CN113481474A - 一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法 - Google Patents
一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113481474A CN113481474A CN202110730485.XA CN202110730485A CN113481474A CN 113481474 A CN113481474 A CN 113481474A CN 202110730485 A CN202110730485 A CN 202110730485A CN 113481474 A CN113481474 A CN 113481474A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- target material
- target
- metal
- electrochromic film
- doped
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 49
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 38
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 13
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N titanium tungsten Chemical compound [Ti].[W] MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 2
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- ULIRAEGCWCYFJJ-UHFFFAOYSA-N [W+4].[O-2].[Ti+4].[O-2].[O-2].[O-2] Chemical compound [W+4].[O-2].[Ti+4].[O-2].[O-2].[O-2] ULIRAEGCWCYFJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3485—Sputtering using pulsed power to the target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3464—Sputtering using more than one target
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及电致变色领域，公开了一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，包括以下步骤：制作第一靶材和第二靶材；第一靶材和第二靶材中至少有一个靶材包含电致变色薄膜的主要构成金属元素，至少有一个靶材包含电致变色薄膜所要掺杂的金属元素；将第一靶材和第二靶材分别连接到双极电源的两极；所述双极电源能够发出方波脉冲状的连续式正负电压脉冲；通过调整施加在第一靶材和第二靶材上电压脉冲的宽度比，改变掺杂金属元素在电致变色薄膜中的占比；能够低成本、便捷的改变镀膜掺杂比例。
Description
技术领域
本发明涉及电致变色领域，具体涉及一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法。
背景技术
建筑及交通工具的门窗玻璃中存在节能、防眩的要求，使得无机全固态电致变色技术在过去几十年取得了长足的发展。无机全固态电致变色薄膜具有耐高低温、耐紫外、对光线宽幅度调控以及可大面积均匀制备等特性，在建筑门窗和大尺寸交通工具天窗、侧窗有较大的应用前景。
通常学术界和工业界公认的无机全固态无机电致变色薄膜结构主要是由两层透明导电层(TCO)、一层电致变色层(如WO3)、一层离子传导层(IC)、一层反向电致变色层(如NiO)共五层纳米膜层堆积组成。目前无机全固态薄膜主要由连续型磁控溅射设备镀膜而成，其中核心的WO3和NiO薄膜均是由中频电源溅射一对旋转钨金属靶材、镍金属靶材而形成。
随着基于全固态电致变色薄膜的智能节能窗的广泛发展和使用，越来越多用户对其在透明态及着色态的颜色以及可靠性等问题上提出了质疑和反馈。目前WO3-NiO材料体系的电致变色薄膜还面临着两个主要的问题：1)由于NiO材料本身的禁带宽度，电致变色薄膜在透明态时其颜色呈现出在视觉上较为不适的黄棕色，而由于WO3的材料特性，电致变色薄膜在着色态时呈现出过度的蓝色，而人们更偏好的颜色是中灰色。电致变色薄膜在透明态及着色态出现的两种不适颜色，遏制了电致变色技术的市场推广。
现有技术提出了多种解决这两个颜色问题的方法，其中最可行的办法是对NiO、WO3分别掺杂一种或多种金属元素(M1金属元素、M2金属元素等)，在不降低电致变色材料其他特性的情况下，改变其光学特性。在不了解具体的掺杂比例时，目前的做法是将原来的镍金属靶材先做成NixM11-x合金靶材，将原来的钨金属靶材做成WyM21-y合金靶材，其中x、y数值待定；再通过磁控溅射进行薄膜制备。这种方法存在以下问题：1)时间成本高：不同的掺杂配比x、y需要多轮试验方能确定，制备不同比例靶材以及安装、卸载不同比例合金靶材费时费事；2)经济成本高：大尺寸靶材的单支成本高达数十万元，不同的掺杂比例的配搭需要耗费上千万的靶材费用。全固态电致变色薄膜生产厂商难以承受这样的时间成本和经济成本。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明提供一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法。
为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：
一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，包括以下步骤：
制作第一靶材和第二靶材；第一靶材和第二靶材中，至少有一个靶材包含电致变色薄膜的主要构成金属元素，至少有一个靶材包含电致变色薄膜所要掺杂的金属元素；
将第一靶材和第二靶材分别连接到双极电源的两极；所述双极电源能够发出方波脉冲状的连续式正负电压脉冲；
通过调整施加在第一靶材和第二靶材上电压脉冲的占空比，改变掺杂金属元素在电致变色薄膜中的占比。
具体地，所述第一靶材的材质为钨金属；所述第二靶材的材质为钛钨合金。
具体地，所述第一靶材、第二靶材的材质均为包含钨金属以及至少一种掺杂金属的合金。
具体地，所述第一靶材的材质为镍金属；所述第二靶材的材质为包含镍金属以及至少一种掺杂金属的合金。
具体地，所述第一靶材、第二靶材的材质均为包含镍金属以及至少一种掺杂金属的合金。
具体地，所述第一靶材的材质为金属，第二靶材的材质为金属与掺杂元素构成的合金；所述掺杂元素为金属元素或者非金属元素。
与现有技术相比，本发明的有益技术效果是：
在确定需要掺杂的金属元素后，将掺杂金属和主要构成金属制成靶材，并通过调整作用在靶材上电压脉冲占空比的方式，改变磁控溅射功率，进而改变电致变色薄膜样品中掺杂金属元素的比例，改变电致变色薄膜的颜色特性；无需对每种掺杂比例均制作一种靶材，能够很大程度上减少研发成本，提高研发速度。
附图说明
图1为现有技术与本发明中电源、靶材的对比示意图；
图2为本发明中施加在第一靶材、第二靶材上电压脉冲的示意图；
图3为本发明WO3膜层中钛金属元素掺杂比例与施加在钛钨合金靶材上电压脉冲占空比的关系图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的一种优选实施方式作详细的说明。
现有技术中，通过中频电源连接一对旋转对靶进行进行磁控溅射，如图1a；而本发明使用中频双极电源，如图1b。
中频双极电源可选用市面上商用在售的电源，如霍廷格TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)系列，两个靶材分别与双极电源的正负电极相连；该双极电源可以产生类似于方形脉冲的连续式正负电压脉冲，且其脉冲占空比可以进行非对称调整：正电压脉冲为V1，负电压脉冲为V2，正常情况下正负电压脉冲的电压绝对值相同，即V1＝V2,只是两者的极性正好相反，而t1和t2一般设置得相同或者接近，用来溅射具有相同阴极材料的靶材；如图2，输出信号1中电压脉冲宽度t1＝t2。
当用来溅射不同材质的靶材时，该双极电源可以通过参数设置，在不改变电压幅度的情况下对电压脉冲的占空比调节，从而使得加载在两个不同靶材上的功率不同，导致溅射所形成得膜层中的靶材材料比例也相应不同。
以图2中输出信号2为例，正向电压脉冲V1的宽度为t3,而负向电压脉冲V2的宽度为t4,其比例关系为t3：t4＝1：3；因此，当溅射开始时，正向电压脉冲V1作用的靶材承载的功率仅为负向电压脉冲V2对应靶材的1/3；如果正向电压脉冲V1作用在钨金属靶材上，而负向电压脉冲V2作用在掺杂M2的合金靶材上，则两个靶材共溅射时形成的膜层中W：M2＝1：3α(W,M2)，其中α(W,M2)为相同功率下掺杂M2合金靶材与钨金属靶材溅射速度的比值，由两种材料的材料特性决定。
具体实施例采用霍廷格TruPlasma Bipolar 4020(20KW)电源，磁控溅射腔体为定制的G5.5代腔体，靶材长度约为1.6m。两只靶材分别用钨金属靶材，以及钛原子含量比例为30％的钛钨合金Ti0.3W0.7，Ti0.3W0.7表示Ti％：W％＝30：70。
两支靶材在腔体里面同时溅射在玻璃基板上，腔体镀膜压强为3mTorr,反应气氛O2％：Ar％约为50％：50％。镀膜功率均设置为15kW,其它条件不变的情况下仅仅改变两支靶材的电压脉冲占空比。
作用在钛钨合金靶材上的负向电压脉冲占空比，从20％按10％的阶梯逐渐调整到70％，镀膜5分钟后将镀膜样品取出，利用SEM-EDS进行钛元素和钨元素成分比例分析，从而得出Ti元素的掺杂比例。为了保证测试的可重复性，每个状态下测试了3个样品，所得数据汇总在图3中。
当调整作用在钛钨合金靶材上的负向电压脉冲V2占空比与作用在钨金属靶材上正向电压脉冲V1占空比的比值时，能有效地调节钛元素在所形成的钨钛氧化物薄膜中的占比，从而成功实现了钛元素的掺杂过程。如图3所示，当负向电压脉冲V2的占空比从20％调节到70％时，钛元素的掺杂浓度随着占空比增加逐渐增加，从约6％逐步增加到20％左右，实现了钛元素的有效掺杂。
同理，如果需要掺杂两种以上的金属元素，可以选用两种以上掺杂金属的合金，或者两种以上掺杂金属和钨金属的三元合金，在通过双极电源对旋转对靶之间脉冲占空比的调节，来实现想要的掺杂效果。
镍金属元素与掺杂金属元素的磁控溅射原理同上。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内，不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为了清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (6)
1.一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，包括以下步骤：
制作第一靶材和第二靶材；第一靶材和第二靶材中，至少有一个靶材包含电致变色薄膜的主要构成金属元素，至少有一个靶材包含电致变色薄膜所要掺杂的金属元素；
将第一靶材和第二靶材分别连接到双极电源的两极；所述双极电源能够发出方波脉冲状的连续式正负电压脉冲；
通过调整施加在第一靶材和第二靶材上电压脉冲的占空比，改变掺杂金属元素在电致变色薄膜中的占比。
2.根据权利要求1所述的无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，其特征在于：所述第一靶材的材质为钨金属；所述第二靶材的材质为钛钨合金。
3.根据权利要求1所述的无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，其特征在于：所述第一靶材、第二靶材的材质均为包含钨金属以及至少一种掺杂金属的合金。
4.根据权利要求1所述的无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，其特征在于：所述第一靶材的材质为镍金属；所述第二靶材的材质为包含镍金属以及至少一种掺杂金属的合金。
5.根据权利要求1所述的无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，其特征在于：所述第一靶材、第二靶材的材质均为包含镍金属以及至少一种掺杂金属的合金。
6.根据权利要求1所述的无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，其特征在于：所述第一靶材的材质为金属，第二靶材的材质为金属与掺杂元素构成的合金；所述掺杂元素为金属元素或者非金属元素。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110730485.XA CN113481474A (zh) | 2021-06-29 | 2021-06-29 | 一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110730485.XA CN113481474A (zh) | 2021-06-29 | 2021-06-29 | 一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113481474A true CN113481474A (zh) | 2021-10-08 |
Family
ID=77936635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110730485.XA Pending CN113481474A (zh) | 2021-06-29 | 2021-06-29 | 一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113481474A (zh) |
Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050029088A1 (en) * | 2003-08-06 | 2005-02-10 | Energy Photovoltaics, Inc. | Hollow cathode sputtering apparatus and related method |
| JP2006144053A (ja) * | 2004-11-17 | 2006-06-08 | Bridgestone Corp | ＮドープＺｎＯ膜の成膜方法。 |
| JP2006152391A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Bridgestone Corp | 金属をドープしたＴｉＯ２膜及びその成膜方法 |
| JP2007308729A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Bridgestone Corp | 結晶性二酸化チタン薄膜の成膜方法及び光触媒薄膜 |
| JP2008102272A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Bridgestone Corp | エレクトロクロミック素子及びその製造方法 |
| JP2011231390A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Fujikura Ltd | 成膜方法及び成膜装置 |
| CN202139478U (zh) * | 2011-07-11 | 2012-02-08 | 中国科学院金属研究所 | 一种在SiC纤维表面沉积薄膜的装置 |
| DE102012107163A1 (de) * | 2012-08-03 | 2014-05-15 | INI Coatings Ltd. | Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mittels Hochenergieimpulsmagnetronsputtern |
| EP2829635A1 (en) * | 2013-07-23 | 2015-01-28 | Semih Oncel | Method for controlled production of diffusion based coatings by vacuum cathodic arc systems |
| EP2963145A1 (en) * | 2014-06-30 | 2016-01-06 | IHI Hauzer Techno Coating B.V. | Coating and method for its deposition to operate in boundary lubrication conditions and at elevated temperatures |
| CN109811324A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-05-28 | 哈尔滨工业大学 | 基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法 |
| CN110205597A (zh) * | 2019-07-12 | 2019-09-06 | 哈尔滨工业大学 | 多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射方法 |
| CN110208997A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-09-06 | 广东旗滨节能玻璃有限公司 | 一种智能变色玻璃及其制备方法和应用 |
| CN111830759A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-10-27 | 蔡承承 | 电致变色薄膜、器件及玻璃 |
-
2021
- 2021-06-29 CN CN202110730485.XA patent/CN113481474A/zh active Pending
Patent Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050029088A1 (en) * | 2003-08-06 | 2005-02-10 | Energy Photovoltaics, Inc. | Hollow cathode sputtering apparatus and related method |
| JP2006144053A (ja) * | 2004-11-17 | 2006-06-08 | Bridgestone Corp | ＮドープＺｎＯ膜の成膜方法。 |
| JP2006152391A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Bridgestone Corp | 金属をドープしたＴｉＯ２膜及びその成膜方法 |
| JP2007308729A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Bridgestone Corp | 結晶性二酸化チタン薄膜の成膜方法及び光触媒薄膜 |
| JP2008102272A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Bridgestone Corp | エレクトロクロミック素子及びその製造方法 |
| JP2011231390A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Fujikura Ltd | 成膜方法及び成膜装置 |
