CN113699490A - 一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法、制备方法及高耐磨的镀膜树脂镜片 - Google Patents

一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法、制备方法及高耐磨的镀膜树脂镜片 Download PDF

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Abstract

本发明涉及镜片制造技术领域，特别涉及一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法、制备方法及高耐磨的镀膜树脂镜片，该高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法，包括蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层步骤：所述二氧化硅层采用真空离子镀膜技术蒸镀成型于镜片上，其中，蒸镀膜材为一氧化硅，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，所述氧气的流量为40～60sccm。本发明提供的该镀膜方法具有以下技术效果：所制得的镀膜镜片的耐磨伤性能显著提升；对镀膜镜片的美观、透视率等性能不会造成影响；同时显著提升了镀膜镜片的使用寿命。

Description

一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法、制备方法及高耐磨的 镀膜树脂镜片
技术领域
本发明涉及镜片制造技术领域，特别涉及一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法、制备方法及高耐磨的镀膜树脂镜片。
背景技术
目前用作眼镜片的材料主要有三大类:晶石、光学玻璃和光学树脂。与光学玻璃相比，光学树脂镜片具有质量轻、抗冲击和易加工成型等优点，一经推出，很快就替代了光学玻璃成为眼镜片的主流产品。
但是，现有的树脂太阳镜片，需要预先对树脂镜片基片进行强化液浸泡或涂覆，在树脂镜片基片外表面层形成一个保护层(又称硬化层)，以确保镀膜前或镀膜后的镜片不容易刮伤；可是，无论如何对树脂镜片基片进行强化前处理，镀膜后的树脂镜片表面的耐磨性都会相应降低，而镀膜后的树脂镜片表面的耐磨性不足，则很容易被刮花，不仅影响镜片美观，而且影响使用者观察事物的效果，既给使用者带来不便，又使得镜片需要经常更换，影响产品的市场竞争力。因此，如何提高镀膜后树脂镜片的耐磨性能正是本领域迫切需要解决的问题。
申请号为CN201711354747.7，公开日为2019年06月25日的中国发明专利申请，公开了一种耐磨镜片镀膜方法，其包括以下步骤：1)对基片进行清洗、干燥；2)分别对基片的内、外两个表面进行镀膜：分别对双面镀第一膜层、分别对双面镀第二膜层、分别对双面镀第三膜层、分别对双面镀第四膜层、分别对双面镀第五膜层和分别对双面镀第六膜层。该发明专利申请中直接蒸镀二氧化硅膜材以形成若干层二氧化硅层，其通过若干层二氧化硅层和高硬度层的设置来提高了镜片的耐磨性能。
发明内容
为解决上述背景技术中提到的镀膜后的树脂镜片表面耐磨性不足的问题，本发明提供了一种高耐磨的镀膜树脂镜片的镀膜方法，其包括蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层步骤：所述二氧化硅层采用真空离子镀膜技术蒸镀成型于镜片上，其中，蒸镀膜材为一氧化硅，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，所述氧气的流量为40～60sccm。
本发明运用真空离子镀膜技术将二氧化硅层蒸镀成型于镜片上，其中蒸镀过程采用一氧化硅作为蒸镀膜材，且蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，通过电子枪高温扫描轰击蒸镀膜材一氧化硅，在高温下单质硅(一氧化硅)膜材蒸发并跟氧气发生氧化还原反应生成二氧化硅，所述二氧化硅沉积于镜片上，即完成二氧化硅层蒸镀成型；传统的二氧化硅层镀膜方法是在真空状态下，直接采用二氧化硅作为蒸镀膜材，通过电子枪高温扫描轰击蒸镀膜材二氧化硅，使其蒸发沉积于镜片上；然而通过实验发现在真空状态下二氧化硅经过电子枪高温扫描(约2750℃左右)产生了分解，分解后的产物是单质硅(一氧化硅)和氧气；而已知的一氧化硅的莫式硬度是5，二氧化硅的莫式硬度是7，二氧化硅的硬度显然高于一氧化硅，所以相比传统的二氧化硅层镀膜方法，采用本发明提供的镀膜方法可形成硬度较好、耐磨性更佳的膜层，增加镜片镀层的整体硬度。此外，二氧化硅层为低折射率膜层，其不会对镀膜镜片的透视率等产生不良影响。
在一实施例中，所述蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层步骤中，将镜片转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度为(3～4)×10-5Torr，采用电子枪轰击所述蒸镀膜材一氧化硅，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，氧气流量为40～60sccm，并控制膜层以
Figure BDA0003236987500000031
的蒸镀速率沉积于镜片表面。
在一实施例中，其包括以下步骤：
S100、蒸镀打底层：采用真空离子镀膜技术在镜片基材表面蒸镀打底层；
S200、蒸镀颜色层：
S210、蒸镀五氧化三钛层：采用真空离子镀膜技术在打底层表面蒸镀五氧化三钛层；
S220、蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层：采用真空离子镀膜技术在五氧化三钛层表面蒸镀二氧化硅层；
S230、将S210和S220两个步骤再循环N-1个周期，N大于等于1；
S300、蒸镀防水层：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层表面蒸镀防水层，即完成高耐磨的镀膜树脂镜片的膜层镀制。
在一实施例中，还包括镜片基材强化处理步骤：在镀制膜层前，将所述镜片基材放入加硬强化液里浸泡，而后在80℃～120℃下烘烤固化成型，以使所述镜片基材表面形成保护层。
在一实施例中，还包括等离子轰击处理步骤：所述镜片强化处理后，将镜片转移至真空镀膜腔内并控制真空镀膜腔内真空度在(6～8)×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入惰性气体并采用离子源对镜片基材进行离子轰击，轰击时间为30～150s。
在一实施例中，所述S100中，将镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为(4～5)×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层以
Figure BDA0003236987500000032
的蒸镀速率沉积于镜片表面。
在一实施例中，所述S210中，将镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为(3～4)×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层以
Figure BDA0003236987500000041
的蒸镀速率沉积于打底层表面。
在一实施例中，所述打底层沉积厚度为(10～100)nm；所述二氧化硅层沉积厚度为(50～200)nm；所述五氧化三钛层沉积厚度为(50～200)nm；防水层沉积厚度为(2～15)nm。
本发明还提供一种高耐磨的镀膜树脂镜片的制备方法,其采用如上所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法对镜片进行镀膜。
本发明还提供一种高耐磨的镀膜树脂镜片,其采用如上所述的高耐磨的镀膜树脂镜片制备方法制得。
与现有的技术相比，本发明提供的一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法，具有以下技术效果：
所制得的镀膜镜片的耐磨伤性能显著提升；对镀膜镜片的美观、透视率等性能不会造成影响；显著提升了镀膜镜片的使用寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的高耐磨的镀膜树脂镜片剖面图；
图2为图1的A处局部放大图。
附图标识：
100镜片基材 200保护层 400颜色层
410五氧化三钛层 420二氧化硅层 500防水层
300打底层
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其包括蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层420步骤：所述二氧化硅层420采用真空离子镀膜技术蒸镀成型于镜片上，其中，蒸镀膜材为一氧化硅，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，所述氧气的流量为40～60sccm。
需要说明的是，所述离子镀膜法为现有镀膜方法，该方法基本步骤和原理为：将待镀膜工件(镜片基材100)置于真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内达到一定的真空度，再启动离子源，对基材表面进行离子轰击，达到清洁及激活基材表面能的作用，而后启动电子枪，电子枪产生高温电子束，高温电子束扫描轰击镀料，即蒸镀膜材，使得蒸镀膜材熔化蒸发，蒸镀膜材蒸发后沉积于待镀工件表面，如此便完成膜层的蒸镀成型。本文中采用“～”表示数值范围，该表达方式的表示范围内包含两个端点值；本文中所述“sccm”为气体流量单位，表示每分钟标准毫升。
优选地，在一实施例中，所述蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层420步骤中，将镜片转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度为(3～4)×10-5Torr，采用电子枪轰击所述蒸镀膜材一氧化硅，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，氧气流量为40～60sccm，并控制膜层以
Figure BDA0003236987500000051
的蒸镀速率沉积于镜片表面。
优选地，在一实施例中，电子枪扫描轰击一氧化硅膜材温度约为1800～2000℃。
优选地，在一实施例中，其包括以下步骤：
S100、蒸镀打底层300：采用真空离子镀膜技术在镜片基材100表面蒸镀打底层300；
S200、蒸镀颜色层400：
S210、蒸镀五氧化三钛层410：采用真空离子镀膜技术在打底层300表面蒸镀五氧化三钛层410；S220、蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层420：采用真空离子镀膜技术在五氧化三钛层410表面蒸镀二氧化硅层420；S230、将S210、S220两个步骤再循环N-1个周期，N大于等于1；
S300、蒸镀防水层500：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层420表面蒸镀防水层500，即完成高耐磨的镀膜树脂镜片的膜层镀制。
