CN113277745A - 防指纹膜镀膜工艺、玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种防指纹膜镀膜工艺、玻璃，涉及镀膜技术领域，包括以下步骤：(a)离子源清洗：对玻璃基材进行等离子清洗；(b)去除水分：去除离子源清洗后的玻璃水分；(c)浸泡AF膜料：将玻璃趁热浸泡AF膜料中，使AF膜料与待镀面完全接触；(d)固烤：将浸泡AF膜料后的玻璃进行固烤，得到镀防指纹膜后玻璃。本发明能够缓解现有技术防指纹膜加工时间长，加工工艺复杂、成本高以及膜层易脱落的问题，改善镀膜效果，本工艺可极大缩短成膜时间，简化成膜工艺，且膜层结合力强，效果好，无需任何现有的蒸镀或喷涂设备。本发明工艺流程比喷涂法简单，膜料消耗小，镀膜效果比喷涂及蒸镀法好，可节约资源，减少成本，提高产能。

Description

防指纹膜镀膜工艺、玻璃
技术领域
本发明涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种防指纹膜镀膜工艺、玻璃。
背景技术
AF(Anti-Figerprint)防指纹膜主要应用于手机玻璃盖板、各种显示屏、汽车涂层等，具有降低表面能的功能，具备疏水、疏油特性，镀层表面可减少指纹以及各种污渍的附着，可防止因指纹或其他污渍污染屏幕使可见度降低，并且，已附着的污渍也可轻易去除。但AF防指纹膜的制备工艺通常比较复杂，膜料消耗大，蒸镀设备成本高且产能低，喷涂工艺虽节省了一定设备成本，但药液控制程度低，且常温下，AF药液与减反射膜或防眩膜或减反射膜+防眩膜层的反应不够完全，AF药液中的有效分子与相应膜层接触得不够紧密，导致镀膜品质差。
有鉴于此，特提出本发明。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种防指纹膜镀膜工艺，能够缓解现有技术防指纹膜加工时间长，加工工艺复杂、成本高以及膜层易脱落的问题。
本发明的目的之二在于提供一种上述防指纹膜镀膜工艺制备得到的玻璃。
为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：
第一方面，本发明提供了一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(a)离子源清洗：对玻璃基材进行等离子清洗；
(b)去除水分：去除离子源清洗后的玻璃的水分；
(c)浸泡AF膜料：将去除水分后的玻璃趁热浸泡AF膜料中，使AF膜料与待镀面完全接触；
(d)固烤：将浸泡AF膜料后的玻璃进行固烤，得到镀防指纹膜后玻璃。
进一步的，步骤(a)离子源清洗包括：真空式等离子清洗机在不通气体条件下进行等离子清洗，功率为50-400W，清洗时间为30-360s；或者，
大气式等离子清洗机在通入压缩空气条件下进行等离子清洗，功率为300-1800W，空气流量为1-5L/min，玻璃基材经过等离子清洗机腔体的速度为0.5-1.2m/min。
进一步的，步骤(b)去除水分的方式为热处理：对离子源清洗后的玻璃进行烘烤；热处理的工艺参数包括：烘烤温度为50-240℃，烘烤时间为1-20min。
进一步的，步骤(c)浸泡AF膜料的工艺参数包括：AF膜料的浓度为0.3-12％；
浸泡时间为10-30min。
进一步的，步骤(d)固烤的工艺参数包括：固烤温度为100-200℃，固烤时间为10-50min。
进一步的，所述玻璃基材为无膜层的素玻璃；或者，所述玻璃基材为镀有减反射膜层的玻璃；或者，所述玻璃基材为镀有防眩膜层的玻璃；或者，所述玻璃基材为镀有减反射膜层和防眩膜层的玻璃。
进一步的，所述工艺还包括先对玻璃基材进行清洁，再对玻璃基材进行等离子清洗的步骤。
进一步的，所述玻璃为铝硅酸盐玻璃，主要由氧化铝和二氧化硅组成。
第二方面，本发明提供了一种玻璃，采用上述防指纹膜镀膜工艺制备得到。
进一步的，所述玻璃为玻璃盖板。
本发明提供的防指纹膜镀膜工艺、玻璃至少具有如下有益效果：
本发明通过离子源清洗、去除水分、浸泡、固烤这几个步骤，不仅解决了膜层易脱落的问题，而且不用依赖特定设备，极大缩短镀膜时间，能够在较低的膜料浓度下就达到超过一般蒸镀工艺的镀膜效果。
与喷涂法相比，本工艺能有效解决AF膜层，特别是AR/AG/AG+AR膜层上AF膜层的易脱落问题，改善镀膜效果，而对比蒸镀法，本工艺可极大缩短成膜时间，简化成膜工艺，且膜层效果超过蒸镀法，无需任何现有的蒸镀或喷涂设备。总之，本发明工艺流程比喷涂法简单，膜料消耗小，镀膜效果却比喷涂及蒸镀法好，可节约资源，减少成本，提高产能。
同时，浸泡镀膜方案相对于喷涂或是蒸镀，与工件的接触更加充分，出现缺镀的几率小。如上说明，在进行镀膜后，再进行二次喷涂或是蒸镀时是难以二次补镀或补喷。
此外，本方案可用于大型工件的镀膜处理。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
术语解释：
AF：Anti-Figerprint防指纹；
AR：Anti-Reflection减反/增透；
AG：Anti-Glare防眩。
通常AF蒸镀工艺流程为：离子源清洗玻璃表面→(溅镀SiO2)→加热升华AF膜料→膜料分子沉积→膜料分子重排，蒸镀沉积膜层的结构更致密，与铝硅酸盐玻璃表面更匹配，结合力更好，但AF膜料与SiO2层有更好的附着力，会有更好的耐摩擦性能，因此为增强AF与AR膜层之间的结合力，部分工艺会先在AR膜层上溅镀SiO2，再镀AF膜。溅镀SiO2这一步骤虽有助于AF耐摩擦信赖性试验的通过，但增加了成本，降低了产能。
本发明针对原有的AF蒸镀工艺进行优化改进，取消了溅镀SiO2、加热升华AF膜料的步骤，并对AF膜料的成膜工艺进行优化，极大地缩短了镀膜时间，降低了成本，且使其与玻璃的结合力得到大幅提升。
根据本发明的第一个方面，提供了一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(a)离子源清洗：对玻璃基材进行等离子清洗；
(b)去除水分：去除离子源清洗后的玻璃的水分；
(c)浸泡AF膜料：将去除水分后的玻璃趁热浸泡AF膜料中，使AF膜料与待镀面完全接触；
(d)固烤：将浸泡AF膜料后的玻璃进行固烤，得到镀防指纹膜后玻璃。
本发明是一种特别适用于对带有AR/AG/AG+AR膜层的玻璃基材进行AF镀膜的工艺，因此，优选采用已有AR/AG/AG+AR膜层的玻璃为基材，这是一种铝硅酸盐玻璃，主要由氧化铝(Al2O3)和二氧化硅(SiO2)组成。
离子源清洗采用等离子清洗机进行清洗，类型包括真空式和大气式，优选为大气式，使该镀膜工艺完全适用于流水线量产，同时满足产品的信赖性要求。大气式等离子源清洗机可连接传送带装置进行自动物料传送，而真空式等离子源清洗机需人工手动启动设备以及上下料，且空间有限，因此大气式更适用于工厂量产。
在一种实施方式中，采用真空式等离子清洗机在不通气体条件下进行等离子清洗，功率为50-400W，清洗时间为30-360s。
功率典型但非限制性的例如为50、60、70、80、90、100、150、200、250、300、350、400W；清洗时间典型但非限制性的例如为30、40、50、60、70、80、90、100、150、200、250、300、360s。
在另一种实施方式中，采用大气式等离子清洗机在通入压缩空气条件下进行等离子清洗，功率为300-1800W，空气流量为1-5L/min，玻璃基材经过等离子清洗机腔体的速度为0.5-1.2m/min。
功率典型但非限制性的例如为300、400、500、600、700、800、900、1000、1200、1400、1500、1600、1800W。
空气流量典型但非限制性的例如为1、2、3、4、5L/min，速度典型但非限制性的例如为0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1.0、1.1、1.2m/min。
通过离子源清洗可有效去除玻璃表面脏污，活化玻璃表面，使其暴露出大量羟基，为后续AF膜的附着提供充分的反应位置，改善玻璃表面的黏着力，同时，不破坏AR膜层，避免AF与AR层的粘附力下降。
采用合适的参数，不会破坏AR膜层且保证清洁活化的作用效果。
在一种优选的实施方式中，去除水分的方式为热处理。
热处理采用烤箱或平板或隧道炉等进行，通过热处理可有效去除玻璃表面多余的水分子，使AF与玻璃表面的结合力更好，同时，玻璃高温状态下，接触AF瞬间，AF与玻璃表面羟基脱水反应加快，即AF中硅氧烷与玻璃表面羟基反应交联，快速形成链状或网状结构，因此而增加了AF膜的附着性。AF主剂中硅烷基水解交联成链状及网状的化学方程式如下：
Figure BDA0003102090890000051
Figure BDA0003102090890000061
热处理的作用：一是为了去除玻璃表面水分，防止主剂中硅烷基先与水反应自聚成链状或网状结构，而使其后续不能与玻璃反应，进而影响到AF膜层的结合力，此外，AF膜料里的有效成分为含氟主剂，与玻璃反应，但其活性大极易反应，因此需要体积多于含氟主剂几十甚至几百倍的溶剂去保护主剂，避免其与非目标物反应失去反应活性；二是AF液里的溶剂对AR膜层有破坏作用，一旦AR膜层被破坏，会严重影响AF与玻璃基材的结合力，并且，离子源清洗采用参数不适也对AR膜层有破坏作用，但热处理玻璃能有效弥补离子源清洗时对AR膜层的破坏，使其既能达到清洁活化效果又能不破坏AR膜层；三是AF液里的主剂、溶剂沸点不同，主剂远高于溶剂，且溶剂易挥发，热处理玻璃后浸泡，能增大玻璃与主剂分子接触面积，有利于反应进行。
在一种优选的实施方式中，热处理的工艺参数包括：烘烤温度为50-240℃，烘烤时间为1-20min。
烘烤温度典型但非限制性的例如为50、60、70、80、90、100、120、150、160、180、200℃，烘烤时间典型但非限制性的例如为1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、12、15、16、18、20min。
热处理温度对AF膜层的附着力以及AR膜层的破坏力有关，太低会减弱附着力，太高则AR膜层被破坏进而直接影响到AF膜层与玻璃基材的附着力。
浸泡时，AF膜料为常温，玻璃温度则从热处理温度开始下降至与AF膜料相同。浸泡效果与热处理温度有关，温度太低影响镀膜效果，玻璃开始浸泡时温度即为热处理温度，此处可设置成50-240℃。
热处理玻璃之后，趁热，将玻璃基材以浸泡的方式使AF膜料附着于其上，高温状态下，玻璃基材表面经离子源清洗后暴露出的大量羟基与AF中的含氟主剂迅速发生反应。AF膜料成膜后，玻璃基材具有出色的防指纹性能，防水防油，且不易被磨损。
在一种优选的实施方式中，浸泡AF膜料的工艺参数包括：膜料浓度为0.3-12％；浸泡时间为10-30min。
需要注意的是，AF膜料包括主料和溶剂，膜料成分为末端全氟链的硅烷基材料或活性硅烷基团+氟改性有机基团或醚类全氟化合物等。
膜料浓度是指膜料中主料占总膜料的百分比，浓度可以是质量浓度，也可以是体积浓度。
膜料浓度典型但非限制性的例如为0.3、0.5、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、12％；浸泡时间典型但非限制性的例如为10、15、20、25、30min。
需根据膜料配方、玻璃基材(有无膜层、膜层类型、若有AR膜层，还需考虑AR膜层的层数)来搭配该膜料配方的浓度和时间，以及热处理的时间和温度、等离子源清洗的功率、时间和气体流量等，以达到所需的镀膜效果。不同膜料配方达到所需镀膜效果的配方浓度不同。非最适参数下，钢丝绒摩擦测试后都达不到要求。
浸泡成膜后，立马将其置于烤箱中进行固烤，以增强AF与玻璃基材的粘附力，使AF膜具有更好的耐久性，不易脱落。
在一种优选的实施方式中，固烤的工艺参数包括：固烤温度为100-200℃，固烤时间为10-50min。
固烤温度典型但非限制性的例如为100、120、150、180、200℃，固烤时间典型但非限制性的例如为10、20、30、40、50min。
固烤是AF喷涂液与玻璃基材反应的重要步骤，温度太低、时间太短导致AF喷涂液与玻璃基材反应不完全，附着力太低，温度太高、时间过长则会破坏玻璃基材上AF主剂分子的结构，导致耐磨性大幅下降。
本发明取消使用了昂贵的蒸镀设备，采用浸泡工艺，并增加去除水分步骤，不仅极大地缩短了镀膜时间，增加产能，还能使AF膜层与玻璃基材表面的结合力得到提升，满足产品的信赖性要求，最大限度降低了膜料消耗以及材料成本。对比传统的AF蒸镀工艺，本工艺使用较低的膜料浓度，达到了超过蒸镀工艺的镀膜效果，且本发明应用的工艺流程比喷涂法更简单，成本更低。
作为一种典型的防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)等离子清洗：真空式等离子清洗机在不通气体条件下，以50-400W的功率对玻璃进行等离子清洗，清洗时间为30-360s；大气式等离子清洗机在通入压缩空气条件下，以300-1800W的功率，1-5L/min的空气流量对玻璃进行等离子清洗，玻璃基材经过等离子清洗机腔体的速度为0.5-1.2m/min。
(3)热处理玻璃：在烤炉中50-240℃烘烤玻璃基材1-20min。
(4)上AF膜料：烘烤完趁热将玻璃浸入浓度0.3-12％的AF膜料中，使AF液体膜料与待镀面完全接触，浸泡10-30min；
(5)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中100-200℃烘烤10-50min。
热处理保持了一定温度利于AF中硅氧烷与玻璃表面羟基反应交联，快速形成链状或网状结构。若AF在与玻璃反应之前先与水反应，其形成链状或网状结构之后，便无法再与玻璃反应，因此玻璃热处理是为了去除水分，避免AF药水先于玻璃而与水反应，失去反应活性。
AF与玻璃反应后再脱水形成链状或网状结构，增加附着力。
根据本发明的第二个方面，提供了一种玻璃，采用上述防指纹膜镀膜工艺制备得到。
进一步的，玻璃为玻璃盖板。
采用上述工艺获得的玻璃AF膜层结合力强，耐摩擦，膜层不易脱落。
下面通过实施例对本发明作进一步说明。如无特别说明，实施例中的材料为根据现有方法制备而得，或直接从市场上购得。
AF液体膜料选用成分为末端全氟链的硅烷基材料或活性硅烷基团+氟改性有机基团或醚类全氟化合物等，实施例可选择例如台湾天雄的型号980AF-3膜料。
实施例1
一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃(带有AR膜层玻璃，层数16，主要成分SixNy)，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)等离子清洗：真空式等离子清洗机在不通气体条件下，以100W的功率对玻璃进行等离子清洗，清洗时间为30s。
(3)热处理玻璃：在烤炉中160℃烘烤玻璃基材30s。
(4)上AF膜料：烘烤完趁热将玻璃浸入质量浓度0.8％的AF膜料中，使AF液体膜料与待镀面完全接触，浸泡30s；
(5)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中120℃烘烤10min。
实施例2
一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃(带有AR膜层玻璃，层数16，主要成分SixNy)，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)等离子清洗：真空式等离子清洗机在不通气体条件下，以100W的功率对玻璃进行等离子清洗，清洗时间为30s。
(3)热处理玻璃：在烤炉中90℃烘烤玻璃基材30s。
(4)上AF膜料：烘烤完趁热将玻璃浸入质量浓度0.8％的AF膜料中，使AF液体膜料与待镀面完全接触，浸泡30s；
(5)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中120℃烘烤10min。
实施例3
一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃(带有AR膜层玻璃，层数16，主要成分SixNy)，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)等离子清洗：大气式等离子清洗机在通入压缩空气条件下，以500W的功率，3.1L/min的空气流量对玻璃进行等离子清洗，玻璃基材经过等离子清洗机腔体的速度为0.3m/min。
(3)热处理玻璃：在烤炉中90℃烘烤玻璃基材30s。
(4)上AF膜料：烘烤完趁热将玻璃浸入质量浓度0.8％的AF膜料中，使AF液体膜料与待镀面完全接触，浸泡30s；
(5)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中120℃烘烤10min。
实施例4
一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃(带有AR膜层玻璃，层数7，主要成分SixNy)，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)等离子清洗：真空式等离子清洗机在不通气体条件下，以300W的功率对玻璃进行等离子清洗，清洗时间为90s。
(3)热处理玻璃：在烤炉中90℃烘烤玻璃基材3min。
(4)上AF膜料：烘烤完趁热将玻璃浸入质量浓度0.8％的AF膜料中，使AF液体膜料与待镀面完全接触，浸泡30s；
(5)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中120℃烘烤10min。
实施例5
一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃(带有AR膜层玻璃，层数7，主要成分Nb2O5)，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)等离子清洗：真空式等离子清洗机在不通气体条件下，以300W的功率对玻璃进行等离子清洗，清洗时间为90s。
(3)热处理玻璃：在烤炉中90℃烘烤玻璃基材9min。
(4)上AF膜料：烘烤完趁热将玻璃浸入质量浓度0.8％的AF膜料中，使AF液体膜料与待镀面完全接触，浸泡30s；
(5)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中120℃烘烤10min。
实施例6
一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃(带有AG膜层玻璃)，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)等离子清洗：真空式等离子清洗机在不通气体条件下，以100W的功率对玻璃进行等离子清洗，清洗时间为30s。
(3)热处理玻璃：在烤炉中90℃烘烤玻璃基材30s。
(4)上AF膜料：烘烤完趁热将玻璃浸入质量浓度0.8％的AF膜料中，使AF液体膜料与待镀面完全接触，浸泡30s；
(5)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中120℃烘烤10min。
实施例7
一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃(带有AG+AR膜层(16层，主要成分SixNy)玻璃)，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)等离子清洗：真空式等离子清洗机在不通气体条件下，以100W的功率对玻璃进行等离子清洗，清洗时间为30s。
(3)热处理玻璃：在烤炉中90℃烘烤玻璃基材30s。
(4)上AF膜料：烘烤完趁热将玻璃浸入质量浓度0.8％的AF膜料中，使AF液体膜料与待镀面完全接触，浸泡30s；
(5)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中120℃烘烤10min。
对比例1
一种防指纹膜镀膜工艺，包括以下步骤：
(1)清洁：无尘布蘸酒精清洁玻璃(带有AR膜层玻璃)，去除玻璃表面灰尘等污染物。
(2)蒸镀：AF膜料浓度12-20％进行蒸镀，物理过程包括：固体膜料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子向基材表面沉积→气态粒子附着在基材表面成核，长大成膜→薄膜原子重构或产生化学键合。
(3)固烤：浸泡后将仍为湿润状态AF膜层的玻璃基材快速放入烤炉中120℃烘烤10min。
对比例2
本对比例与实施例1的区别在于，步骤(4)上AF膜料改为浇淋方式。
对比例3
本对比例与实施例1的区别在于，步骤(4)上AF膜料改为喷涂方式，将液体膜料装入高压罐，利用高压将液体膜料经喷嘴喷成喷雾状至玻璃基材上。
对比例4
本对比例与实施例2的区别在于，省去步骤(2)等离子清洗步骤。
对比例5
本对比例与实施例2的区别在于，省去步骤(3)热处理步骤。
对比例6
本对比例与实施例2的区别在于，省去步骤(5)固烤步骤。
对比例7
本对比例与实施例4的区别在于，在步骤(5)固烤步骤之前加上二次浸泡步骤：浸泡一次后拿起玻璃，等待玻璃表面膜料沥干后(30s)，再次将玻璃浸入AF膜料。
对比例8
本对比例与实施例2的区别在于，所用玻璃基材的AR膜层为7层。
对比例9
本对比例与实施例4的区别在于，步骤(2)等离子清洗步骤中参数为：功率100W，时间30s。
对比例10
本对比例与实施例4的区别在于，步骤(3)热处理步骤中热处理时间30s。
对比例11
本对比例与实施例4的区别在于，所用玻璃基材的AR膜层主要成分为Nb2O5。
对比例12
本对比例与实施例5的区别在于，步骤(3)热处理步骤中热处理时间为9min。
试验例
将实施例和对比例获得的玻璃进行耐摩擦测试，测试条件：Bonstar 0000号钢丝绒，10×10mm，行程40mm，60次/min，5000次，测试点5个，测试环境：25±3℃，RH<45％。结果见下表。在不同摩擦次数下，测试摩擦后水滴角平均值。
Figure BDA0003102090890000141
Figure BDA0003102090890000151
注：摩擦后水滴角是体现膜层的脱落情况，水滴角越高代表玻璃基材疏水疏油性能越好，即膜层与玻璃基材的附着力越好。
对比传统的AF蒸镀工艺，本工艺使用较低的膜料浓度，达到了超过蒸镀工艺的镀膜效果，且本发明应用的工艺流程比喷涂法更简单，成本更低。由表中对比例4-6可知，该工艺中离子源清洗、热处理和固烤三个步骤缺一不可，尤其是热处理过程，由表中对比例7可知，AF与玻璃的反应是迅速的，一次性反应完成的，二次反应会破坏玻璃表面已形成的链状或网状结构，造成膜层易脱落，以上改善方案中，浸泡法的耐摩擦信赖性测试结果最好，膜层不易脱落，其中，实施例3产能最高，为最佳量产方案。
此外，对比例也可以看出，根据膜料配方、膜层材质和膜层需搭配合适的膜料浓度、时间、热处理的时间和温度、等离子源清洗的功率、时间和气体流量等，以达到所需的镀膜效果。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种防指纹膜镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(a)离子源清洗：对玻璃基材进行等离子清洗；
(b)去除水分：去除离子源清洗后的玻璃的水分；
(c)浸泡AF膜料：将去除水分后的玻璃趁热浸泡AF膜料中，使AF膜料与待镀面完全接触；
(d)固烤：将浸泡AF膜料后的玻璃进行固烤，得到镀防指纹膜后玻璃。
2.根据权利要求1所述的防指纹膜镀膜工艺，其特征在于，步骤(a)离子源清洗包括：真空式等离子清洗机在不通气体条件下进行等离子清洗，功率为50-400W，清洗时间为30-360s；或者，
大气式等离子清洗机在通入压缩空气条件下进行等离子清洗，功率为300-1800W，空气流量为1-5L/min，玻璃基材经过等离子清洗机腔体的速度为0.5-1.2m/min。
3.根据权利要求1所述的防指纹膜镀膜工艺，其特征在于，步骤(b)去除水分的方式为热处理：对离子源清洗后的玻璃进行烘烤；
热处理的工艺参数包括：烘烤温度为50-240℃，烘烤时间为1-20min。
4.根据权利要求1所述的防指纹膜镀膜工艺，其特征在于，步骤(c)浸泡AF膜料的工艺参数包括：AF膜料的浓度为0.3-12％；
浸泡时间为10-30min。
5.根据权利要求1所述的防指纹膜镀膜工艺，其特征在于，步骤(d)固烤的工艺参数包括：固烤温度为100-200℃，固烤时间为10-50min。
6.根据权利要求1-5任一项所述的防指纹膜镀膜工艺，其特征在于，所述玻璃基材为无膜层的素玻璃；或者，
所述玻璃基材为镀有减反射膜层的玻璃；或者，
所述玻璃基材为镀有防眩膜层的玻璃；或者，
所述玻璃基材为镀有减反射膜层和防眩膜层的玻璃。
7.根据权利要求1-5任一项所述的防指纹膜镀膜工艺，其特征在于，还包括先对玻璃基材进行清洁，再对玻璃基材进行等离子清洗的步骤。
8.根据权利要求1-5任一项所述的防指纹膜镀膜工艺，其特征在于，所述玻璃为铝硅酸盐玻璃，主要由氧化铝和二氧化硅组成。
9.一种玻璃，其特征在于，采用权利要求1-8任一项所述的防指纹膜镀膜工艺制备得到。
10.根据权利要求9所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃为玻璃盖板。
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