| CN202139478U (zh) * | 2011-07-11 | 2012-02-08 | 中国科学院金属研究所 | 一种在SiC纤维表面沉积薄膜的装置 |
| DE102012107163A1 (de) * | 2012-08-03 | 2014-05-15 | INI Coatings Ltd. | Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mittels Hochenergieimpulsmagnetronsputtern |
| EP2829635A1 (en) * | 2013-07-23 | 2015-01-28 | Semih Oncel | Method for controlled production of diffusion based coatings by vacuum cathodic arc systems |
| EP2963145A1 (en) * | 2014-06-30 | 2016-01-06 | IHI Hauzer Techno Coating B.V. | Coating and method for its deposition to operate in boundary lubrication conditions and at elevated temperatures |
| CN109811324A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-05-28 | 哈尔滨工业大学 | 基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法 |
| CN110208997A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-09-06 | 广东旗滨节能玻璃有限公司 | 一种智能变色玻璃及其制备方法和应用 |
| CN110205597A (zh) * | 2019-07-12 | 2019-09-06 | 哈尔滨工业大学 | 多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射方法 |
| CN111830759A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-10-27 | 蔡承承 | 电致变色薄膜、器件及玻璃 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 刘海鹏等: "《智能材料概论》", vol. 1, 北京理工大学出版社有限责任公司, pages: 109 * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107085339B (zh) | 一种全固态电致变色器件的制备方法 | |
| US8031389B2 (en) | Reflection-controllable electrochromic device using a base metal as a transparent conductor | |
| CN111142304B (zh) | 一种全固态电致变色器件及其制作方法 | |
| CN108254989B (zh) | 全固态电致变色窗和固态电致变色镜及其制备方法 | |
| WO2020172901A1 (zh) | 多彩电致变色结构、其制备方法及应用 | |
| CN107526226A (zh) | 一种组合型调光玻璃复合窗及其制备方法 | |
| Tao et al. | A bistable variable infrared emissivity device based on reversible silver electrodeposition | |
| CN110095911B (zh) | 一种电致变色器件的制备方法 | |
| CN112285982A (zh) | 一种以硅酸铝锂为电解质层的全固态电致变色器件及其制备方法 | |
| CN108279541A (zh) | 一种可靠性高的无机全固态电致变色薄膜器件及其制备方法 | |
| CN108803183A (zh) | 一种双层全无机电致变色器件及其制备方法 | |
| CN114859611A (zh) | 一种多彩电致变色薄膜、器件及其制备方法 | |
| JPH0215243A (ja) | エレクトロクロム型可変透過性ガラス板 | |
| CN113481474A (zh) | 一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法 | |
| CN110658660B (zh) | 基于多层功能薄膜的电致变色器件及其制备方法 | |
| CN210123513U (zh) | 一种图案化电致变色器件以及电致变色玻璃 | |
| CN114035389B (zh) | 可抑制自褪色/自着色并扩展电位窗口的电致变色薄膜结构、电致变色器件 | |
| Nishikitani et al. | Thermal and optical behavior of electrochromic windows fabricated with carbon-based counterelectrode | |
| CAO et al. | Sandwich structured electrolyte of high sputtering efficiency for all-solid-state electrochromic devices by optical design | |
| Chen et al. | Logotype-selective electrochromic glass display | |
| JP2961236B2 (ja) | 酸化ニッケル系エレクトロクロミック材料の製造方法 | |
| CN113189822A (zh) | 一种电致变色器件及其制备方法 | |
| AU2021105410A4 (en) | A nano-composites based smart membrane device with enhanced performance and its preparation process thereof | |
| CN105511196A (zh) | 一种亮度快速可调的触摸显示屏 | |
| CN105446047A (zh) | 一种具备公交到站信息查询功能的电子设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20211008 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |