CN113426752A - 掩膜板的清洗设备 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种掩膜板的清洗设备。该清洗设备的槽体组件包括清洗槽及溢流槽，循环过滤组件与清洗槽及溶剂回收组件连接，用于向清洗槽供给清洗溶剂，并且能使清洗溶剂在清洗槽内循环流动；杂质吸附组件包括第一吸附装置及第二吸附装置中的至少一种，第一吸附装置设置于清洗槽与循环过滤组件之间，用于对清洗槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；第二吸附装置设置于溢流槽及溶剂回收组件之间，用于对溢流槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；溶剂回收组件用于回收溢流槽的清洗溶剂，并且通过循环过滤组件向清洗槽供给清洗溶剂，以及溶剂回收组件与一供给源连接，用于通过循环过滤组件向清洗槽供给清洗溶剂。本申请实施例能使掩膜板的清洗满足指标。

Description

掩膜板的清洗设备

技术领域

本申请涉及半导体加工技术领域，具体而言，本申请涉及一种掩膜板的清洗设备。

背景技术

目前，有源矩阵有机发光二极体面板(Active matrix organic light emittingdiode，AMOLED)与传统的液晶面板相比，AMOLED具有反应速度较快、对比度更高、视角较广等特点，被广泛用在移动电话和媒体播放器上，并继续朝低功耗、低成本、大尺寸方向发展。镀膜工艺是AMOLED制程中的关键工艺，采用物理的或者化学的方式将所需材质沉积到玻璃基板上，制备AMOLED膜层的材料主要包括有机小分子、高分子聚合物、金属及合金等，大部分有机小分子薄膜、金属和合金薄膜通常采用真空热蒸镀来制备，可溶性有机小分子和聚合物薄膜可通过更为简单、快速和低成本的溶液法制备。真空热蒸镀成膜技术是采用在真空状态下加热待蒸镀材料，并通过带有特殊图案的金属掩膜板将材料选择性地沉积到玻璃基板的一种技术，成膜的同时，金属掩膜板表面上也会附着上膜层材料，为避免因材料堆积而造成的图案错误，金属掩膜板应定期清洗。

现有的掩膜板清洗设备多采用将金属掩膜板浸泡到清洗槽中清洗，清洗槽中装有清洗溶剂，清洗槽底部设置有超声波发生器，金属掩膜板需要清洗时，通过搬送装置将其投送到清洗槽中，开启超声波进行清洗，附着在金属掩膜板上的膜层会不断脱落形成杂质，杂质中一些密度小的膜层或者颗粒污染物会漂浮在清洗槽的上表面，较重的有机物颗粒或者金属颗粒通过超声波的作用会悬浮在清洗溶剂中，在清洗完成后，金属掩膜板从清洗槽提取出来时，会重新沾染上悬浮在清洗溶剂中或者漂浮在清洗溶剂液面的杂质，造成二次污染使金属掩膜板的清洗指标不达标，以及需要经常更换清洗溶剂，造成清洗成本较高。随着清洗时间的加长，清洗溶剂中的杂质会逐渐沉积在清洗槽的内壁和底部，为了保证清洗溶剂清洁必须经常对清洗槽进行维护，从而降低了金属掩膜板清洗的生产节拍。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩膜板的清洗设备，用以解决现有技术存在的掩膜板清洗不达标及清洗成本较高，以及清洗槽维护频率较高的技术问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种掩膜板的清洗设备，包括：槽体组件、循环过滤组件、杂质吸附组件及溶剂回收组件；所述槽体组件包括清洗槽及溢流槽，所述清洗槽用于容置清洗溶剂以对所掩膜板进行清洗；所述溢流槽设置于所述清洗槽的至少一侧，用于回收所述清洗槽溢流的清洗溶剂；所述循环过滤组件与所述清洗槽及所述溶剂回收组件连接，用于向所述清洗槽供给清洗溶剂，并且能使所述清洗溶剂在所述清洗槽内循环流动；所述杂质吸附组件包括第一吸附装置及第二吸附装置中的至少一种，所述第一吸附装置设置于所述清洗槽与所述循环过滤组件之间，用于对所述清洗槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；所述第二吸附装置设置于所述溢流槽及所述溶剂回收组件之间，用于对所述溢流槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；所述溶剂回收组件用于回收所述溢流槽的清洗溶剂，并且通过所述循环过滤组件向所述清洗槽供给清洗溶剂，以及所述溶剂回收组件与一供给源连接，用于通过所述循环过滤组件向所述清洗槽供给清洗溶剂。

