的薄膜金属箔200A固定于透明基材31的第一主面T31上。第二透明粘接层32B将第二带金属基材的薄膜金属箔200B固定于透明基材31的第二主面B31上。第一透明粘接层32A与第二透明粘接层32B可以是相同的构成，也可以是彼此不同的构成。第一透明粘接层32A和第二透明粘接层32B为透明粘接剂的固化物。作为构成透明粘接剂的材质，例如优选包含丙烯酸系树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂或它们的混合树脂。特别是丙烯酸系树脂、氨基甲酸酯树脂或它们的混合树脂的透明性优异，在光学上也是有用的。
由于本实施方式的光学膜层叠体100的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上，所以通过使用覆金属透明基材材料300来制作触摸面板显示器，能够准确地测定静电电容值，可以得到不易发生出厂检查时的静电电容值测定错误、触摸面板操作时的误动作的触摸面板显示器。另外，由于本实施方式的光学膜层叠体100的光反射率低，且为中性的色调，所以通过使用覆金属透明基材材料300来制作触摸面板显示器，能够提高其可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。
(iii)透视型电极用层叠板
透视型电极用层叠板400是通过从覆金属透明基材材料300剥离第一金属基材23A、第一剥离层22A、第二金属基材23B和第二剥离层22B而形成的。因此，如图3A所示，透视型电极用层叠板400具备透明基材31、第一透明粘接层32A、第一反射降低层24A、第一薄膜金属箔21A、第二透明粘接层32B、第二反射降低层24B和第二薄膜金属箔21B。在透明基材31的第一主面T31上依次层叠有第一透明粘接层32A、第一反射降低层24A和第一薄膜金属箔21A。在透明基材31的第二主面B31上依次层叠有第二透明粘接层32B、第二反射降低层24B和第二薄膜金属箔21B。因此，透视型电极用层叠板400包含光学膜层叠体100作为第一反射降低层24A，包含光学膜层叠体100作为第二反射降低层24B。
由于本实施方式的光学膜层叠体100的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上，所以通过使用透视型电极用层叠板400来制作触摸面板显示器，能够准确地测定静电电容值，可以得到不易发生出厂检查时的静电电容值测定错误、触摸面板操作时的误动作的触摸面板显示器。另外，由于本实施方式的光学膜层叠体100的光反射率低，且为中性的色调，所以通过使用透视型电极用层叠板400来制作触摸面板显示器，能够提高其可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。
(iv)透视型电极原材料
如图3B所示，透视型电极原材料500具备透明基材31、第一透明粘接层32A、第一反射降低图案层51A、第一布线图案层52A、第二透明粘接层32B、第二反射降低图案层51B和第二布线图案层52B。在透明基材31的第一主面T31上依次层叠有第一透明粘接层32A、第一反射降低图案层51A和第一布线图案层52A。另外，在透明基材31的第二主面B31上依次层叠有第二透明粘接层32B、第二反射降低图案层51B和第二布线图案层52B。如果透视型电极原材料500的总光线透射率在上述范围内，则能够将透视型电极原材料500适合用于触摸面板传感器等。
第一布线图案层52A是：通过光刻法除去第一薄膜金属箔21A的一部分，在第一薄膜金属箔21A的一部分形成有成为第一开口部A50A的间隙的电气电路。第二布线图案层52B是：通过光刻法除去第二薄膜金属箔21B的一部分，在第二薄膜金属箔21B的一部分形成成为第二开口部A50B的间隙的电气电路。第一布线图案层52A和第二布线图案层52B的各图案形状根据透视型电极原材料500的用途等适当调整即可，例如可举出网格(格子)形状、平行细线图案形状、梳齿形状等。在图3B中，在第一开口部A50A中，第一反射降低层24A的一部分被除去，并且在第二开口部A50B中，第二反射降低层24B的一部分被除去。因此，透视型电极原材料500是通过从图3A所示的透视型电极用层叠板400中除去第一薄膜金属箔21A和第一反射降低层24A的一部分，并且除去第二薄膜金属箔21B和第二反射降低层24B的一部分而形成的。因此，透视型电极原材料500包含光学膜层叠体100作为第一反射降低图案层51A，包含光学膜层叠体100作为第二反射降低图案层51B。
由于本实施方式的光学膜层叠体100的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上，所以通过使用透视型电极原材料500来制作触摸面板显示器，能够准确地测定静电电容值，可以得到不易发生出厂检查时的静电电容值测定错误、触摸面板操作时的误动作的触摸面板显示器。另外，由于本实施方式的层叠体100的光反射率低，且为中性的色调，所以通过使用透视型电极原材料500来制作触摸面板显示器，能够提高其可视性，并且即使在暗处也能够抑制特定色的反射。
(v)器件
器件600是作为投影型静电电容方式的一种的互电容方式的触摸面板显示器。如图3C所示，器件600具备透视型电极原材料500、控制电路61、罩62和图像显示装置63。
控制电路61与第一布线图案层52A和第二布线图案层52B电连接。
罩62与透视型电极原材料500的第一布线图案层52A侧的面对置地安装。需要说明的是，在图3C中，省略了第一透明粘接层32A和第二透明粘接层32B。
图像显示装置63与透视型电极原材料500的第二布线图案层52B侧的面对置地安装。图像显示装置63例如可以使用液晶显示面板、等离子体图像显示面板、电致发光(Electro Luminescence)面板、电子纸或阴极射线管等。
在器件600中，例如，第一布线图案层52A作为接收电极发挥功能，第二布线图案层52B作为发送电极发挥功能。即，在器件600中，如果使指示物接近于罩62的表面，则在与接收电极和发送电极的交点处形成的电容器的静电电容变化，通过控制电路61检测该静电电容的变化，能够特定指示物所接近的位置。作为指示物，例如可举出用户的指尖、触控笔或指示棒等导电体。
本实施方式的器件600包含光学膜层叠体100作为第一反射降低图案层51A，包含光学膜层叠体100作为第二反射降低图案层51B。由于本实施方式的光学膜层叠体100的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上，所以在器件600中，能够通过控制电路61准确地检测静电电容的变化。另外，由于本实施方式的光学膜层叠体100的光反射率低，且为中性的色调，所以器件600的可视性优异，且暗处的特定色的反射得到抑制。因此，本实施方式的器件600例如适合应用于车载用的导航系统的触摸面板显示器。
本实施方式的器件600的检测方式为互电容方式，但本发明并不局限于此，可以是自电容方式的检测方式，也可以是组合了自电容方式和互电容方式的检测方式。
(vi)关于其他用途
如上所述，本实施方式的层叠体100适合应用于触摸面板显示器，但不限于此。例如，光学膜层叠体100也可以应用于便携信息终端、笔记本电脑、电视机等显示器。另外，层叠体100并不限定于应用于触摸面板显示器的内部，也可以贴附于显示器的表面。在该情况下，显示器与光学膜层叠体100可以通过公知的粘接剂贴附。
实施例
(实施例1～25、比较例1～10)
通过在TAC(三乙酰纤维素)制的透明基材上依次层叠硬涂层、中折射率层、高折射率层和低折射率层来制作实施例1～25、比较例1～10的光学膜层叠体。硬涂层、中折射率层、高折射率层和低折射率层分别为以表1～3所示的比例包含表1～4所示的成分的组合物的固化物。需要说明的是，表1～4所示的成分的详细情况如下。另外，在制作硬涂层、中折射率层、高折射率层和低折射率层时，使用以下的光聚合引发剂。
·(甲基)丙烯酸酯1：A-9570W(新中村化学工业株式会社制)
·(甲基)丙烯酸酯2：HC-301(大日精化工业株式会社制)
·(甲基)丙烯酸酯3：OPSTAR KZ(荒川化学工业株式会社制)
·氟丙烯酸酯：Viscoat 4F(大阪有机化学工业株式会社制)
·芴系丙烯酸酯：OGSOL EA-0250P(Osaka Gas Chemicals制)
·光聚合引发剂：Omnirad184(IGM Resins B.V制)
·中空二氧化硅：THRULYA 4320(日挥触媒化成制，平均粒径60nm)
·二氧化钛：ND176(TAYCA公司制)
·二氧化钛2：TYT90-06(TOYO INK公司制)
·氧化锆1：ZRDMA20WT％-G22(CIK-Nano Tek制)
·氧化锆2：TYZ68-04(TOYO INK公司制)
·ITO纳米粒子：ITO纳米粒子甲苯分散液10wt％(ASONE制，平均粒径20nm)。
(评价)
对于实施例1～25、比较例1～10的光学膜层叠体，评价总光线透射率、雾度(混浊)、视觉反射率、反射色度、耐擦伤性、表面电阻值。各评价的详细情况如下。
(1)总光线透射率
使用雾度计(日本电色工业株式会社制，产品编号NDH7000SP2)，测定实施例1～25、比较例1～10的光学膜层叠体的JIS K 7361-1：1997中规定的总光线透射率。将其结果示于下述的表1～4。
(2)雾度
使用雾度计(日本电色工业株式会社制，产品编号NDH7000SP2)，测定实施例1～25、比较例1～10的光学膜层叠体的JIS K 7361-1：1997中规定的雾度。将其结果示于下述的表1～4。
(3)视觉反射率
在用黑色魔术墨液涂装了透明基材的背面之后粘贴黑色的乙烯胶带(日东电工，No.21)的状态下，使用分光测色计(柯尼卡美能达日本株式会社制，产品编号CM-3600d)，在C光源、10°视野、测定直径4mmΦ、SCI的条件下测定了实施例1～25、比较例1～10的光学膜层叠体的视觉反射率。将其结果示于下述的表1～4。
(4)反射色度
在用黑色魔术墨液涂装了透明基材的背面之后粘贴黑色的乙烯胶带(日东电工，No.21)的状态下，使用分光测色计(柯尼卡美能达日本株式会社制，产品编号CM-3600d)，在C光源、10°视野、测定直径4mmΦ、SCI的条件下测定了实施例1～25、比较例1～10的光学膜层叠体的反射色度(a*、b*)。然后，按照以下基准评价了各光学膜层叠体的色调(中性)。将其结果示于下述的表1～3。
A：反射色度a*为-5以上且2以下，且反射色度b*为-5以上且5以下。
B：反射色度a*为-10以上且小于-5或大于2且为5以下，或者反射色度b*为-10以上且小于5或大于5且为10以下。
C：反射色度a*小于-10或超过5，或者反射色度b*小于-10或超过10。
(5)耐擦伤性
使用表面性测定机(Type14DR新东科学株式会社制)，对实施例1～25、比较例1～10的光学膜层叠体的表面，一边对钢丝棉施加250g/cm2的压力，一边在速度3000mm/min的条件下往复10次后，目视确认有无划痕，按照以下的基准进行评价。钢丝棉使用#0000(日本钢丝棉株式会社制)。将其结果示于下述的表1～4。
A：划痕为0～5条。
B：划痕为5～20条。
C：划痕为20条以上。
(6)表面电阻值
使用高电阻率计(株式会社Mitsubishi Chemical Analytech制的商品名HirestaIPMCP-HT260)，在施加电压1000V下，使探针与防反射层侧接触，测定实施例1～25、比较例1～10的光学膜层叠体的表面电阻值。需要说明的是，高电阻率计的测定范围为1×104～1×1012Ω/□，因此，在表面电阻值超过1×1012Ω/□的情况下，记载为1.0×1013Ω/□。将其结果示于下述的表1～4。
[表1]
Figure BDA0003316142580000211
[表2]
Figure BDA0003316142580000221
[表3]
Figure BDA0003316142580000231
[表4]
Figure BDA0003316142580000241
附图标记说明
1：透明基材
2：中折射率层
3：高折射率层
4：低折射率层
5：硬涂层
6：防反射层
100：光学膜层叠体

Claims (9)

1.一种光学膜层叠体，其依次层叠有透明基材和防反射层，
反射色度在L*a*b*表色系中为-10≤a*≤5、-10≤b*≤10，
所述防反射层的与所述透明基材对置的面的相反侧的面的表面电阻值为1.0×1011Ω/□以上。
2.根据权利要求1所述的光学膜层叠体，其中，所述防反射层依次层叠有折射率为1.56以上且1.66以下的中折射率层、折射率为1.74以上且1.90以下的高折射率层、以及折射率为1.34以上且1.38以下的低折射率层。
3.根据权利要求2所述的光学膜层叠体，其中，在所述高折射率层的折射率为1.74以上且小于1.80的情况下，所述中折射率层的厚度为55nm以上且80nm以下，在所述高折射率层的折射率为1.80以上且1.90以下的情况下，所述中折射率层的厚度为10nm以上且80nm以下，
所述高折射率层的厚度为110nm以上且140nm以下，
所述低折射率层的厚度为80nm以上且100nm以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜层叠体，其中，在所述透明基材与所述防反射层之间设置有硬涂层，
所述硬涂层的折射率为1.54以上且1.57以下，
所述硬涂层的厚度为3μm以上且7μm以下。
5.根据权利要求4所述的光学膜层叠体，其中，所述硬涂层包含丙烯酸系树脂。
6.根据权利要求2～5中任一项所述的光学膜层叠体，其中，所述低折射率层包含丙烯酸系树脂和中空二氧化硅，
所述丙烯酸系树脂与所述中空二氧化硅的固体成分质量比在19：80～70：29的范围内。
7.根据权利要求2～6中任一项所述的光学膜层叠体，其中，所述高折射率层包含丙烯酸系树脂、以及氧化锆或二氧化钛，
所述丙烯酸系树脂与所述氧化锆或所述二氧化钛的固体成分质量比在9：90～60：39的范围内。
8.根据权利要求2～7中任一项所述的光学膜层叠体，其中，所述中折射率层包含丙烯酸系树脂和氧化锆，
所述丙烯酸系树脂与所述氧化锆的固体成分质量比在29：70～90：9的范围内。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的光学膜层叠体，其中，视觉反射率在0.1％以上且0.8％以下的范围。
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