CN113355640A - 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 - Google Patents
一种具有双泵结构的真空蒸镀机 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113355640A CN113355640A CN202110820869.0A CN202110820869A CN113355640A CN 113355640 A CN113355640 A CN 113355640A CN 202110820869 A CN202110820869 A CN 202110820869A CN 113355640 A CN113355640 A CN 113355640A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- main
- main valve
- angle
- vacuum
- evaporation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 69
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 53
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 52
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 49
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 9
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- 238000005086 pumping Methods 0.000 abstract description 14
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract description 5
- 238000009501 film coating Methods 0.000 abstract description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 19
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 8
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本申请提供一种具有双泵结构的真空蒸镀机，所述真空蒸镀机的主腔体与主阀连接，抽真空泵启动主腔体内的空气通过排气通口进入主阀，坩埚部内的蒸镀材料在镀膜时以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发，将镀锅上固定的被镀膜工件镀膜，所述抽真空泵有两个，以坩埚部内的蒸镀材料上表面的中心点为圆心、角度为散射角a形成圆弧，并且将与镀锅的上表面的中心点重合的圆弧记为圆弧M，坩埚部内的蒸镀材料上表面的中心点与镀锅的上表面的中心点之间的连线为ES，其距离为ES距离，以镀锅的上表面的中心点作垂直线L，该垂直线L与ES之间的夹角为入射角b,入射角b大于等于0°并且小于等于35°。
Description
技术领域
本发明涉及真空蒸镀机技术领域，更具体地，涉及一种具有双泵结构的真空蒸镀机。
背景技术
真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。
在真空蒸镀的加工工艺中，在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source)，加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化，以扇形的结构向上蒸发，坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅，镀锅上固定有被镀膜工件，因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。在镀膜的过程中，需要先对真空蒸镀机的主腔室内抽真空，主腔室与主阀连接，主阀内设置有抽真空泵，抽真空泵用于将主腔室和主阀内的空气抽真空，先进行初抽再进行精抽，由于镀膜时对真空度的要求高，因此在现有的抽真空泵条件下，主腔体不能太大，在有限的体积内为了容纳多个镀锅，势必会牺牲掉镀膜的均匀性，入射角较大。
有鉴于此，本发明提供一种具有双泵结构的真空蒸镀机，提升镀膜均匀性，并且ES距离变大，产能提升。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种具有双泵结构的真空蒸镀机，提升镀膜均匀性，并且ES距离变大，产能提升。
本申请的具有双泵结构的真空蒸镀机，主阀内具有两个抽真空泵，使得主腔体的体积能够变得更大，主腔体的体积变大，使得ES距离变大，入射角b能够变小，入射角b能够为0°-35°，甚至能够接近0°，使得镀锅上固定的被镀膜工件在镀膜时均匀性显著提高。同时，ES距离变大后，可以对应更多lift off工艺，此工艺要求入射角更垂直(更小)，完成了全范围的金属工艺对应。此外，抽速提高，产能上升至少1.5倍；排气通口能够更大，排气量更快，并且维修时也更加方便；两个抽真空泵可以交替工作，进行交替维护保养，之前都是不可以实现的，必须停机至少2天。本申请人在此基础上完成了本申请。
一种具有双泵结构的真空蒸镀机，所述真空蒸镀机的主腔体1与主阀2连接，主腔体1的后壁的中下部具有一个排气通口11，主阀2的内部设置有抽真空泵3，抽真空泵3启动主腔体1内的空气通过排气通口11进入主阀2，主腔体1的底板上设置有坩埚部4，主腔体1内部的上部设置有一个或多个伞面状的镀锅5，坩埚部4内的蒸镀材料在镀膜时以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发，将镀锅5上固定的被镀膜工件镀膜，其特征在于，所述抽真空泵3有两个，以坩埚部4内的蒸镀材料上表面的中心点为圆心、角度为散射角a形成圆弧，并且将与镀锅5的上表面的中心点重合的圆弧记为圆弧M，坩埚部4内的蒸镀材料上表面的中心点与镀锅5的上表面的中心点之间的连线为ES，其距离为ES距离，以镀锅5的上表面的中心点作垂直线L，该垂直线L与ES之间的夹角为入射角b,入射角b大于等于0°并且小于等于35°。
在一些实施方式中，所述入射角b大于等于0°并且小于等于25°，优选的，所述入射角b大于等于0°并且小于等于10°。
进一步的，对于一种蒸镀材料，该散射角a为固定值，散射角a以外的区域的蒸镀材料很少。
进一步的，两个ES连线之间的夹角为夹角c，夹角c为可综合保证蒸镀材料均匀性的最大蒸发散射角度，夹角c为55°-90°。
现有技术只有一个抽真空泵，由于抽真空的限制，主腔体较小，镀锅受空间的限制，伞状镀锅的上表面与圆弧M的错位较大，即入射角b比较大，因此，降低了被镀膜工件的均匀性。而本申请由于抽真空泵有两个，因此主腔体能够变大，镀锅受空间的限制变小，因此入射角b能够变小，当入射角b为零时，镀锅5伞状的上表面与圆弧M几乎重合，镀锅5上固定的被镀膜工件在镀膜时均匀性最好。
在一些实施方式中，所述主腔体1和主阀2均为中空结构，主阀2设置在主腔体1的后方并且与排气通口11的位置相对应，抽真空泵3用于将主腔体1和主阀2的内部抽真空，主腔体1与主阀2为一体式的。
进一步的，所述主腔体1与主阀2的连接处通过加强筋焊接，并且采用坡口焊接的方式，焊接牢固不易变形。
在一些实施方式中，所述主腔体1为中空矩形体、中空球体或中空圆柱体中的一种，相应的，排气通口11为矩形或者弧形通孔，主阀2与主腔体1的连接面为中空的矩形或者弧形。
进一步的，所述主腔体1的外壁设置有冷却水管12，冷却水管12均匀分布在整个主腔体1的外壁上。
进一步的，所述冷却水管12为一根水管或者多根水管。
在一些实施方式中，所述主阀2包括与主腔体1固定的连接部21和设置两个抽真空泵3的主阀部22，连接部21与主阀部22均为中空的结构并且连接部21与主阀部22相通，所述连接部21的横截面为梯形，连接部21的与主腔体1固定的左侧面的高度大于与主阀部22固定的右侧面的高度。
进一步的，所述连接部21的左侧面的形状与排气通口11的形状相同，连接部21的右侧面为中空的正方形或者长方形。
进一步的，所述连接部21的横截面为等腰梯形、直角梯形或者普通梯形中的一种。优选的，所述连接部21的横截面为直角梯形。
在一些实施方式中，所述坩埚部4具有一个或者多个坩埚，坩埚为碗状凹陷的形状，坩埚用于盛放蒸镀材料，加热源将坩埚内的蒸镀材料从固态升华为气态，使得镀膜时蒸镀材料以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发。
在一些实施方式中，所述镀锅5有一个或者多个，设置在主腔体1的顶部，镀锅5有一个则进行公转，镀锅5有多个则进行行星转。
附图说明
图1为本申请的具有双泵结构的真空蒸镀机的原理图。
图2为本申请实施例1的具有双泵结构的真空蒸镀机的主腔体内的结构示意图。
图3为本申请实施例1的具有双泵结构的真空蒸镀机的结构示意图。
图4为本申请实施例1的具有双泵结构的真空蒸镀机的另一结构示意图。
图5为本申请实施例2的具有双泵结构的真空蒸镀机的结构示意图。
图6为本申请实施例2的具有双泵结构的真空蒸镀机的另一结构示意图。
图7为本申请实施例3的具有双泵结构的真空蒸镀机的结构示意图。
图8为本申请实施例3的具有双泵结构的真空蒸镀机的另一结构示意图。
主要元件符号说明：
主腔体1、主阀2、抽真空泵3、坩埚部4、镀锅5、排气通口11、冷却水管12、连接部21、主阀部22。
具体实施方式
描述以下实施例以辅助对本申请的理解，实施例不是也不应当以任何方式解释为限制本申请的保护范围。
在以下描述中，本领域的技术人员将认识到，在本论述的全文中，组件可描述为单独的功能单元(可包括子单元)，但是本领域的技术人员将认识到，各种组件或其部分可划分成单独组件，或者可整合在一起(包括整合在单个的系统或组件内)。同时，组件或系统之间的连接并不旨在限于直接连接。相反，在这些组件之间的数据可由中间组件修改、重格式化、或以其它方式改变。另外，可使用另外或更少的连接。还应注意，术语“联接”、“连接”、或“输入”“固定”应理解为包括直接连接、通过一个或多个中间媒介来进行的间接的连接或固定。
在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“侧面”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时或惯常认知的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
实施例1：
一种具有双泵结构的真空蒸镀机，如图1-图4所示，所述真空蒸镀机的主腔体1与主阀2连接，主腔体1的后壁的中下部具有一个排气通口11，主阀2的内部设置有抽真空泵3，抽真空泵3启动主腔体1内的空气通过排气通口11进入主阀2，主腔体1的底板上设置有坩埚部4，主腔体1内部的上部设置有一个或多个伞面状的镀锅5，坩埚部4内的蒸镀材料在镀膜时以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发，将镀锅5上固定的被镀膜工件镀膜，其特征在于，所述抽真空泵3有两个，以坩埚部4内的蒸镀材料上表面的中心点为圆心、角度为散射角a形成圆弧，并且将与镀锅5的上表面的中心点重合的圆弧记为圆弧M，坩埚部4内的蒸镀材料上表面的中心点与镀锅5的上表面的中心点之间的连线为ES，其距离为ES距离，以镀锅5的上表面的中心点作垂直线L，该垂直线L与ES之间的夹角为入射角b,入射角b大于等于0°并且小于等于35°。
所述入射角b为5°，对于一种蒸镀材料，该散射角a为固定值，散射角a以外的区域的蒸镀材料很少。两个ES连线之间的夹角为夹角c，夹角c为可综合保证蒸镀材料均匀性的最大蒸发散射角度，夹角c为65°。现有技术只有一个抽真空泵，由于抽真空的限制，主腔体较小，镀锅受空间的限制，伞状镀锅的上表面与圆弧M的错位较大，即入射角b比较大，因此，降低了被镀膜工件的均匀性。而本申请由于抽真空泵有两个，因此主腔体能够变大，镀锅受空间的限制变小，因此入射角b能够变小，当入射角b为零时，镀锅5伞状的上表面与圆弧M几乎重合，镀锅5上固定的被镀膜工件在镀膜时均匀性最好。
所述主腔体1和主阀2均为中空结构，主阀2设置在主腔体1的后方并且与排气通口11的位置相对应，抽真空泵3用于将主腔体1和主阀2的内部抽真空，主腔体1与主阀2为一体式的。所述主腔体1与主阀2的连接处通过加强筋焊接，并且采用坡口焊接的方式，焊接牢固不易变形。所述主腔体1为中空矩形体，相应的，排气通口11为矩形，主阀2与主腔体1的连接面为中空的矩形。所述主腔体1的外壁设置有冷却水管12，冷却水管12均匀分布在整个主腔体1的外壁上。，所述冷却水管12为一根水管。所述主阀2包括与主腔体1固定的连接部21和设置两个抽真空泵3的主阀部22，连接部21与主阀部22均为中空的结构并且连接部21与主阀部22相通，所述连接部21的横截面为梯形，连接部21的与主腔体1固定的左侧面的高度大于与主阀部22固定的右侧面的高度。所述连接部21的左侧面的形状与排气通口11的形状相同，连接部21的右侧面为中空的正方形，所述连接部21的横截面为直角梯形。所述坩埚部4具有一个，坩埚为碗状凹陷的形状，坩埚用于盛放蒸镀材料，加热源将坩埚内的蒸镀材料从固态升华为气态，使得镀膜时蒸镀材料以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发。所述镀锅5有四个，设置在主腔体1的顶部，镀锅5进行行星转。
实施例2：
一种具有双泵结构的真空蒸镀机，如图1、图5-6所示，所述真空蒸镀机的主腔体1与主阀2连接，主腔体1的后壁的中下部具有一个排气通口11，主阀2的内部设置有抽真空泵3，抽真空泵3启动主腔体1内的空气通过排气通口11进入主阀2，主腔体1的底板上设置有坩埚部4，主腔体1内部的上部设置有一个或多个伞面状的镀锅5，坩埚部4内的蒸镀材料在镀膜时以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发，将镀锅5上固定的被镀膜工件镀膜，其特征在于，所述抽真空泵3有两个，以坩埚部4内的蒸镀材料上表面的中心点为圆心、角度为散射角a形成圆弧，并且将与镀锅5的上表面的中心点重合的圆弧记为圆弧M，坩埚部4内的蒸镀材料上表面的中心点与镀锅5的上表面的中心点之间的连线为ES，其距离为ES距离，以镀锅5的上表面的中心点作垂直线L，该垂直线L与ES之间的夹角为入射角b,入射角b大于等于0°并且小于等于35°。
所述入射角b为15°，对于一种蒸镀材料，该散射角a为固定值，散射角a以外的区域的蒸镀材料很少。两个ES连线之间的夹角为夹角c，夹角c为可综合保证蒸镀材料均匀性的最大蒸发散射角度，夹角c为70°。现有技术只有一个抽真空泵，由于抽真空的限制，主腔体较小，镀锅受空间的限制，伞状镀锅的上表面与圆弧M的错位较大，即入射角b比较大，因此，降低了被镀膜工件的均匀性。而本申请由于抽真空泵有两个，因此主腔体能够变大，镀锅受空间的限制变小，因此入射角b能够变小，当入射角b为零时，镀锅5伞状的上表面与圆弧M几乎重合，镀锅5上固定的被镀膜工件在镀膜时均匀性最好。
所述主腔体1和主阀2均为中空结构，主阀2设置在主腔体1的后方并且与排气通口11的位置相对应，抽真空泵3用于将主腔体1和主阀2的内部抽真空，主腔体1与主阀2为一体式的。所述主腔体1与主阀2的连接处通过加强筋焊接，并且采用坡口焊接的方式，焊接牢固不易变形。所述主腔体1为中空球体，相应的，排气通口11为弧形通孔，主阀2与主腔体1的连接面为中空的弧形。所述主腔体1的外壁设置有冷却水管12，冷却水管12均匀分布在整个主腔体1的外壁上，所述冷却水管12为多根水管。所述主阀2包括与主腔体1固定的连接部21和设置两个抽真空泵3的主阀部22，连接部21与主阀部22均为中空的结构并且连接部21与主阀部22相通，所述连接部21的横截面为梯形，连接部21的与主腔体1固定的左侧面的高度大于与主阀部22固定的右侧面的高度。所述连接部21的左侧面的形状与排气通口11的形状相同，连接部21的右侧面为中空的长方形，所述连接部21的横截面为等腰梯形。所述坩埚部4具有一个坩埚，坩埚为碗状凹陷的形状，坩埚用于盛放蒸镀材料，加热源将坩埚内的蒸镀材料从固态升华为气态，使得镀膜时蒸镀材料以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发。所述镀锅5有一个，设置在主腔体1的顶部，镀锅5进行公转。
实施例3：
一种具有双泵结构的真空蒸镀机，如图1、图7-8所示，所述真空蒸镀机的主腔体1与主阀2连接，主腔体1的后壁的中下部具有一个排气通口11，主阀2的内部设置有抽真空泵3，抽真空泵3启动主腔体1内的空气通过排气通口11进入主阀2，主腔体1的底板上设置有坩埚部4，主腔体1内部的上部设置有一个或多个伞面状的镀锅5，坩埚部4内的蒸镀材料在镀膜时以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发，将镀锅5上固定的被镀膜工件镀膜，其特征在于，所述抽真空泵3有两个，以坩埚部4内的蒸镀材料上表面的中心点为圆心、角度为散射角a形成圆弧，并且将与镀锅5的上表面的中心点重合的圆弧记为圆弧M，坩埚部4内的蒸镀材料上表面的中心点与镀锅5的上表面的中心点之间的连线为ES，其距离为ES距离，以镀锅5的上表面的中心点作垂直线L，该垂直线L与ES之间的夹角为入射角b,入射角b大于等于0°并且小于等于35°。
所述入射角b为23°，对于一种蒸镀材料，该散射角a为固定值，散射角a以外的区域的蒸镀材料很少。两个ES连线之间的夹角为夹角c，夹角c为可综合保证蒸镀材料均匀性的最大蒸发散射角度，夹角c为82°。现有技术只有一个抽真空泵，由于抽真空的限制，主腔体较小，镀锅受空间的限制，伞状镀锅的上表面与圆弧M的错位较大，即入射角b比较大，因此，降低了被镀膜工件的均匀性。而本申请由于抽真空泵有两个，因此主腔体能够变大，镀锅受空间的限制变小，因此入射角b能够变小，当入射角b为零时，镀锅5伞状的上表面与圆弧M几乎重合，镀锅5上固定的被镀膜工件在镀膜时均匀性最好。
所述主腔体1和主阀2均为中空结构，主阀2设置在主腔体1的后方并且与排气通口11的位置相对应，抽真空泵3用于将主腔体1和主阀2的内部抽真空，主腔体1与主阀2为一体式的。所述主腔体1与主阀2的连接处通过加强筋焊接，并且采用坡口焊接的方式，焊接牢固不易变形。所述主腔体1为中空圆柱体，相应的，排气通口11为弧形通孔，主阀2与主腔体1的连接面为中空的弧形。所述主腔体1的外壁设置有冷却水管12，冷却水管12均匀分布在整个主腔体1的外壁上，所述冷却水管12为一根水管。所述主阀2包括与主腔体1固定的连接部21和设置两个抽真空泵3的主阀部22，连接部21与主阀部22均为中空的结构并且连接部21与主阀部22相通，所述连接部21的横截面为梯形，连接部21的与主腔体1固定的左侧面的高度大于与主阀部22固定的右侧面的高度。所述连接部21的左侧面的形状与排气通口11的形状相同，连接部21的右侧面为中空的长方形，所述连接部21的横截面为普通梯形。所述坩埚部4具有一个坩埚，坩埚为碗状凹陷的形状，坩埚用于盛放蒸镀材料，加热源将坩埚内的蒸镀材料从固态升华为气态，使得镀膜时蒸镀材料以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发。所述镀锅5有3个，设置在主腔体1的顶部，镀锅5进行行星转。
尽管本申请已公开了多个方面和实施方式，但是其它方面和实施方式对本领域技术人员而言将是显而易见的，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。本申请公开的多个方面和实施方式仅用于举例说明，其并非旨在限制本申请，本申请的实际保护范围以权利要求为准。
Claims (10)
1.一种具有双泵结构的真空蒸镀机，所述真空蒸镀机的主腔体(1)与主阀(2)连接，主腔体(1)的后壁的中下部具有一个排气通口(11)，主阀(2)的内部设置有抽真空泵(3)，抽真空泵(3)启动主腔体(1)内的空气通过排气通口(11)进入主阀(2)，主腔体(1)的底板上设置有坩埚部(4)，主腔体(1)内部的上部设置有一个或多个伞面状的镀锅(5)，坩埚部(4)内的蒸镀材料在镀膜时以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发，将镀锅(5)上固定的被镀膜工件镀膜，其特征在于，所述抽真空泵(3)有两个，以坩埚部(4)内的蒸镀材料上表面的中心点为圆心、角度为散射角a形成圆弧，并且将与镀锅(5)的上表面的中心点重合的圆弧记为圆弧M，坩埚部(4)内的蒸镀材料上表面的中心点与镀锅(5)的上表面的中心点之间的连线为ES，其距离为ES距离，以镀锅(5)的上表面的中心点作垂直线L，该垂直线L与ES之间的夹角为入射角b,入射角b大于等于0°并且小于等于35°。
2.如权利要求1所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述入射角b大于等于0°并且小于等于25°。
3.如权利要求2所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述入射角b大于等于0°并且小于等于10°。
4.如权利要求1所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，两个ES连线之间的夹角为夹角c，夹角c为可综合保证蒸镀材料均匀性的最大蒸发散射角度，夹角c为55°-90°。
5.如权利要求1所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述主腔体(1)和主阀(2)均为中空结构，主阀(2)设置在主腔体(1)的后方并且与排气通口(11)的位置相对应，抽真空泵(3)用于将主腔体(1)和主阀(2)的内部抽真空，主腔体(1)与主阀(2)为一体式的。
6.如权利要求1所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述主腔体(1)为中空矩形体、中空球体或中空圆柱体中的一种，相应的，排气通口(11)为矩形或者弧形通孔，主阀(2)与主腔体(1)的连接面为中空的矩形或者弧形。
7.如权利要求6所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述主腔体(1)的外壁设置有冷却水管(12)，冷却水管(12)均匀分布在整个主腔体(1)的外壁上。
8.如权利要求1所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述主阀(2)包括与主腔体(1)固定的连接部(21)和设置两个抽真空泵(3)的主阀部(22)，连接部(21)与主阀部(22)均为中空的结构并且连接部(21)与主阀部(22)相通，所述连接部(21)的横截面为梯形，连接部(21)的与主腔体(1)固定的左侧面的高度大于与主阀部(22)固定的右侧面的高度。
9.如权利要求8所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述连接部(21)的左侧面的形状与排气通口(11)的形状相同，连接部(21)的右侧面为中空的正方形或者长方形；所述连接部(21)的横截面为等腰梯形、直角梯形或者普通梯形中的一种。
10.如权利要求1所述的具有双泵结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述坩埚部(4)具有一个或者多个坩埚，坩埚为碗状凹陷的形状，坩埚用于盛放蒸镀材料，加热源将坩埚内的蒸镀材料从固态升华为气态，使得镀膜时蒸镀材料以散射角a并呈圆锥体形状向上蒸发；所述镀锅(5)有一个或者多个，设置在主腔体(1)的顶部，镀锅(5)有一个则进行公转，镀锅(5)有多个则进行行星转。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110820869.0A CN113355640A (zh) | 2021-07-20 | 2021-07-20 | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110820869.0A CN113355640A (zh) | 2021-07-20 | 2021-07-20 | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113355640A true CN113355640A (zh) | 2021-09-07 |
Family
ID=77540015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110820869.0A Pending CN113355640A (zh) | 2021-07-20 | 2021-07-20 | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113355640A (zh) |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004269907A (ja) * | 2003-03-05 | 2004-09-30 | Jeol Ltd | 真空蒸着装置 |
| CN2651263Y (zh) * | 2003-03-26 | 2004-10-27 | 苏贵方 | 双室真空镀膜装置 |
| CN201793721U (zh) * | 2010-09-17 | 2011-04-13 | 温州市佳能真空电镀设备科技有限公司 | 真空电子枪镀膜机 |
| CN203878203U (zh) * | 2014-06-05 | 2014-10-15 | 安徽三安光电有限公司 | 一种镀膜装置 |
| CN104498879A (zh) * | 2014-12-26 | 2015-04-08 | 合肥彩虹蓝光科技有限公司 | 一种降低LED电极耗Au量的蒸镀机 |
| CN107663628A (zh) * | 2017-11-26 | 2018-02-06 | 滁州市金凯达电器装饰有限公司 | 一种高硬度镜面耐久性imd装饰镀膜装置 |
| CN209522911U (zh) * | 2018-11-24 | 2019-10-22 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种行星转装置蒸发入射角小于12度的镀锅 |
| CN212223086U (zh) * | 2020-06-04 | 2020-12-25 | 无锡芯谱半导体科技有限公司 | 一种电子束蒸发台 |
| CN112626486A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-04-09 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种新型真空蒸镀机 |
| CN215404477U (zh) * | 2021-07-20 | 2022-01-04 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 |
-
2021
- 2021-07-20 CN CN202110820869.0A patent/CN113355640A/zh active Pending
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004269907A (ja) * | 2003-03-05 | 2004-09-30 | Jeol Ltd | 真空蒸着装置 |
| CN2651263Y (zh) * | 2003-03-26 | 2004-10-27 | 苏贵方 | 双室真空镀膜装置 |
| CN201793721U (zh) * | 2010-09-17 | 2011-04-13 | 温州市佳能真空电镀设备科技有限公司 | 真空电子枪镀膜机 |
| CN203878203U (zh) * | 2014-06-05 | 2014-10-15 | 安徽三安光电有限公司 | 一种镀膜装置 |
| CN104498879A (zh) * | 2014-12-26 | 2015-04-08 | 合肥彩虹蓝光科技有限公司 | 一种降低LED电极耗Au量的蒸镀机 |
| CN107663628A (zh) * | 2017-11-26 | 2018-02-06 | 滁州市金凯达电器装饰有限公司 | 一种高硬度镜面耐久性imd装饰镀膜装置 |
| CN209522911U (zh) * | 2018-11-24 | 2019-10-22 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种行星转装置蒸发入射角小于12度的镀锅 |
| CN212223086U (zh) * | 2020-06-04 | 2020-12-25 | 无锡芯谱半导体科技有限公司 | 一种电子束蒸发台 |
| CN112626486A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-04-09 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种新型真空蒸镀机 |
| CN215404477U (zh) * | 2021-07-20 | 2022-01-04 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN215404477U (zh) | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 | |
| JP6209286B2 (ja) | 成膜装置及び成膜ワーク製造方法 | |
| CN101768727A (zh) | 一种复合真空沉积设备 | |
| TW201439349A (zh) | 蒸發源組件和薄膜沉積裝置和薄膜沉積方法 | |
| CN209816265U (zh) | 一种靶材位置可调整的溅射靶材基座 | |
| CN100398693C (zh) | 多功能复合磁控等离子体溅射装置 | |
| JP2009041040A (ja) | 真空蒸着方法および真空蒸着装置 | |
| CN113355640A (zh) | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 | |
| CN109763107A (zh) | 一种用于制备金属-高分子多层复合薄膜的真空镀膜系统 | |
| CN108624859A (zh) | 一种双面物理气相沉积镀膜设备及其原理 | |
| US9920418B1 (en) | Physical vapor deposition apparatus having a tapered chamber | |
| CN215163064U (zh) | 一种一体式的真空腔体结构 | |
| CN216947166U (zh) | 一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机 | |
| CN209778983U (zh) | 一种蒸发溅射两用真空镀膜机 | |
| TW202033797A (zh) | 用於坩鍋之自動替換的蒸發源及具有其之蒸發沈積系統 | |
| CN113265622A (zh) | 一种真空蒸镀机的修正板系统 | |
| CN213266691U (zh) | 一种利用差分抽气系统实现超高真空蒸镀的装置 | |
| CN115821210A (zh) | 一种粉体包覆装置及其使用方法 | |
| CN217997299U (zh) | 一种具有双主阀结构的真空蒸镀机 | |
| CN216074002U (zh) | 一种真空蒸镀机的修正板系统 | |
| CN208378979U (zh) | 一种蒸发源位置的可调节结构 | |
| CN211227332U (zh) | 一种真空系统用挡板阀 | |
| CN209537614U (zh) | 一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源 | |
| CN215365972U (zh) | 一种真空蒸镀机的视窗固定结构 | |
| KR20160146597A (ko) | 나노 구조 형성용 스퍼터링 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |