CN113677247A - 具有不粘和/或不湿涂层的腔体、包括这种腔体的烹饪器具以及用于制造腔体的方法 - Google Patents

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Abstract

一种用于烹饪器具(2)的腔体(4)、特别是用于家用烤箱的烤箱腔体(4)包括:至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d),该至少一个腔体壁限定用于烹饪食物的烹饪室(6)并且具有面向该烹饪室(6)的内表面(10);中央开口,该中央开口用于将食物放入该烹饪室(6)中,其中,该内表面(10)至少部分地设置有不粘和/或不湿涂层(16),该不粘和/或不湿涂层至少包括第一层(18),其中通过溶胶‑凝胶过程从包括硅溶胶和硅烷的第一组合物获得该第一层(18),并且/或者其中该腔体(4)进一步包括热反射防护系统(26),该热反射防护系统具有至少一个热反射防护件(28)以减少由加热元件(30)产生的热辐射,这些加热元件在该腔体(4)内抵靠该不粘和/或不湿涂层(16)布置。一种包括这种腔体(4)的烹饪器具(2)、特别是家用烤箱以及一种用于制造这种腔体(4)的方法。

Description

具有不粘和/或不湿涂层的腔体、包括这种腔体的烹饪器具以 及用于制造腔体的方法
本申请要求2019年4月9日提交的欧洲专利申请号19 168 020.6和2019年11月15日提交的欧洲专利申请号19 209 417.5的优先权权益,这些专利申请的披露内容通过援引以其全文并入本文。
技术领域
本发明涉及一种具有不粘和/或不湿涂层的腔体。特别地,本发明涉及一种烹饪器具的腔体。此外,本发明涉及一种具有这种腔体的烹饪器具。另外,本发明涉及一种用于制造腔体、特别是烹饪器具的腔体的方法,其中向腔体的至少一个腔体壁施加不粘和/或不湿涂层。
背景技术
对于客户来说,一个问题是在使用之后、特别是在诸如奶酪、酱汁、油、脂肪等食物被烧到腔体表面上之后清洁烤箱。因此,市场上有不同的方法来使得更容易清洁。一方面,已经知道具有热解功能的所谓自清洁器具或者具有催化搪瓷的器具。另一方面,存在具有更容易清洁且对撞击和刮擦不太敏感的特殊搪瓷(例如,花岗岩搪瓷)的器具。此外,具有等离子处理或蒸汽清洁程序以改善清洁过程和清洁结果的器具已经上市。
所述实际系统具有不同的缺点。具有热解功能的器具需要用于热解系统的附加部件,这导致更高的成本。此外,清洁过程需要高温,这花费能量。具有催化搪瓷的器具在其制造过程期间需要超过800℃的高烧制温度。此外,催化搪瓷具有脆性表面,这在组装期间可能成为问题。此外,随时间推移,搪瓷的孔被堵塞并且清洁效果变差。
发明内容
本发明的目的是提供一种腔体、一种包括这种腔体的烹饪器具以及一种用于制造这种腔体的方法,该腔体具有改进的特性、特别是在清洁行为、耐温性和/或表面硬度方面。
所附独立权利要求的主题解决了这些和其他的问题。
本发明的第一目的通过根据权利要求1所述的腔体来实现。提供了一种腔体、特别是用于烹饪器具的腔体、特别是烤箱腔体,其中所述腔体包括至少一个腔体壁,该至少一个腔体壁限定用于烹饪食物的烹饪室并且具有面向该烹饪室的内表面。该腔体进一步包括中央开口,该中央开口用于将食物放入该烹饪室中。该内表面至少部分地设置有搪瓷不粘和/或不湿涂层。根据本发明,该涂层至少包括第一层,其中通过溶胶-凝胶过程从包括硅溶胶和硅烷的第一组合物获得该第一层。替代性地或另外地,根据本发明,该腔体进一步包括热反射防护系统,该热反射防护系统具有至少一个热反射防护件以减少由加热元件产生的热辐射,这些加热元件在该腔体内抵靠该不粘和/或不湿涂层布置。
换句话说:该第一层(在下文也称为基础层)由包括硅溶胶和硅烷的缩合反应产物的基底组成。因此,通过溶胶-凝胶过程从第一组合物获得应以此方式理解,使得通过至少包括硅溶胶和硅烷的水状混合物的水解和缩合(缩聚)来获得第一层。因此,将第一组合物的起始材料(即,至少硅溶胶、硅烷和水(如果需要的话))混合在一起并进行搅拌。然后将由此获得的混合物施加到腔体壁的内表面并且进行干燥以获得第一层。例如从EP 2 177 580B1得知这种具有一个层的涂层。
表达“不粘”指示不粘附诸如奶酪、酱汁、油、脂肪等食物的表面,这允许容易清洁腔体。表达“不湿”是指拒绝液体(例如水)的表面。该特性由水滴与该水滴所在的表面之间的大接触角来证明,其中期望至少95度的接触角。
然而,根据本发明,腔体壁的“内表面”是指向所述腔体壁限定的经加热或可加热烹饪室的表面。因此,腔体壁的“外表面”是背向所述烹饪室的表面。
该腔体包括腔体壁,这些腔体壁在其之间形成烹饪室,食物可以放入该烹饪室中以进行烹饪或烘烤。出于这种目的,腔体壁限定烹饪室,这些腔体壁通常包括左侧壁和右侧壁、底壁和上壁、后壁和前壁,其中这些腔体壁中的一个壁、通常是前壁包括用于将食物放入烹饪室中的中央开口。中央开口可以通过门分别关闭或打开。本领域技术人员还已知此类腔体的其他配置。
腔体可以包括被设置成附接到腔体壁上的另外的部件,例如烘烤托盘或格栅。甚至这些其他部件可以具有与腔体壁相当的结构,因此此类附属部件的至少一个表面可以涂有陶瓷不粘和/或不湿涂层,该陶瓷不粘和/或不湿涂层至少包括第一层,其中通过溶胶-凝胶过程从包括硅溶胶和硅烷的第一组合物获得该第一层。
腔体的部件、因此腔体壁和/或另外的附属部件可以一体形成或者可以包括多个部分,这些部分被设置成连接在一起以形成成形结构,诸如可加热烤箱腔体、其前框架或其任何部件。
本发明的理念是提供具有容易清洁效果的腔体,由此表面的接触角显示出大于95度。通过溶胶-凝胶过程施加不粘且不湿涂层具有以下优点:不需要用于将不粘涂层施加在腔体壁上的处于高温下的烧制过程,这节省了能量。除了良好的清洁行为外,所述涂层显示出良好的耐磨性和大的表面硬度,这导致寿命增加。
加热元件(例如,管加热元件或格栅元件)可以将腔体内表面加热到500℃。为了使用不粘且不湿涂层,特别是通过本文所描述的溶胶-凝胶过程获得的容易清洁的涂层,最大温度需要低于约300℃至350℃。因此,本发明的理念也是提供热反射防护系统,以便使加热元件不影响腔体壁的关键区域,以减少热辐射。这允许使用在腔体表面涂有耐受高达500℃的温度的搪瓷时已经使用的已知加热元件。这具有以下优点:可以在不需要改变整个烤箱概念的情况下或在不需要施加全新加热系统的情况下形成容易清洁的带涂层烤箱。
腔体壁可以由不同材料制成,该材料适合于预期用途,诸如不锈钢或本身不腐蚀的另一种材料,例如铝或铝合金。然而,此类腔体壁的缺点是它们很昂贵。因此,特别地,该至少一个腔体壁由易蚀钢制成,特别地,低碳钢是腔体壁的优选材料并且设置有防腐蚀或制备层、特别是搪瓷层和/或铝层和/或包括铝的层,并且该第一层施加到所述防腐蚀或制备层。在腔体壁由不锈钢或另一种不腐蚀材料制造成的情况下,这种防腐蚀或制备层可以但不一定被施加用于腐蚀防护,但可用于制备该表面,因此提供良好的可湿性和清洁表面以在整个表面上获得良好的粘附性能并且不粘和/或不湿涂层不分离。
换句话说:腔体、更具体地特别是由不锈钢或易蚀钢制成的腔体壁包括在其内表面上的防腐蚀或制备层(在下文也称为腐蚀防护层或制备层),并且不粘和/或不湿涂层施加到所述腐蚀防护层或制备层的内表面。这是因为以下原因:不粘和/或不湿涂层本身不保护基础材料或基底(因此腔体壁)免受腐蚀。因此,如果腔体壁由任何腐蚀材料制成而使得不粘和/或不湿涂层也可以与本身腐蚀的基础材料或基底一起使用,则附加的腐蚀防护层是有利的。制备层可用于所有基础材料以便制备用于后续涂层的腔体壁,以便得到可湿且清洁的表面。
所述搪瓷材料可以是基本上由融化和熔融的玻璃粉组成的所谓的焦酚或玻化搪瓷。为了将所述搪瓷层施加到腔体壁,需要约820℃至840℃的高烧制温度。
另一种搪瓷层可以由具有在450℃与560℃之间的低软化点、相应地低玻璃化转变温度的搪瓷(所谓的“低温搪瓷”)制成。软化点被限定为某一温度、相应地温度范围,在该温度下,当温度增加时,材料、例如搪瓷从其硬的且相对易碎的状态转变为熔化或橡胶状状态。因此,所述低温搪瓷可以在较低的烧制温度下施加到腔体壁的表面。所述搪瓷是例如包括氧化铝的铝搪瓷。
例如从WO 02/02471A1或GB 718,132中得知此类常规搪瓷的组合物。WO 02/02471A1披露了一种用于形成搪瓷盖层的搪瓷组合物,该搪瓷组合物包括玻璃组分,该玻璃组分包括至少第一玻璃熔块,该第一玻璃熔块包括约30重量%至约45重量%的P205、约20重量%至约40%的A1203、约15重量%至约35重量%的Li20和Na20以及K20、高达约15重量%的B203、高达约15重量%的MgO和CaO以及SrO和BaO和ZnO、高达约10重量%的Ti02和Zr02,以及高达约10重量%的Si02。该玻璃组分还可以包括至少第一玻璃熔块和第二玻璃熔块的共混物。GB 718,132披露了碱金属磷酸铝玻化搪瓷熔块。
另一种搪瓷层可以由催化搪瓷制成,例如从披露了一种包括搪瓷熔块、惰性物质和氧化催化剂的催化活性涂层组合物的EP 0 565 941A1中得知,或者从披露了一种用于烹饪器具的催化活性搪瓷层的GB 1 418842中得知。
此外,一般包括玻璃类组分和添加剂组分的所谓底釉组合物可以用于形成提供粗糙和粘结表面的效果的搪瓷层。此类底釉例如在US8,778,455B2中描述,并且包括一种或多种碱金属氧化物、一种或多种碱土金属氧化物和一种或多种的各种过渡金属氧化物的组合作为玻璃类组分以及添加剂(诸如氟)。
通常使用的易蚀钢的示例是典型地包含小百分比的碳、大致约0.05%至0.30%碳的所谓低碳钢。
在优选实施例中,该陶瓷不粘和/或不湿涂层至少包括施加到该第一层的内表面的第二层,其中通过溶胶-凝胶过程从包括硅溶胶、硅烷和硅氧烷、特别是聚二甲基硅氧烷的第二组合物获得该第二层。也从EP 2 177 580 B1得知这种至少具有第二层的涂层。
换句话说:该第二层(在下文也称为顶层)由包括硅溶胶、硅烷和硅氧烷的缩合反应产物的基底组成。因此,通过溶胶-凝胶过程从第二组合物获得应以此方式理解,使得通过至少包括硅溶胶、硅烷和硅氧烷的水状混合物的水解和缩合(缩聚)来获得第二层。因此,将第二组合物的起始材料(即,至少硅溶胶、硅烷、硅氧烷和水(如果需要的话))混合在一起并进行搅拌。然后将由此获得的混合物施加到第一层的内表面并且进行干燥以获得第二层。
优选地,在第一组合物和第二组合物中或者在第一层和第二层中,该硅溶胶的存在量为15wt%至70wt%、特别是量为30wt%至70wt%,并且/或者该硅烷的存在量为2wt%至70wt%、特别是量为10wt%至40wt%。
特别地,在第一组合物和第二组合物中或者在第一层和第二层中的硅烷是有机烷氧基硅烷、特别是甲基三甲基氧基硅烷和/或含氟烷氧基硅烷。
第一组合物和/或第二组合物或者第一层和/或第二层可以包括催化剂、特别是酸性催化剂、更优选地包含一个或多个羧基和/或矿物酸(例如,盐酸、硫酸或硝酸)的有机化合物。作为合适催化剂的示例,在这里可以提及不同的一元羧酸或二羧酸,比如甲酸、醋酸或草酸。
已经表明有利的是在第一组合物和第二组合物中或者在第一层和第二层中,催化剂的存在量为0.1wt%至2wt%。该催化剂一般用作水解和缩合反应中的催化剂并且防止太慢的交联。
在另一个优选实施例中,第一组合物和/或第二组合物或者第一层和/或第二层包括溶剂、特别是有机溶剂。有机溶剂的示例为醇类溶剂,例如甲醇、乙醇或丙醇。
特别地,该溶剂的存在量为10wt%至60wt%、特别是量为10wt%至40wt%。
类似于第二组合物或第二层,在优选实施例中,第一组合物或第一层也可以包括硅氧烷。所述硅氧烷特别是聚二甲基硅氧烷。
在第一组合物或第一层中以及在第二组合物或第二层中的硅氧烷的有利量是在0.1wt%至2wt%之间。
在优选实施例中,该第一组合物或第一层和/或该第二组合物或第二层包括颜料和/或染料和/或填充材料和/或其他添加剂。特别地,耐温的无机颜料是有利的。
另外,如果需要的话,则向第一组合物和/或第二组合物添加水。
在优选实施例中,该至少一个腔体壁和/或该防腐蚀或准备层的内表面具有在Ra0.01μm至10.00μm之间、更优选地在Ra 0.10μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 0.20μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 0.50μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 2.00μm之间5.00μm之间、仍更优选地在Ra 2.50μm至5.00μm之间的表面粗糙度。
有利的表面结构可以降低不粘和/或不湿涂层的剥落风险,并且同时允许减少涂层的量且因此降低成本。本发明人惊人地发现,在上述极限内的粗糙度改善了后续层的粘附、特别是防腐蚀层对腔体壁的粘附,或者不粘和/或不湿层的第一层或任何后续层对腔体壁或者防腐蚀或制备层的粘附。
可以特别地通过如先前提及的已知催化搪瓷的防腐蚀或制备层来获得具有这种良好粗糙度的表面。甚至可以执行对表面的机械处理或化学处理或者特别是激光处理来实现所需的粗糙度。
在上述极限内的较低表面粗糙度可以是有利的,因为可以减少不粘和/或不湿涂层的量。
优选地,表面粗糙度小于Ra 10.00μm、优选地小于Ra 7.50μm、更优选地小于Ra5.00μm。
在上述极限内的较高表面粗糙度可以是有利的,因为这将提高不粘和/或不湿涂层的粘附能力。
优选地,表面粗糙度超出Ra 0.01μm、优选地超出Ra 0.10μm、更优选地超出Ra0.20μm、仍更优选地超出Ra 0.50μm、仍更优选地超出Ra 1.00μm、仍更优选地超出Ra 2.00μm。
本领域技术人员直到各种标准方法以确定表面粗糙度值Ra。特别地,可以优选地根据与ISO 4287:1997标准相同的BS EN ISO 4287:2000英国标准来确定表面粗糙度。
还优选的是,该防腐蚀或制备层、特别是该搪瓷层具有小于100μm、更优选地小于80μm、仍更优选地小于50μm、仍更优选地小于30μm的厚度。特别地,在腔体壁由不锈钢制成的情况下,不需要所述薄搪瓷层形成连续层,因为仅仅不连续层就已给出有利的粗糙表面。
典型的搪瓷厚度通常大于100μm。发明人已经惊人地发现,上述搪瓷组合物允许形成较薄层。甚至不需要金属表面被连续层完全覆盖以改善腔体壁的表面的润湿和粘附特性。太薄而无法形成连续层的搪瓷已经给出有利的粗糙表面。
在优选实施例中,该腔体包括热反射防护系统、特别是至少一个热反射防护件,并且所述热反射防护系统、特别是所述至少一个热反射防护件具有用于保护腔体顶壁的第一部分和用于保护腔体侧壁免受由布置在该腔体内的加热元件产生的热辐射的至少第二部分,其中,该第一部分和该第二部分特别地具有不同的尺寸。一个部分保护腔体顶壁并且另一个部分保护腔体侧壁。不对称的几何结构和形状特别地导致沿腔体侧壁向下起作用的保护。
热反射防护系统和相应地热反射防护件可以附接到加热元件的外部棒或者替代性地附接到加热元件的所有棒。另一种可能性是将热反射防护件作为整个板附接在加热元件的顶部上。热反射防护件也可以在两个或更多个加热元件之间延伸以将它们彼此隔离。
在另一个优选实施例中,该热反射防护系统、特别是该至少一个热反射防护件的内表面是光亮的,其具有低发射率、特别是其中发射率在0.1与0.6之间。这具有辐射被反射回到腔体中的优点。
还优选的是,该热反射防护系统、特别是该至少一个热反射防护件由耐温和/或轻质和/或绝缘的材料制成,使得它显示出低的自辐射行为。钢、铝合金、不锈钢或其他金属材料也将作为简单的解决方案。
还有利的是该热反射防护系统、特别是该至少一个热反射防护件包括不同材料的两个或更多个层。这种“夹层解决方案”组合了两个或更多个层,其中内层是刚性承载几何形状,外层由具有低辐射的轻质隔离材料制成。
热反射防护系统可以由一块金属压成但共同具有平直轮廓。热反射防护件可以固定到加热元件或者固定在腔体的内表面处。
本发明的第二目的通过根据权利要求15所述的烹饪器具来实现。
这种烹饪器具包括可加热腔体、用于加热所述腔体的加热元件以及用于关闭该腔体、特别是用于关闭该腔体的中央开口的门,其中,该可加热腔体是根据本发明的腔体。
例如,根据本发明的烹饪器具和/或腔体是用于烹饪和/或烘烤食物的烹饪和/或烘烤装置。这种烹饪器具、优选地烹饪和/或烘烤装置可以特别是选自包括以下各项的组的烹饪器具:烤箱、烘箱、微波炉、蒸汽烤箱、以及蒸汽锅。
本发明的第三目的通过根据权利要求16所述的用于制造腔体的方法来实现。
这种用于制造腔体、特别是烹饪器具的烤箱腔体的方法(该腔体具有在腔体的至少一个腔体壁的内表面上的不粘和/或不湿涂层)至少包括以下步骤:
首先,将防腐蚀或制备层、特别是搪瓷层和/或铝层和/或包括铝的层施加到该至少一个腔体壁的内表面。
本领域技术人员将了解,这种腔体壁可以由不同的材料制造,该材料适合于预期用途。然而,本领域技术人员还将了解,特别是低碳钢是用于腔体壁的优选材料。如果将低碳钢用作腔体材料,则优选的是施加这种防腐蚀层、特别是搪瓷层。替代性地,腔体还可以由不锈钢制造成。在这种情况下,施加防腐蚀层的步骤可以是任选的。这意味着在腔体由不锈钢制造成的情况下,可以但不一定施加防腐蚀层,但是在这种情况下,施加制备层也是有利的,以便提供表面的良好可湿性和清洁表面。
在搪瓷层的情况下,需要高于800℃的高烧制温度以将所述层烧到腔体壁上。例如,腔体壁通过喷漆而涂有这种防腐蚀层。
在将防腐蚀或制备层施加到腔体壁之前,可以例如通过清洁和/或干燥腔体壁的内表面额/或激活内表面、优选地通过例如对腔体壁的内表面的机械处理或化学处理使表面粗糙来制备该腔体壁,以便实现防腐蚀层的更好粘附。根据优选实施例,通过激光处理来使腔体壁的内表面粗糙。
第二,将该不粘和/或不湿涂层的第一层施加到该防腐蚀或制备层的表面。
甚至在这里,在将该不粘和/或不湿涂层的第一层施加到该防腐蚀层之前,可以制备该防腐蚀或制备层的表面,例如,清洁和/或干燥防腐蚀层的内表面。另外地或替代性地,可以通过例如对防腐蚀层(如果存在的话)的机械处理或化学处理使表面粗糙来制备防腐蚀或制备层的表面。甚至在这里还优选的是通过激光处理使防腐蚀层的表面粗糙。
替代性地,不粘和/或不湿涂层的第一层也可以施加到不锈钢腔体。在这种情况下,在将该不粘和/或不湿涂层的第一层施加到该腔体壁之前,可以制备不锈钢腔体的表面,例如,清洁和/或干燥。另外地或替代性地,可以通过例如对不锈钢腔体壁的机械处理、激光处理或化学处理使表面粗糙来制备腔体壁的表面。本发明人惊人地发现,这种在施加不粘和/或不湿涂层的第一层之前更具体地通过激光处理进行的预处理并且特别是粗糙化是有利的,以作为不粘和/或不湿涂层的粘附特性。在没有更具体地通过激光处理进行的这种预处理、特别是这种粗糙化的情况下,不粘和/或不湿涂层的第一层和任何后续层可能会剥落。
用激光处理对不锈钢的或具有防腐蚀层的腔体壁的预处理可以是有利的。
也就是,本发明人已经发现,表面粗糙度必须针对工业应用进行优化。有利的表面结构可以降低不粘和/或不湿涂层的剥落风险,并且同时允许减少涂层的量且因此降低成本。不粘和/或不湿涂层对不锈钢的或具有防腐蚀层的经预处理腔体壁的粘附可以特别地取决于表面粗糙度。表面粗糙度可以有利地通过这种预处理、特别是激光处理来增加。然而,太高的表面粗糙度也可能是不利的,因为涂层的粘附可能不是最佳的和/或所需要的涂层量将比必要的更高。
优选地,用这种激光处理步骤实现的表面粗糙度在Ra 0.01μm至10.00μm之间、更优选地在Ra 0.10μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 0.20μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 0.50μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 2.00μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 2.50μm至5.00μm。
较低表面粗糙度可以是有利的,因为可以减少不粘和/或不湿涂层的量。
优选地,用这种激光处理步骤实现的表面粗糙度小于Ra 10.00μm、优选地小于Ra7.50μm、更优选地小于Ra 5.00μm。
较高表面粗糙度可以是有利的,因为这将提高不粘和/或不湿涂层的粘附能力。
优选地,用这种激光处理步骤实现的表面粗糙度超出Ra 0.01μm、优选地超出Ra0.10μm、更优选地超出Ra 0.20μm、仍更优选地超出Ra 0.50μm、仍更优选地超出Ra 1.00μm、仍更优选地超出Ra 2.00μm。
本领域技术人员直到各种标准方法以确定表面粗糙度值Ra。特别地,可以优选地根据与ISO 4287:1997标准相同的BS EN ISO 4287:2000英国标准来确定表面粗糙度。
与已知的喷砂方法相比,这种预处理可以特别地有利,因为有可能集成到其他生成设备中,例如与烤箱腔体的现有激光焊接线相关,其中喷砂设备可能需要全新设备和特定的壳体、保护等。此外,根据本发明的方法在不需要过程材料(比如在根据现有技术的喷砂中通常施加的刚玉粉)方面也是有利的。此外,根据本发明的方法在减少根据本发明的处理期间出现的脏污也是有利的。与标准喷砂方法相比,有利地减少在预处理步骤之后和/或在涂覆之前的进一步表面清洁。而且,有利地增加表面参数值的再现性。
本领域技术人员将认识到,可以施加各种激光方法和激光设备以实现所描述的优选表面粗糙度。通过示例,在根据本发明的预处理步骤中,可以施加具有254mm的焦点宽度、1064nm的波长以及移除抽吸的光学系统STAMP10的CL100型激光器。由此,表面处理速度可以根据期望的结果并且用本领域技术人员公知的方法进行调整。例如,此类表面处理速度可以是大约10m2/sec或更高。
施加不粘和/或不湿涂层典型地要求需要涂覆的表面的初步制备阶段,以便得到可湿和清洁表面。制备阶段典型地分成两个阶段,第一个阶段用于允许可湿表面并且第二个阶段用于清洁表面并移除来自先前步骤的污染物或残留物。为了简化制备阶段,根据优选实施例,必须要涂覆的部件、在当前情况下是腔体壁经受涂搪过程,以便形成防腐蚀或制备层。因此,通过涂搪过程将防腐蚀或制备层施加到至少一个腔体壁的内表面,从而形成具有在先前所描述的优选值内的表面粗糙度和/或小于100μm、更优选地小于80μm、仍更优选地小于50μm、仍更优选地小于30μm的层厚度的防腐蚀或制备层。通过使用先前所描述的搪瓷组合物、因此是常规搪瓷、催化搪瓷或所谓的研磨组合物来实现所述特性。明确地参考在腔体壁的防腐蚀和制备层的背景下描述的解释和示例。
替代性地或另外地,具有至少一个热反射防护件的热反射防护系统附接到腔体的内表面或附接到烹饪器具的加热元件。
在优选实施例中,在又一步骤中将不粘和/或不湿涂层的第二层施加到第一层的表面,使得获得包括涂层的腔体,该涂层包括基础层和顶层。
在实施例中,其中腔体包括至少两个腔体壁,用于制造腔体的方法可以包括附加步骤,即,通过特别是借助于激光焊接将至少两个腔体壁连接在一起来提供腔体。腔体的甚至另外的部件、诸如其前框架或围绕腔体壁的壳体部分可以彼此连接在一起和/或通过激光焊接连接到腔体壁。
在所附权利要求中阐述了本发明的新颖性和创造性特征。
附图说明
将参考附图进一步详细地描述本发明,在附图中:
图1展示了根据本发明的实施例的包括腔体的烹饪器具的示意图,
图2详细展示了腔体壁的截面图,
图3展示了根据本发明的第一实施例的包括热反射防护系统的烹饪器具的腔体的一部分的示意图,
图4展示了根据本发明的第二实施例的包括热反射防护系统的烹饪器具的腔体的一部分的示意图,
图5展示了根据本发明的第三实施例的包括热反射防护系统的烹饪器具的腔体的一部分的示意图,
图6展示了根据本发明的第四实施例的包括热反射防护系统的烹饪器具的腔体的一部分的示意图,
图7展示了根据本发明的第五实施例的包括热反射防护系统的烹饪器具的腔体的一部分的示意图。
附图标记清单
2 烹饪器具
4 腔体
6 烹饪室
8a、8b、8c、8d 腔体壁
10 腔体壁的表面
12 防腐蚀层
14 防腐蚀层的表面
16 涂层
18 第一层
20 第一层的表面
22 第二层
24 第二层的表面
26 热反射防护系统
28 热反射防护件
30 加热元件
32a、32b 热反射防护件的第一部分、第二部分
34 热反射防护系统的内表面
36a、36b 热反射防护件的层
具体实施方式
图1展示了烹饪器具2的示意图。此类烹饪器具2包括根据本发明的可加热腔体4。腔体4包括腔体壁,这些腔体壁限定烹饪室6,食物可以放入该烹饪室中进行烹饪或烘烤。烹饪室6由腔体壁限定,这些腔体壁通常分别包括左侧壁8a和右侧壁8b、底壁8c和上壁8d,以及图1中未示出的后壁和前壁。腔体壁中的一个壁、通常是前壁包括用于将食物放入烹饪室6中的中央开口。中央开口可以通过门来关闭或打开,该门可以是前壁的一部分。烹饪器具2通常进一步还包括加热元件(图1中未示出),这些加热元件用于加热烹饪室6并且因此加热已放置在其中待烹饪的食物。此类加热元件可以设置在腔体壁中的一个壁上。
腔体壁8a、8b、8c、8d示例性地由易蚀钢、实际上是低碳钢制成。为了防止腔体4腐蚀,腔体壁8a、8b、8c、8d设置有防腐蚀或制备层12,在当前情况下是特别地由底釉组合物形成的搪瓷层,该层在820℃的温度下烧制到腔体壁8a、8b、8c、8d。防腐蚀或制备层12具有2.5μm的表面粗糙度和20μm的层厚度。
腔体壁8a、8b、8c、8d进一步设置有不粘和/或不湿涂层16,该不粘和/或不湿涂层包括作为基础层的第一层18和作为顶层的第二层22。第一层18施加到防腐蚀或制备层12的表面14。在图2中示例性地详细示出腔体壁8a的截面图。
通过溶胶-凝胶过程来获得第一层18和第二层22两者。为了生产第一层16,将硅溶胶(其为纯SiO2)、有机烷氧基硅烷(其为有机-无机杂化材料且目前是甲基三甲基氧基硅烷)以及酸性催化剂(目前是醋酸)混合并且在室温下搅拌约2小时以便进行缩合反应。有机烷氧基硅烷的重量比例为约10wt%至40wt%,硅溶胶的存在量为30wt%至70wt%。按0.1wt%至2wt%的量添加醋酸足以使缩合反应加速。
然后,按10wt%至40wt%的量添加溶剂、目前是丙醇。添加颜料,并且在这一步可以另外地添加其他添加剂。
为了生产第二层22,将硅溶胶、硅氧烷和溶剂(甚至这里也是丙醇)混合。然后添加有机烷氧基硅烷和酸性催化剂、目前是醋酸。甚至将所述混合物进行混合并在室温下搅拌约2小时。有机烷氧基硅烷的重量比例为约10wt%至40wt%,硅溶胶的存在量为30wt%至70wt%,醋酸的存在量为0.1wt%至2wt%。然后,按0.1wt%至2wt%的量添加硅氧烷、目前是聚二甲基硅氧烷。
然后,按10wt%至40wt%的量添加溶剂、甚至在这里目前是丙醇。添加颜料,并且在这一步可以另外地添加其他添加剂。
为了制造在腔体壁8a、8b、8c、8d的内表面10上具有不粘和/或不湿涂层16的腔体4,在第一步骤中,将防腐蚀或制备层12、目前是搪瓷层施加到腔体壁8a、8b、8c、8d的内表面10。为了提高腔体壁8a、8b、8c、8d的内表面10的粘附性,在施加防腐蚀或制备层12之前通过激光处理来使该内表面粗糙。
在第二步骤中,将第一层18施加到防腐蚀或制备层12的表面14。为了提高防腐蚀或制备层12的粘附性,通过涂搪过程来制备该防腐蚀或制备层。
在第三步骤中,将第二层22施加到第一层18的表面20。将第一层16以及第二层22喷洒在防腐蚀或制备层12的表面14或第一层16的表面20上并进行干燥。第一层16优选地在施加第二层22期间至少仍是湿的。
本发明,即因此具有不粘和/或不湿涂层的腔体和具有这种腔体的烹饪器具显示出改善的清洁行为。腔体或涂层分别是耐磨的,并且显示出更大的表面硬度,这使得寿命增加。此外,涂层已经在腔体壁上、特别是在防腐蚀层的表面上显示出良好的粘附。由于涂层是通过溶胶-凝胶过程生产的,因此没有必要在高温下进行(第二)烧制步骤。
腔体4进一步包括热反射防护系统26,该热反射防护系统具有至少一个热反射防护件28以减少由加热元件30产生的热辐射,这些加热元件在腔体4内抵靠不粘和/或不湿涂层16布置。图3至图7中的每一者示出了具有这种热反射防护系统26的不同实施例的腔体4的一部分。
根据图3,腔体4包括具有施加到加热元件30的外部棒的一个热反射防护件28的热反射防护系统26。热反射防护件28具有用于保护腔体顶壁8d的第一部分32a和用于保护腔体侧壁8a的第二部分32b。第一部分32a和第二部分32b具有不同的尺寸,沿腔体侧壁向下延伸的第二部分32b具有比第一部分32a大的延伸。热反射防护件28由耐温、轻质且绝缘的材料制成。
图4示出了具有示例性地带有两个热反射防护件28的热反射防护系统26的腔体4,每个热反射防护件施加到加热元件30的加热棒。热反射防护件28可以施加到加热元件30的所有棒。热反射防护件28由耐温、轻质且绝缘的材料制成。
图5示出了替代性实施例,其中整个板28作为整个热反射防护件28施加在加热元件30的顶部上。根据图4和图5的热反射防护件28具有相同的功能几何形状。热反射防护件28由耐温、轻质且绝缘的材料制成。
图6示出了其中热反射防护件28包括由不同材料制成的两个层36a、36b的实施例。内层36b是刚性承载几何形状,外层36a是具有低辐射的轻质隔离材料。
图7示出了其中热反射防护件28具有一定形状使得加热元件30的两个棒通过所述热反射防护件28彼此隔离的实施例。
所有的上述热反射防护件28都具有光亮的内表面34,其中发射率在0.1与0.6之间。
尽管本文已参考附图描述了本发明的说明性实施例,但是应理解,本发明不限于这些确切的实施例,并且本领域技术人员可以在其中进行多种其他改变和修改而不背离本发明的范围或精神。所有这些改变和修改都旨在被包括在由所附权利要求限定的本发明的范围之内。

Claims (19)

1.一种腔体(4)、特别是用于烹饪器具(2)的腔体(4)、特别是烤箱腔体(4),该腔体包括
-至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d),该至少一个腔体壁限定用于烹饪食物的烹饪室(6)并且具有面向该烹饪室(6)的内表面(10),
-中央开口,该中央开口用于将食物放入该烹饪室(6)中,
-不粘和/或不湿涂层(16),该不粘和/或不湿涂层至少部分地施加到该内表面(10),
其特征在于,
-该不粘和/或不湿涂层(16)至少包括第一层(18),其中,通过溶胶-凝胶过程从包括硅溶胶和硅烷的第一组合物获得该第一层(18),并且/或者
-该腔体(4)进一步包括热反射防护系统(26),该热反射防护系统具有至少一个热反射防护件(28)以减少由加热元件(30)产生的热辐射,这些加热元件在该腔体(4)内抵靠该不粘和/或不湿涂层(16)布置。
2.根据权利要求1所述的腔体(4),
其特征在于,
该至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)由不锈钢制成或由易蚀钢制成,并且设置有防腐蚀或制备层(12)、特别是搪瓷层和/或铝层和/或包括铝的层,其中,该第一层(18)施加到所述防腐蚀或制备层(12)。
3.根据权利要求1或2所述的腔体(4),
其特征在于,
该不粘和/或不湿涂层(16)至少包括施加到该第一层(18)的第二层(22),其中,通过溶胶-凝胶过程从包括硅溶胶、硅烷和硅氧烷的第二组合物获得该第二层(22)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),
其特征在于,
该硅溶胶的存在量为15wt%至70wt%、特别是量为30wt%至70wt%,并且/或者该硅烷的存在量为2wt%至70wt%、特别是量为10wt%至40wt%。
5.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),
其特征在于,
该硅烷是有机烷氧基硅烷、特别是甲基三甲基氧基硅烷、和/或含氟烷氧基硅烷。
6.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),
其特征在于,
该第一组合物和/或该第二组合物包括溶剂、特别是有机溶剂。
7.根据权利要求6所述的腔体(4),
其特征在于,
该溶剂的存在量为10wt%至60wt%、特别是量为10wt%至40wt%。
8.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),
其特征在于,
该第一组合物包括硅氧烷、特别是聚二甲基硅氧烷。
9.根据权利要求3至8中任一项所述的腔体(4),
其特征在于,
该硅氧烷的存在量为0.1wt%至2wt%。
10.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),
其特征在于,
该第一组合物和/或该第二组合物包括颜料和/或染料和/或填充材料和/或其他添加剂。
11.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),其中,该至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)和/或该防腐蚀或制备层(12)的内表面具有在Ra 0.01μm至10.00μm之间、更优选地在Ra0.10μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 0.20μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 0.50μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 2.00μm之间5.00μm之间、仍更优选地在Ra 2.50μm至5.00μm之间的表面粗糙度。
12.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),其中,该防腐蚀或制备层(12)、特别是该搪瓷层具有小于100μm、更优选地小于80μm、仍更优选地小于50μm、仍更优选地小于30μm的厚度。
13.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),
其特征在于,
该热反射防护系统(26)、特别是该至少一个热反射防护件(28)具有用于保护腔体顶壁(8d)的第一部分(32a)和用于保护腔体侧壁(8a)的至少第二部分(32b),其中,该第一部分和该第二部分(32a,32b)特别地具有不同的尺寸。
14.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4),
其特征在于,
该热反射防护系统(26)、特别是该至少一个热反射防护件(28)的内表面(34)是光亮的,其具有低发射率、特别是其中发射率在0.1与0.6之间,并且/或者该热反射防护系统(26)、特别是该至少一个热反射防护件(28)由耐温和/或轻质和/或绝缘的材料制成,并且/或者该热反射防护系统(26)、特别是该至少一个热反射防护件(28)包括不同材料的两个或更多个层(36a、36b)。
15.一种烹饪器具(2)、特别是家用烤箱,包括
-可加热腔体(4),
-加热元件(30),这些加热元件用于加热所述腔体(4),以及
-门,该门用于关闭该腔体(4)、特别是用于关闭该腔体(4)的中央开口,
其特征在于,
该可加热腔体(4)是根据权利要求1至14中任一项所述的腔体(4)。
16.一种用于制造腔体(4)、特别是烹饪器具(2)的腔体(4)的方法,该腔体具有在该腔体(4)的至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)的内表面(10)上的不粘和/或不湿涂层(16),该方法至少包括以下步骤:
-将防腐蚀或制备层(12)、特别是搪瓷层和/或铝层和/或包括铝的层施加到该至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)的内表面(10),
-将该不粘和/或不湿涂层(16)的第一层(18)施加到该防腐蚀或制备层(12)的表面(14)和/或将具有至少一个热反射防护件(28)的热反射防护系统(26)附接到该腔体(4)的内表面(10)或该烹饪器具(2)的加热元件(30)。
17.根据权利要求16所述的用于制造腔体(4)的方法,其中,将该不粘和/或不湿涂层(16)的第二层(22)施加到该第一层(18)的表面(20)。
18.根据权利要求16至17中任一项所述的用于制造腔体(4)的方法,其中,在施加该不粘和/或不湿涂层(16)之前、特别是通过激光处理、特别是通过激光器处理来使该至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)的内表面(10)和/或该防腐蚀或制备层(12)粗糙。
19.根据权利要求16至18中任一项所述的用于制造腔体(4)的方法,其中,通过涂搪过程将该防腐蚀或制备层(12)施加到该至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)的内表面(10)。
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