CN113601276B - 永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法 - Google Patents

永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法。包括机架、公转机构、自转机构、装夹头、抛光盘、磁场发生机构;其中,磁场发生机构包括安装座、多个径向充磁的柱形的第一永磁体、多个轴向充磁的第二永磁体、多个轴向充磁的第三永磁体;每一个第二永磁体的四周均间隔安装有多个第三永磁体,以共同组成一个永磁块;多个永磁块阵列安装于安装座的顶部,第二永磁体和第三永磁体朝向抛光盘的一端的磁极分别是N极和S极;安装座上间隔设有多个安装腔,多个第一永磁体分别横向且转动安装于多个安装腔中,转动第一永磁体,能够在抛光盘中形成磁场或使磁场消退。本发明通过转动第一永磁体,可实现充磁和消磁,便于抛光盘的清理。

Description

永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法
技术领域
本发明属于磁流变抛光技术领域,更具体地,涉及一种永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法。
背景技术
磁流变抛光机是通过对磁流变液施加磁场,使磁流变液中的细微铁粒带有磁性并汇聚形成抛光垫,进而形成固-液相状态对工件表面进行抛光。但是由于磁流变液工作完之后会带有磁性,使得磁流变液中的细微铁粒会附着在抛光盘的表面难以清洗干净,从而使得每次加工完需花费较多时间清理抛光盘,最终影响抛光效率。
现有技术中,中国专利CN200810031897.9,提出了一种用于超大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置,该装置将工件放置于抛光轮下方,工件表面于抛光轮之间形成凹形间隙,磁场发生装置安装于抛光轮内部,在工件表面与抛光轮之间的间隙中形成磁场,抛光轮带动磁流变抛光液进入间隙形成柔性抛光垫并对工件产生抛光。但是在该方法中柔性抛光垫与工件接触面积较小属于点接触需要控制装置沿工件按一定规律轨迹扫描才能实现整个表面的加工,造成抛光效率低、加工形状精度不易保证的问题。
为提高抛光效率,中国专利CN200610132495.9基于磁流变抛光原理和集群作用机理提出了一种基于磁流变效应的平坦化研磨抛光方法及其抛光装置,工件与磁流变抛光垫之间为面接触极大的提高了抛光效率。在长时间的抛光中,为保持的稳定抛光效果需要定期更换磁流变抛光液,但是在该专利中用于产生磁场的永磁体难以拆卸,磁流变抛光液在抛光盘中难以清理,需要拆除抛光盘后进行磁流变液的更换,步骤较繁琐。
发明内容
本发明为克服上述现有技术中的缺陷,提供一种永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法,抛光效果好。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种永磁式集群磁流变抛光机构,包括机架、公转机构、自转机构、装夹头、用于盛装磁流变液的抛光盘、以及磁场发生机构;所述的公转机构安装于机架上,所述的自转机构与公转机构的输出端连接,所述的公转机构驱动自转机构进行公转运动;所述的装夹头与自转机构的输出端连接,所述的自转机构驱动装夹头进行自转运动;所述的抛光盘位于公转机构和自转机构的下方,所述的磁场发生机构安装于机架上,位于抛光盘的正下方,且在抛光盘内形成磁场以使磁流变液形成柔性抛光垫。
在其中一个实施例中,所述的磁场发生机构包括位于抛光盘正下方的安装座、多个径向充磁的第一永磁体、多个轴向充磁的第二永磁体、多个轴向充磁的第三永磁体;每一个第二永磁体的四周均间隔安装有多个第三永磁体,第二永磁体与其四周的第三永磁体共同组成一个永磁块;多个永磁块阵列安装于安装座的顶部,且所述的第二永磁体朝向抛光盘的一端为N极,朝向安装座的一端为S极;所述的第三永磁体朝向抛光盘的一端为S极,朝向安装座的一端为N极;在所述的安装座上间隔设有多个安装腔,所述的安装腔位于永磁块的下方;多个第一永磁体分别横向且转动安装于多个安装腔中,转动所述的第一永磁体,能够在抛光盘中形成磁场或使磁场消退。
在本发明中,抛光过程中,工件同时公转和自转,使得工件表面受到的摩擦力更加的均匀,抛光效果更好;另外,本发明设计的磁场发生机构,通过旋转第一永磁体,可使得第二永磁体和第三永磁体在抛光盘上方形成磁场,或者使得第二永磁体和第三永磁体产生的磁场在抛光盘下方形成回路,而抛光盘上方磁场强度较小;实现了充磁和消磁,且操作简单,便于抛光盘的清理。
在其中一个实施例中,所述的第一永磁体为圆柱形结构;所述的第二永磁体为圆柱形结构;所述的第三永磁体为长方体结构。第一永磁体为圆柱形结构便于转动。第二永磁体为圆柱形结构配合长方体结构的第三永磁体,可以使得消磁效果更好。
在其中一个实施例中,所述的磁场发生机构还包括固定架,所述的第二永磁体固定于固定架的中部,所述的第三永磁体通过固定架安装于第二永磁体的四周。通过固定架安装第二永磁体和第三永磁体,可以保证安装的稳固性,保证第二永磁体与第一永磁体上端面相互平行,使得每一块永磁块组成一个整体,以产生更强的磁场。
在其中一个实施例中,所述的安装座包括底座和安装盘;所述的安装盘固定于底座的顶部,位于抛光盘与底座之间;所述的底座固定于机架上;所述的永磁块阵列分布于安装盘上;所述的安装腔设于底座上,多个安装腔沿水平方向间隔分布。
在其中一个实施例中,所述的第一永磁体的一端安装有手柄和圆柱齿轮;相邻两个第一永磁体上的圆柱齿轮相互啮合。设置手柄便于转动第一永磁体;相邻两个永磁体之间通过圆柱齿轮啮合,这样在转动第一永磁体时,只需要转动其中一个第一永磁体,其他第一永磁体便可以同时跟着转动,且转动的角度一致。
在其中一个实施例中,所述的公转机构包括第一电机、小带轮、大带轮、同步带、第一转轴、第二转轴以及安装架;所述的第一电机固定于机架上,所述的第一转轴的一端与第一电机的输出轴连接,另一端安装有小带轮;所述的第二转轴通过轴承与机架转动连接,第二转轴的一端安装有大带轮,另一端与安装架固定连接;所述的同步带环绕于小带轮和大带轮外周。第一电机启动,带动第一转轴转动,第一转轴带动小带轮转动,小带轮通过同步带带动大带轮转动,从而带动自转机构发生公转运动。
在其中一个实施例中,所述的自转机构包括第二电机和第三转轴;所述的第二电机安装于安装架上,所述的第三转轴的一端与第二电机的输出轴连接,另一端与装夹头连接。第二电机带动第三转轴转动,第三转轴带动装夹头转动,实现工件的自转运动。
在其中一个实施例中,所述的第一转轴、第二转轴以及第三转轴均沿Z轴方向竖直设置。
在其中一个实施例中,在所述的安装架上设有滑轨,所述的滑轨沿Z轴方向设置;所述的第二电机上设有滑块,所述的第二电机通过滑块与滑轨滑动连接;在所述的安装架上还设有用于限制滑块相对滑轨滑动的限位机构。第二电机与安装架之间通过滑块和滑轨实现在Z轴方向的移动,从而便于调节工件与抛光盘之间的距离。
本发明还提供一种抛光方法,使用以上所述的抛光机构,包括以下步骤:
根据加工对象的特点,选择合适直径和磁场强度的第一永磁体、第二永磁体以及第三永磁体,安装于磁场发生机构的安装座上;
将工件安装于装夹头上,工件下表面与抛光盘上端面平行,调整自转机构使其沿着安装架上的滑轨滑动,以调节工件下表面与抛光盘上表面之间的距离,并保持在0.5mm~5mm;
配置磁流变液,并将其倒入抛光盘中;
转动第一永磁体,使第一永磁体的N极朝上以正对着抛光盘,S极朝下;第一永磁体产生的磁场使得第二永磁体与第一永磁体产生的磁场仍溢出至抛光盘上表面,在抛光盘中产生磁场以使磁流变液形成柔性抛光垫;即为充磁过程;
启动公转机构和自转机构;公转机构带动自转机构以及工件一起作公转运动,同时,自转机构带动工件作自转运动,实现对工件表面的超光滑均匀抛光;
加工完成后,关闭公转机构和自转机构,取下工件;
转动第一永磁体,使第一永磁体的N极朝下,S极朝上以正对抛光盘;此时,第一永磁体产生的磁场使得绝大部分第二永磁体与第三永磁体所产生的磁场在抛光盘与安装盘之间形成回路,使得抛光盘上方磁场强度很小便于清理抛光盘,即为消磁过程;
清理抛光盘,抛光过程结束。
与现有技术相比,有益效果是:本发明提供的一种永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法,通过设置公转机构和自转机构,保证了工件抛光的效果,使得工件受力均匀,抛光效果好;另外,本发明提供的磁场发生机构,通过转动第一永磁体,可实现充磁消磁,便于抛光盘的清理。
附图说明
图1是本发明整体结构的第一视角结构示意图;
图2是本发明整体结构的第二视角结构示意图;
图3是本发明整体结构的第三视角结构示意图;
图4是本发明图2中A的局部放大示意图;
图5是本发明磁场发生机构整体结构示意图;
图6是本发明磁场发生机构永磁块的排列方式示意图;
图7是本发明永磁块结构示意图;
图8是本发明第一永磁体结构示意图。
附图标记:1、机架;2、公转机构;21、第一电机;22、小带轮;23、大带轮;24、同步带;25、第一转轴;26、第二转轴;27、安装架;3、自转机构;31、第二电机;32、第三转轴;4、装夹头;5、抛光盘;6、磁场发生机构;61、安装座;611、安装盘;612、底座;62、第一永磁体;63、第二永磁体;64、第三永磁体;65、永磁块;66、固定架;67、手柄;68、圆柱齿轮。
具体实施方式
附图仅用于示例性说明,不能理解为对本发明的限制;为了更好说明本实施例,附图某些部件会有省略、放大或缩小,并不代表实际产品的尺寸;对于本领域技术人员来说,附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。附图中描述位置关系仅用于示例性说明,不能理解为对本发明的限制。
如图所示,一种永磁式集群磁流变抛光机构,包括机架1、公转机构2、自转机构3、装夹头4、用于盛装磁流变液的抛光盘5、以及磁场发生机构6;公转机构2安装于机架1上,自转机构3与公转机构2的输出端连接,公转机构2驱动自转机构3进行公转运动;装夹头4与自转机构3的输出端连接,自转机构3驱动装夹头4进行自转运动;抛光盘5位于公转机构2和自转机构3的下方,磁场发生机构6安装于机架1上,位于抛光盘5的正下方,且在抛光盘5内形成磁场以使磁流变液形成柔性抛光垫;磁场发生机构6包括位于抛光盘5正下方的安装座61、多个径向充磁的第一永磁体62、多个轴向充磁的第二永磁体63、多个轴向充磁的第三永磁体64;每一个第二永磁体63的四周均间隔安装有多个第三永磁体64,第二永磁体63与其四周的第三永磁体64共同组成一个永磁块65;多个永磁块65阵列安装于安装座61的顶部,且第二永磁体63朝向抛光盘5的一端为N极,朝向安装座61的一端为S极;第三永磁体64朝向抛光盘5的一端为S极,朝向安装座61的一端为N极;在安装座61上间隔设有多个安装腔,安装腔位于永磁块65的下方;多个第一永磁体62分别横向且转动安装于多个安装腔中,转动第一永磁体62,能够在抛光盘5中形成磁场或使磁场消退。
在本发明中,抛光过程中,工件同时公转和自转,使得工件表面受到的摩擦力更加的均匀,抛光效果更好;另外,本发明设计的磁场发生机构6,通过旋转第一永磁体62,可使得第二永磁体63和第三永磁体64在抛光盘5上方形成磁场,或者使得第二永磁体63和第三永磁体64产生的磁场在抛光盘5下方形成回路,而抛光盘5上方磁场强度较小;实现了充磁和消磁,且操作简单,便于抛光盘5的清理。
在其中一个实施例中,第一永磁体62为圆柱形结构;第二永磁体63为圆柱形结构;第三永磁体64为长方体结构。第一永磁体62为圆柱形结构便于转动。第二永磁体63为圆柱形结构配合长方体结构的第三永磁体64,可以使得消磁效果更好。
在一些实施例中,永磁块65的排列方式为矩形栅格阵列分布,这样可以保证具有较高磁场的同时,消磁效果也更好。
在一些实施例中,在所述的第二永磁体63的四周等间距安装有四个第三永磁体64;安装盘611为圆形结构;在安装盘611上设有多个安装槽,每一个永磁块65对应安装在一个安装槽中;第一永磁体62的长度值大于安装盘611的直径值;在安装时,要保证第一永磁体62位于安装盘611的正下方,使得第一永磁体62产生的磁场能够对安装盘611上每一块永磁块65都起到作用。
在另一个实施例中,磁场发生机构6还包括固定架66,第二永磁体63固定于固定架66的中部,第三永磁体64通过固定架66安装于第二永磁体63的四周。通过固定架66安装第二永磁体63和第三永磁体64,可以保证安装的稳固性,保证第二永磁体63与第一永磁体62上端面相互平行,使得每一块永磁块65组成一个整体,以产生更强的磁场。
在其中一个实施例中,安装座61包括底座612和安装盘611;安装盘611固定于底座612的顶部,位于抛光盘5与底座612之间;底座612固定于机架1上;永磁块65阵列分布于安装盘611上;安装腔设于底座612上,多个安装腔沿水平方向间隔分布。
在一些实施例中,第一永磁体62的一端安装有手柄67和圆柱齿轮68;相邻两个第一永磁体62上的圆柱齿轮68相互啮合。设置手柄67便于转动第一永磁体62;相邻两个永磁体之间通过圆柱齿轮68啮合,这样在转动第一永磁体62时,只需要转动其中一个第一永磁体62,其他第一永磁体62便可以同时跟着转动,且转动的角度一致。
在其中一个实施例中,公转机构2包括第一电机21、小带轮22、大带轮23、同步带24、第一转轴25、第二转轴26以及安装架27;第一电机21固定于机架1上,第一转轴25的一端与第一电机21的输出轴连接,另一端安装有小带轮22;第二转轴26通过轴承与机架1转动连接,第二转轴26的一端安装有大带轮23,另一端与安装架27固定连接;同步带24环绕于小带轮22和大带轮23外周。第一电机21启动,带动第一转轴25转动,第一转轴25带动小带轮22转动,小带轮22通过同步带24带动大带轮23转动,从而带动自转机构3发生公转运动。
在另一个实施例中,自转机构3包括第二电机31和第三转轴32;第二电机31安装于安装架27上,第三转轴32的一端与第二电机31的输出轴连接,另一端与装夹头4连接。第二电机31带动第三转轴32转动,第三转轴32带动装夹头4转动,实现工件的自转运动。
另外,第一转轴25、第二转轴26以及第三转轴32均沿Z轴方向竖直设置。
在其中一个实施例中,在安装架27上设有滑轨,滑轨沿Z轴方向设置;第二电机31上设有滑块,第二电机31通过滑块与滑轨滑动连接;在安装架27上还设有用于限制滑块相对滑轨滑动的限位机构。第二电机31与安装架27之间通过滑块和滑轨实现在Z轴方向的移动,从而便于调节工件与抛光盘5之间的距离。
在另一个实施例中,还提供一种抛光方法,使用以上抛光机构,包括以下步骤:
根据加工对象的特点,选择合适直径和磁场强度的第一永磁体62、第二永磁体63以及第三永磁体64,安装于磁场发生机构6的安装座61上;
将工件安装于装夹头4上,工件下表面与抛光盘5上端面平行,调整自转机构3使其沿着安装架27上的滑轨滑动,以调节工件下表面与抛光盘5上表面之间的距离,并保持在0.5mm~5mm;
配置磁流变液,并将其倒入抛光盘5中;
转动第一永磁体62,使第一永磁体62的N极朝上以正对着抛光盘5,S极朝下;第一永磁体62产生的磁场使得第二永磁体63与第一永磁体62产生的磁场仍溢出至抛光盘5上表面,在抛光盘5中产生磁场以使磁流变液形成柔性抛光垫;即为充磁过程;
启动公转机构2和自转机构3;公转机构2带动自转机构3以及工件一起作公转运动,同时,自转机构3带动工件作自转运动,实现对工件表面的超光滑均匀抛光;
加工完成后,关闭公转机构2和自转机构3,取下工件;
转动第一永磁体62,使第一永磁体62的N极朝下,S极朝上以正对抛光盘5;此时,第一永磁体62产生的磁场使得绝大部分第二永磁体63与第三永磁体64所产生的磁场在抛光盘5与安装盘611之间形成回路,使得抛光盘5上方磁场强度很小便于清理抛光盘5,即为消磁过程;
清理抛光盘5,抛光过程结束。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个、三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
显然,本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种永磁式集群磁流变抛光机构,其特征在于,包括机架(1)、公转机构(2)、自转机构(3)、装夹头(4)、用于盛装磁流变液的抛光盘(5)、以及磁场发生机构(6);所述的公转机构(2)安装于机架(1)上,所述的自转机构(3)与公转机构(2)的输出端连接,所述的公转机构(2)驱动自转机构(3)进行公转运动;所述的装夹头(4)与自转机构(3)的输出端连接,所述的自转机构(3)驱动装夹头(4)进行自转运动;所述的抛光盘(5)位于公转机构(2)和自转机构(3)的下方,所述的磁场发生机构(6)安装于机架(1)上,位于抛光盘(5)的正下方,且在抛光盘(5)内形成磁场以使磁流变液形成柔性抛光垫;其中,所述的磁场发生机构(6)包括位于抛光盘(5)正下方的安装座(61)、多个径向充磁的第一永磁体(62)、多个轴向充磁的第二永磁体(63)、多个轴向充磁的第三永磁体(64);每一个第二永磁体(63)的四周均间隔安装有多个第三永磁体(64),第二永磁体(63)与其四周的第三永磁体(64)共同组成一个永磁块(65);多个永磁块(65)阵列安装于安装座(61)的顶部,且所述的第二永磁体(63)朝向抛光盘(5)的一端为N极,朝向安装座(61)的一端为S极;所述的第三永磁体(64)朝向抛光盘(5)的一端为S极,朝向安装座(61)的一端为N极;在所述的安装座(61)上间隔设有多个安装腔,所述的安装腔位于永磁块(65)的下方;多个第一永磁体(62)分别横向且转动安装于多个安装腔中,转动所述的第一永磁体(62),能够在抛光盘(5)中形成磁场或使磁场消退。
2.根据权利要求1所述的永磁式集群磁流变抛光机构,其特征在于,所述的第一永磁体(62)为圆柱形结构;所述的第二永磁体(63)为圆柱形结构;所述的第三永磁体(64)为长方体结构。
3.根据权利要求1所述的永磁式集群磁流变抛光机构,其特征在于,所述的磁场发生机构(6)还包括固定架(66),所述的第二永磁体(63)固定于固定架(66)的中部,所述的第三永磁体(64)通过固定架(66)安装于第二永磁体(63)的四周。
4.根据权利要求3所述的永磁式集群磁流变抛光机构,其特征在于,所述的安装座(61)包括底座(612)和安装盘(611);所述的安装盘(611)固定于底座(612)的顶部,位于抛光盘(5)与底座(612)之间;所述的底座(612)固定于机架(1)上;所述的永磁块(65)阵列分布于安装盘(611)上;所述的安装腔设于底座(612)上,多个安装腔沿水平方向间隔分布。
5.根据权利要求4所述的永磁式集群磁流变抛光机构,其特征在于,所述的第一永磁体(62)的一端安装有手柄(67)和圆柱齿轮(68);相邻两个第一永磁体(62)上的圆柱齿轮(68)相互啮合。
6.根据权利要求1至5任一项所述的永磁式集群磁流变抛光机构,其特征在于,所述的公转机构(2)包括第一电机(21)、小带轮(22)、大带轮(23)、同步带(24)、第一转轴(25)、第二转轴(26)以及安装架(27);所述的第一电机(21)固定于机架(1)上,所述的第一转轴(25)的一端与第一电机(21)的输出轴连接,另一端安装有小带轮(22);所述的第二转轴(26)通过轴承与机架(1)转动连接,第二转轴(26)的一端安装有大带轮(23),另一端与安装架(27)固定连接;所述的同步带(24)环绕于小带轮(22)和大带轮(23)外周。
7.根据权利要求6所述的永磁式集群磁流变抛光机构,其特征在于,所述的自转机构(3)包括第二电机(31)和第三转轴(32);所述的第二电机(31)安装于安装架(27)上,所述的第三转轴(32)的一端与第二电机(31)的输出轴连接,另一端与装夹头(4)连接;所述的第一转轴(25)、第二转轴(26)以及第三转轴(32)均沿Z轴方向竖直设置。
8.根据权利要求7所述的永磁式集群磁流变抛光机构,其特征在于,在所述的安装架(27)上设有滑轨,所述的滑轨沿Z轴方向设置;所述的第二电机(31)上设有滑块,所述的第二电机(31)通过滑块与滑轨滑动连接;在所述的安装架(27)上还设有用于限制滑块相对滑轨滑动的限位机构。
9.一种抛光方法,其特征在于,使用权利要求1至8任一项所述的抛光机构,包括以下步骤:
根据加工对象的特点,选择合适直径和磁场强度的第一永磁体(62)、第二永磁体(63)以及第三永磁体(64),安装于磁场发生机构(6)的安装座(61)上;
将工件安装于装夹头(4)上,工件下表面与抛光盘(5)上端面平行,调整自转机构(3)使其沿着安装架(27)上的滑轨滑动,以调节工件下表面与抛光盘(5)上表面之间的距离,并保持在0.5mm~5mm;
配置磁流变液,并将其倒入抛光盘(5)中;
转动第一永磁体(62),使第一永磁体(62)的N极朝上以正对着抛光盘(5),S极朝下;第一永磁体(62)产生的磁场使得第二永磁体(63)与第一永磁体(62)产生的磁场仍溢出至抛光盘(5)上表面,在抛光盘(5)中产生磁场以使磁流变液形成柔性抛光垫;即为充磁过程;
启动公转机构(2)和自转机构(3);公转机构(2)带动自转机构(3)以及工件一起作公转运动,同时,自转机构(3)带动工件作自转运动,实现对工件表面的超光滑均匀抛光;
加工完成后,关闭公转机构(2)和自转机构(3),取下工件;
转动第一永磁体(62),使第一永磁体(62)的N极朝下,S极朝上以正对抛光盘(5);此时,第一永磁体(62)产生的磁场使得绝大部分第二永磁体(63)与第三永磁体(64)所产生的磁场在抛光盘(5)与安装盘(611)之间形成回路,使得抛光盘(5)上方磁场强度很小便于清理抛光盘(5),即为消磁过程;
清理抛光盘(5),抛光过程结束。
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