CN113396187B

CN113396187B - 冲击吸收材

Info

Publication number: CN113396187B
Application number: CN202080012079.3A
Authority: CN
Inventors: 英翔; 中西多公岁; 川村基; 名塚正范; 小野洋介
Original assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd; Taica Corp
Current assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd; Taica Corp
Priority date: 2019-01-29
Filing date: 2020-01-27
Publication date: 2023-05-23
Anticipated expiration: 2040-01-27
Also published as: JP7373722B2; WO2020158640A1; CN113396187A; JPWO2020158640A1

Abstract

提供具有粘合性和遮光性的冲击吸收材。一种冲击吸收材(1)，其在具有粘合性和应力缓和性的硅酮组合物(2)中含有绝缘无机黑色颜料(3)，且厚度为40μm以上且500μm以下。冲击吸收材(1)对玻璃板的粘合力为2N/20mm以上。冲击吸收材(1)对波长为300nm以上且850nm以下的光的透射率为0.1％以下。冲击吸收材(1)的依据JIS K 2207的25℃下的针入度为50以上且110以下。冲击吸收材(1)的冲击吸收率为20％以上。

Description

冲击吸收材

技术领域

本发明总体上涉及冲击吸收材，更详细而言，涉及对具有粘合性的硅酮组合物赋予遮光性的冲击吸收材。

背景技术

在专利文献1中记载了具有层叠体的冲击吸收膜。在该层叠体中，第一伸缩性膜与发泡体层叠。第一伸缩性膜的拉伸强度10％模量为0.15～0.5N/10mm，并且具有当拉伸力消失时恢复至原始长度的伸缩性。发泡体是厚度为0.05mm以上且0.5mm以下的发泡体，将仅由该发泡体形成的片材重叠多个而形成1cm的厚度，压缩至50％的厚度时测定的上述片材的回弹应力为0.02MPa以上且3.0MPa以下。

这样的冲击吸收膜特别是可用于保护智能手机、平板型终端、笔记本电脑等产品的显示面板、电子电路、电池等。即，上述那样的冲击吸收膜作为吸收冲击的材料来使用，使得智能手机、平板型终端等产品受到由落下等导致的冲击时，其显示面板不会损坏。

对于专利文献1的冲击吸收膜而言，难以对冲击吸收膜本身赋予遮光性，需要经由粘合层将遮光膜贴附于冲击吸收膜。即，上述冲击吸收膜具有发泡体，因此由于其表面空孔而产生表面散射，所以难以对发泡体本身赋予遮光性，需要将遮光膜另行贴附于冲击吸收膜。

另外，在将专利文献1的冲击吸收膜贴附于显示面板等的情况下，需要用于将冲击吸收膜与显示面板等粘接的粘合层。并且，在需要上述遮光膜的情况下，还需要用于将遮光膜与冲击吸收膜粘接的粘合层。因此，贴附有遮光膜和冲击吸收膜的显示面板等作为层叠体而变得刚直，容易妨碍显示面板等表现出原本所要求的能够自由地弯曲拉伸等功能。

作为冲击吸收材料，大多使用氨基甲酸酯、丙烯酸、硅酮的泡沫或橡胶状的材料，但在经常需要反复使用时的性能稳定性的显示器用途的情况下，硅酮是有利的。另外，由于冲击吸收材料与保护对象接触而发挥效果，所以需要具有粘合性，以使得在反复受到冲击时冲击吸收材与保护对象不会发生剥离。此外，在部件昂贵的显示器中要求再加工性，因此冲击吸收材料的粘合性的控制是重要的。

在专利文献2中记载了具有遮光性的加成固化型硅酮组合物的粘接片。该粘接片以电极的遮光和保护为目的。但是，该粘接片以半固化(A阶)片的状态压接于保护对象，通过热使其固化从而得到粘接性，因此生产工序变得复杂。另外，为了保持该半固化状态的片材，需要低温保存，生产上管理较为困难。

专利文献3中记载了作为加成固化型的硅酮组合物的可片材化的材料。该材料可以通过添加材来赋予遮光性、导热性、振动吸收性，但没有关于材料的粘合力的记述。

专利文献4和5中记载了具有粘接性的硅酮组合物。该硅酮组合物在与保护对象接触后经由热而粘接。专利文献4中没有关于遮光性的记载。这样的硅酮组合物在再加工时损坏显示器的可能性高，因此不是有用的。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-30394号公报

专利文献2：日本特开2010-90363号公报

专利文献3：日本特开2010-144133号公报

专利文献4：日本特开2002-173661号公报

专利文献5：日本特开昭62-240361号公报

发明内容

本发明是鉴于上述情况而完成的，目的在于提供一种具有粘合性和遮光性的冲击吸收材。

另外，本发明的目的在于提供一种可常温保存且不需要后固化的冲击吸收材。

本发明的一个方式的冲击吸收材在具有粘合性和应力缓和性的硅酮组合物中含有绝缘无机黑色颜料。上述冲击吸收材的厚度为40μm以上且500μm以下。上述冲击吸收材对玻璃板的粘合力为2N/20mm以上。另外，上述冲击吸收材对波长为300nm以上且850nm以下的光的透射率为0.1％以下。此外，上述冲击吸收材的依据JIS K 2207的25℃下的针入度为50以上且110以下。此外，上述冲击吸收材的冲击吸收率为20％以上。

附图说明

图1中的A是表示本发明的一个实施方式的冲击吸收材的示意图。图1中的B是表示比较例的冲击吸收层叠体的说明图。

图2是表示测定本发明的一个实施方式的冲击吸收材的粘合力的试验的示意图。

图3是表示测定本发明的一个实施方式的冲击吸收材的冲击加速度的试验的示意图。

具体实施方式

(冲击吸收材的概要)

图1A表示本实施方式的冲击吸收材1。冲击吸收材1在作为具有粘合性和应力缓和性的硅酮化合物的反应物的硅酮组合物2中含有绝缘无机黑色颜料3。另外，冲击吸收材1的厚度为40μm以上且500μm以下。此外，冲击吸收材1在硅酮组合物2中含有散热微粒4。需要说明的是，散热微粒4不是冲击吸收材1的必须的构成要素，根据需要而使用。

图1B表示想要得到与冲击吸收材1同等程度的冲击吸收性、遮光性和贴附性的情况下的冲击吸收层叠体100。在冲击吸收层叠体100中，为了得到冲击吸收性而具有多孔结构层101。多孔结构层101是以聚丙烯、聚乙烯、聚丙烯酸、聚氨酯等发泡体为原材料而形成的，厚度形成为50～1000μm。另外，为了得到遮光性，冲击吸收层叠体100具备光的透射率小的遮光基材102。遮光基材102形成为厚度5～50μm，利用厚度3～50μm的粘合层103贴附于多孔结构层101的一面。此外，为了得到贴附性，冲击吸收层叠体100具有厚度3～50μm的两个粘合层104、105。贴附性是能够将冲击吸收层叠体100与其他部件贴附的性能。因此，一个粘合层104设置于多孔结构层101的另一面(没有遮光基材102的面)。另一个粘合层105设置于遮光基材102的一面(没有粘合层103的面)。

这样，冲击吸收层叠体100由用于得到冲击吸收性的多孔结构层101、用于得到遮光性的遮光基材102、用于得到贴附性的两个粘合层104、105、以及用于将遮光基材102与多孔结构层101粘合(粘接)的粘合层103构成，因此厚度变得非常大。另一方面，由于本实施方式的冲击吸收材1在具有粘合性和应力缓和性的硅酮组合物2中含有绝缘无机黑色颜料3，所以通过硅酮组合物2可以得到冲击吸收性和贴附性，通过绝缘无机黑色颜料3可以得到遮光性。因此，即使没有遮光基材102和三个粘合层103、104、105，也具有与冲击吸收层叠体100相同程度的冲击吸收性、遮光性和贴附性。因此，本实施方式的冲击吸收材1具有冲击吸收性、遮光性和贴附性，并且能够使厚度比冲击吸收层叠体100薄(实现薄型化)。具体而言，本实施方式的冲击吸收材1能够以与多孔结构层101同等的厚度、或者比其薄的40μm以上且500μm以下的厚度形成。冲击吸收材1的厚度优选为50μm以上且450μm以下。冲击吸收材1的厚度更优选为100μm以上且400μm以下。

本实施方式的冲击吸收材1例如优选用于显示面板的遮光和冲击吸收。由此，容易通过冲击吸收材1保护显示面板免受冲击。另外，显示面板通过冲击吸收材1进行遮光，从而显示容易变得鲜明。显示面板为液晶面板、有机EL面板等。

本实施方式的冲击吸收材1优选由单层构成。即，冲击吸收材1优选不与其他层进行层叠，而是以一层就具有粘合性、遮光性和冲击吸收性。由此，本实施方式的冲击吸收材1容易形成得较薄。粘合性是指能够与其他部件粘合的功能。本实施方式的冲击吸收材1的粘合性以对玻璃板的粘合力来规定。另外，遮光性是指能够遮挡光的功能。本实施方式的冲击吸收材1的遮光性以波长为300nm以上且850nm以下的光的透射率来规定。冲击吸收性是指能够吸收冲击的功能。本实施方式的冲击吸收材1的冲击吸收性以冲击吸收率来规定。

本实施方式的冲击吸收材1在配置于显示面板的表面的状态下使用。即，冲击吸收材1层叠于平板显示器等所使用的液晶面板等显示面板的表面来使用。本实施方式的冲击吸收材1在配置于显示面板的表面的状态下，不需要通过热和紫外线的后固化。在此，后固化是指制造工序的最终阶段中的固化工序。因此，本实施方式的冲击吸收材1在配置于显示面板的表面的状态下，不需要通过热和紫外线使其最终固化的工序。即，本实施方式的冲击吸收材1即使不进行基于热和紫外线的后固化，也能够粘合于显示面板的表面。因此，本实施方式的冲击吸收材1能够减少显示面板受到由热和紫外线造成的不良影响地进行粘合。

本实施方式的冲击吸收材1能够常温保存。即，冲击吸收材1可在不设为低温的情况下进行保存而使性状长时间几乎不发生变化。在此，常温是指25℃。另外，冲击吸收材1能够在常温下保存6个月而使粘合性、遮光性、针入度和冲击吸收性几乎不发生变化。

(硅酮组合物)

作为硅酮化合物的反应物的硅酮组合物2构成冲击吸收材1的主体。即，硅酮组合物2具有内置并保持绝缘无机黑色颜料3的基质那样的功能。另外，主要通过硅酮组合物2，冲击吸收材1能够在不使用多孔结构的情况下物理性地缓和冲击能量。

在本实施方式的冲击吸收材1中，硅酮组合物2具有片状、板状和膜状的形态。这些形态的硅酮组合物2的厚度为50μm以上且450μm以下。即，硅酮组合物2的厚度成为冲击吸收材1的厚度。

硅酮组合物2具有粘合性。在此，粘合性是指能够将硅酮组合物2与其他部件粘合(粘接)的功能。具体而言，在依据JIS Z0237的粘合力试验的90度剥离模式中，以对钠玻璃的剥离所需的力来规定。此时，硅酮组合物2的粘合力优选为2N/20mm以上。需要说明的是，本发明中的粘合性相关的测定方法的拉伸速度为300mm/min，试验片为宽度20mm、长度100mm、厚度150μm的长条状。另外，试验片与钠玻璃的贴合条件是用2kg的辊往复1次，然后在23℃下放置24h。

硅酮组合物2具有应力缓和性。在此，应力缓和性是指在对硅酮组合物2施加应力时，将由该应力产生的冲击能量转换为变形、热能而吸收，使应力难以传递的功能。具体而言，硅酮组合物2的应力缓和性以在0℃～200℃之间的动态粘弹性测定(扭转剪切模式)中的复数弹性模量为10³Pa以上且10⁵Pa以下的范围、且tanδ为10^-2以上且1以下的范围内来规定。复数弹性模量和tanδ的测定使用φ25mm(直径25mm)、厚度2mm的圆盘状试验片，在应变为1％、振动频率为10Hz的条件下进行测定。

动态弹性模量有储能弹性模量G’(Pa)和损耗弹性模量G”(Pa)。储能弹性模量G’(Pa)是物体因外力和应变而产生的能量中保存于物体的内部的成分，损耗弹性模量G”(Pa)是向外部扩散的成分。复数弹性模量G*(Pa)由G*＝(G‘²+G“²)^1/2表示，表示物体的硬度。另外，tanδ称为损耗系数，是G”与G’之比(tanδ＝G”/G’＝损耗弹性模量/储能弹性模量)。

通过使复数弹性模量G*(Pa)在0℃～200℃之间为10³Pa以上且10⁵Pa以下的范围，并且tanδ为10^-2以上且1以下的范围，从而硅酮组合物2在被赋予外力、应变等的情况下，能够表现出将能量保存在硅酮组合物2的内部的基础上，使之以热能的形式缓慢地扩散到外部的特性，表现出冲击吸收特性。在上述以外的范围内，硅酮组合物2不会将由外力、应变等产生的能量蓄积在内部，而是朝向外部产生弹性的回弹力，或者发生塑性变形，冲击吸收材1难以维持最初的形状。

更优选硅酮组合物2的复数弹性模量G*(Pa)在0℃～200℃之间为20000Pa以上且80000Pa以下的范围，并且tanδ为0.1以上且0.9以下。

需要说明的是，作为复数弹性模量G*(Pa)的测定装置，例如可使用TAInstruments株式会社制的“ARES G2”。

本实施方式中使用的硅酮组合物只要得到所期望的缓冲吸收性能，则可以应用公知的具有橡胶弹性、粘弹性的硅酮组合物，从缓冲吸收性的观点出发，优选使用硅酮凝胶作为硅酮组合物，从固化性等观点出发，特别优选使用加成反应型(或交联)硅酮凝胶作为硅酮组合物。加成反应型硅酮凝胶没有特别限定，通常，作为硅酮化合物的一个例子，将后述的有机氢聚硅氧烷和烯基聚硅氧烷作为原料，使两者在催化剂的存在下进行氢硅烷化反应(加成反应)从而得到。即，在本实施方式中，能够成为硅酮凝胶的原料物质的硅酮化合物在多数情况下是指有机氢聚硅氧烷和烯基聚硅氧烷。作为原料之一使用的有机氢聚硅氧烷优选由下述通式(1)表示的有机氢聚硅氧烷。

[化学式1]

式中，R¹表示相同或不同的取代或未取代的1价烃基，R²、R³和R⁴表示R¹或-H，R²、R³和R⁴中的至少2个表示-H，x和y是表示各单元的数量的整数，各单元以嵌段或无规的方式配置，优选无规，x为0以上的整数，优选10～30，y为0以上的整数，优选1～10。x+y为5～300的整数，优选为30～200。另外，优选y/(x+y)≤0.1的范围。如果超过该范围，则有时交联点变多，冲击缓冲性降低。

作为R¹的例子，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等烷基、环戊基、环己基等环烷基、苯基、甲苯基等芳基、苄基、苯基乙基等芳烷基、或者它们的氢原子部分地被氯原子、氟原子等取代的卤代烃等。

为了与直接或间接地键合于硅原子的烯基进行加成反应(氢甲硅烷基反应)，需要直接键合于硅原子的氢(Si-H)，优选在有机氢聚硅氧烷分子中具有至少2个直接键合于硅原子的氢。

另外，作为制造本实施方式中使用的交联硅酮凝胶时使用的另一种原料的烯基聚硅氧烷，优选由下述通式(2)表示的烯基聚硅氧烷。

[化学式2]

式中，R¹表示相同或不同的取代或未取代的1价烃基，R⁵、R⁶和R⁷表示R¹或烯基，R⁵、R⁶和R⁷中的至少2个表示烯基，s和t是表示各单元的数量的整数，各单元以嵌段或无规的方式配置，优选无规，s表示0以上的整数，t表示0以上的整数，s+t为10～600的整数。另外，优选t/(s+t)≤0.1的范围。如果超过该范围，则有时交联点变多，冲击缓冲性降低。

作为R¹的例子，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等烷基、环戊基、环己基等环烷基、苯基、甲苯基等芳基、苄基、苯基乙基等芳烷基、或者它们的氢原子部分地被氯原子、氟原子等取代的卤代烃等。为了与直接键合于硅原子的氢(Si-H)进行加成反应(氢甲硅烷基反应)，需要直接或间接地键合于硅原子的烯基(乙烯基、烯丙基等)，优选在烯基聚硅氧烷分子中具有至少2个直接或间接地键合于硅原子的烯基。

在本实施方式中，通式(1)所示的氢聚硅氧烷具有与硅原子直接键合的-H(氢基)，通式(2)所示的烯基聚硅氧烷具有碳-碳双键，因此碳-碳双键与-H(氢基)发生加成反应，将其称为氢硅烷化反应。并且，通式(1)所示的氢聚硅氧烷通过调整与硅原子直接键合的-H(氢基)与通式(2)所示的烯基聚硅氧烷的烯基的当量比，能够调整硅酮组合物2的硬度、缓冲性能。上述氢硅烷化反应可以使用公知的技术进行，可以使用氯铂酸、由氯铂酸和醇得到的络合物、铂-烯烃络合物、铂-乙烯基硅氧烷络合物、铂-磷络合物等催化剂进行反应。催化剂的使用量相对于烯基聚硅氧烷以铂原子计通常为1ppm以上且500ppm以下，考虑到固化性和固化后的产品的物理特性，优选为3ppm以上且250ppm以下。

(绝缘无机黑色颜料)

绝缘无机黑色颜料3主要为了向冲击吸收材1赋予遮光性而包含于硅酮组合物2中。即，冲击吸收材1通过绝缘无机黑色颜料3而得到所期望的遮光性。

绝缘无机黑色颜料3具有电绝缘性。在本发明中，电绝缘性是指电阻值大而难以通电的功能。绝缘无机黑色颜料3的电阻率优选设为1×10⁵Ω·cm以上且1×10¹⁹Ω·cm以下的范围，由此，容易得到冲击吸收材料1的电绝缘性。绝缘无机黑色颜料3的电阻率更优选设为1×10¹¹Ω·cm以上且1×10¹⁹Ω·cm以下的范围，进一步优选设为1×10¹⁵Ω·cm以上且1×10¹⁹Ω·cm以下的范围。

绝缘无机黑色颜料3包含无机材料。在本发明中，无机材料可例示具有绝缘性的金属、金属氧化物、金属氮化物和陶瓷等。具体而言，绝缘无机黑色颜料3可以使用包含选自钛、铁、锌、氧化钛、氮化钛、氧化铝中的至少一种的金属的单质或合金、氧化物、氮化物和陶瓷。包含无机材料的绝缘无机黑色颜料3不易脱色，性状稳定，由此，冲击吸收材1的遮光性不易降低。

绝缘无机黑色颜料3为黑色。在本发明中，黑色是指在使用了CIE1976 L*a*b*颜色空间(测定用光源C：色温6774K)的坐标中，颜色代码为0≤L*≤14、6≤a*≤8、-10≤b*≤-5的范围的黑色，最优选L*为1.26，a*为6.9，b*为-8.12。绝缘无机黑色颜料3例如是颜色代码为#0d0015的漆黑。如果绝缘无机黑色颜料3为黑色，则可得到冲击吸收材1的所期望的遮光性。绝缘无机黑色颜料3为粒子。绝缘无机黑色颜料3为大致球形，但具有各种形状。绝缘无机黑色颜料3优选平均一次粒径为10nm以上且300nm以下的范围。由此，绝缘无机黑色颜料3容易均匀地分散于硅酮化合物中以及硅酮组合物2中。在此，均匀是指每单位体积的构成冲击吸收材1的组成大致相同。绝缘无机黑色颜料3的平均一次粒径更优选为20nm以上且150nm以下的范围。

需要说明的是，在本发明中，平均一次粒径通过以下方法来确定。使用透射电子显微镜(TEM)、扫描透射电子显微镜(STEM)或扫描电子显微镜(SEM)，以倍率5000倍以上观察硅酮组合物2中所含的颜料的粒子。在利用TEM或STEM得到的图像或利用SEM观察到的多个粒子中，将未形成聚集体的颜料的粒子视为一次粒子。将该一次粒子的长径视为一次粒径。针对一百个一次粒子测定一次粒径。将算出一次粒径的个数基准的算术平均值的结果作为平均一次粒径。

冲击吸收材1中的绝缘无机黑色颜料3的含量相对于硅酮组合物2的100质量份为2.5质量份以上且80质量份以下的范围。如果绝缘无机黑色颜料3的含量为该范围，则容易得到冲击吸收材1的遮光性而不会损害硅酮组合物2的粘合性和应力缓和性。绝缘无机黑色颜料3的含量相对于硅酮组合物2的100质量份更优选为5质量份以上且40质量份以下的范围。

另外，为了提高绝缘无机黑色颜料3在硅酮化合物中以及在硅酮组合物2中的分散性，绝缘无机黑色颜料3优选用硅酮系处理剂进行了表面处理。

绝缘无机黑色颜料3可举出钛氮氧化物(氮氧化钛)。钛氮氧化物的氮的含量多，在通式TiO_xN_y中，具有x＝0.05以上且0.50以下、y＝0.6以上且1.0以下的组成。如果氧量x少于0.05，则绝缘性容易变得不充分，如果多于0.50，则遮光性容易降低，因此不优选。如果氮量y少于0.60，则遮光性容易降低，如果多于1.0，则绝缘性容易不足，因此不优选。

另外，在冲击吸收材1中，在不阻碍本发明的效果的范围内，也可以配合散热微粒、阻燃剂、热稳定化剂等成分。

(散热微粒)

散热微粒4主要是为了向冲击吸收材1赋予散热性而含有的，可以使用例如氢氧化铝、氧化镁、无水碳酸镁、氧化铝、二氧化硅、氮化铝、氮化硼那样的无机材料。

通过添加散热微粒4，冲击吸收材1的硬度、粘弹性特性发生变化，因此散热微粒4的粒径、含量只要在能够得到所期望的冲击吸收材1的遮光性和冲击缓冲性的范围内适当设定即可。

(冲击吸收材的制造方法)

冲击吸收材1可通过如下方式制造：将硅酮化合物和绝缘无机黑色颜料3混合和混炼，利用挤出成形法等成形方法进行成形，之后，对硅酮化合物进行干燥和反应、固化，由此形成硅酮组合物。

(冲击吸收材的物性)

冲击吸收材1对玻璃板的粘合力为2N/20mm以上。该粘合力如下测定。将依据JISZ0237“粘合带·粘合片试验方法”的粘合力试验中的90度剥离的剥离强度作为粘合力，用90度剥离试验机以拉伸速度300mm/min的速度测定冲击吸收材与玻璃板的粘合力。如图2示意性所示，粘合力评价用的试验试样通过在冲击吸收材1的一个表面贴合玻璃板300，接着，隔着底漆(信越化学工业制底漆A)302将树脂膜(UNITIKA公司制PET，EMBLET)301贴合至另一个面(背面)从而制作。上述贴合条件为用2kg的辊往复1次，然后在23℃下放置24小时。另外，玻璃板300为厚度1mm的钠玻璃制的玻璃板(平冈玻璃公司制)。

由于冲击吸收材1对玻璃板的粘合力为2N/20mm以上，所以容易粘贴于构成液晶面板、有机EL面板等显示面板的玻璃板，且以不容易脱落的方式进行粘合(粘接)。另外，对于冲击吸收材1而言，从向显示面板重新粘合(再加工)等作业性的观点出发，冲击吸收材1对玻璃板的粘合力优选为5N/20mm以下。

冲击吸收材1对波长为300nm以上且850nm以下的光的透射率为0.1％以下。该透射率依据JIS K 7136，使用分光光度计等进行测定。

冲击吸收材1的光的透射率越低越优选，其下限为0％。

冲击吸收材1的依据JIS K 2207的25℃下的针入度为50以上且110以下。如果冲击吸收材1的针入度小于50，则冲击吸收材1过于硬质，难以弯曲或拉伸，难以应对柔软的变形。如果冲击吸收材1的针入度大于110，则冲击吸收材1过于软质，向其他部件的贴附变难等处理性降低。冲击吸收材1的上述条件的针入度优选为60以上且100以下的范围，进一步优选为70以上且90以下的范围。

冲击吸收材1的冲击吸收率为20％以上。该冲击吸收率如下测定。使用SHINYEITechnology制的摆式冲击试验装置PST-300，依据JISC 60068-2-27测定冲击加速度后，通过下式算出冲击吸收率。

冲击吸收率(％)＝(1-(带冲击吸收材的试验片的冲击加速度))/(PC板单体的冲击加速度)×100

用于测定冲击加速度的试验片是在厚度为1.0mm的聚碳酸酯的板(PC板)400上贴合冲击吸收材1，进一步在其上贴合Φ20mm(＝直径20mm)、厚度为4mm的金属圆柱401而制作的。将该试验片示意性地示于图3。

冲击吸收材1的冲击吸收率越高越优选，因此其上限为100％，但现状下得到的冲击吸收材1的冲击吸收率的上限为85％，至少为80％。

(冲击吸收材的使用)

本实施方式的冲击吸收材1贴附于其他部件来使用。在该情况下，冲击吸收材1具有粘合性，因此能够使冲击吸收材1的表面与其他部件的表面接触并贴附。然而，在想要将冲击吸收材1牢固地贴附于其他部件的情况下，也可以并用粘接剂、粘合剂。

作为其他部件，是施加冲击时容易破损的部件，可例示液晶面板、有机EL面板等显示面板。冲击吸收材1贴附于显示面板的背面(与显示文字、图像的一侧相反侧的面)。作为显示面板，可例示柔性有机液晶显示器(OLCD)、电子纸(E Paper)、有机EL显示器(OLED)、量子点显示器(QLED)、微型LED显示器(μLED)。

与现有技术相比，本实施方式的冲击吸收材1具有薄且柔软的挠性，轻量且具有折叠等功能，还具有遮光性。因此，在贴附于液晶面板、有机EL面板等显示面板的情况下，也能够得到使用时为大画面、且挪动时等通过折叠而变得小型这样的光学显示单元。

实施例

(实施例1)

作为硅酮组合物，使用信越化学工业株式会社制的双组分加成反应型硅酮凝胶(型号：X32-3443)。可成为该硅酮组合物的原料的硅酮化合物包含主剂(A)和固化剂(B)，固化剂(B)相对于主剂(A)的配合比例越少，所得到的硅酮组合物的针入度越大(即，越柔软)。

作为绝缘无机黑色颜料，使用Mitsubishi Materials株式会社制的产品编号13M-C。

根据表1和表2所示的配合量，将这些材料混合和混炼，通过挤出成形而成形为片状，然后，使其干燥和固化，由此形成硅酮组合物，形成厚度150μm的冲击吸收材。

(实施例2～9、比较例1～5)

如表1和表2所示，在实施例1中，变更所使用的材料的配合量，形成物性不同的多种冲击吸收材。

(物性)

对于上述的各实施例和各比较例，测定对玻璃板的粘合力、波长为300nm以上且850nm以下的光的透射率、依据JIS K 2207的25℃下的针入度、冲击吸收率。

(有机EL显示元件的制作和评价)

将各实施例和各比较例的冲击吸收材贴附于有机EL显示元件的背面进行评价。有机EL显示元件的制作方法和评价项目如下。

(有机EL显示元件的制作)

在无碱玻璃基板(厚度3.0mm)上用聚酰亚胺带进行半面掩模，通过溅射成膜了厚度

的ITO透明电极，将其作为透明支撑基板，通过真空蒸镀，以蒸镀速度/>

在基板上沉积N,N’-二(1-萘基)-N,N’-二苯基联苯胺(α-NPD)，成膜了膜厚/>

的空穴传输层。接下来，将三(8-羟基喹啉)铝(Alq3)以/>

的蒸镀速度沉积为膜厚/>

形成发光层。然后，将该基板转移至另一真空蒸镀装置，将氟化锂以/>

的蒸镀速度成膜/>

后，将铝以/>

的速度成膜/>

最后除去聚酰亚胺带，由此得到对基材的半面具有有机发光材料层的层叠体。

以覆盖所得到的配置有层叠体的基板的该层叠体整体的方式设置具有开口部的掩模，利用等离子体CVD法形成无机材料膜，得到具有显示部分和非显示部分的有机EL显示元件。等离子体CVD法在如下条件下进行：使用SiH₄气体和氮气作为原料气体，将各自的流量设为SiH₄气体10sccm、氮气200sccm，将腔室内温度设为100℃，将腔室内压力设为120Pa(0.9Torr)。所形成的无机材料膜的厚度为约1μm。

(评价)

将实施例和比较例中得到的冲击吸收材贴附至通过上述方法得到的有机EL显示元件的玻璃基板侧并进行评价。评价项目如下。

从冲击吸收性的观点出发，作为落下时的有机EL显示元件的破损的程度，评价保护性。关于保护性，将所制作的有机EL显示元件以使玻璃基材为下侧、使冲击吸收材为上侧的状态载置于聚碳酸酯板(PC板)上，使直径33.3mm、重量150.8g的金属制的钢球从250mm的高度落下至有机EL显示元件，并如下进行评价。

OK：进行10次试验，全部有机EL显示元件均没有由剥落、破裂导致的外观变化。

NG：进行10次试验，即使1个有机EL显示元件有由剥落、破裂导致的外观变化。

另外，从遮光性的观点出发，作为有机EL显示元件的显示的观察容易度，评价显示性。关于显示性，对有机EL显示元件施加10V的电压，目视观察显示部分和非显示部分，如下进行判定。

OK：显示部分与非显示部分的边界明确，是对比度高的显示元件。

NG：显示部分与非显示部分的边界不明确，是对比度低的显示元件。

另外，评价冲击吸收材的常温保存性。常温保存性如下进行判定。

OK：在常温下保存6个月后，与保存前相比，性状几乎没有变化。

NG：在常温下保存6个月后，与保存前相比，存在使用上产生问题的程度的性状变化。

在表3、表4中示出各实施例和各比较例的常温保存性、保存6个月后的冲击吸收材的粘合力、透射率、针入度和冲击吸收率。

[表1]

[表2]

[表3]

[表4]

附图标记说明

1：冲击吸收材

2：硅酮组合物

3：绝缘无机黑色颜料

Claims

1.一种冲击吸收材，其在具有粘合性和应力缓和性的硅酮组合物中含有绝缘无机黑色颜料，且厚度为40μm以上且500μm以下，

所述冲击吸收材对玻璃板的粘合力为2N/20mm以上，

所述冲击吸收材对波长为300nm以上且850nm以下的光的透射率为0.1％以下，

所述冲击吸收材的依据JIS K 2207的25℃下的针入度为50以上且110以下，

所述冲击吸收材的冲击吸收率为20％以上。

2.根据权利要求1所述的冲击吸收材，其中，相对于所述硅酮组合物100质量份，所述绝缘无机黑色颜料的含量为2.5质量份以上且80质量份以下。

3.根据权利要求1或2所述的冲击吸收材，其在配置于显示面板的表面的状态下使用，

且不需要通过热和紫外线的后固化。

4.根据权利要求1或2所述的冲击吸收材，其能够常温保存。

5.根据权利要求1或2所述的冲击吸收材，其由单层构成。

6.根据权利要求1或2所述的冲击吸收材，其用于显示面板的遮光和冲击吸收。