需要说明的是，树脂镜片表面膜层可通过一层五氧化三钛层410和一层二氧化硅层420构成颜色层400，根据实际需要，还可采用若干个一层五氧化三钛层410和一层二氧化硅层420构成的颜色层400的叠加，形成不同颜色的膜系；根据上述发明构思，对于颜色层400的叠加数量以及五氧化三钛层410和二氧化硅层420厚度，本领域技术人员可根据色系需求进行调整。所述电阻热辐射加热蒸镀技术为现有镀膜方法，其工作原理和具体实施步骤不再进行累述。
优选地，在一实施例中，还包括镜片基材100强化处理步骤：在镀制膜层前，即进行S100前，将所述镜片基材100放入加硬强化液里浸泡，而后在80℃～120℃下烘烤固化成型，以使所述镜片基材100表面形成保护层200。在上述方案的基础上，优选地，所述镜片基材100强化处理步骤中，浸泡时间为10～30s，烘烤固化时间为2～4h。在上述方案的基础上，优选地，所述保护层200的厚度为3～5μm。
通过镜片基材100在加硬强化液浸泡并烘干形成保护层200，对树脂镜片基材100起到加硬固化作用；所述加硬强化液为现有的硬化处理液体，包括但不限于采用聚硅氧烷类溶液、聚硅氮烷类溶液，例如有机烷氧硅、有机烷氧钛、有机烷氧硅衍生物、有机烷氧钛衍生物等；
优选地，在一实施例中，还包括等离子轰击处理步骤：所述镜片强化处理后，将镜片转移至真空镀膜腔内并控制真空度在(6～8)×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入惰性气体，惰性气体流量为15～30sccm并采用离子源对镜片基材100进行离子轰击，轰击时间为30～150s。在上述方案的基础上，优选地，所述惰性气体为氩气。
在优选实施例中通过离子轰击处理镜片基材100，对其起到表面清洁和活化表面能的作用。
优选地，在一实施例中，所述S100中，将镜片基材100转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为(4～5)×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层300以
Figure BDA0003236987500000071
的蒸镀速率沉积于镜片表面。
所述一氧化硅为现有材料，实验发现使用一氧化硅进行打底，其结合力高于二氧化硅打底结构；通过蒸镀一氧化硅打底层300强化镜片与膜层的结合力，起到中间介质的作用。
优选地，在一实施例中，所述S210中，将镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为(3～4)×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层410以
Figure BDA0003236987500000072
的蒸镀速率沉积于打底层300表面。
优选地，在一实施例中，所述S300中，采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层420表面蒸镀防水层500，将镜片转移至阻蒸设备真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为(3～3.5)×10-5Torr，采用电阻加热防水层500膜材，并控制防水层500以
Figure BDA0003236987500000081
的蒸镀速率沉积于颜色层400表面。
通过在颜色层400上方镀制防水层500，对树脂镜片起到防水保护作用；所述防水层500为现有的无色透明加硬氟化物，包括但不限于采用含氟硅氧烷、有机硅改性全氟聚醚；
优选地，在一实施例中，所述打底层300沉积厚度为(10～100)nm；所述二氧化硅层420沉积厚度为(50～200)nm；所述五氧化三钛层410沉积厚度为(50～200)nm；防水层500沉积厚度为(2～15)nm。
本发明还提供一种高耐磨的镀膜树脂镜片的制备方法，其包括依次进行的镜片基材100制备步骤、镜片基材100清洗步骤以及镀膜步骤，其中，镀膜步骤采用如上所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法对镜片进行镀膜。
如图1-2所示，本发明还提供一种高耐磨的镀膜树脂镜片,其采用如上所述的高耐磨的镀膜树脂镜片制备方法制得。
本发明还提供如下所示实施例和对比例：
实施例1：
1.镜片基材100强化处理步骤：将树脂镜片基材100放入加硬强化液里浸泡25s后，经过110℃，3小时烘烤固化成型，在镜片基材100表面形成一厚度为5μm的保护层200；所述加硬强化液为聚硅氧烷类溶液；
2.等离子轰击处理：将经过强化处理的镜片基材100转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度在6×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入氩气，氩气流量为18sccm，并采用离子源对镜片基材100进行离子轰击以清洁镜片基材100表面和活化表面能，轰击时间为60s。
3.蒸镀打底层300：镜片基材100经等离子轰击处理后，采用真空离子镀膜技术在镜片基材100表面蒸镀打底层300，将镜片基材100转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为5×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层300以
Figure BDA0003236987500000091
的蒸镀速率沉积于镜片基材100表面；所述一氧化硅打底层300沉积厚度为20nm。
4.蒸镀颜色层400
4.1蒸镀五氧化三钛层410：将蒸镀打底层300后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层410以
Figure BDA0003236987500000092
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于打底层300表面；所述五氧化三钛层410沉积厚度为100nm。
4.2蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层420：将蒸镀五氧化三钛层410后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪扫描轰击所述蒸镀膜材一氧化硅，电子枪扫描轰击一氧化硅膜材时温度约为2000℃，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，所述氧气的流量为40sccm，并控制膜层以
Figure BDA0003236987500000093
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于五氧化三钛层410表面；所述二氧化硅层420沉积厚度为100nm。其中，对于电子枪扫描轰击一氧化硅膜材时温度通过调节电子枪的电流来控制。
5.蒸镀防水层500：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层420表面蒸镀防水层500，蒸镀颜色层400后的镜片转移至真空镀膜舱内真空度为3.5×10-5Torr，采用电阻加热防水层500膜材，控制防水层500以
Figure BDA0003236987500000094
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于二氧化硅层420表面，所述防水层500沉积厚度为5nm，其中所述防水层500材质为含氟硅氧烷；如此，即完成各膜层的镀制，制得如图1-2所示的高耐磨的镀膜树脂镜片。
实施例2：
1.镜片基材100强化处理步骤：将树脂镜片基材100放入加硬强化液里浸泡25s后，经过110℃，3小时烘烤固化成型，在镜片基材100表面形成一厚度为5μm的保护层200；所述加硬强化液为聚硅氧烷类溶液；
2.等离子轰击处理：将经过强化处理的镜片基材100转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度在6×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入氩气，氩气流量为18sccm，并采用离子源对镜片基材100进行离子轰击以清洁镜片基材100表面和活化表面能，轰击时间为60s。
3.蒸镀打底层300：镜片基材100经等离子轰击处理后，采用真空离子镀膜技术在镜片基材100表面蒸镀打底层300，将镜片基材100转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为5×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层300以
Figure BDA0003236987500000101
的蒸镀速率沉积于镜片基材100表面；所述一氧化硅打底层300沉积厚度为20nm。
4.蒸镀颜色层400
4.1蒸镀五氧化三钛层410：将蒸镀打底层300后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层410以
Figure BDA0003236987500000102
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于打底层300表面；所述五氧化三钛层410沉积厚度为100nm。
4.2蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层420：将蒸镀五氧化三钛层410后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪扫描轰击所述蒸镀膜材一氧化硅，电子枪扫描轰击一氧化硅膜材时温度约为2000℃，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，所述氧气的流量为50sccm，并控制膜层以
Figure BDA0003236987500000103
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于五氧化三钛层410表面；所述二氧化硅层420沉积厚度为100nm。
5.蒸镀防水层500：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层420表面蒸镀防水层500，蒸镀颜色层400后的镜片转移至真空镀膜舱内真空度为3.5×10-5Torr，采用电阻加热防水层500膜材，控制防水层500以
Figure BDA0003236987500000111
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于二氧化硅层420表面，所述防水层500沉积厚度为5nm，其中所述防水层500材质为含氟硅氧烷；如此，即完成各膜层的镀制，制得如图1-2所示的高耐磨的镀膜树脂镜片。
实施例3：
1.镜片基材100强化处理步骤：将树脂镜片基材100放入加硬强化液里浸泡25s后，经过110℃，3小时烘烤固化成型，在镜片基材100表面形成一厚度为5μm的保护层200；所述加硬强化液为聚硅氧烷类溶液；
2.等离子轰击处理：将经过强化处理的镜片基材100转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度在6×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入氩气，氩气流量为18sccm，并采用离子源对镜片基材100进行离子轰击以清洁镜片基材100表面和活化表面能，轰击时间为60s。
3.蒸镀打底层300：镜片基材100经等离子轰击处理后，采用真空离子镀膜技术在镜片基材100表面蒸镀打底层300，将镜片基材100转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为5×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层300以
Figure BDA0003236987500000112
的蒸镀速率沉积于镜片基材100表面；所述一氧化硅打底层300沉积厚度为20nm。
4.蒸镀颜色层400
4.1蒸镀五氧化三钛层410：将蒸镀打底层300后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层410以
Figure BDA0003236987500000113
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于打底层300表面；所述五氧化三钛层410沉积厚度为100nm。
4.2蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层420：将蒸镀五氧化三钛层410后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪扫描轰击所述蒸镀膜材一氧化硅，电子枪扫描轰击一氧化硅膜材时温度约为2000℃，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，所述氧气的流量为60sccm，并控制膜层以
Figure BDA0003236987500000121
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于五氧化三钛层410表面；所述二氧化硅层420沉积厚度为100nm。
5.蒸镀防水层500：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层420表面蒸镀防水层500，蒸镀颜色层400后的镜片转移至真空镀膜舱内真空度为3.5×10-5Torr，采用电阻加热防水层500膜材，控制防水层500以
Figure BDA0003236987500000122
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于二氧化硅层420表面，所述防水层500沉积厚度为5nm，其中所述防水层500材质为含氟硅氧烷；如此，即完成各膜层的镀制，制得如图1-2所示的高耐磨的镀膜树脂镜片。
实施例4：
1.镜片基材100强化处理步骤：将树脂镜片基材100放入加硬强化液里浸泡25s后，经过110℃，3小时烘烤固化成型，在镜片基材100表面形成一厚度为5μm的保护层200；所述加硬强化液为聚硅氧烷类溶液；
2.等离子轰击处理：将经过强化处理的镜片基材100转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度在6×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入氩气，氩气流量为18sccm，并采用离子源对镜片基材100进行离子轰击以清洁镜片基材100表面和活化表面能，轰击时间为60s。
3.蒸镀打底层300：镜片基材100经等离子轰击处理后，采用真空离子镀膜技术在镜片基材100表面蒸镀打底层300，将镜片基材100转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为5×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层300以
Figure BDA0003236987500000123
的蒸镀速率沉积于镜片基材100表面；所述一氧化硅打底层300沉积厚度为20nm。
4.蒸镀颜色层400
4.1蒸镀五氧化三钛层410：将蒸镀打底层300后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层410以
Figure BDA0003236987500000131
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于打底层300表面；所述五氧化三钛层410沉积厚度为100nm。
4.2蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层420：将蒸镀五氧化三钛层410后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪扫描轰击所述蒸镀膜材一氧化硅，电子枪扫描轰击一氧化硅膜材时温度约为1800℃，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，所述氧气的流量为40sccm，并控制膜层以
Figure BDA0003236987500000132
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于五氧化三钛层410表面；所述二氧化硅层420沉积厚度为100nm。
5.蒸镀防水层500：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层420表面蒸镀防水层500，蒸镀颜色层400后的镜片转移至真空镀膜舱内真空度为3.5×10-5Torr，采用电阻加热防水层500膜材，控制防水层500以
Figure BDA0003236987500000133
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于二氧化硅层420表面，所述防水层500沉积厚度为5nm，其中所述防水层500材质为含氟硅氧烷；如此，即完成各膜层的镀制，制得如图1-2所示的高耐磨的镀膜树脂镜片。
对比例1：
1.等离子轰击处理：将镜片基材100直接转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度在6×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入氩气，氩气流量为18sccm，并采用离子源对镜片基材100进行离子轰击，轰击时间为60s。
2.蒸镀打底层300：镜片基材100经等离子轰击处理后，采用真空离子镀膜技术在镜片基材100表面蒸镀打底层300，将镜片基材100转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为5×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层300以
Figure BDA0003236987500000134
的蒸镀速率沉积于镜片基材100表面；所述一氧化硅打底层300沉积厚度为20nm。
3.蒸镀颜色层400
3.1蒸镀五氧化三钛层410：将蒸镀打底层300后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层410以
Figure BDA0003236987500000141
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于打底层300表面；所述五氧化三钛层410沉积厚度为100nm。
3.2蒸镀二氧化硅层420：将蒸镀五氧化三钛层410后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪扫描轰击蒸镀膜材二氧化硅，电子枪扫描轰击二氧化硅膜材时温度约为2800℃，并控制二氧化硅层420以
Figure BDA0003236987500000142
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于五氧化三钛层410表面；所述二氧化硅层420沉积厚度为100nm。
4.蒸镀防水层500：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层420表面蒸镀防水层500，蒸镀颜色层400后的镜片转移至真空镀膜舱内真空度为3.5×10-5Torr，采用电阻加热防水层500膜材，控制防水层500以
Figure BDA0003236987500000143
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于二氧化硅层420表面，所述防水层500沉积厚度为5nm，其中所述防水层500材质为含氟硅氧烷；如此，即完成各膜层的镀制，制得如图1-2所示的高耐磨的镀膜树脂镜片。
对比例2：
1.镜片基材100强化处理步骤：将树脂镜片基材100放入加硬强化液里浸泡25s后，经过110℃，3小时烘烤固化成型，在镜片基材100表面形成一厚度为5μm的保护层200；所述加硬强化液为聚硅氧烷类溶液；
2.等离子轰击处理：将经过强化处理的镜片基材100转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度在6×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入氩气，氩气流量为18sccm，并采用离子源对镜片基材100进行离子轰击以清洁镜片基材100表面和活化表面能，轰击时间为60s。
3.蒸镀打底层300：镜片基材100经等离子轰击处理后，采用真空离子镀膜技术在镜片基材100表面蒸镀打底层300，将镜片基材100转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为5×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层300以
Figure BDA0003236987500000151
的蒸镀速率沉积于镜片基材100表面；所述一氧化硅打底层300沉积厚度为20nm。
4.蒸镀颜色层400
4.1蒸镀五氧化三钛层410：将蒸镀打底层300后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层410以
Figure BDA0003236987500000152
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于打底层300表面；所述五氧化三钛层410沉积厚度为100nm。
4.2蒸镀二氧化硅层420：将蒸镀五氧化三钛层410后的镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为3×10-5Torr，采用电子枪扫描轰击蒸镀膜材二氧化硅，电子枪扫描轰击二氧化硅膜材时温度约为2800℃，并控制二氧化硅层420以
Figure BDA0003236987500000153
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于五氧化三钛层410表面；所述二氧化硅层420沉积厚度为100nm。
5.蒸镀防水层500：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层420表面蒸镀防水层500，蒸镀颜色层400后的镜片转移至真空镀膜舱内真空度为3.5×10-5Torr，采用电阻加热防水层500膜材，控制防水层500以
Figure BDA0003236987500000154
的蒸镀速率沉积于镜片表面，即沉积于二氧化硅层420表面，所述防水层500沉积厚度为5nm，其中所述防水层500材质为含氟硅氧烷；如此，即完成各膜层的镀制，制得如图1-2所示的高耐磨的镀膜树脂镜片。
其中，实施例和对比例均采用真空电子束镀膜机(腔体直径1350MM)设备进行离子镀膜；采用阻蒸设备进行电子热辐射蒸发方式镀膜。
对上述实施例和对比例最终制得的镀膜镜片进行测试表征，测试结果如下表1所示：
表1
Figure BDA0003236987500000161
其中，表1中“NG”表示样品耐磨性能差，样品表面出现严重刮伤，“OK”表示样品表面无刮伤，其中，刮伤严重程度从到小依次为NG、刮伤、轻微刮伤、OK。表1中，样品刮伤程度，即样品耐磨性的测试方法为:0#钢丝绒以一定重量法码负重，于样品表面负重来回30次摩擦，通过观察镜片样品表面摩擦和刮伤程度评估样品的耐磨性能，本测试中砝码重量分别设有100g、200g、300g、400g、500g和600g；
通过实施例1和对比例1-2测试结果可知，本发明的实施例1具有优异的耐磨性能，整体耐磨性能够达到0#钢丝绒400克负重30次来回摩擦测试后，表面完全无磨伤；对比例2与实施例1相比，区别在于对比例2中二氧化硅层420采用传统的蒸镀方法镀制，结果可知对比例2耐磨性相比实施例1显著变差；对比例1与对比例2相比，区别在于对比例1中镜片基材100没有进行加强硬化液强化处理，结果表明对比例1耐磨性相比实施例1和对比例2显著变差。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于，包括蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层步骤：
所述二氧化硅层采用真空离子镀膜技术蒸镀成型于镜片上，其中，蒸镀膜材为一氧化硅，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，所述氧气的流量为40～60sccm。
2.根据权利要求1所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于，所述蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层步骤中，将镜片转移至真空镀膜腔内，并控制真空镀膜腔内真空度为(3～4)×10-5Torr，采用电子枪轰击所述蒸镀膜材，蒸镀过程中向真空镀膜腔内注入氧气，并控制膜层以
Figure FDA0003236987490000011
的蒸镀速率沉积于镜片表面。
3.根据权利要求1所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于，包括以下步骤：
S100、蒸镀打底层：采用真空离子镀膜技术在镜片基材表面蒸镀打底层；
S200、蒸镀颜色层：
S210、蒸镀五氧化三钛层：采用真空离子镀膜技术在打底层表面蒸镀五氧化三钛层；
S220、蒸镀一氧化硅膜材形成二氧化硅层：采用真空离子镀膜技术在五氧化三钛层表面蒸镀二氧化硅层；
S230、将S210、S220两个步骤再循环N-1个周期，N大于等于1；
S300、蒸镀防水层：采用电阻热辐射加热蒸镀技术在二氧化硅层表面蒸镀防水层，即完成高耐磨的镀膜树脂镜片的膜层镀制。
4.根据权利要求1或3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于，还包括镜片基材强化处理步骤：
在镀制膜层前，将所述镜片基材放入加硬强化液里浸泡，而后在80℃～120℃下烘烤固化成型，以使所述镜片基材表面形成保护层。
5.根据权利要求1或3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于，还包括等离子轰击处理步骤：
所述镜片强化处理后，将镜片转移至真空镀膜腔内并控制真空镀膜腔内真空度在(6～8)×10-5Torr，向真空镀膜腔内注入惰性气体并采用离子源对镜片基材进行离子轰击，轰击时间为30～150s。
6.根据权利要求3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于，所述S100中，将镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为(4～5)×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材一氧化硅，并控制一氧化硅打底层以
Figure FDA0003236987490000021
的蒸镀速率沉积于镜片表面。
7.根据权利要求3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于，所述S210中，将镜片转移至真空镀膜腔内，控制真空镀膜腔内真空度为(3～4)×10-5Torr，采用电子枪轰击蒸镀膜材五氧化三钛，并控制五氧化三钛层以
Figure FDA0003236987490000022
的蒸镀速率沉积于打底层表面。
8.根据权利要求3所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法,其特征在于，所述打底层沉积厚度为(10～100)nm；所述二氧化硅层沉积厚度为(50～200)nm；所述五氧化三钛层沉积厚度为(50～200)nm；防水层沉积厚度为(2～15)nm。
9.一种高耐磨的镀膜树脂镜片的制备方法,其特征在于，采用如权利要求1-8任一项所述的高耐磨的镀膜树脂镜片镀膜方法对镜片进行镀膜。
10.一种高耐磨的镀膜树脂镜片,其特征在于，采用如权利要求9所述的高耐磨的镀膜树脂镜片制备方法制得。
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