于本申请的一实施例中，所述清洗设备还包括喷淋管组件，所述喷淋管组件沿所述清洗槽的长度方向延伸设置，所述溢流槽沿所述清洗槽的长度方向延伸设置在所述清洗槽的外侧，所述喷淋管组件用于向所述清洗槽的液面喷淋清洗溶剂；所述清洗槽与所述溢流槽贴合的侧壁顶端开设有波浪形溢流口。

于本申请的一实施例中，所述第一吸附装置及所述第二吸附装置均包括有壳体及吸附组件，所述壳体内具有多条并列设置的且首尾相连的流体通路，所述壳体的两侧还设置有进液口及出液口，所述进液口及所述出液口分别与位于所述壳体两侧的所述流体通路连通；多个所述吸附组件沿所述流体通路的延伸方向依次排布。

于本申请的一实施例中，所述吸附组件包括吸附棒、翅片及强磁体，所述吸附棒设置于所述壳体内，并且端部祼露于所述壳体外部，所述吸附棒的轴向与所述流体通路的延伸方向垂直；多个所述翅片层叠设置于所述吸附棒的外周，并且均位于所述壳体内；所述强磁体设置于所述吸附棒裸露于所述壳体外的端部上，用于向所述吸附棒及所述翅片施加强磁力，以对所述清洗溶剂内的杂质进行吸附。

于本申请的一实施例中，两个所述第一吸附装置以择一选通的方式将所述清洗槽与所述循环过滤组件连接；两个所述第二吸附装置以择一选通的方式将所述溢流槽及所述溶剂回收组件连接。

于本申请的一实施例中，所述循环过滤组件包括多个进液管，多个所述进液管分别对称设置于所述清洗槽的两侧，并且多个所述进液管沿所述清洗槽的高度方向间隔且均匀排布，所述进液管的出液方向与所述清洗槽的长度方向平行设置。

于本申请的一实施例中，所述循环过滤组件还包括循环管路、泵及过滤器，所述循环管路的一端与所述第一吸附装置连接，另一端与多个所述进液管连接；所述泵及所述过滤器均设置于所述循环管路上，并且所述泵靠近所述第一吸附装置设置，所述过滤器靠近多个所述进液管设置。

于本申请的一实施例中，所述循环过滤组件还包括有储液器，所述储液器与所述泵及所述溶剂回收组件均连接，所述溶剂回收组件用于对所述溢流槽流出的清洗溶剂进行蒸馏提纯后输送到所述储液器内。

于本申请的一实施例中，所述清洗槽内具有连通设置的清洗部及收集部，所述清洗部用于对所述掩膜板进行清洗，所述收集部用于收集所述清洗溶剂内的杂质；所述槽体组件还包括与所述第一吸附装置连接的第一出液管及第二出液管，所述第一出液管与所述清洗部连接，所述第二出液管与所述收集部连接。

于本申请的一实施例中，所述收集部沿清洗槽的宽度方向的截面呈倒梯形，并且所述收集部的底面延伸方向沿清洗槽的长度方向逐渐降低，所述第二出液管设置于所述收集部底面较低的一端。

于本申请的一实施例中，所述清洗设备还包括有用于传送所述掩膜板的搬运装置，所述搬运装置上还设置清洗组件，所述搬运装置还用于移动至所述清洗槽内，以对所述清洗槽内壁进行清洗并风干。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果是：

本申请实施例通过在清洗槽上设置循环过滤组件，以使清洗槽内的清洗溶剂可以循环流动，并且清洗槽与循环过滤组件之间设置有第一吸附装置，以在清洗溶剂循环过程中对清洗溶剂进行吸附，可以有效的将清洗溶剂中的杂质及时清除，以保证掩膜板的清洗洁净的同时避免对掩膜板被二次污染，从而使掩膜板清洗满足指标。由于第一吸附装置能对清洗溶剂进行吸附，从而不仅可以降低清洗溶剂的更换成本，而且还能大幅降低清洗槽维护频率，从而大幅提高生产效率。通过在溢流槽与溶剂回收组件之间设置有第二吸附装置，以在溶剂回收组件对溢流槽内的清洗溶剂回收之前，对清洗溶剂内的杂质进行吸附，可以避免对溶剂回收组件造成污染，从而大幅降低溶剂回收组件维护频率及成本，从而进一步提高生产效率。进一步的，第一吸附装置及第二吸附装置配合使用，还能降低循环过滤组件的维护频率及延长使用寿命，从而降低循环过滤组件的维护成本，并且还能进一步提高生产效率。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本申请实施例提供的一种清洗设备的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种清洗槽与进液管配合的主视示意图；

图3为本申请实施例提供的一种第一吸附装置及第二吸附装置的俯视示意图；

图4为本申请实施例提供的一种第一吸附装置及第二吸附装置的主视示意图；

图5为本申请实施例提供的一种清洗槽与搬运装置配合的结构示意图。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。

本申请实施例提供了一种掩膜板的清洗设备，该清洗设备的结构示意图如图1所示，包括：槽体组件1、循环过滤组件2、杂质吸附组件3及溶剂回收组件4；槽体组件1包括清洗槽11及溢流槽12，清洗槽11用于容置清洗溶剂以对掩膜板200进行清洗；溢流槽12设置于清洗槽11的至少一侧，用于回收清洗槽11溢流的清洗溶剂；循环过滤组件2与清洗槽11及溶剂回收组件4连接，用于向清洗槽11供给清洗溶剂，并且能使清洗溶剂在清洗槽11内循环流动；杂质吸附组件3包括第一吸附装置31及第二吸附装置32，第一吸附装置31设置于清洗槽11与循环过滤组件2之间，用于对清洗槽11流出的清洗溶剂进行杂质吸附；第二吸附装置32设置于溢流槽12及溶剂回收组件4之间，用于对溢流槽12流出的清洗溶剂进行杂质吸附；溶剂回收组件4用于回收溢流槽12的清洗溶剂，并且通过循环过滤组件2向清洗槽11供给清洗溶剂，以及溶剂回收组件4与一供给源连接，用于通过循环过滤组件2向清洗槽11供给清洗溶剂。

可选地，杂质吸附组件3可以只包括第一吸附装置31，或者只包括第二吸附装置32，以清除清洗溶剂中的杂质，从而在保证掩膜板的清洗洁净的同时避免对掩膜板被二次污染。

本申请实施例主要用于清洗AMOLED真空热蒸镀制程中用到的金属掩膜板，金属掩膜板由含有特定图案的掩膜条通过一定方式焊接在长方形金属框架上构成，掩膜条的膜层厚度非常薄，有的膜层厚度甚至可达到10μm(微米)，为了保证图案的精确性在清洗时需格外小心，以避免昂贵的金属掩膜板被损坏。当然本申请实施例也可以用于清洗其它类型的掩膜板，因此本申请实施例并不以此为限。

如图1所示，清洗槽11可以采用抗腐蚀的金属材质制成长方体结构，清洗槽11内可以容置有清洗溶剂，清洗溶剂一般为有机溶剂、去离子水、异丙醇(IPA)或者含氟溶剂等，但是本申请实施例并不以此为限。设置在清洗槽11底部的超声波震荡器13发挥作用，利用清洗溶剂的溶解性将附着在掩膜板200上的膜层剥离以达到清洁目的。溢流槽12可以采用与清洗槽11相同的材质制成，并且具体设置于清洗槽11的一侧，用于回收清洗槽11溢流的清洗溶剂，由于清洗溶剂的溢流作用可以带走清洗槽11液面上的杂质。循环过滤组件2可以与清洗槽11及溶剂回收组件4连接，在实际应用中可以将清洗溶剂加入溶剂回收组件4内，然后循环过滤组件2将清洗溶剂输入至清洗槽11内，并且循环过滤组件2还能带动清洗槽11内清洗溶剂进行循环过滤，从而达到对清洗溶剂进行清洁的目的，进而降低清洗溶剂的更换成本及清洗槽11的清洗成本。第一吸附装置31可以设置于清洗槽11及循环管路22之间，当清洗槽11的清洗溶剂进入循环过滤组件2之前即进行杂质吸附，可以进一步提高清洗溶剂的清洁度；第二吸附装置32设置于溢流槽12与溶剂回收组件4之间，用于当溢流槽12的清洗溶剂进入溶剂回收组件4之前进行杂质吸附，以提高清洗溶剂的清洁度。溶剂回收组件4可以对溢流槽12内的清洗溶剂进行回收，并且再通过循环过滤组件2向清洗槽11供给清洗溶剂；溶剂回收组件4还可以连接至一供给源，以将供给源内的清洗溶剂通过循环过滤组件2向清洗槽11供给。

本申请实施例通过在清洗槽上设置循环过滤组件，以使清洗槽内的清洗溶剂可以循环流动，并且清洗槽与循环过滤组件之间设置有第一吸附装置，以在清洗溶剂循环过程中对清洗溶剂进行吸附，可以有效的将清洗溶剂中的杂质及时清除，以保证掩膜板的清洗洁净的同时避免对掩膜板被二次污染，从而使掩膜板清洗满足指标。由于第一吸附装置能对清洗溶剂进行吸附，从而不仅可以降低清洗溶剂的更换成本，而且还能大幅降低清洗槽维护频率，从而大幅提高生产效率。通过在溢流槽与溶剂回收组件之间设置有第二吸附装置，以在溶剂回收组件对溢流槽内的清洗溶剂回收之前，对清洗溶剂内的杂质进行吸附，可以避免对溶剂回收组件造成污染，从而大幅降低溶剂回收组件维护频率及成本，从而进一步提高生产效率。进一步的，第一吸附装置及第二吸附装置配合使用，还能降低循环过滤组件的维护频率及延长使用寿命，从而降低循环过滤组件的维护成本，并且还能进一步提高生产效率。

需要说明的是，本申请实施例并不限定清洗槽11及溢流槽12的具体实施方式，例如两者均可以采用其它耐腐蚀的材质制成，并且两者的具体形状均可以与掩膜板200的形状对应设置。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1及图2所示，清洗设备还包括喷淋管组件5，喷淋管组件5沿清洗槽11的长度方向延伸设置，溢流槽12沿清洗槽11的长度方向延伸设置在清洗槽11的外侧，喷淋管组件5用于向清洗槽11的液面喷淋清洗溶剂；清洗槽11与溢流槽12贴合的侧壁顶端开设有波浪形溢流口111。

如图1及图2所示，喷淋管组件5可以沿清洗槽11的长度方向延伸设置，并且具体可以设置于清洗槽11的右侧位置，并且可以设置于清洗槽11右侧壁顶端上方位置，但是本申请实施例并不以此为限，只要喷淋管组件5位于清洗槽11液面上方略高位置即可。溢流槽12则可以设置于清洗槽11的左侧位置，即喷淋管组件5与溢流槽12分别位于清洗槽11的宽度方向上的两侧，以使得喷淋管组件5向清洗槽11的液面上喷淋清洗溶剂时，清洗槽则11液面上漂浮的杂质可以流向溢流槽12内，以避免对掩膜板200的二次污染。清洗槽11的左侧壁顶端可以开设有波浪形溢流口111，即清洗槽11和溢流槽12贴合的侧壁顶端开设有波浪形溢流口111，该波浪形溢流口111可以确保清洗槽11内液面满足要求的同时，便于将漂浮的杂质流入溢流槽12内。喷淋管组件5例如可以与循环过滤组件2直接连接，也可以单独设置，喷淋管组件5可以包括四个朝向溢流槽12的喷淋口51，用于将干净的清洗溶剂在清洗槽11液面上向溢流槽12方向喷淋，使清洗槽11内液面上漂浮的杂质流入溢流槽12。采用上述设计，由于喷淋管组件5将清洗溶剂表面的杂质及时清除，以避免对掩膜板200造成二次污染，从而进一步的提高掩膜板200的洁净度。

需要说明的是，本申请实施例并不限定喷淋管组件5与溢流槽12的具体位置。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1及图3所示，第一吸附装置31及第二吸附装置32均包括有壳体33及吸附组件34，壳体33内具有多条并列设置的且首尾相连的流体通路35，壳体33的两侧还设置有进液口36及出液口37，进液口36及出液口37分别与位于壳体33两侧的流体通路35连通；多个吸附组件34沿流体通路35的延伸方向依次排布。

如图1及图3所示，壳体33可以采用金属材质制成的槽体结构，但是本申请实施例并不以此为限，例如壳体33还可以设置为立方体结构。壳体33内设置有两个隔板331，其中一个隔板331的顶端与壳体33连接，底端与壳体33之间具有开口，另一个隔板331的底端与壳体33连接，顶端与壳体33之间具有开口，通过上述设计使得壳体33内形成有三条并列设置且首尾相连的流体通路35，但是本申请实施例并不限定流体通路35的具体数量及形成方式，例如多条流体通路35可以直接形成于壳体33内。壳体33顶部右侧设置有进液口36，用于与位于右侧的流体通路35连通，壳体33底部左侧设置有出液口37，用于与位于左侧的流体通路35连通，这样清洗溶剂从进液口36进入位于右侧的流体通路35后，经由隔板331底端与壳体33的开口处流入位于中部的流体通路35内，依此类推清洗溶剂在壳体33内来回折返最后到达出液口37。每个流体通路35内可以设置有四个吸附组件34，四个吸附组件34可以沿流体通路35的延伸方向依次排布，用于在清洗溶剂沿各流体通路35流动过程中，对清洗溶剂的杂质进行吸附，但是本申请实施例并不限定吸附组件34的具体数量，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。采用上述设计，由于设置有多条流体通路35，以及每个流体通路35内还设置有多个吸附组件34，使得清洗溶剂依次经由多个吸附组件34进行吸附，不仅能够大幅提高对清洗溶剂的清洁程度，而且还能降低维护频率。另外，采用上述结构还可以大幅节省本申请实施例的空间占用。

需要说明的是，本申请实施例并不限定进液口36及出液口37的位置，例如两者位置可以相互调换。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图3及图4所示，吸附组件34包括吸附棒341、翅片342及强磁体343，吸附棒341设置于壳体33内，并且端部祼露于壳体33外部，吸附棒341的轴向与流体通路35的延伸方向垂直；多个翅片342层叠设置于吸附棒341的外周，并且均位于壳体33内；强磁体343设置于吸附棒341裸露于壳体33外的端部上，用于向吸附棒341及翅片342施加强磁力，以对清洗溶剂内的杂质进行吸附。

如图3及图4所示，吸附棒341及翅片342均可以采用不锈钢材质制成，多个翅片342可以层叠设置于吸附棒341上。吸附棒341整体可以垂直设置于壳体33体，并且吸附棒341的底端可以与壳体33的底壁连接，顶端可以裸露于壳体33的顶部，以使得吸附棒341的轴向与流体通路35的延伸方向垂直。强磁体343可以设置于吸附棒341的顶端，即强磁体343设置于吸附棒341裸露于壳体33外的端部上，以用于向吸附棒341及翅片342施加强磁力。当清洗溶剂流经各吸附组件34时，杂质内的部分有机污染物和绝大部分的金属颗粒会被吸附到吸附棒341及翅片342上。采用上述设计，不仅能够有效去除清洗溶剂内的杂质，而且由于结构简单还能大幅降低应用及维护成本。另外，采用强磁体343设置于吸附棒341的顶端，将强磁体343拆除后即可以对吸附棒341及翅片342进行清洗及维护，从而大幅提高清洗维护效率。

需要说明的是，本申请实施例并不限定吸附棒341及翅片342的具体实施方式，例如两者均可以采用强磁村料或者电磁材料制成。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1所示，两个第一吸附装置31以择一选通的方式将清洗槽11与循环过滤组件2连接；两个第二吸附装置32以择一选通的方式将溢流槽12及溶剂回收组件4连接。具体来说，清洗槽11与循环过滤组件2间可以并列设置有两个第一吸附装置31；溢流槽12及溶剂回收组件4之间可以并列设置有两个第二吸附装置32。在实际应用时，清洗槽11与循环过滤组件2只需连通其中一个第一吸附装置31即可，同样的溢流槽12及溶剂回收组件4只需连通其中一个第二吸附装置32即可，采用上述设计，当其中一个吸附装置需要维护时，可以通过阀门(图中未示出)开启另一个吸附装置，通过两个吸取附装置交替使用，避免停机影响生产，从而大幅提高清洗效率。但是本申请实施例并不限定第一吸附装置31及第二吸附装置32的具体数量，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1及图2所示，循环过滤组件2包括多个进液管21，多个进液管21分别对称设置于清洗槽11的两侧，并且多个进液管21沿清洗槽11的高度方向间隔且均匀排布，进液管21的出液方向与清洗槽11的长度方向平行设置。具体来说，清洗槽11的左右两侧均设置四个进液管21，四个进液管21可以沿清洗槽11的高度方向均匀排布，以提高清洗槽11内清洗溶剂流动的均匀性，避免对掩膜板200造成冲击导致掩膜板200损坏。进一步的，进液管21可以沿清洗槽11的长度方向延伸设置，以使得进液管21的出液方向与清洗槽11的长度方向平行设置，由于清洗槽11的长度方向与掩膜板200的长方向平行设置，采用上述设计，使得清洗溶剂在清洗槽11内的流动方向与掩膜板200的表面平行，避免液流垂直冲击掩膜板200而导致损坏，从而避免造成重大损失。但是本申请实施例并不限定进液管21的具体数量，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1及图2所示，循环过滤组件2还包括循环管路22、泵23及过滤器24，循环管路22的一端与第一吸附装置31连接，另一端与多个进液管21连接；泵23及过滤器24均设置于循环管路22上，并且泵23靠近第一吸附装置31设置，过滤器24靠近多个进液管21设置。具体来说，循环管路22可以采用金属材质制成的管状结构，循环管路22的一端与第一吸附装置31连接，另一端与多个进液管21连接。由于过滤器24靠近多个进液管21设置，使得泵23可以将经由第一吸附装置31吸附后的清洗溶剂供给至清洗槽11内，以及为清洗槽11内的清洗溶剂循环过滤提供动力。过滤器24可以由不磁钢滤壳和含氟滤芯构成，并且过滤器24可以设置为两级过滤组合，以保证进入清洗槽11的清洗溶剂足够洁净。由于滤芯的过滤精度极高，同时为了避免被清洗溶剂腐蚀产生新的杂质，滤芯的材质需要特殊定制，因此作为耗材的滤芯价格较高。通过设置了第一吸附装置31及第二吸附装置32，可以大幅降低过滤器24的维护频率及维护成本，从而进一步降低掩膜板200的清洗成本，进而大幅提高本申请实施例的经济效益。但是本申请实施例并不限定循环管路22及过滤器24的具体实施方式，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1所示，循环过滤组件2还包括有储液器25，储液器25与泵23及溶剂回收组件4均连接，溶剂回收组件4用于对溢流槽12流出的清洗溶剂进行蒸馏提纯后输送到储液器25内。具体来说，储液器25具体可以采用金属材质制成的槽状结构，储液器25可以分别与泵23及溶剂回收组件4连接，但是本申请实施例并不限定储液器25的具体结构。在实际应用时，溢流槽12内的清洗溶剂在经过第二吸附装置32的吸附后，进入溶剂回收组件4内，溶剂回收组件4用于完成对清洗溶剂的蒸馏提纯，以达到使清洗溶剂重复使用的目的，经蒸馏提纯后的清洗溶剂再进入储液器25内，并且经由泵23及过滤器24向清洗槽11供给。采用上述设计，使得本申请实施例可以重复循环使用清洗溶剂，不仅可以降低更换清洗溶剂的频率，而且还能大幅降低清洗溶剂的更换成本，从而在提高工作效率的同时进一步提高经济效益。需要说明的是，并非本申请所有实施例都必须包括储液器25，例如在一些实施例中，溶剂回收组件4可以直接与泵23连接，以便于直接向清洗槽11供给清洗溶剂。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1所示，清洗槽11内具有连通设置的清洗部112及收集部113，清洗部112用于对掩膜板200进行清洗，收集部113用于收集清洗溶剂内的杂质；槽体组件1还包括与第一吸附装置31连接的第一出液管114及第二出液管115，第一出液管114与清洗部112连接，第二出液管115与收集部113连接。具体来说，清洗槽11自上至下设置有相互连通的清洗部112及收集部113，清洗部112可以容置清洗溶剂以对掩膜板200进行清洗，由于收集部113位于清洗槽11的底部，因此清洗槽11可以用于对杂质进行导向并收集。第一出液管114的一端可以与清洗部112的底部连接，另一端则可以与第一吸附装置31连接，第二出液管115的一端与收集部113的底部连接，另一端与第一吸附装置31连接。采用上述设计，使得清洗槽11内的清洗溶剂循环效率较高，从而进一步提高第一吸附装置31对清洗溶剂的吸附效率。

于本申请的一实施例中，如图1所示，收集部113沿清洗槽11的宽度方向的截面呈倒梯形，并且收集部113的底面延伸方向沿清洗槽11的长度方向逐渐降低，第二出液管115设置于收集部113底面较低的一端。具体为说，收集部113可以由底板及设置于底板上的多个侧板合围构成，并且沿清洗槽11长度方向延伸的两个侧板均为向外倾斜设置，以使得收集部113沿清洗槽11的宽度方向的截面呈倒梯形结构，从而便于对杂质进行收集。进一步的，底板沿清洗槽11长度方向逐渐向下倾斜，以使得收集部113的底面延伸方向在沿清洗槽11的长度方向逐渐降低，最终使得收集部113右端深度相对于左端较深，并且第二出液管115设置于收集部113的较低的一端，从而便于对清洗溶剂内的杂质进行收集。采用上述设计，不仅可以提高对清洗溶剂内的杂质的收集效率，从而进一步提高清洗溶剂的清洁度，并且使得本申请实施例结构简单，从而大幅降低应用及维护成本。需要说明的是，本申请实施例并不限定收集部113的具体结构，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1及图5所示，清洗设备还包括有用于传送掩膜板200的搬运装置6，搬运装置6上还设置清洗组件7，搬运装置6还用于移动至清洗槽11内，以对清洗槽11内壁进行清洗并风干。

如图1及图5所示，搬运装置6可以设置于清洗设备的机台立柱(图中未示出)上，立柱竖直方向上设置有丝杠导轨，以使搬运装置6完成上下运动；立柱底部水平方向设置有传送机构，可以带动搬运装置6左右运动。清洗组件7的多个喷嘴71可以设置于搬运装置6的底部，多个喷嘴71可以分别与清洗组件7的供液管路及供气管路(图中均未示出)连接，其中供液管路可以通入超纯水，以通过超纯水对清洗槽11的内壁进行清洗；而供气管路可以通入惰性气体，以通过惰性气体加快清洗槽11内壁残水的挥发，使清洗槽11尽快恢复生产，从而进一步提高维护效率及经济效益。在实际应用时，首先把清洗槽11内的清洗溶剂排放到临时储存槽(图中未示出)中，然后将搬运装置6移动到清洗槽11的上部，在靠近左侧内壁到达喷嘴71的有效范围时开始下降，当喷嘴71稍低于内壁板时，开启喷嘴71的供液管路，并且将搬运装置6上下运动多次以达到彻底清洁内壁的效果，右侧内壁清洁采用同样方式进行；当对清洗槽11清洗完成后，开启喷嘴71的供气管路以加快内壁残水的挥发，从而使清洗槽11则尽快恢复生产。采用上述设计，当清洗槽11在清洗多片掩膜板200后，脱落的杂质有少部分会逐渐吸附在内壁上，通过设置清洗组件7定期清洁内壁，从而可以确保良好的清洗效果。另外，通过设置在搬运装置6上的清洗组件7对清洗槽11内壁进行清洁，可以自动清洁吸附在清洗槽11内壁的杂质，避免采用人工方式在狭小空间直接清洁导致人体吸入伤害，从而大幅提高操作人员的安全性。

为了进一步说明本申请实施例的具体方式，以下结合图1至图5对本申请实施的具体清洗过程说明如下。具体来说，为了保证进入清洗槽11的清洗溶剂足够洁净，将清洗溶剂先灌入溶剂回收组件4内，溶剂回收组件4将蒸馏出的清洗溶剂输入至储液器25内，再通过泵23抽取储液器25中的清洗溶剂，并且经由过滤器24过滤后供给至清洗槽11。清洗槽11内的清洗溶剂后经过波浪形溢流口111进入溢流槽12内，由于溢流槽12的出液口37低于清洗槽11最高液面一定距离，以保证溢流槽12的最高液面低于清洗槽11的最高液面，溢流槽12的清洗溶剂进入第二吸附装置32内进行吸附，最后由溶剂回收组件4进行回收再生。

进一步的，当清洗槽11内清洗溶剂注满之后，就可以通过搬运装置6将掩膜板200投放到清洗槽11中清洗，设置在清洗槽11底部的超声波震荡器13同时开启，附着在掩膜板200表面上的蒸镀膜层开始不断脱落，杂质中密度小的膜层开始上浮并漂浮在清洗槽11的液面上，密度较大的颗粒物悬浮在清洗溶剂中。此时泵23的作用主要是循环作用，通过设置在循环管路22上的自动阀门(图中未示出)开闭形成一个自循环通路，即在泵23的吸力作用下，清洗槽11内的清洗溶剂进入其中一个第一吸附装置31进行吸附，然后再经过过滤器24对清洗溶剂进行过滤，最后经由多个进液管21向清洗槽11进液。通过在清洗过程不断的对清洗溶剂进行循环、吸附及过滤，这样从掩膜板200上随时脱落的杂质随着清洗溶剂的循环流动被及时清除，并且清洗槽11液面的杂质也会在喷淋管组件5的作用下流入到旁边的溢流槽12内，并且在经由第二吸附装置32吸附后由溶剂回收组件4回收。

应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：

本申请实施例通过在清洗槽上设置循环过滤组件，以使清洗槽内的清洗溶剂可以循环流动，并且清洗槽与循环过滤组件之间设置有第一吸附装置，以在清洗溶剂循环过程中对清洗溶剂进行吸附，可以有效的将清洗溶剂中的杂质及时清除，以保证掩膜板的清洗洁净的同时避免对掩膜板被二次污染，从而使掩膜板清洗满足指标。由于第一吸附装置能对清洗溶剂进行吸附，从而不仅可以降低清洗溶剂的更换成本，而且还能大幅降低清洗槽维护频率，从而大幅提高生产效率。通过在溢流槽与溶剂回收组件之间设置有第二吸附装置，以在溶剂回收组件对溢流槽内的清洗溶剂回收之前，对清洗溶剂内的杂质进行吸附，可以避免对溶剂回收组件造成污染，从而大幅降低溶剂回收组件维护频率及成本，从而进一步提高生产效率。进一步的，第一吸附装置及第二吸附装置配合使用，还能降低循环过滤组件的维护频率及延长使用寿命，从而降低循环过滤组件的维护成本，并且还能进一步提高生产效率。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (11)

1.一种掩膜板的清洗设备，其特征在于，包括：槽体组件、循环过滤组件、杂质吸附组件及溶剂回收组件；

所述槽体组件包括清洗槽及溢流槽，所述清洗槽用于容置清洗溶剂以对所掩膜板进行清洗；所述溢流槽设置于所述清洗槽的至少一侧，用于回收所述清洗槽溢流的清洗溶剂；

所述循环过滤组件与所述清洗槽及所述溶剂回收组件连接，用于向所述清洗槽供给清洗溶剂，并且能使所述清洗溶剂在所述清洗槽内循环流动；

所述杂质吸附组件包括第一吸附装置及第二吸附装置中的至少一种，所述第一吸附装置设置于所述清洗槽与所述循环过滤组件之间，用于对所述清洗槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；所述第二吸附装置设置于所述溢流槽及所述溶剂回收组件之间，用于对所述溢流槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；

所述溶剂回收组件用于回收所述溢流槽的清洗溶剂，并且通过所述循环过滤组件向所述清洗槽供给清洗溶剂，以及所述溶剂回收组件与一供给源连接，用于通过所述循环过滤组件向所述清洗槽供给清洗溶剂。

2.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括喷淋管组件，所述喷淋管组件沿所述清洗槽的长度方向延伸设置，所述溢流槽沿所述清洗槽的长度方向延伸设置在所述清洗槽的外侧，所述喷淋管组件用于向所述清洗槽的液面喷淋清洗溶剂；所述清洗槽与所述溢流槽贴合的侧壁顶端开设有波浪形溢流口。

3.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述第一吸附装置及所述第二吸附装置均包括有壳体及吸附组件，所述壳体内具有多条并列设置的且首尾相连的流体通路，所述壳体的两侧还设置有进液口及出液口，所述进液口及所述出液口分别与位于所述壳体两侧的所述流体通路连通；多个所述吸附组件沿所述流体通路的延伸方向依次排布。

4.如权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，所述吸附组件包括吸附棒、翅片及强磁体，所述吸附棒设置于所述壳体内，并且端部祼露于所述壳体外部，所述吸附棒的轴向与所述流体通路的延伸方向垂直；多个所述翅片层叠设置于所述吸附棒的外周，并且均位于所述壳体内；所述强磁体设置于所述吸附棒裸露于所述壳体外的端部上，用于向所述吸附棒及所述翅片施加强磁力，以对所述清洗溶剂内的杂质进行吸附。

5.如权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，两个所述第一吸附装置以择一选通的方式将所述清洗槽与所述循环过滤组件连接；两个所述第二吸附装置以择一选通的方式将所述溢流槽及所述溶剂回收组件连接。

6.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述循环过滤组件包括多个进液管，多个所述进液管分别对称设置于所述清洗槽的两侧，并且多个所述进液管沿所述清洗槽的高度方向间隔且均匀排布，所述进液管的出液方向与所述清洗槽的长度方向平行设置。

7.如权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述循环过滤组件还包括循环管路、泵及过滤器，所述循环管路的一端与所述第一吸附装置连接，另一端与多个所述进液管连接；所述泵及所述过滤器均设置于所述循环管路上，并且所述泵靠近所述第一吸附装置设置，所述过滤器靠近多个所述进液管设置。

8.如权利要求7所述的清洗设备，其特征在于，所述循环过滤组件还包括有储液器，所述储液器与所述泵及所述溶剂回收组件均连接，所述溶剂回收组件用于对所述溢流槽流出的清洗溶剂进行蒸馏提纯后输送到所述储液器内。

9.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗槽内具有连通设置的清洗部及收集部，所述清洗部用于对所述掩膜板进行清洗，所述收集部用于收集所述清洗溶剂内的杂质；所述槽体组件还包括与所述第一吸附装置连接的第一出液管及第二出液管，所述第一出液管与所述清洗部连接，所述第二出液管与所述收集部连接。

10.如权利要求9所述的清洗设备，其特征在于，所述收集部沿清洗槽的宽度方向的截面呈倒梯形，并且所述收集部的底面延伸方向沿清洗槽的长度方向逐渐降低，所述第二出液管设置于所述收集部底面较低的一端。

11.如权利要求1至10的任一所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括有用于传送所述掩膜板的搬运装置，所述搬运装置上还设置清洗组件，所述搬运装置还用于移动至所述清洗槽内，以对所述清洗槽内壁进行清洗并风干。

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