CN113684449B - 一种低吸收高功率光纤激光增透膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低吸收高功率光纤激光增透膜及其制备方法，低吸收高功率光纤激光增透膜，包括交替蒸镀的氧化铪层和二氧化硅层。本发明低吸收高功率光纤激光增透膜，所得增透膜在1000‑1100波段透过率可达99.9％以上；弱吸收小于1.6ppm，同时提高了增透膜的耐磨性、附着力和耐水性等性能，可满足目前激光领域的一些高端应用；膜层结构简单，成本低。

Description

一种低吸收高功率光纤激光增透膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种低吸收高功率光纤激光增透膜及其制备方法，属于高功率光纤激光增透膜技术领域。
背景技术
在光学元件中，由于元件表面的反射作用而使光能损失，为了减少元件表面的反射损失，常在光学元件表面镀层透明介质薄膜，这种薄膜就叫增透膜。
光学材料吸收电磁波后，能将电磁波能量转换成热能，从而引起光学材料内部温度升高。大的吸收系数是限制高能激光发展的主要因素之一，光学薄膜的吸收过大会导致薄膜的损伤。为了改善光学材料或光学薄膜的质量，需要测量薄膜的弱吸收。目前在PVD镀膜工艺中，国内的最佳弱吸收值可以达到2.0ppm，国外报道的领先水平可以达到1.8ppm，尚需进一步改进。
发明内容
本发明提供一种低吸收高功率光纤激光增透膜及其制备方法，所得增透膜在1000-1100波段透过率可达99.9％以上；弱吸收小于1.6ppm，可满足目前激光领域的一些高端应用。
为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案如下：
一种低吸收高功率光纤激光增透膜，包括交替蒸镀的氧化铪层和二氧化硅层。
薄膜吸收激光能量产生热效应，使自身温度升高，且短时间内急剧加热，在局部热点周围产生热弹性压力和应力波加剧了薄膜的最终破坏；通过交替蒸镀的氧化铪层和二氧化硅层，减少了热效应的影响；上述低折射率材料选用二氧化硅(折射率＝1.46)，二氧化硅膜层微观结构易为无定形态，在工作波长上色散较小，消光系数低，吸收小，较好的损伤阈值；高折射率材料同样选用阈值较高，吸收较小，微观结构为无定形态的氧化铪。本申请通过交替蒸镀的氧化铪层和二氧化硅层，不仅明显了降低了弱吸收，而且透过率可达99.9％以上，同时提高了增透膜的耐磨性、附着力和耐水性等性能。
作为本申请的其中一种具体实现方案，膜层结构为SUB/k1Hk2L/A，其中，SUB代表JGS1基底、A代表空气、H代表氧化铪层、L代表二氧化硅层；k1-k2代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数,k1为0.20～0.50，k2为0.85～1.95；参考波长范围为：1000-1100nm。优选，k1为0.35，k2为1.32。
本申请JGS1基底为石英基板。
作为本申请的另一种具体实现方案，膜层结构为SUB/k1Lk2Hk3L/A，其中，SUB代表JGS1基底、A代表空气、H代表氧化铪层、L代表二氧化硅层；k1-k3代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数,k1为0～4，k2为0.20～0.50，k3为0.85～1.95；参考波长范围为：1000-1100nm。优选，k1为1.32，k2为0.35，k3为1.32。
作为本申请的另一种具体实现方案，膜层结构为SUB/k1Hk2Lk3Hk4L/A，其中SUB代表JGS1基底、A代表空气、H代表氧化铪层、L代表二氧化硅层；k1-k4代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数,k1为0.10～0.24，k2为1.0～2.4，k3为0.18～0.32，k4为0.8～2.0；参考波长范围为：1000-1100nm。优选，k1为0.17，k2为1.7，k3为0.25，k4为1.4。
上述石英基板表面蒸镀光纤激光类的低吸收高功率薄膜，该增透膜在1000-1100波段透过率可达99.9％以上；弱吸收小于1.6ppm，可满足目前激光领域的一些高端应用。
上述低吸收高功率光纤激光增透膜的制备方法，包括如下步骤：
1)将基片处理至的表面粗糙度Ra小于0.5nm；
2)超声清洗，去除基片表面附着的微观颗粒；
3)薄膜制备，氧化铪层的蒸发速率为0.01-0.5nm/s，反应气体为纯度大于99.99％的高纯氧气；二氧化硅的蒸发速率在0.1-2.0nm/s。
上述步骤1)中的表面光洁度优于20/10(美军标)。
上述步骤2)通过超声清洗，使得膜层附着性更强。
为了确保所镀膜层的质量，步骤3)中，氧化铪层制备时，当蒸发速率为0.01-0.1nm/s时所用的蒸发材料为金属铪，0.1-0.5nm/s时所用的蒸发材料为氧化铪。
为了进一步提高膜层质量，步骤3)中，氧化铪层制备时，氧气充气量为50-200sccm。使得沉积材料在高真空状态下能得到充分氧化，降低了薄膜的吸收，提高了抗激光损伤阈值；此方法不但保留了电子束热蒸发方法制备激光薄膜独有的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，具有针对性强、品质高、简单易行的特点；定点蒸镀，得到非晶结构的氧化铪薄膜。
为了确保所镀膜层的质量，步骤3)中，二氧化硅制备时，氧气充气量为5-100sccm。
为了提高膜层的附着力，步骤3)中，镀膜前，基片在温度为150-350℃、真空度为1.0E-3Pa-1.0E-5Pa的条件下，恒温30min以上。
本发明未提及的技术均参照现有技术。
本发明低吸收高功率光纤激光增透膜，所得增透膜在1000-1100波段透过率可达99.9％以上；弱吸收小于1.6ppm，同时提高了增透膜的耐磨性、附着力和耐水性等性能，可满足目前激光领域的一些高端应用；膜层结构简单，成本低。
附图说明
图1为本发明低吸收高功率光纤激光增透膜的设计曲线；
图2为本发明实施例1中膜层结构图；
图3为本发明实施例2中膜层结构图；
图4为本发明实施例3中膜层结构图；
图5为本发明实施例1中膜层结构的分光光度计检测图；
图6为本发明实施例1中膜层结构的弱吸收检测图；
图中，1为氧化铪层，2为二氧化硅层。
具体实施方式
为了更好地理解本发明，下面结合实施例进一步阐明本发明的内容，但本发明的内容不仅仅局限于下面的实施例。
实施例1
如图2所示，低吸收高功率光纤激光增透膜的膜层结构：SUB/k1Hk2L/A，其中SUB代表JGS1基底、A代表空气、H代表氧化铪层、L代表二氧化硅层；k1-k2代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数，分别为0.35/1.32；使用白俄罗斯的PHOTO RT分光光度计检测结果如图5所示，单面反射小于0.05％，双面透过率大于99.9％；委托北京昊然伟业光电科技有限公司，使用弱吸收检测仪(型号：PTI-1064/355-3D50M)进行弱吸收检测：如图6所示，检测结果在1.26ppm。
实施例2
如图3所示，低吸收高功率光纤激光增透膜的膜层结构：SUB/k1Lk2Hk3L/A，其中SUB代表JGS1基底、A代表空气、H代表氧化铪层、L代表二氧化硅层；k1-k3代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数,分别为1.32/0.35/1.32；使用白俄罗斯的PHOTO RT分光光度计检测，单面反射小于0.05％，双面透过率大于99.9％；委托北京昊然伟业光电科技有限公司，使用弱吸收检测仪(型号：PTI-1064/355-3D50M)进行弱吸收检测：检测结果在1.28ppm。
实施例3
如图4所示，低吸收高功率光纤激光增透膜的膜层结构：SUB/k1Hk2Lk3Hk4L/A，其中SUB代表JGS1基底、A代表空气、H代表氧化铪层、L代表二氧化硅层；k1-k4代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数,分别为0.17/1.7/0.25/1.4。使用白俄罗斯的PHOTO RT分光光度计检测，单面反射小于0.05％，双面透过率大于99.9％；委托北京昊然伟业光电科技有限公司，使用弱吸收检测仪(型号：PTI-1064/355-3D50M)进行弱吸收检测：检测结果在1.31ppm。
上述各例的参考波长范围均为：1000-1100nm。
上述各例薄膜制备如下：
1、基片条件：基片材料的表面粗糙度Ra优于0.5nm，表面光洁度优于20/10(美军标)。
2、镀膜设备配置：使用日本昭和的SGC-S1300CI型号镀膜机，两把270度偏转的电子枪，两个爱发科U22H冷凝泵和干式机械泵抽真空系统，XTC3六点水晶膜厚控制仪。
3、蒸发环境保持：主要针对激光薄膜中引起损伤发生的关键因素—薄膜中的吸收及缺陷。通过在蒸发源与基板之间加隔离挡板，阻挡并吸附无效的蒸发材料，减少了基板附近的污染，降低了薄膜缺陷形成的几率。
4、超声波清洗：所用超声波频率1-3槽为40KHZ、4-8槽80KHZ、8-12槽1MHZ,经13槽慢拉切水，最后14槽喷淋甩干，去除基板表面附着的微观颗粒，使膜层附着性更强。
5、薄膜制备工艺参数:基底成膜温度200-300℃，恒温30min以上，本底真空度在8.0E-4Pa-1.0E-5Pa，氧化铪的蒸发速率为0.02nm/s，所用的蒸发材料为金属铪(当蒸发材料为氧化铪，蒸发速率为0.2nm/s)，所使用反应气体为纯度大于99.99％的高纯氧气，充氧量在100-150sccm，使得沉积材料在高真空状态下能得到充分氧化，降低了薄膜的吸收，提高了抗激光损伤阈值；此方法不但保留了电子束热蒸发方法制备激光薄膜独有的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，具有针对性强、品质高、简单易行的特点；定点蒸镀，得到非晶结构的氧化铪薄膜；二氧化硅的蒸发速率在1.0nm/s，氧气充气量为100-150sccm。
为了保证光学元件的可靠性，按照GJB2485-95光学膜层通用规范的要求，对上述各例所得增透膜样品进行了的如下环境试验：
(1)耐磨强度实验：在橡皮摩擦头外裹2层干燥脱脂纱布，保持4.9N压力下顺着同一轨迹对膜层进行摩擦，往返30次，膜层无擦痕等损伤。
(2)附着力实验：用宽为2cm，剥离强度I>2.94N/cm的胶带纸粘牢在膜层表面，将胶带纸从零件的边缘朝表面的垂直方向迅速拉起后，膜层无脱落、无损伤；重复15次，膜层无脱落、无损伤。
(3)浸泡试验：将样品完全浸入蒸馏水或去离子水中，168小时后膜层不出现新的起皮、剥离、裂纹、起泡等缺陷。

Claims (2)

1.一种低吸收高功率光纤激光增透膜，其特征在于：膜层结构为SUB/k1Hk2L/A、SUB/k1Lk2Hk3L/A或SUB/k1Hk2Lk3Hk4L/A；其中，SUB代表JGS1基底、A代表空气、H代表氧化铪层、L代表二氧化硅层，k1-k4代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数；当膜层结构为SUB/k1Hk2L/A时，k1为0.35，k2为1.32；当膜层结构为SUB/k1Lk2Hk3L/A时，k1为1.32，k2为0.35，k3为1.32；当膜层结构为SUB/k1Hk2Lk3Hk4L/A时，k1为0.17，k2为1.7，k3为0.25，k4为1.4。
2.权利要求1所述的低吸收高功率光纤激光增透膜的制备方法，其特征在于：包括如下：
1)基片条件：基片材料的表面粗糙度Ra优于0.5nm，表面光洁度优于20/10；
2)镀膜设备配置：镀膜机，两把270度偏转的电子枪，两个冷凝泵和干式机械泵抽真空系统；
3)蒸发环境保持：在蒸发源与基板之间加隔离挡板，阻挡并吸附无效的蒸发材料；
4)超声波清洗：所用超声波频率1-3槽为40KHZ、4-8槽80KHZ、8-12槽1MHZ,经13槽慢拉切水，最后14槽喷淋甩干，去除基板表面附着的微观颗粒；
5)薄膜制备工艺参数：基底成膜温度200-300℃，恒温30min以上，本底真空度在8.0E-4Pa-1.0E-5Pa，氧化铪的蒸发速率为0.01-0.1nm/s，所用的蒸发材料为金属铪，所使用反应气体为纯度大于99.99％的高纯氧气，充氧量在100-150sccm；二氧化硅的蒸发速率在1.0nm/s，氧气充气量为100-150sccm。
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Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01107419A (ja) * 1987-10-21 1989-04-25 Hitachi Ltd 超伝導体
CN101128402A (zh) * 2004-12-17 2008-02-20 肖特股份公司 薄片的阻挡保护层
CN103173720A (zh) * 2013-03-22 2013-06-26 同济大学 一种防水性激光薄膜的制备方法
CN105324343A (zh) * 2013-06-14 2016-02-10 埃西勒国际通用光学公司 涂布有改进外涂层性能的硅/有机层的物品
EP3243808A1 (en) * 2016-05-11 2017-11-15 United Technologies Corporation High temperature coating for silicon nitride articles
CN109182972A (zh) * 2018-08-30 2019-01-11 华中光电技术研究所（中国船舶重工集团有限公司第七七研究所） 大尺寸蓝宝石基底多光谱硬质增透膜及其制备方法
CN109234673A (zh) * 2018-11-06 2019-01-18 长春理工大学 一种制备含钝化层的高损伤阈值减反膜方法
CN110007377A (zh) * 2019-04-15 2019-07-12 南京波长光电科技股份有限公司 一种皮秒激光高功率增透膜及其制备方法
CN110512180A (zh) * 2019-09-11 2019-11-29 中国矿业大学 一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法
CN210119589U (zh) * 2019-04-15 2020-02-28 南京波长光电科技股份有限公司 一种皮秒激光高功率增透膜
CN111082290A (zh) * 2019-12-31 2020-04-28 北京雷生强式科技有限责任公司 一种板条形激光晶体及其镀膜方法
CN111679347A (zh) * 2019-12-31 2020-09-18 西南技术物理研究所 一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法
CN112782791A (zh) * 2021-02-02 2021-05-11 南京波长光电科技股份有限公司 一种266纳米高功率激光增透膜及其制备方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7951459B2 (en) * 2006-11-21 2011-05-31 United Technologies Corporation Oxidation resistant coatings, processes for coating articles, and their coated articles

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01107419A (ja) * 1987-10-21 1989-04-25 Hitachi Ltd 超伝導体
CN101128402A (zh) * 2004-12-17 2008-02-20 肖特股份公司 薄片的阻挡保护层
CN103173720A (zh) * 2013-03-22 2013-06-26 同济大学 一种防水性激光薄膜的制备方法
CN105324343A (zh) * 2013-06-14 2016-02-10 埃西勒国际通用光学公司 涂布有改进外涂层性能的硅/有机层的物品
EP3243808A1 (en) * 2016-05-11 2017-11-15 United Technologies Corporation High temperature coating for silicon nitride articles
CN109182972A (zh) * 2018-08-30 2019-01-11 华中光电技术研究所（中国船舶重工集团有限公司第七七研究所） 大尺寸蓝宝石基底多光谱硬质增透膜及其制备方法
CN109234673A (zh) * 2018-11-06 2019-01-18 长春理工大学 一种制备含钝化层的高损伤阈值减反膜方法
CN110007377A (zh) * 2019-04-15 2019-07-12 南京波长光电科技股份有限公司 一种皮秒激光高功率增透膜及其制备方法
CN210119589U (zh) * 2019-04-15 2020-02-28 南京波长光电科技股份有限公司 一种皮秒激光高功率增透膜
CN110512180A (zh) * 2019-09-11 2019-11-29 中国矿业大学 一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法
CN111082290A (zh) * 2019-12-31 2020-04-28 北京雷生强式科技有限责任公司 一种板条形激光晶体及其镀膜方法
CN111679347A (zh) * 2019-12-31 2020-09-18 西南技术物理研究所 一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法
CN112782791A (zh) * 2021-02-02 2021-05-11 南京波长光电科技股份有限公司 一种266纳米高功率激光增透膜及其制备方法

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