CN208378979U - 一种蒸发源位置的可调节结构 - Google Patents
一种蒸发源位置的可调节结构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN208378979U CN208378979U CN201820989873.3U CN201820989873U CN208378979U CN 208378979 U CN208378979 U CN 208378979U CN 201820989873 U CN201820989873 U CN 201820989873U CN 208378979 U CN208378979 U CN 208378979U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- crucible
- platform
- electron gun
- adjustment seat
- crucible platform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种蒸发源位置的可调节结构，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪安装在一基准调节座上，所述基准调节座上设置有转动驱动装置，所述转动驱动装置通过驱动所述基准调节座转动调整所述坩埚台和所述电子枪在所述真空镀膜室内的蒸发位置。本实用新型的优点是：实现真空镀膜室内蒸发源位置的调整，可根据镀膜产品灵活调整工艺，实现更好的镀膜效果；可实现坩埚点位的切换，尤其便于多种镀膜材料的逐一蒸镀，提高镀膜效率，扩大产能；结构简单合理，拆装方便，适于推广。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种蒸发源位置的可调节结构。
背景技术
目前，在蒸发镀膜工艺中，一般采用电子枪对坩埚内盛放的镀膜材料进行蒸发，使镀膜材料蒸发并在工件表面凝结成膜。但目前，电子枪在真空镀膜室内的位置往往固定不变，这样一来，不利于灵活调整工艺，无法实现更好的镀膜效果。
发明内容
本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种蒸发源位置的可调节结构，通过转动驱动装置驱动坩埚台和电子枪随基准调节座共同转动实现蒸发源位置的调整；同时还可使坩埚台和电子枪分别在基准调节座上独立转动，实现坩埚点位的切换，从而提高镀膜效果，方便工艺调整。
本实用新型目的实现由以下技术方案完成：
一种蒸发源位置的可调节结构，包括设置在真空镀膜室内的坩埚台和电子枪，其中所述坩埚台用于承载盛放有镀膜材料的坩埚，所述电子枪用于对所述坩埚内盛放的镀膜材料进行蒸发，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪安装在一基准调节座上，所述基准调节座上设置有转动驱动装置，所述转动驱动装置通过驱动所述基准调节座转动调整所述坩埚台和所述电子枪在所述真空镀膜室内的蒸发位置。
所述坩埚台和所述电子枪之间设置有可开合的咬合机构以使所述坩埚台和所述电子枪随所述基准调节座共同转动或使所述坩埚台和所述电子枪分别在所述基准调节座上独立转动。
所述坩埚台为圆环形坩埚台，在所述圆环形坩埚台上设有若干用于承载所述坩埚的坩埚点位，所述转动驱动装置驱动所述圆环形坩埚台在所述基准调节座上转动实现所述坩埚点位在所述电子枪位置上的切换。
所述坩埚台为圆环形坩埚台，在所述圆环形坩埚台上设有若干用于承载所述坩埚的坩埚点位，所述转动驱动装置驱动所述电子枪在所述基准调节座上转动实现所述坩埚点位在所述电子枪位置上的切换。
本实用新型的优点是：实现真空镀膜室内蒸发源位置的调整，可根据镀膜产品灵活调整工艺，实现更好的镀膜效果；可实现坩埚点位的切换，尤其便于多种镀膜材料的逐一蒸镀，提高镀膜效率，扩大产能；结构简单合理，拆装方便，适于推广。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型中蒸发源位置调整的状态示意图。
具体实施方式
以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：
如图1-2所示，图中标号1-4分别表示为：基准调节座1、坩埚台2、电子枪3、坩埚点位4。
实施例：本实施例中蒸发源位置的可调节结构用于真空镀膜室中蒸发源位置的调整，蒸发源由坩埚台2和电子枪3构成，其中坩埚台2用于承载用于盛放镀膜材料的坩埚，电子枪3用于对镀膜材料进行蒸发。
如图1所示，坩埚台2和电子枪3安装在基准调节座1上，在基准调节座1的内部设置有转动驱动装置（图中未示出），在转动驱动装置的驱动下，基准调节座1可在真空镀膜室内转动，从而带动安装在其上的坩埚台2和电子枪3转动，从而调整蒸发源在真空镀膜室中的位置。如图2中的（a）、（b）、（c）所示，各图中随着基准调节座1的转动，坩埚台2和电子枪3在真空镀膜室中的位置发生变化，从而可灵活调整工艺，实现更好的镀膜效果。
如图1所示，坩埚台2呈圆环状结构，其环体圆周方向均匀布置有若干坩埚点位4，每个坩埚点位4内均可承载坩埚。在坩埚台2和电子枪3之间还设置有可开合的咬合机构，该咬合机构可控制坩埚台2和电子枪3之间的咬死和松开，从而使坩埚台2和电子枪3可随基准调节座1共同转动来调整蒸发源位置或者使坩埚台2和电子枪3分别在基准调节座1上独立转动。
坩埚台2和电子枪3在基准调节座1上的独立转动是为了实现坩埚点位4的切换。具体而言，电子枪3对其正对位置的坩埚点位4内的坩埚中的镀膜材料进行蒸发，待此坩埚内的镀膜材料镀膜结束后，坩埚台2和电子枪3之间松开，坩埚台2在转动驱动装置的驱动下转动，从而使下一坩埚点位4内的坩埚正对电子枪3的位置，从而使电子枪3可对其蒸发，实现坩埚点位4的切换。
本实施例在应用时，具有两种应用方法：
1）实现多种镀膜材料的镀膜：利用电子枪3对坩埚台2上的一坩埚点位4内所承载的坩埚内的镀膜材料进行蒸发；待该坩埚内的镀膜材料镀膜结束后，坩埚台2在转动驱动装置的驱动下在基准调节座1上转动直至下一坩埚点位正对电子枪3，电子枪3对下一坩埚点位内的坩埚所盛放的镀膜材料进行蒸发，以此类推，完成镀膜过程。这样一来，使得在真空镀膜室内，在一次工艺中可完成多种镀膜材料的镀膜。具体而言，根据膜系设计，在多个坩埚点位4内分别放置坩埚，在各坩埚内分别盛放不同种类的镀膜材料，利用坩埚台2的转动使电子枪3根据膜系设计逐一对镀膜材料进行蒸发，从而使不同种类的镀膜材料叠加凝结在镀膜工件上，从而实现多种镀膜材料的多层镀膜。
2）通过转动驱动装置驱动基准调节座1转动调整坩埚台2和电子枪3在真空镀膜室内的蒸发位置。
本实施例在具体实施时：安装在基准调节座1上的转动驱动机构可采用目前常见的驱动机构实现。
除了通过坩埚台2的转动实现坩埚点位4之间的切换以外，也可通过设置转动驱动装置驱动电子枪3在基准调节座1上转动来实现坩埚点位4的切换，此时坩埚台2保持静止状态。
虽然以上实施例已经参照附图对本实用新型目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本实用新型作出各种改进和变换，故在此不一一赘述。
Claims (4)
1.一种蒸发源位置的可调节结构，包括设置在真空镀膜室内的坩埚台和电子枪，其中所述坩埚台用于承载盛放有镀膜材料的坩埚，所述电子枪用于对所述坩埚内盛放的镀膜材料进行蒸发，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪安装在一基准调节座上，所述基准调节座上设置有转动驱动装置，所述转动驱动装置通过驱动所述基准调节座转动调整所述坩埚台和所述电子枪在所述真空镀膜室内的蒸发位置。
2.根据权利要求1所述的一种蒸发源位置的可调节结构，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪之间设置有可开合的咬合机构以使所述坩埚台和所述电子枪随所述基准调节座共同转动或使所述坩埚台和所述电子枪分别在所述基准调节座上独立转动。
3.根据权利要求1或2所述的一种蒸发源位置的可调节结构，其特征在于：所述坩埚台为圆环形坩埚台，在所述圆环形坩埚台上设有若干用于承载所述坩埚的坩埚点位，所述转动驱动装置驱动所述圆环形坩埚台在所述基准调节座上转动实现所述坩埚点位在所述电子枪位置上的切换。
4.根据权利要求1或2所述的一种蒸发源位置的可调节结构，其特征在于：所述坩埚台为圆环形坩埚台，在所述圆环形坩埚台上设有若干用于承载所述坩埚的坩埚点位，所述转动驱动装置驱动所述电子枪在所述基准调节座上转动实现所述坩埚点位在所述电子枪位置上的切换。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201820989873.3U CN208378979U (zh) | 2018-06-26 | 2018-06-26 | 一种蒸发源位置的可调节结构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201820989873.3U CN208378979U (zh) | 2018-06-26 | 2018-06-26 | 一种蒸发源位置的可调节结构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN208378979U true CN208378979U (zh) | 2019-01-15 |
Family
ID=64964559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201820989873.3U Active CN208378979U (zh) | 2018-06-26 | 2018-06-26 | 一种蒸发源位置的可调节结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN208378979U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108517495A (zh) * | 2018-06-26 | 2018-09-11 | 光驰科技(上海)有限公司 | 一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法 |
-
2018
- 2018-06-26 CN CN201820989873.3U patent/CN208378979U/zh active Active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108517495A (zh) * | 2018-06-26 | 2018-09-11 | 光驰科技(上海)有限公司 | 一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105543792A (zh) | 磁控溅射装置及磁控溅射方法 | |
| CN208378979U (zh) | 一种蒸发源位置的可调节结构 | |
| CN104711527A (zh) | 一种磁控溅射低温制备TiN薄膜的方法 | |
| CN108193187B (zh) | 一种可实现自动翻转的基片架 | |
| CN209816265U (zh) | 一种靶材位置可调整的溅射靶材基座 | |
| CN107142457A (zh) | 一种磁控溅射倾斜沉积镀膜装置 | |
| CN105154831B (zh) | 一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备 | |
| WO2018147122A1 (ja) | 成膜装置および成膜物の製造方法 | |
| CN108517495A (zh) | 一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法 | |
| CN215404477U (zh) | 一种具有双泵结构的真空蒸镀机 | |
| CN106967951A (zh) | 一种成膜装置、成膜方法及成膜源 | |
| CN215481225U (zh) | 一种便于更换坩埚的高通量薄膜制备装置 | |
| CN206467283U (zh) | 一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备 | |
| CN106086783B (zh) | 一种遮挡装置及其遮挡方法和蒸镀系统 | |
| CN100494479C (zh) | 一种采用磁控溅射制备薄膜的方法 | |
| CN209194040U (zh) | 一种pvd真空电弧镀膜装置 | |
| CN217230909U (zh) | 改善蒸镀均匀性的蒸镀设备 | |
| CN210856320U (zh) | 真空镀膜机加热设备及真空镀膜机 | |
| CN212375373U (zh) | 一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具 | |
| CN108425093A (zh) | 隧道式溅射镀膜机 | |
| CN211256077U (zh) | 一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪 | |
| CN215163068U (zh) | 一种真空蒸镀机的行星盘限位结构 | |
| CN209957889U (zh) | 一种真空镀膜机基材旋转夹具 | |
| CN109055900B (zh) | 一种用于阴极电弧沉积的复合靶及沉积方法 | |
| RU185109U1 (ru) | Подвижный мишенный узел для вакуумной напылительной камеры |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |