CN113409992B - 一种柔性复合导电膜及其制备方法和应用 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及一种柔性复合导电膜及其制备方法和应用，该柔性复合导电膜包括衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层，其中，第一导电层包括由多个金属纳米线构成的网络状导电结构，第二导电层为平面导电结构；在第一导电层设置在所述衬底上的情况下，电子隧穿层位于第一导电层或者第二导电层上，在第二导电层设置在衬底上的情况下，电子隧穿层位于第一导电层上，第一导电层与所述第二导电层之间形成导电通路。本发明提供的柔性复合导电膜具有较好的平面导电性能、抗氧化性能和表面平整度，能够满足大尺寸柔性触控及器件的行业需求。

Description

一种柔性复合导电膜及其制备方法和应用
技术领域
本公开涉及导电膜、制造导电膜的方法以及该导电膜的应用，特别涉及一种柔性复合导电膜及其制备方法和应用。
背景技术
近年来，随着柔性电子产业的崛起，柔性触控及器件已成为电子行业的发展趋势，在这产业趋势之下，具有可挠性、高光穿透度、高导电性的软性透明导电膜是许多柔性光电产品的基础。众所周知，传统的触控产品所用的ITO(Indium-Tin-Oxide，氧化铟锡)透明导电膜导电层易碎易断，缺乏柔韧性且大尺寸电极应用存在压降的问题，限制了其在大尺寸柔性触控及器件方面的应用。
纳米银线透明导电膜具有优异的光电特性、耐挠曲特性、制备工艺简单等优点，已在触控屏、手写板、加热膜、PDLC(PolymerDispersedLiquid Crystal，聚合物分散液晶)和电磁屏蔽等领域得到广泛的应用。然而纳米银线透明导电膜也存在一些缺陷，如纳米银线透明导电膜是网络导电模式，无法满足一些要求整面导电电极器件中的应用；纳米银线易被氧化，并且在恶劣环境中稳定性差。
发明内容
针对现有技术的缺陷，本公开的目的在于提供一种柔性复合导电膜及其制备方法和应用，提高透明导电膜的导电性能、抗氧化性能及表面平整度，以满足其大尺寸柔性触控及器件的行业需求。
本发明的第一方面，提供了一种柔性复合导电膜，所述柔性复合导电膜包含衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层；
其中，所述衬底包括柔性衬底，所述第一导电层包括由多个金属纳米线构成的网络状导电结构，所述第二导电层为平面导电结构；
在所述第一导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层或者所述第二导电层上；在所述第二导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层上，所述第一导电层与所述第二导电层之间形成导电通路。
本发明的第二方面，提供了一种柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底上形成复合结构，所述复合结构包括第一导电层、第二导电层和电子隧穿层；
在所述第一导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层或者所述第二导电层上，在所述第二导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层上，所述第一导电层与所述第二导电层之间形成导电通路；
其中，所述衬底包括柔性衬底，所述第一导电层包括由多个金属纳米线构成的网络状导电结构，所述第二导电层为平面导电结构。
本发明的第三方面，提供了一种柔性复合导电膜的应用，包括上述第一方面所述的柔性复合导电膜在触控屏、显示器、手机天线电路、红外光学成像元件、光电传感器、电磁屏蔽、智能窗、智能手写板和太阳能电池方面的应用。
本发明提供的柔性复合导电膜包括衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层，其中，第一导电层包括由多个金属纳米线构成的网络状导电结构，第二导电层为平面导电结构，第一导电层与第二导电层之间形成导电通路，使导电膜在保有优异的光学特性和耐挠曲特性的同时，从网络导电变成平面导电；第一导电层由电子隧穿层或者第二导电层覆盖，能够提高柔性复合导电膜的耐氧化性能；通过在第一导电层或者第二导电层上设置电子隧穿层，能够改善第一导电层的表面平整度。
采用本发明提供的方法制备得到的柔性复合导电膜具有较好的平面导电性能、抗氧化性能和表面平整度，可广泛应用于触控屏、显示器、手机天线电路、红外光学成像元件、光电传感器、电磁屏蔽、智能窗、智能手写板和太阳能电池方面，能够满足大尺寸柔性触控及器件的行业需求。
附图说明
为了更清楚地说明本公开的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。
图1是本公开实施例提供的柔性复合导电膜的一种结构的示意图；
图2是本公开实施例提供的柔性复合导电膜的一种结构的示意图；
图3是本公开实施例提供的柔性复合导电膜的一种结构的示意图；
图4是图1所示的柔性复合导电膜的一种制备方法的流程示意图；
图5是图2所示的柔性复合导电膜的一种制备方法的流程示意图；
图6是图3所示的柔性复合导电膜的一种制备方法的流程示意图。
图中：1-衬底，2-第一导电层，3-电子隧穿层，4-第二导电层。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本公开方案，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本公开保护的范围。
需要说明的是，本公开的说明书和权利要求书及附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本公开的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
本发明提供一种柔性复合导电膜，该柔性复合导电膜包含衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层；其中，衬底包括柔性衬底，第一导电层包括由多个金属纳米线构成的网络状导电结构，第二导电层为平面导电结构，第一导电层与第二导电层之间形成导电通路。本发明提供的柔性复合导电膜可以呈现三种不同的层结构，如图1至图3所示。
图1示出了柔性复合导电膜的一种结构，该柔性复合导电膜由下至上依次为衬底、第一导电层、电子隧穿层和第二导电层，其中，电子隧穿层填补或镶嵌于第一导电层上网络状导电结构中的空白区域，第二导电层通过电子隧穿层中的隧穿电子与第一导电层之间形成导电通路。
图2示出了柔性复合导电膜的另一种结构，该柔性复合导电膜由下至上依次为衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层。
图3示出了柔性复合导电膜的另一种结构，该柔性复合导电膜由下至上依次为衬底、第二导电层、第一导电层和电子隧穿层，其中，电子隧穿层填补或镶嵌于第一导电层上网络状导电结构中的空白区域。
图1-图3示出的柔性复合导电膜的结构中，电子隧穿层覆盖第一导电层或者第二导电层的至少一个表面，甚至可以完全包裹第一导电层。本发明实施例提供的柔性复合导电膜中，第一导电层与第二导电层直接接触，或者第一导电层与第二导电层之间通过电子隧穿层实现电导通，使得柔性复合导电膜在兼具金属纳米线网络结构优异的光学性能及耐挠曲特性的情况下，实现了平面导电。电子隧穿层的设置不仅提高了柔性复合导电膜的抗氧化性能，还改善了柔性复合导电膜表面的平整度，使其适合大尺寸屏幕应用。
以下对构成柔性复合导电膜的各个层进行说明。
(1)衬底
衬底的材质可以为PET、CPI、PI、PC、PMMA、PP、PE和EVA中的任意一种或者多种的组合。采用柔性衬底制备柔性复合导电膜，可以增强柔性复合导电膜的耐挠曲特性。
(2)第一导电层
第一导电层中的金属纳米线可以为纳米铜线、纳米金线和纳米银线中的任意一种或者多种的组合。由于金属纳米线的长度直接影响到柔性复合导电膜接触电阻，线越长，接触点越少，薄膜方阻也就越小，但是金属纳米线太长，容易形成缠绕，影响涂层的均匀性，故，本实施例中，金属纳米线的直径优选为5nm～100nm、长径比为500～2500。特别的，金属纳米线直径优选为10～30nm，长径比为1000～1200，从而提高第一导电层的均匀性、降低方阻。第一导电层的厚度可以根据导电膜的方阻需求设定，优选为20nm～500nm。
(3)电子隧穿层
电子隧穿层选择耐候性好、透明以及成膜后透光率好的材料制成，优选包括丙烯酸树脂、硅酮-环氧物、硅氧烷、酚醛、环氧物、聚氨酯和聚酰亚胺中的一种或几种的组合，并且，所述电子隧穿层还包含聚吡咯、聚噻吩、聚乙炔、聚对苯、聚苯胺、苝系颜料、偶氮颜料、酞菁及酞菁化合物、并五苯的衍生物、苯并噻吩类的衍生物、红荧烯、C60、聚3-已基噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基和聚苯酚中的任意一种或者多种的组合。电子隧穿层可增强导电膜的多种性能，相比于衬底、第一导电层和第二导电层构成的导电膜，本发明提供的柔性复合导电膜具有如下优势：透光率增加大于0.5％、光学雾度降低大于0.2％、阻止金属纳米线网络导电层中金属纳米线的氧化和离子迁移、电学稳定性增加5％、导电膜老化测试时间至少达到240h，涂布后导电面硬度大于1H，附着力大于5B，表面张力大于25mN/m。
当电子遂穿层位于第一导电层与第二导电层之间时，电子隧穿层用于实现第一导电层与第二导电层之间的电导通，如果厚度太大，则无法实现电子隧穿的效果，因而，电子隧穿层的厚度满足增强与其接触的两个层之间的附着力即可，优选的，可以将电子隧穿层的厚度设为0.1nm～5nm。
(4)第二导电层
选择能够实现整面导电、耐候性好、成膜后透光率好的材质制备第二导电层，第二导电层的材质优选为透明氧化物膜、金属膜、石墨烯膜和透明有机导电薄膜中的任意一种或者多种的组合。第二导电层厚度越厚，其导电性能越好，第二导电层的厚度可以根据不同应用下对导电膜的导电需求来确定，优选为5nm～500nm。
本公开实施例中，将金属纳米线制备成网络状导电结构，以及选择透光率较好的材质制成第二导电层，使柔性复合导电膜具有较高透光率，其在可见光范围400nm～800nm波段的平均透光率大于70％。在柔软衬底上设置其他层状结构，各层结构的厚度非常薄，使柔性复合导电膜具有较好的耐挠曲特性。将平面导电结构的第二导电层与网络导电结构的第一导电层结合，使网络导电变成平面导电，并使柔性复合导电膜的平均方阻小于150Ω/□，能够满足大尺寸柔性触控及器件的行业需求。进一步的，电子隧穿层覆盖第一导电层或者第二导电层的至少一个表面，能够提升柔性复合导电膜的耐氧化性能及平整度。
在一种可能的实现方式中，衬底与第一导电层或者第二导电层之间还可以设功能复合层，功能复合层为光学适配层、电学适配层、力学适配层、平面导电层、折射率适配层中的任意一种或者多种的组合。光学适配层是通过溅射、蒸镀、涂布等方式形成的金属层或陶瓷层，使衬底和光学适配层形成折射率补偿，减少蚀刻后导电区域和非导电区域的反射率差值，减少视觉反差。光学适配层材料包括金属、合金、氧化物纳米材料及其组合。力学适配层用于降低衬底与涂层、涂层与涂层之间的应力，提高衬底与涂层、涂层与涂层之间的附着力。平面导电层使得第一导电层由网状导电转化为整面导电，平面导电层材料包括导电高分子(如PEDOT：PSS)、导电金属氧化物、石墨烯、碳纳米管及其任意组合。折射率适配层可增强柔性复合导电膜在可见光区域透光率的功能层，其原理是使透射光与反射光及其它方向的光重新分配，提高入射光比例。
上述的柔性复合导电膜的制备方法包括：在衬底上形成复合结构，所述复合结构包括第一导电层、第二导电层和电子隧穿层；在所述第一导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层或者所述第二导电层上，在所述第二导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层上，所述第一导电层与所述第二导电层之间形成导电通路；其中，所述衬底包括柔性衬底，所述第一导电层包括由多个金属纳米线构成的网络状导电结构，所述第二导电层为平面导电结构。
具体的，柔性复合导电膜可以通过如下方法制备获得。
图4示出了一种制备柔性复合导电膜的方法，该柔性复合导电膜依次包括衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层。请参见图4，制备该柔性复合导电膜的方法包括以下步骤：
S401，将导电油墨在柔性衬底上涂布或印刷成网络结构，得到第一导电层；
S403，在第一导电层上涂布电子隧穿层溶液，使电子隧穿层溶液填充网络结构中的空白区域，固化后得到电子隧穿层；
S405，在电子隧穿层上制备平面导电结构，得到第二导电层，第二导电层通过电子隧穿层中的隧穿电子与第一导电层之间形成导电通路。
进一步的，在步骤S405制作第二导电层之前，还包括：采用电晕处理和/或等离子体处理方式对固化后的电子隧穿层进行表面处理。从而提升第二导电层在电子隧穿层上的附着力。
步骤S401-S405中，柔性衬底可以是PET、CPI、PI、PC、PMMA、PP、PE和EVA中的任意一种或者多种的组合。导电油墨中包含金属纳米线，金属纳米线为纳米铜线、纳米金线和纳米银线中的任意一种或者多种的组合。电子隧穿层溶液中包含0.001％～0.05％树枝状高分子、0.07％～8％单体、0.05％～1.5％引发剂、0.1％～5％预聚物、0.003％～0.3％络合剂、0.005％～0.4％稳定剂、0.003％～0.5％抗氧化剂、0.03％～5％的醋酸丁酸纤维素和60％～99％的溶剂。所述单体包括丙烯酸羟乙酯HEA、三丙二醇二丙烯酸酯TPGDA、丙烯酸羟丙酯HPA、双丙酮醇DAA、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯TMPTA、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯EO-TMPTA、双季戊四醇六丙烯酸酯DPHA、2-苯氧乙基丙烯酸酯PHEA、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯TMPTMA、乙氧基化环已醇丙烯酸酯EO-CHA、二丙二醇二丙烯酸酯DPGDA、丙烯酸异冰片酯IBOA、丙二醇二乙酸酯PGDA、邻苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯PDDA、三乙二醇二丙烯酸酯TEGDA、己二醇二丙烯酸HDDA和丁二醇二丙烯酸酯BDDA中的一种或多种；所述引发剂包括α-羟酮基引发剂、酰基膦氧化物和酮基引发剂中的一种或多种；所述预聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物、芳香族聚氨酯丙烯酸酯预聚物、聚氨酯甲基丙烯酸酯、邻苯二甲酸二烯丙酯预聚物、环氧丙烯酸酯和环氧甲级丙烯酸酯中的一种或多种；所述络合剂包括氨羧络合剂、8-羟基喹啉、双硫腙、2，2-联吡啶(bipy)、邻菲洛琳(C12H8N2)、酒石酸钾钠、柠檬酸铵和无机络合剂多磷酸盐中的一种或多种；所述稳定剂包括光屏蔽剂(碳黑、氧化钛等无机颜料和酞菁蓝、酞菁绿等有机颜料)、紫外线吸收剂(水杨酸酯类、三嗪类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、邻羟基二苯甲酮类)、猝灭剂(镍的有机螯合物)、自由基捕获剂(受阻胺光稳定剂(HALS))中的一种或多种；所述抗氧化剂包括SONGNOX4150、Irganox1098、Irganox1076、Irganox1010和Irganox168中的一种或多种；所述溶剂包括异丙醇、甲醇、乙醇、正丁醇、二丙酮醇、丙酮和醋酸丁酯中的一种或多种。此外，电子隧穿层溶液中还包括聚吡咯、聚噻吩、聚乙炔、聚对苯、聚苯胺、苝系颜料、偶氮颜料、酞菁及酞菁化合物、并五苯的衍生物、苯并噻吩类的衍生物、红荧烯、C60、聚3-已基噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基和聚苯酚中的任意一种或者多种的组合。第二导电层为透明氧化物、金属、石墨烯膜和透明有机导电材料中的任意一种或者多种的组合。
图5示出了另一种制备柔性复合导电膜的方法，该柔性复合导电膜依次包括衬底、第一导电层、电子遂穿层和第二导电层。请参见图5，制备该该柔性复合导电膜的方法包括以下步骤：
S501，在柔性衬底上制备平面导电结构，得到第二导电层；
S503，将导电油墨在第二导电层上涂布或印刷成网络结构，得到第一导电层，第一导电层与第二导电层之间形成导电通路；
S505，在第一导电层上涂布电子隧穿层溶液，使电子隧穿层溶液填充网络结构中的空白区域，固化后得到电子隧穿层。
步骤S501-S505中，柔性衬底可以是PET、CPI、PI、PC、PMMA、PP、PE和EVA中的任意一种或者多种的组合。导电油墨中包含金属纳米线，金属纳米线为纳米铜线、纳米金线和纳米银线中的任意一种或者多种的组合。电子隧穿层溶液中包含0.001％～0.05％树枝状高分子、0.07％～8％单体、0.05％～1.5％引发剂、0.1％～5％预聚物、0.003％～0.3％络合剂、0.005％～0.4％稳定剂、0.003％～0.5％抗氧化剂、0.03％～5％的醋酸丁酸纤维素和60％～99％的溶剂。所述单体包括HEA、TPGDA、HPA、DAA、TMPTA、EO-TMPTA、DPHA、PHEA、TMPTMA、EO-CHA、DPGDA、IBOA、PGDA、PDDA、TEGDA、HDDA和BDDA中的一种或多种；所述引发剂包括α-羟酮基引发剂、酰基膦氧化物和酮基引发剂中的一种或多种；所述预聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物、芳香族聚氨酯丙烯酸酯预聚物、聚氨酯甲基丙烯酸酯、邻苯二甲酸二烯丙酯预聚物、环氧丙烯酸酯和环氧甲级丙烯酸酯中的一种或多种；所述络合剂包括氨羧络合剂、8-羟基喹啉、双硫腙、2，2-联吡啶(bipy)、邻菲洛琳(C12H8N2)、酒石酸钾钠、柠檬酸铵和无机络合剂多磷酸盐中的一种或多种；所述稳定剂包括光屏蔽剂(碳黑、氧化钛等无机颜料和酞菁蓝、酞菁绿等有机颜料)、紫外线吸收剂(水杨酸酯类、三嗪类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、邻羟基二苯甲酮类)、猝灭剂(镍的有机螯合物)、自由基捕获剂(受阻胺光稳定剂(HALS))中的一种或多种；所述抗氧化剂包括SONGNOX4150、Irganox1098、Irganox1076、Irganox1010和Irganox168中的一种或多种；所述溶剂包括异丙醇、甲醇、乙醇、正丁醇、二丙酮醇、丙酮和醋酸丁酯中的一种或多种。此外，电子隧穿层溶液中还包括聚吡咯、聚噻吩、聚乙炔、聚对苯、聚苯胺、苝系颜料、偶氮颜料、酞菁及酞菁化合物、并五苯的衍生物、苯并噻吩类的衍生物、红荧烯、C60、聚3-已基噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基和聚苯酚中的任意一种或者多种的组合。第二导电层为透明氧化物、金属、石墨烯膜和透明有机导电材料中的任意一种或者多种的组合。
图6示出了第一种制备柔性复合导电膜的方法，该柔性复合导电膜依次包括衬底、第二导电层、第一导电层和电子遂穿层。请参见图6，制备该第二导电层、第一导电层和电子遂穿层的方法包括以下步骤：
S601，将导电油墨在柔性衬底上涂布或印刷成网络结构，得到第一导电层；
S603，在第一导电层上制备平面导电结构，得到第二导电层，第二导电层与第一导电层之间形成导电通路；
S605，在第二导电层上涂布电子隧穿层溶液，固化后得到电子隧穿层。
以上步骤中，柔性衬底可以是PET(Polyethyleneterephthalate,涤纶树脂)、CPI(polyimidefilm；PIfilm，聚酰亚胺薄膜)、PI(polyimide，聚酰亚胺树脂)、PC(Polycarbonate，聚碳酸酯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯材料)、PP(polypropylene，聚丙烯)、PE(polyethylene，聚乙烯)和EVA(EthyleneVinylAcetateCopolymer，乙烯-醋酸乙烯共聚物)中的任意一种或者多种的组合。导电油墨中包含金属纳米线，金属纳米线为纳米铜线、纳米金线和纳米银线中的任意一种或者多种的组合。电子隧穿层溶液中包含0.001％～0.05％树枝状高分子、0.07％～8％单体、0.05％～1.5％引发剂、0.1％～5％预聚物、0.003％～0.3％络合剂、0.005％～0.4％稳定剂、0.003％～0.5％抗氧化剂、0.03％～5％的醋酸丁酸纤维素和60％～99％的溶剂。所述单体包括HEA、TPGDA、HPA、DAA、TMPTA、EO-TMPTA、DPHA、PHEA、TMPTMA、EO-CHA、DPGDA、IBOA、PGDA、PDDA、TEGDA、HDDA和BDDA中的一种或多种；所述引发剂包括α-羟酮基引发剂、酰基膦氧化物和酮基引发剂中的一种或多种；所述预聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物、芳香族聚氨酯丙烯酸酯预聚物、聚氨酯甲基丙烯酸酯、邻苯二甲酸二烯丙酯预聚物、环氧丙烯酸酯和环氧甲级丙烯酸酯中的一种或多种；所述络合剂包括氨羧络合剂、8-羟基喹啉、双硫腙、2，2-联吡啶(bipy)、邻菲洛琳(C12H8N2)、酒石酸钾钠、柠檬酸铵和无机络合剂多磷酸盐中的一种或多种；所述稳定剂包括光屏蔽剂(碳黑、氧化钛等无机颜料和酞菁蓝、酞菁绿等有机颜料)、紫外线吸收剂(水杨酸酯类、三嗪类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、邻羟基二苯甲酮类)、猝灭剂(镍的有机螯合物)、自由基捕获剂(受阻胺光稳定剂(HALS))中的一种或多种；所述抗氧化剂包括SONGNOX4150、Irganox1098、Irganox1076、Irganox1010和Irganox168中的一种或多种；所述溶剂包括异丙醇、甲醇、乙醇、正丁醇、二丙酮醇、丙酮和醋酸丁酯中的一种或多种。此外，电子隧穿层溶液中还包括聚吡咯、聚噻吩、聚乙炔、聚对苯、聚苯胺、苝系颜料、偶氮颜料、酞菁及酞菁化合物、并五苯的衍生物、苯并噻吩类的衍生物、红荧烯、C60、聚3-已基噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基和聚苯酚中的任意一种或者多种的组合。第二导电层为透明氧化物、金属、石墨烯膜和透明有机导电材料中的任意一种或者多种的组合。
通过以上方法制备得到的柔性复合导电膜，具有光学性能佳、耐氧化、柔韧性好、稳定性高的优势，其在大尺寸应用中压降小，能够满足大尺寸柔性触控及器件的行业需求，可广泛应用于触控屏、显示器、手机天线电路、红外光学成像元件、光电传感器、电磁屏蔽、智能窗、智能手写板和太阳能电池方面。
以下，基于实施例来具体说明本发明，然而本发明不受其限定。
实施例1
本实施例提供的柔性复合导电膜如图1所示，依次包括衬底、第一导电层、电子隧穿层和第二导电层。其中：
衬底为PET柔性衬底，厚度为125um。
第一导电层为由多个纳米银线构成的网络状导电结构，各纳米银线之间形成空白区域，纳米银线直径为25nm、长度为30um；第一导电层的厚度为70nm。
电子隧穿层的材质为丙烯酸树脂，其厚度为1nm。电子隧穿层覆盖第一导电层的上表面，并填补第一导电层的空白区域。
第二导电层为透明氧化物膜，厚度为20nm；
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S11、配置含量为0.09wt％的纳米银线墨水，其中纳米银线直径为25nm，长度为30微米；采用狭缝涂布的方式，将纳米银线墨水在PET衬底上涂布成网络状导电结构，得到第一导电层，其干膜厚度为70nm。
S12、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第一导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为1nm。
S13，采用电晕处理方式，对固化后的电子隧穿层进行表面处理；
S14、在步骤S14制作的电子隧穿层上方磁控溅射ITO，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为20nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达85.7％，薄膜方阻为35.6Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例2
本实施例提供的柔性复合导电膜如图1所示，依次包括衬底、第一导电层、电子隧穿层和第二导电层。其中：
衬底为PC柔性衬底，厚度为150um。
第一导电层为由多个纳米银线构成的网络状导电结构，各纳米银线之间形成空白区域，纳米银线直径为100nm、长度为250um；第一导电层的厚度为300nm。
电子隧穿层的材质为聚噻吩，其厚度为5nm。电子隧穿层覆盖第一导电层的上表面，并填补第一导电层的空白区域。
第二导电层为透明氧化物膜，厚度为150nm；
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S21、配置含量为0.11wt％的纳米银线墨水，其中纳米银线直径为100nm，长度为250微米；采用狭缝涂布的方式，将纳米银线墨水在PC衬底上涂布成网络状导电结构，得到第一导电层，其干膜厚度为300nm。
S22、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第一导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为5nm。S23，采用等离子体处理方式，对固化后的电子隧穿层进行表面处理；
S24、在步骤S23制作的电子隧穿层上方磁控溅射ITO层，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为150nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达75.1％。薄膜方阻为10.5Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例3
本实施例提供的柔性复合导电膜如图1所示，依次包括衬底、第一导电层、电子隧穿层和第二导电层。其中：
衬底为EVA柔性衬底，厚度为100um。
第一导电层为由多个纳米金线构成的网络状导电结构，各纳米金线之间形成空白区域，纳米金线直径为5nm、长度为2.5um；第一导电层的厚度为20nm。
电子隧穿层的材质为丙烯酸树脂，其厚度为0.1nm。电子隧穿层覆盖第一导电层(纳米金线)的上表面，并填补第一导电层的空白区域。
第二导电层为透明氧化物膜，厚度为50nm；
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S31、配置含量为0.14wt％的纳米金线墨水，其中纳米金线直径为5nm，长度为2.5微米；采用狭缝涂布的方式，将纳米金线墨水在EVA衬底上涂布成网络状导电结构，得到第一导电层，其干膜厚度为20nm。
S32、采用狭缝涂布的方式将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第一导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为0.1nm。
S33、在步骤S32制作的电子隧穿层上方磁控溅射ITO层，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为50nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达90.1％，薄膜方阻为92.5Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例4
本实施例提供的柔性复合导电膜如图1所示，依次包括衬底、第一导电层、电子隧穿层和第二导电层。其中：
衬底为EVA柔性衬底，厚度为125um。
第一导电层为由多个纳米金线构成的网络状导电结构，各纳米金线之间形成空白区域，纳米金线直径为20nm、长度为25um；第一导电层的厚度为100nm。
电子隧穿层的材质为丙烯酸树脂，其厚度为5nm。电子隧穿层覆盖第一导电层的上表面，并填补第一导电层的空白区域。
第二导电层为金属膜，厚度为20nm；
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S31、配置含量为0.14wt％的纳米金线墨水，其中纳米金线直径为20nm，长度为25微米；采用狭缝涂布的方式，将纳米金线墨水在EVA衬底上涂布成网络状导电结构，得到第一导电层，其干膜厚度为100nm。
S32、采用狭缝涂布的方式将固含为2.0wt％的电子隧穿溶液涂布在第一导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为5nm。
S33、在步骤S32制作的电子隧穿层上方磁控溅射银层，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为20nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达72.6％，薄膜方阻为3.7Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例5
本实施例提供的柔性复合导电膜如图2所示，依次包括衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层。其中：
衬底为PET柔性衬底，厚度为125um。
第一导电层为由多个纳米银线构成的网络状导电结构，纳米银线直径为20nm、长度为25um；第一导电层的厚度为80nm。
第二导电层覆盖第一导电层，其材质为金属膜，厚度为7nm。
电子隧穿层覆盖第二导电层，其材质为丙烯酸树脂，厚度为5nm。
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S41、配置含量为0.14wt％的纳米银线墨水，其中纳米银线直径为20nm，长度为25微米；采用狭缝涂布的方式，将纳米银线墨水在PET衬底上涂布成网络状导电结构，得到第一导电层，其干膜厚度为80nm。
S42、在步骤S41制作的第一导电层上方磁控溅射金，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为7nm；
S43、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第二导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为5nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达83.5％，薄膜方阻为17.3Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例6
本实施例提供的柔性复合导电膜如图2所示，依次包括衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层。其中：
衬底为PP柔性衬底，厚度为125um。
第一导电层为由多个纳米银线构成的网络状导电结构，纳米银线直径为15nm、长度为20um；第一导电层的厚度为100nm。
第二导电层覆盖第一导电层，其材质为透明氧化物膜，厚度为200nm。
电子隧穿层覆盖第二导电层，其材质为丙烯酸树脂，厚度为3nm。
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S51、配置含量为0.1wt％的纳米银线墨水，其中纳米银线直径为15nm，长度为20微米；采用狭缝涂布的方式，将纳米金线墨水涂布在PP衬底上，得到第一导电层，第一导电层为网络状导电结构，其干膜厚度为100nm。
S52、在步骤S51制作的第一导电层上方磁控溅射ITO，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为200nm；
S53、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第二导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为3nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达80.9％，薄膜方阻20.6Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例7
本实施例提供的柔性复合导电膜如图2所示，依次包括衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层。其中：
衬底为CPI柔性衬底，厚度为25um。
第一导电层为由多个纳米铜线构成的网络状导电结构，纳米铜线直径为30nm、长度为40um；第一导电层的厚度为90nm。
第二导电层覆盖第一导电层，其材质为金属膜，厚度为10nm。
电子隧穿层覆盖第二导电层，其材质为丙烯酸树脂，厚度为5nm。
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S51、配置含量为0.15wt％的纳米铜线墨水，其中纳米铜线直径为30nm，长度为40微米；采用狭缝涂布的方式将纳米铜线墨水涂布在CPI衬底上，得到第一导电层，第一导电层为网络状导电结构，其干膜厚度为90nm。
S52、在步骤S51制作的第一导电层上方磁控溅射银层，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为10nm；
S53、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第二导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为5nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达78.6％，薄膜方阻25.7Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例8
本实施例提供的柔性复合导电膜如图2所示，依次包括衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层。其中：
衬底为CPI柔性衬底，厚度为25um。
第一导电层为由多个纳米铜线构成的网络状导电结构，纳米铜线直径为30nm、长度为40um；第一导电层的厚度为90nm。
第二导电层覆盖第一导电层，其材质为透明氧化物膜，厚度为500nm。
电子隧穿层覆盖第二导电层，其材质为丙烯酸树脂，厚度为4nm。
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S51、配置含量为0.15wt％的纳米铜线墨水，其中纳米铜线直径为30nm，长度为40微米；采用狭缝涂布的方式将纳米铜线墨水涂布在CPI衬底上，得到第一导电层，第一导电层为网络状导电结构，其干膜厚度为90nm。
S52、在步骤S51制作的第一导电层上方磁控溅射ITO，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为500nm；
S53、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第二导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为4nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达72.4％，薄膜方阻8.4Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例9
本实施例提供的柔性复合导电膜如图3所示，依次包括衬底、第二导电层、第一导电层和电子隧穿层。其中：
衬底为PET柔性衬底，厚度为188um。
第二导电层为金属膜，厚度为10nm；
第一导电层为由多个纳米银线构成的网络状导电结构，各纳米银线之间形成空白区域，纳米银线直径为30nm、长度为40um；第一导电层的厚度为120nm。
电子隧穿层的材质为丙烯酸树脂，其厚度为4nm。电子隧穿层覆盖第一导电层的上表面，并填补第一导电层的空白区域。
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S71、在PET衬底上方真空蒸镀银层，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为10nm。
S72、配置含量为0.09wt％的纳米银线墨水，其中纳米银线直径为30nm，长度为40微米；采用狭缝涂布的方式将纳米银线墨水涂布在第二导电层上，得到第一导电层，第一导电层为网络状导电结构，其干膜厚度为120nm。
S73、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第一导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为4nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的平均透光率达81.5％。薄膜的方阻为14.8Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例10
本实施例提供的柔性复合导电膜如图3所示，依次包括衬底、第二导电层、第一导电层和电子隧穿层。其中：
衬底为PET柔性衬底，厚度为150um。
第二导电层为金属膜，厚度为5nm；
第一导电层为由多个纳米银线构成的网络状导电结构，各纳米银线之间形成空白区域，纳米银线直径为20nm、长度为25um；第一导电层的厚度为60nm。
电子隧穿层的材质为丙烯酸树脂，其厚度为0.3nm。电子隧穿层覆盖第一导电层的上表面，并填补第一导电层的空白区域。
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S71、在PET衬底上方磁控溅射铜层，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为5nm。
S72、配置含量为0.09wt％的纳米银线墨水，其中纳米银线直径为20nm，长度为25微米；采用狭缝涂布的方式，将纳米银线墨水在第二导电层上涂布成网络状导电结构，得到第一导电层，其干膜厚度为60nm。
S73、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第一导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为0.3nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的透光率为85.4％，薄膜的方阻为55.3Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
实施例11
本实施例提供的柔性复合导电膜如图3所示，依次包括衬底、第二导电层、第一导电层和电子隧穿层。其中：
衬底为PET柔性衬底，厚度为150um。
第二导电层为透明氧化物膜，厚度为20nm；
第一导电层为由多个纳米银线构成的网络状导电结构，各纳米银线之间形成空白区域，纳米银线直径为20nm、长度为25um；第一导电层的厚度为500nm。
电子隧穿层的材质为丙烯酸树脂，其厚度为2nm。电子隧穿层覆盖第一导电层的上表面，并填补第一导电层的空白区域。
该柔性复合导电膜通过以下步骤制备：
S71、在PET衬底上方磁控溅射ITO层，得到第二导电层，第二导电层为平面导电结构，厚度为20nm。
S72、配置含量为0.09wt％的纳米银线墨水，其中纳米银线直径为20nm，长度为25微米；采用狭缝涂布的方式，将纳米银线墨水在第二导电层上涂布成网络状导电结构，得到第一导电层，其干膜厚度为500nm。
S73、采用狭缝涂布的方式，将固含为2.0wt％的电子隧穿层溶液涂布在第一导电层上，经紫外固化得到电子隧穿层，其固化后的涂层厚度为2nm。
本实施例中复合透明导电薄膜在可见光区域的透光率为71.7％，薄膜的方阻为0.9Ω/□。柔性复合导电膜涂层百格测试附着力达到5B。
以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上实施例仅表达了本公开的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本公开构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本公开的保护范围。因此，本公开专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (22)

1.一种柔性复合导电膜，其特征在于，所述柔性复合导电膜包含衬底、第一导电层、第二导电层和电子隧穿层；所述电子隧穿层选择耐候性好、透明以及成膜后透光率好的材料制成，所述电子隧穿层的材质包含丙烯酸树脂、硅酮-环氧物、硅氧烷、酚醛、环氧物、聚氨酯和聚酰亚胺中的一种或几种的组合，并且，所述电子隧穿层还包含聚吡咯、聚噻吩、聚乙炔、聚对苯、聚苯胺、苝系颜料、偶氮颜料、酞菁及酞菁化合物、并五苯的衍生物、苯并噻吩类的衍生物、红荧烯、C60、聚3-已基噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基和聚苯酚中的任意一种或者多种的组合；所述电子隧穿层的厚度为0.1nm～5nm；所述电子隧穿层具备辅助成膜作用，所述电子隧穿层的表面张力系数大于25；
其中，所述衬底包括柔性衬底，所述第一导电层包括由多个金属纳米线构成的网络状导电结构，所述第二导电层为平面导电结构；
在所述第一导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层或者所述第二导电层上；在所述第二导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层上；所述第一导电层与所述第二导电层之间形成导电通路；
当所述电子隧穿层位于所述第一导电层与所述第二导电层之间时，所述第二导电层通过所述电子隧穿层中的隧穿电子与所述第一导电层之间形成导电通路。
2.根据权利要求1所述的柔性复合导电膜，其特征在于，当所述电子隧穿层设置在所述第一导电层上时，所述电子隧穿层填补或镶嵌于所述第一导电层上网络状导电结构中的空白区域。
3.根据权利要求1所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述电子隧穿层覆盖所述第一导电层或者所述第二导电层的至少一个表面。
4.根据权利要求1所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述电子隧穿层包裹所述第一导电层。
5.根据权利要求1所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述衬底与所述第一导电层或者所述第二导电层之间还设有功能复合层，所述功能复合层为光学适配层、电学适配层、力学适配层、平面导电层、折射率适配层中的任意一种或者多种的组合。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述第一导电层中金属纳米线的直径为5nm～100nm、长径比为500～2500。
7.根据权利要求1-5中任意一项所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述金属纳米线为纳米铜线、纳米金线和纳米银线中的任意一种或者多种的组合。
8.根据权利要求1-5中任意一项所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述第一导电层的厚度为20nm～500nm。
9.根据权利要求1-5中任意一项所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述柔性复合导电膜在可见光范围400nm～800nm波段的平均透光率大于70％，所述柔性复合导电膜的平均方阻小于150Ω/□。
10.根据权利要求1-5中任意一项所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述第二导电层的材质为透明氧化物膜、金属膜、石墨烯膜和透明有机导电薄膜中的任意一种或者多种的组合。
11.根据权利要求1-5中任意一项所述的柔性复合导电膜，其特征在于，所述第二导电层的厚度为5nm～500nm。
12.一种柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底上形成复合结构，所述复合结构包括第一导电层、第二导电层和电子隧穿层；所述电子隧穿层选择耐候性好、透明以及成膜后透光率好的材料制成，所述电子隧穿层的材质包含丙烯酸树脂、硅酮-环氧物、硅氧烷、酚醛、环氧物、聚氨酯和聚酰亚胺中的一种或几种的组合，并且，所述电子隧穿层还包含聚吡咯、聚噻吩、聚乙炔、聚对苯、聚苯胺、苝系颜料、偶氮颜料、酞菁及酞菁化合物、并五苯的衍生物、苯并噻吩类的衍生物、红荧烯、C60、聚3-已基噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基和聚苯酚中的任意一种或者多种的组合；所述电子隧穿层的厚度为0.1nm～5nm；所述电子隧穿层具备辅助成膜作用，所述电子隧穿层的表面张力系数大于25；
在所述第一导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层或者所述第二导电层上，在所述第二导电层设置在所述衬底上的情况下，所述电子隧穿层位于所述第一导电层上，所述第一导电层与所述第二导电层之间形成导电通路；当所述电子隧穿层位于所述第一导电层与所述第二导电层之间时，所述第二导电层通过所述电子隧穿层中的隧穿电子与所述第一导电层之间形成导电通路；
其中，所述衬底包括柔性衬底，所述第一导电层包括由多个金属纳米线构成的网络状导电结构，所述第二导电层为平面导电结构。
13.根据权利要求12所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，当所述复合结构包括依次设置的第一导电层、电子遂穿层和第二导电层时，所述复合结构的形成方法包括：
将导电油墨在柔性衬底上涂布或印刷成网络结构，得到第一导电层；
在所述第一导电层上涂布电子隧穿层溶液，使电子隧穿层溶液填充所述网络结构中的空白区域，固化后得到电子隧穿层；
在所述电子隧穿层上制备平面导电结构，得到第二导电层，所述第二导电层通过所述电子隧穿层中的隧穿电子与所述第一导电层之间形成导电通路。
14.根据权利要求13所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，在制作第二导电层之前，还包括：采用电晕处理和/或等离子体处理方式对固化后的电子隧穿层进行表面处理。
15.根据权利要求12所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，当所述复合结构包括依次设置的第二导电层、第一导电层和电子遂穿层时，所述复合结构的形成方法包括：
在柔性衬底上制备平面导电结构，得到第二导电层；
将导电油墨在所述第二导电层上涂布或印刷成网络结构，得到第一导电层，所述第一导电层与所述第二导电层之间形成导电通路；
在所述第一导电层上涂布电子隧穿层溶液，使电子隧穿层溶液填充所述网络结构中的空白区域和第一导电层表面，固化后得到电子隧穿层。
16.根据权利要求15所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，当所述复合结构包括依次设置的第一导电层、第二导电层和电子遂穿层时，所述复合结构的形成方法包括：
将导电油墨在柔性衬底上涂布或印刷成网络结构，得到第一导电层；
在所述第一导电层上制备平面导电结构，得到第二导电层，所述第二导电层与所述第一导电层之间形成导电通路；
在所述第二导电层上涂布电子隧穿层溶液，固化后得到电子隧穿层。
17.根据权利要求13～16中任意一项所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，所述导电油墨中包含金属纳米线。
18.根据权利要求13～16中任意一项所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，所述电子隧穿层溶液中包含0.001％～0.05％树枝状高分子、0.07％～8％单体、0.05％～1.5％引发剂、0.1％～5％预聚物、0.003％～0.3％络合剂、0.005％～0.4％稳定剂、0.003％～0.5％抗氧化剂、0.03％～5％的醋酸丁酸纤维素和60％～99％的溶剂，
所述单体包括HEA、TPGDA、HPA、DAA、TMPTA、EO-TMPTA、DPHA、PHEA、TMPTMA、EO-CHA、DPGDA、IBOA、PGDA、PDDA、TEGDA、HDDA和BDDA中的一种或多种；
所述引发剂包括α-羟酮基引发剂、酰基膦氧化物和酮基引发剂中的一种或多种；
所述预聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物、芳香族聚氨酯丙烯酸酯预聚物、聚氨酯甲基丙烯酸酯、邻苯二甲酸二烯丙酯预聚物、环氧丙烯酸酯和环氧甲级丙烯酸酯中的一种或多种；
所述络合剂包括氨羧络合剂、8-羟基喹啉、双硫腙、2，2-联吡啶、邻菲洛琳、酒石酸钾钠、柠檬酸铵和无机络合剂多磷酸盐中的一种或多种；
所述稳定剂包括光屏蔽剂、紫外线吸收剂、猝灭剂、自由基捕获剂中的一种或多种；
所述抗氧化剂包括SONGNOX4150、Irganox1098、Irganox1076、Irganox1010和Irganox168中的一种或多种；
所述溶剂包括异丙醇、甲醇、乙醇、正丁醇、二丙酮醇、丙酮和醋酸丁酯中的一种或多种。
19.根据权利要求13～16中任意一项所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，所述电子隧穿层溶液中还包括聚吡咯、聚噻吩、聚乙炔、聚对苯、聚苯胺、苝系颜料、偶氮颜料、酞菁及酞菁化合物、并五苯的衍生物、苯并噻吩类的衍生物、红荧烯、C60、聚3-已基噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基和聚苯酚中的任意一种或者多种的组合。
20.根据权利要求13～16中任意一项所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，所述第二导电层为透明氧化物、金属、石墨烯膜和透明有机导电材料中的任意一种或者多种的组合。
21.根据权利要求13～16中任意一项所述的柔性复合导电膜的制备方法，其特征在于，所述柔性复合导电膜在可见光范围400nm～800nm波段的平均透光率大于70％，所述柔性复合导电膜的平均方阻小于150Ω/□。
22.一种柔性复合导电膜的应用，其特征在于，包括权利要求1-11中任一所述的柔性复合导电膜在触控屏、显示器、手机天线电路、红外光学成像元件、光电传感器、电磁屏蔽、智能窗、智能手写板、太阳能电池方面的应用。
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