CN113292940A - 防碎膜和包括该防碎膜的电子显示器以及电子装置 - Google Patents

防碎膜和包括该防碎膜的电子显示器以及电子装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及防碎膜和包括该防碎膜的电子显示器以及电子装置。所述防碎膜包括聚酯类基材膜；位于所述基材膜的一个表面上的保护膜；以及位于布置有所述保护膜的基材膜的另一表面上的光学胶层，其中，所述基材膜包括具有不同屈折率的复数个纳米层压膜，其在600nm至750nm波长的可见光波长区域中的光透过率可以等于或低于30％。所述防碎膜可以不进行梯度涂布、紫外线成型等的工艺而仅进行屏蔽印刷体现可以根据视角识别各种颜色的设计。

Description

防碎膜和包括该防碎膜的电子显示器以及电子装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年02月21日提交的韩国专利申请No.10-2020-0021766的优先权和权益，其通过引用合并于此用于所有目的，如同在此完全阐述一样。
技术领域
本发明涉及防碎膜和包括该防碎膜的电子显示器和电子装置。
背景技术
防碎膜例如可以是应用于智能手机后盖(back cover)上的装置粘合膜，并且是通过将难以表现在强化玻璃基板上的印刷技术应用于膜上来维持强化玻璃固有的光泽、质感和高的表面硬度的同时兼有各种装饰效果和防止玻璃碎片因冲击而飞散的粘合膜。所述防碎膜(Anti-scattering film；ASF)也被称为装饰膜(decoration film)。
最近，诸如智能手机后盖板的电子显示器要求各种不同的设计，因此，对防碎膜的需求也急剧地增加。
迄今为止，通过使用透明防碎基材膜通过梯度涂层、紫外线成型、彩色涂层，沉积等的工艺体现各种不同的设计。然而，因为对新设计的要求，在所述透明防碎基材膜的使用上有限制。
因此，仍然存在对不进行梯度涂层、紫外线成型等的工艺也能够体现各种不同的设计的防碎膜以及包括该防碎膜的电子显示器和电子装置的要求。
发明内容
一方面提供一种仅进行屏蔽印刷就可以根据视角在视觉上识别各种颜色的防碎膜，而不进行诸如梯度涂层或紫外线成型等的工艺。
另一方面提供包括所述防碎膜的电子显示器。
另一方面提供包括所述电子显示器的电子装置。
根据一方面提供一种防碎膜，包括：
聚酯类基材膜；
位于所述基材膜的一个表面上的保护膜；以及
光学胶(Optical clear adhesive)层，其位于布置有所述保护膜的基材膜的另一表面上，其中，
所述基材膜包括具有不同屈折率的复数个纳米层叠膜，并且在600nm至750nm波长的可见光波长区域带的光透过率等于或低于30％。
所述基材膜的厚度可以为65μm至80μm。
所述保护膜的基材的厚度可以为35μm至75μm。
所述保护膜在120℃下加热1小时后的纵向(machine direction；MD)的热收缩率可以为0.15％至0.40％，并且其横向(transverse direction；TD)的热收缩率可以为0％至0.15％。所述光学胶(Optical clear adhesive)层可以位于所述粘合剂层和保护膜基材所位置的聚酯基基材膜的另一表面上。
所述光学胶层可以具有-30℃至0℃的玻璃化转变温度(Tg)。
所述光学胶层的对玻璃的粘合力可以等于或高于15N/英寸。
所述光学胶层的厚度可以为15μm至50μm。
可以进一步包括位于所述光学胶上的离型膜。
当用黑色进行屏蔽印刷时，在使用D65光源测量的Lab颜色坐标上，所述防碎膜可以具有反射颜色亮度(L*)7、a*(红色、绿色)3.5、b*(黄色、蓝色)2.7的反射颜色。
当用白色进行屏蔽印刷时，在使用D65光源测量的Lab颜色坐标上，所述防碎膜可以具有反射颜色亮度(L*)63、a*(红色、绿色)-25.8、b*(黄色、蓝色)-48.3的反射颜色。
所述防碎膜在400nm至小于600nm的波长的可见光波长区域中的光透过率可以等于或高于30％。
根据另一方面，
提供包括上述的防碎膜的电子显示器。
根据另一方面，
提供包括上述电子显示器的电子装置。
附图说明
被包括以提供对本发明的进一步理解并且被并入且构成本说明书的一部分的附图例示本发明的示例性实施例，并且与说明书一起用于解释本发明构思。
图1为根据一实现例的防碎膜的剖面示意图。
[标号说明]
1：基材膜(包括纳米层叠膜) 2：用于保护膜的粘合剂层
3：保护膜基材 4：保护膜
5：光学胶(OCA)层 6：离型膜
10：防碎膜
具体实施方式
以下，参照本发明的实施例和附图详细说明防碎膜和包括该防碎膜的电子显示器和电子装置。本领域的普通技术人员应理解，这些实施例仅是为了更具体地描述本发明而示例性地提出的，并且本发明的范围并不限于这些实施例。
除非另有其它定义，在本说明书中使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同的意义。若发生冲突，以包括定义的本说明书为优先。
与在本说明书中描述的类似或相同的方法和材料可使用于本发明的实施或试验，但合适的方法和材料记载于本说明书中。
除非另有相反的记载，在本说明书中，术语“包括”是指可以进一步包括其它组成要素，而不是排除其它组成要素。
在本说明书中，术语“其组合”是指与一个或复数个所记载的组成要素的混合或组合。
在本说明书中，术语“和/或”是指包括记载的一个或更多项目的任何组合以及所有组合。在本说明书中，术语“或”是指“和/或”。在本说明书中，在组成要素的前面使用的“至少一种”或“一个或更多”的表述可以补充整个组成要素的目录，而并不是指可以补充所述记载中的个别组成要素。
在本说明书中，当提起一个组成要素布置于其它组成要素“上”，一个组成要素可以直接布置于其它组成要素，或在所述组成要素之间可以存在夹在的组成要素。相反，当提起一个组成要素“直接”布置于其它组成要素“上”，夹在的组成要素可以不存在。
在本说明书中，“～类聚合物”或“～类共聚物”为将“～聚合物”、“～共聚物”，和/或“～聚合物或共聚物的衍生物”全部包括的广泛的概念。
根据一实现例的防碎膜可以包括聚酯类基材膜；位于所述基材膜的一个表面上的保护膜；以及位于布置有所述保护膜的基材膜的另以表面上的光学胶(Optical clearadhesive)层，其中，所述基材膜可以包括具有不同屈折率的复数个纳米层压膜，其在600nm至750nm波长的可见光波长区域中的光透过率可以等于或低于30％。
可以使用合成直链型聚酯膜作为所述聚酯类基材膜，例如可以使用光透过率较高的高分子膜，如同时具有光透过性和热稳定性的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或聚萘二甲酸乙二醇酯膜。根据情况，所述聚酯类基材膜可以进一步包括聚碳酸酯、聚烯烃、乙烯基聚合物，或其组合。
所述基材膜可以包括具有不同的屈折率的复数个纳米层叠膜。
所述基材膜通过包括具有不同屈折率的复数个纳米层压膜来将在600nm至750nm波长的可见光波长区域中的光透过率降低至30％或更低，从而可以不进行梯度印刷、紫外线成型等的工艺而仅进行屏蔽印刷来体现可以识别各种颜色的设计。
所述基材膜的厚度可以为65μm至80μm。例如，所述基材膜的厚度可以为70μm至75μm或70μm至74μm。当基材膜厚度超过所述厚度范围时，可见光波长区域带的光透过率可以高于30％。由此，可能发生在对所述防碎膜进行装饰后无法体现起初所想的设计。
可以包括位于所述基材膜的一表面上的保护膜。
所述保护膜可以由保护膜基材以及布置于所述保护膜基材上的粘合剂层组成。
所述保护膜可以使用能够承受120℃或更高的温度的基材。这是因为包括在所述基材膜中的纳米层压膜的热尺寸稳定性较差，当将其附着到电子显示器(例如，智能手机后盖(back cover))曲面部分时可能产生皱纹。因此，在等于或高于120℃的温度下对防碎膜进行热处理时，应当使用不发生卷曲或保护膜的粘合剂转移等的基材。
所述保护膜的基材通常可以包括诸如聚碳酸酯类树脂、聚烯烃类树脂、乙烯类聚合物，或聚酯类树脂的高分子聚合物薄膜。例如，合成直链型聚酯膜，尤其是同时具有光透过性和热稳定性的，诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)的光透过率高的高分子膜。
所述保护膜基材的厚度可以为35μm至75μm。例如，所述保护膜基材的厚度可以为38μm至75μm。当所述保护膜基材的厚度小于35μm，在剥离保护膜时可能发生防碎膜的折弯等的问题；当所述保护膜基材的厚度大于75μm时，在剥离保护膜时可能发生可以布置于另一面的光学胶(optical clear adhesive；OCA)上的离型膜翘起的问题。
作为可适用于用于所述保护膜的粘合剂层上的粘合剂，只要是在粘合的玻璃或强化玻璃上没有转移粘合剂的污染且可再剥离地粘合，都可以没有特别限制地使用。所述粘合剂可以包括丙烯酸类聚合物、乙烯类聚合物、苯乙烯类聚合物、氨酯类聚合物、酯类聚合物、其组合，或其共聚物。例如，所述粘合剂可以包括丙烯、天然橡胶、合成橡胶、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸酯、苯乙烯-异戊二烯嵌段共聚物、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、聚氨酯或聚酯。
例如，作为所述粘合剂可以使用具有高的透明性且可以表达与光学片材的优秀的密贴性的丙烯酸类聚合物。
所述丙烯酸类聚合物可以通过聚合各自一种或复数种的丙烯酸类单体和含羧基的不饱和单体来形成。所述丙烯酸类单体例如可以包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲氨基乙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、2-(羟甲基)丙烯酸甲酯、2-(羟甲基)丙烯酸乙酯、2-(羟甲基)丙烯酸丙酯、2-(羟甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇甲基醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、1,1,1,3,3,3-六氟异丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸双环戊酯、(甲基)丙烯酸双环戊烯酯、(甲基)丙烯酸双环戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸双环戊烯氧基乙酯以及其混合物。例如，所述丙烯酸单体可以包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯以及其混合物。所述含羧基的不饱和单体例如可以包括丙烯酸、甲基丙烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙酸、3-(甲基)丙烯酰氧基丙酸、4-(甲基)丙烯酰氧基丁酸、丙烯酸二聚体、衣康酸、马来酸、马来酸无水物，以及其混合物。
所述保护膜在120℃下加热1小时后的纵向(machine direction；MD)的热收缩率可以为0.15％至0.40％，并且其横向(transverse direction；TD)的热收缩率可以为0％至0.15％。当保护膜超出所述MD和TD的热收缩率范围，由于发生卷曲，在加工防碎膜时可能发生不良。
可以包括位于布置有所述保护膜的基材膜的另一表面上的光学胶(opticalclear adhesive)层。
所述光学胶层可以具有-30℃至0℃的玻璃化转变温度(Tg)以抑制由工艺和外部杂质引起的压迫。
所述光学胶层对玻璃的粘合力可以等于或高于15N/英寸以当玻璃破坏时放置玻璃飞散。例如，所述光学胶层对玻璃的粘合力可以为15N/英寸至30N/英寸。当光学胶层的粘合力落在所述范围内时，可以具有足够的防碎效果，并且，在工艺不良的情况下可以容易地进行用于再使用玻璃的返工工艺。
所述光学胶层的厚度可以为15μm至50μm。当光学胶层的厚度落在所述范围内时，可以防止由于压迫引起的缺陷发生，并且可以适度地维持光学胶层的粘合力。
所述光学胶层可以进一步包括固化剂。作为所述固化剂，只要是能够固化所述高分子树脂的物质，不受特别的限制。例如，可以使用异氰酸酯类固化剂、环氧类固化剂、氮丙啶类固化剂，或其组合作为所述固化剂。基于光学胶层的总重量，可以包括0.5重量％至1.0重量％的所述固化剂。当固化剂的含量落在所述范围内时，不会发生粘合力降低，并且在耐热和耐湿环境下也不会产生耐久性降低和卷取产品时的压迫。
在所述光学胶层中，离型膜可以进一步布置于所述光学胶层上。
可以使用聚酯类膜作为所述离型膜，但不限于此，并且可以使用在本技术领域中可使用的所有离型膜材料。
当用黑色进行屏蔽印刷时，在使用D65光源测量的Lab颜色坐标上，所述防碎膜可以具有反射颜色亮度(L*)7、a*(红色、绿色)3.5、b*(黄色、蓝色)2.7的反射颜色。
当用白色进行屏蔽印刷时，在使用D65光源测量的Lab颜色坐标上，所述防碎膜可以具有反射颜色亮度(L*)63、a*(红色、绿色)-25.8、b*(黄色、蓝色)-48.3的反射颜色。
所述防碎膜在400nm至小于600nm的波长的可见光波长区域中的光透过率可以等于或高于30％。
图1为根据一实现例的防碎膜10的剖面示意图。
参照图1，根据一实现例的防碎膜10具有基材膜1(包括纳米层叠膜)，以及用于保护膜的粘合剂层(2)和保护膜基材3组成的保护膜4依序布置，并且在所述基材膜1(包括纳米层叠膜)的另一表面上依序布置有光学胶层5(OCA)和离型膜6的结构。
所述防碎膜10不使用梯度印刷和紫外线成型等的工艺也可以体现各种设计。并且，可以通过在所述防碎膜10本身进行用于改善皱纹现象的高温热处理来改善所述防碎膜10的加工性。
根据另一实现例的电子显示器可以包括上述的防碎膜10。所述电子显示器例如可以包括用于室内和屋外的图像显示装置、携带型个人终端、车辆用导航装置、遥控器、无人汽车驱动显示装置，或用于控制雄蜂的板等。
根据另一实现例的电子装置可以包括上述的防碎膜10。所述电子装置可以包括移动器械或通信电子器械等。
以下，将通过实施例和比较例更加详细地描述本发明的构成以及由其引起的效果。然而，本实施例仅用于更加具体地描述本发明且本发明的范围不限于这些实施例是显而易见的。
[实施例]
实施例1：防碎膜
准备了具有72μm的厚度的基材膜(QPC8,TORAY PICASUS DC)，其上布置有具有不同屈折率的复数个纳米层叠膜。在所述基材膜的一个表面上用光学胶(OCA，TPO-3293，SAIDEN社)来形成25μm厚度的光学胶(Optical clear adhesive；OCA)层。将具有125μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethyelene terephthalate,PET)离型膜(Toray AdvancedMaterials RPKQ21)层压在所述光学胶(OCA)层上。在布置有所述光学胶(OCA)层的基材膜的另一表面上单独制作的具有50μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯上层压涂布10μm厚度的丙烯酸类粘合剂来形成粘合剂层的保护膜(CSC131 TAK社)，制作如图1所示的防碎膜。
比较例1：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于:代替所述厚度为72μm的基材膜使用厚度为50μm的基材膜(QPC8，TORAY PICASUS DC)，其上布置有屈折率不同的复数个纳米层叠膜。
比较例2：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于以使用厚度50μm的透明聚对苯二甲酸乙二醇酯基材膜(XU42，TORAY ADVANCED MATERIAL)代替所述厚度为72μm的基材膜(QPC8，TORAY PICASUS DC)。
比较例3：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述基材膜的一个表面上使用光学胶(OCA，SA400，INNO F&C社)而不使用所述光学胶(OCA，TPO-3293，SAIDEN社)。
比较例4：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述基材膜的一个表面上使用光学胶(OCA，CMT-6106，COSMOTEC社)而不使用所述光学胶(OCA，TPO-3293，SAIDEN社)。
比较例5：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述基材膜的一个表面上涂布以10μm厚度而不是25μm的厚度涂布所述光学胶(OCA，TPO-3293，SAIDEN社)来形成光学胶(optical clear adhesive)层。
比较例6：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述基材膜的一个表面上不是以25μm的厚度而是以55μm的厚度涂布所述光学胶(OCA，TPO-3293，SAIDEN社)来形成光学胶层(Optical clear adhesive；OCA)。
比较例7：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述粘合剂层上布置25μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜(CSF131 TAK社)，而不是50μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜(CSC131 TAK社)。
比较例8：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述粘合剂层上布置100μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜(TCF131 TAK社)，而不是50μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜。
比较例9：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述粘合剂层上布置25μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜(CSB131 TAK社)，而不是50μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯。
比较例10：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述粘合剂层上布置25μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜(CSE131 TAK社)，而不是50μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜(CSC131 TAK社)。
比较例11：防碎膜
以与实施例1相同的方法制作了防碎膜，不同之处在于在所述粘合剂层上布置25μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜(CHB131 TAK社.)，而不是50μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯保护膜(CSC131 TAK社)。
对根据实施例1和比较例1至11制备的防碎层叠膜的组成和厚度的摘要如以下的表1。
[表1]
Figure BDA0002933260680000101
评价例1：物性评价
根据如下的方法根据实施例1以及比较例1至11制备的防碎膜的物性，并将其结果显示在表2中。
(1)测量厚度(μm)
使用Nikon MS-11C Micrometer来分别测量用于根据实施例1和比较例1至11制备的防碎膜中的基材膜和保护膜的厚度。
(2)测量反射颜色(Lab颜色坐标)
对根据实施例1和比较例1至11制作的防碎膜中的每一个进行黑色屏蔽印刷和白色屏蔽印刷时，通过使用色差计(Nippon Denshoku SA-2000)并使用反射模式和D65光源来测量反射颜色。
(3)测量根据可见光波长区域带的光透过率(％)
对根据实施例1和比较例1至11制作的防碎膜中的每一个，通过使用UV-Visible-NIR Spectrometer(Shimazu UV-3600)来测量根据可见光波长区域带的光透过率。
(4)测量对玻璃的粘合力(N/英寸)
将根据实施例1和比较例1至11制作的防碎膜中的每一个的离型膜去掉并将防碎膜附着于玻璃上，然后，通过使用Cheminstrument AR-100以0.3m/分钟的速度和180°进行剥离来测量粘合力。
(5)评价保护膜的热收缩率(％)
将用于根据实施例1和比较例1至11制作的防碎膜上的保护膜分别在120℃下加热一个小时，然后，测量纵向(machine direction；MD)长度和横向(transverse direction；TD)长度来根据以下的式1测量热收缩率。
<式1>
MD热收缩率(％)＝[{(加热前保护膜的MD长度-加热后保护膜的MD长度)/(加热前保护膜的MD长度)}×100]
TD热收缩率(％)＝[{(加热前保护膜的TD长度-加热后保护膜的TD长度)/(加热前保护膜的TD长度)×100}]
(6)除去气泡、桔皮面(orange peel)、粘合剂是否转移
将根据实施例1和比较例1至11制作的防碎膜中的每一个的离型膜去掉并将防碎膜附着于玻璃上，然后，使用肉眼确认气泡是否被除去，是否形成桔皮面(orange peel)，以及粘合剂是否转移。
[表2]
Figure BDA0002933260680000111
Figure BDA0002933260680000121
参照所述表2，可见根据实施例1制作的防碎膜在可见光波长区域带具有较低的光透过率，反射颜色和对玻璃的粘合力也得以改善，在层压玻璃后气泡除去、桔皮面形成、粘合剂转移的方面和剥离时的操作性优异，将保护膜分别在120℃下加热1小时后的热收缩率较低，因此合适用于电子显示器的装饰膜。
相比之下，根据比较例1制作的防碎膜中纳米层压膜中层叠的纳米层叠膜的数量改变，因此在可见光600nm至750nm的波长区域中光透过率上升，并且反射颜色坐标也改变。根据比较例2制作的防碎膜是应用光学用透明聚对苯二甲酸乙二醇酯基材膜的，其在反射颜色坐标和可见光波长区域带具有较高的光透过率，因此不适用于省略梯度和紫外线成型而进行制备的防碎膜。根据比较例3制作的防碎膜在光学胶(OCA)层中的玻璃化转变温度(Tg)较高导致粘合剂硬化，在层压玻璃后没能除去气泡。在根据比较例4制作的防碎膜中，光学胶层的玻璃化转变温度(Tg)导致粘合剂软化，因此发生外部的压迫、桔皮面现象，以及粘合剂转移。根据比较例5制作的防碎膜的对玻璃的粘合力降低，在根据比较例6制作的防碎膜中，发生桔皮面现象和粘合剂转移。将根据比较例7制作的防碎膜在120℃下加热1小时后剥离保护膜时，在基材膜上发生皱纹和折弯；将根据比较例8制作的防碎膜在120℃下加热1小时后剥离保护膜时，附着于另一表面的光学胶层上的离型膜翘起，从而导致气泡混入。将根据比较例9至11制作的防碎膜在120℃下加热1小时时，在基材膜上发生大于10mm的卷曲，难以适用于防碎膜。
虽然已在此描述了某些示例性实施例和实施方式，但是根据该描述，其它实施例和修改将是明显的。因此，本发明构思不限于这些实施例，而是限于所附权利要求的更宽范围，并且对于本领域普通技术人员来说，各种显而易见的修改和等同布置将是明显的。

Claims (13)

1.一种防碎膜，其包括：
聚酯基基材膜；
位于所述基材膜的一个表面上的保护膜；以及
光学胶层，其位于布置有所述保护膜的基材膜的另一表面上，
其中，所述基材膜包括具有不同屈折率的复数个纳米层叠膜，并且在600nm至750nm波长的可见光波长区域带的光透过率等于或低于30％。
2.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述基材膜的厚度为65μm至80μm。
3.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述保护膜的基材的厚度为35μm至75μm。
4.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，
所述保护膜的在120℃下加热1小时后的纵向的热收缩率为0.15％至0.40％，并且横向的热收缩率为0％至0.15％。
5.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述光学胶层具有-30℃至0℃的玻璃化转变温度。
6.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述光学胶层的对剥离的粘合力等于或高于15N/英寸。
7.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述光学胶层的厚度为15μm至50μm。
8.根据权利要求1所述的防碎膜，其进一步包括位于所述光学胶层上的离型膜。
9.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，
当用黑色进行屏蔽印刷时，在使用D65光源测量的Lab颜色坐标上，所述防碎膜具有反射颜色亮度L*为7、a*为3.5、b*为2.7的反射颜色。
10.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，
当用白色进行屏蔽印刷时，在使用D65光源测量的Lab颜色坐标上，所述防碎膜具有反射颜色亮度L*为63、a*为-25.8、b*为-48.3的反射颜色。
11.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，
在400nm至小于600nm的波长的可见光波长区域中的所述防碎膜的光透过率等于或高于30％。
12.一种电子显示器，其包括根据权利要求1至11中任何一项的防碎膜。
13.一种包括如权利要求12所述的电子显示器的电子装置。
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