CN212223086U - 一种电子束蒸发台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种电子束蒸发台,包括箱体、旋转装置、坩埚和电子枪,所述箱体为内部具有真空腔室的腔体,所述旋转装置枢转安装于腔体的顶部,所述旋转装置放置有基片,所述坩埚设于旋转装置的下方,所述坩埚设置有多个,所述坩埚放置有靶材,所述电子枪设于腔体内,所述电子枪可对靶材施加高温,通过设置旋转装置使腔体内可以同时放置多个基片,在相同的腔体体积下本实用新型可以放置更多的基片,且可以通过电子枪对靶材通过电子束进行蒸发,使基片可以实现不同厚度的镀膜以及不同材质的镀膜,且不多材质的镀膜可以同时进行;且通过在相对体积的腔体内设置旋转装置,可以合理优化出合适的空间,又能满足工艺要求,产能要求,维护还方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及电子束蒸设备技术领域,具体是一种电子束蒸发台。
背景技术
电子束蒸发法是真空蒸发镀膜的一种,是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料,使蒸发材料气化并向基片输运,在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中,被加热的物质放置于水冷的坩埚中,可避免蒸发材料与坩埚壁发生反应影响薄膜的质量,因此,电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜,同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚,实现同时或分别蒸发,沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发,任何材料都可以被蒸发,不同材料需要采用不同类型的增竭以获得所要达到的蒸发率。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料,比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快,制成的薄膜纯度高、质量好,厚度可以较准确地控制,可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。电子束蒸发的特点是不会或很少覆盖在目标三维结构的两侧,通常只会沉积在目标表面。这是电子束蒸发和溅射的区别。
现有的电子束蒸发台其真空腔体内一般只设置有一套坩埚,假如设置多套坩埚时,其真空腔体则体积增大。但是,真空腔体的制造成本和场地要求(无尘洁净生产车间)较高,对于企业而言成本较高。例如,目前在市场上的电子束蒸发台主要是日本ULVAC和美国CHA MARK50等进口品牌,它们的设备腔体设计方式都偏于庞大和载片少的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种电子束蒸发台,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种电子束蒸发台,包括:
箱体,所述箱体为内部具有真空腔室的腔体;
旋转装置,所述旋转装置枢转安装于腔体的顶部,所述旋转装置放置有基片;
坩埚,所述坩埚设于旋转装置的下方,所述坩埚设置有多个,所述坩埚放置有靶材;
电子枪,所述电子枪设于腔体内,所述电子枪可对靶材施加高温。
优选地,所述电子枪设于腔体的一侧。
优选地,所述旋转装置包括旋转电机以及设于旋转电机的基座,所述基座设有多个间隔设置的固定器,所述基片放置于固定器。
优选地,所述固定器的外围设有行星盘。
优选地,所述固定器呈弧形状。
优选地,所述坩埚放置有不同金属材料。
优选地,所述腔体设有开口,所述开口枢转安装有开关门。
优选地,所述箱体的一侧还设有控制装置。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:一种电子束蒸发台,通过设置旋转装置使腔体内可以同时放置多个基片,在相同的腔体体积下本实用新型可以放置更多的基片,且可以通过电子枪对靶材通过电子束进行蒸发,使基片可以实现不同厚度的镀膜以及不同材质的镀膜,且不多材质的镀膜可以同时进行;且通过在相对体积的腔体内设置旋转装置,可以合理优化出合适的空间,又能满足工艺要求,产能要求,维护还方便。
附图说明
图1为一种电子束蒸发台的B部分剖视图;
图2为一种电子束蒸发台的侧视结构示意图;
图3为一种电子束蒸发台的正视图。
图中:1为箱体,11为腔体,12为开口,13为开关门,2为基座,20为旋转电机,21为固定器,3为行星盘,4为坩埚,5为电子枪。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。
请参阅图1-3,一种电子束蒸发台,其特征在于,包括:
箱体1,所述箱体1为内部具有真空腔室的腔体11;
旋转装置,所述旋转装置枢转安装于腔体11的顶部,所述旋转装置放置有基片;其中,需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材;
坩埚4,所述坩埚4设于旋转装置的下方,所述坩埚4设置有多个,所述坩埚4放置有靶材;
电子枪5,所述电子枪5设于腔体11内,所述电子枪5可对靶材施加高温。其中,电子枪5是加速电子轰击靶屏发光的一种装置,它发射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的电子束。(该电子束的方向和强度可以控制,通常由热阴极、控制电极和若干加速阳极等组成)电子枪5用来提供电子束,并轰击荧光屏形成不同灰度等级的图像。电子枪5一般分为热发射和场致发射两种;电子枪5的功能在于给出满足要求的电子束,而电子枪5的材料和工艺结构又必须考虑到电子枪5易于加工和使用方便。
通过设置旋转装置使腔体11内可以同时放置多个基片,在相同的腔体11体积下本实用新型可以放置更多的基片,且可以通过电子枪5对靶材通过电子束进行蒸发,使基片可以实现不同厚度的镀膜以及不同材质的镀膜,且不多材质的镀膜可以同时进行;且通过在相对体积的腔体11内设置旋转装置,可以合理优化出合适的空间,又能满足工艺要求,产能要求,维护还方便。
在本实用新型具体实施例中,所述电子枪5设于腔体11的一侧。通过电子枪5的倾斜发射电子束可以实现对不同金属进行蒸发加工。
在本实用新型具体实施例中,所述旋转装置包括旋转电机20以及设于旋转电机20的基座2,所述基座2设有多个间隔设置的固定器21,所述基片放置于固定器21。通过旋转电机20驱动基座2,从而带动位于基座2的固定器21转动,实现基片在不同角度加工和放置更多的基片。
在本实用新型具体实施例中,所述固定器21的外围设有行星盘3,通过行星盘3的设置可以控制基片的位置以及转动的角度,从而使基片与电子枪5相对应。
在本实用新型具体实施例中,所述固定器21呈弧形状。通过弧形状,可以减少金属蒸气的外散。
在本实用新型具体实施例中,所述坩埚4放置有不同金属材料。通过在坩埚4放置不同的金属材料可以实现在同一腔体11内对基片同时镀膜(不同材质)。
优选地,所述腔体设有开口12,所述开口12枢转安装有开关门13。
在本实用新型具体实施例中,所述箱体的一侧还设有控制装置,所述控制装置用于控制电子枪5和旋转装置的开启和关闭。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明,但是本专利并不限于上述实施方式,在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本专利宗旨的前提下作出各种变化。
Claims (8)
1.一种电子束蒸发台,其特征在于,包括:
箱体(1),所述箱体(1)为内部具有真空腔室的腔体(11);
旋转装置,所述旋转装置枢转安装于腔体(11)的顶部,所述旋转装置放置有基片;
坩埚(4),所述坩埚(4)设于旋转装置的下方,所述坩埚(4)设置有多个,所述坩埚(4)放置有靶材;
电子枪(5),所述电子枪(5)设于腔体(11)内,所述电子枪(5)可对靶材施加高温。
2.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台,其特征在于,所述电子枪(5)设于腔体(11)的一侧。
3.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台,其特征在于,所述旋转装置包括旋转电机(20)以及设于旋转电机(20)的基座(2),所述基座(2)设有多个间隔设置的固定器(21),所述基片放置于固定器(21)。
4.根据权利要求3所述的一种电子束蒸发台,其特征在于,所述固定器(21)的外围设有行星盘(3)。
5.根据权利要求3所述的一种电子束蒸发台,其特征在于,所述固定器(21)呈弧形状。
6.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台,其特征在于,所述坩埚(4)放置有不同金属材料。
7.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台,其特征在于,所述腔体设有开口(12),所述开口(12)枢转安装有开关门(13)。
8.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台,其特征在于,所述箱体(1)的一侧还设有控制装置。
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---|---|---|---|
CN202021013114.7U CN212223086U (zh) | 2020-06-04 | 2020-06-04 | 一种电子束蒸发台 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202021013114.7U CN212223086U (zh) | 2020-06-04 | 2020-06-04 | 一种电子束蒸发台 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN212223086U true CN212223086U (zh) | 2020-12-25 |
Family
ID=73931018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN202021013114.7U Active CN212223086U (zh) | 2020-06-04 | 2020-06-04 | 一种电子束蒸发台 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN212223086U (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113355640A (zh) * | 2021-07-20 | 2021-09-07 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 |
CN115094386A (zh) * | 2022-05-19 | 2022-09-23 | 无锡芯谱半导体科技有限公司 | 一种多轴联合式电子束蒸发台行星架用驱动机构 |
CN116988037A (zh) * | 2023-09-25 | 2023-11-03 | 广州市艾佛光通科技有限公司 | 蒸发台的基板固定器调节系统、方法及蒸发台 |
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2020
- 2020-06-04 CN CN202021013114.7U patent/CN212223086U/zh active Active
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