CN113269842A - 图形光栅化方法、装置及存储介质 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种图形光栅化方法、装置及存储介质，属于图像处理技术领域，该方法包括：获取待光栅化目标；确定待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；对目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；对光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；对于每个裁切区域，在裁切区域包括目标图形时读取目标图形对应的光栅化图形；可以解决对重复的目标图形均进行一次光栅化会浪费电子设备的资源，降低图形光栅化效率的问题；解决同一文件中相同图形一致性问题，使得线宽一致性得到了保证。由于对于重复的目标图形只需要进行一次光栅化过程，后续只需要调用光栅化图形即可，因此可以提高光栅化效率，节省设备资源。

Description

图形光栅化方法、装置及存储介质

技术领域

本申请涉及一种图形光栅化方法、装置及存储介质，属于图像处理技术领域。

背景技术

光刻设备是将所需图案加在衬底(例如：工件、对象、显示器等)的目标部分上的设备。光刻设备可以用在例如集成电路(IC)、平板显示器和其他含精细结构的器件的制造上。传统光刻设备中的图案形成装置(也称为掩模或掩模原版)可用于产生与IC(或其他器件)的一个单层相对应的电路图案，该电路图案可以成像在涂有一层辐射敏感材料的衬底的目标部分上。图案形成装置可以包括单独可控单元阵列来代替掩模产生电路图案。使用这种阵列的光刻系统通常称为无掩模系统。

常见激光无掩模直写光刻方法包括：数字微镜器(Digital Micromirror Device，DMD)逐光场拼接曝光法、声光偏转器(Acousto Optical Deflectors，AOD)与声光调制器(Acousto-optical Modulators，AOM)高速扫描法、激光束直接聚焦单光点填充法等。激光直写光刻输入文件数据格式通常有GDSII、Gerber、DXF等。上述方法均需要将输入文件格式转换成适合设备自身工作的数据格式，其中将输入图形进行光栅化是其中重要的一个环节(即光栅化示意图)。

由于激光直写是逐区域写入曝光，因此传统光栅化方法包括：将整个图形按设定的矩形框大小进行裁切分割，再对分割后的区域图形进行光栅化。

然而，在多个同样的图形存在于不同的区域位置时，被裁切后可能处于不同的矩形框内。此时，后期各矩形框内光栅化由于计算数值误差的存在会导致相同的图形在不同矩形框内出现像素大小不一致现象；同时，多个重复相同图形多次调用光栅化过程，降低了整体光栅化效率。

发明内容

本申请提供了一种图形光栅化方法、装置及存储介质，可以解决对重复的目标图形均进行一次光栅化会浪费电子设备的资源，降低图形光栅化效率的问题。解决同一文件中相同图形一致性问题，使得线宽一致性得到了保证。本申请提供如下技术方案：

第一方面，提供了一种图形光栅化方法，所述方法包括：

获取待光栅化目标；

确定所述待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；

对所述目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；

对所述光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；

对于每个裁切区域，在所述裁切区域包括所述目标图形时读取所述目标图形对应的光栅化图形。

可选地，所述确定所述待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形，包括：

遍历所述待光栅化目标中的各个图形，得到每个图形对应的特征信息；

统计具有相同特征信息的图形的个数；

在所述个数大于或等于预设个数时，确定具有所述相同特征信息的图形为所述目标图形。

可选地，所述统计具有相同特征信息的图形的个数，包括：

对于所述待光栅化目标中的每个图形，在获取到所述图形对应的特征信息之后生成所述特征信息的特征标识，不同特征信息对应的特征标识的长度相同；

确定是否已存储有所述特征标识；

在未存储所述特征标识时，建立所述特征标识、签名计数、所述特征信息之间的关联关系，所述签名计数初始化值为1；

在已存储有所述特征标识时，在所述特征标识所属的关联关系中将签名计数的值加1；

其中，所述签名计数的值为具有相同特征信息的图形的个数。

可选地，所述特征信息包括位置描述信息和形状描述信息和尺寸描述信息，所述生成所述特征信息的特征标识，包括：

基于签名算法对所述特征信息中的所述形状描述信息和所述尺寸描述信息进行计算，得到所述特征信息对应的特征标识。

可选地，所述待光栅化目标中的各个图形包括封闭多边形，所述位置描述信息包括：目标节点的坐标位置；所述形状描述信息包括：图形标识、节点数量；所述尺寸描述信息包括：其它节点相对于所述目标节点的距离；和/或，

所述待光栅化目标中的各个图形包括圆形，所述位置描述信息包括：圆心坐标位置；所述形状描述信息包括：图形标识；所述尺寸描述信息包括圆形的半径；和/或，

所述待光栅化目标中的各个图形包括矩形，所述位置描述信息包括：目标顶点的坐标位置；所述形状描述信息包括：图形标识；所述尺寸描述信息包括矩形的宽度和矩形的高度。

可选地，所述方法还包括：

对于每个裁切区域，在所述裁切区域未包括所述目标图形时对所述裁切区域中的图形进行光栅化。

第二方面，提供了一种图形光栅化装置，所述装置包括：

目标获取模块，用于获取待光栅化目标；

图形确定模块，用于确定所述待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；

光栅化模块，用于对所述目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；

目标裁切模块，用于对所述光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；

数据读取模块，用于对于每个裁切区域，在所述裁切区域包括所述目标图形时读取所述目标图形对应的光栅化图形。

可选地，所述图形确定模块，用于：

遍历所述待光栅化目标中的各个图形，得到每个图形对应的特征信息；

统计具有相同特征信息的图形的个数；

在所述个数大于或等于预设个数时，确定具有所述相同特征信息的图形为所述目标图形。

第三方面，提供一种图形光栅化装置，所述装置包括处理器和存储器；所述存储器中存储有程序，所述程序由所述处理器加载并执行以实现第一方面所述的图形光栅化方法。

第四方面，提供一种计算机可读存储介质，所述存储介质中存储有程序，所述程序由所述处理器加载并执行以实现第一方面所述的图形光栅化方法。

本申请的有益效果在于：通过获取待光栅化目标；确定待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；对目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；对光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；对于每个裁切区域，在裁切区域包括目标图形时读取目标图形对应的光栅化图形；可以解决对重复的目标图形均进行一次光栅化会浪费电子设备的资源，降低图形光栅化效率的问题；同时对于目标图形不进行裁切，而是读取对应的光栅化图形，解决了应裁切而存在的计算数值误差，避免了相同的图形因裁切位置的不同，而出现像素大小不一致现象，解决了相同图形线宽不一致的问题。由于对于重复的目标图形只需要进行一次光栅化过程，后续只需要调用光栅化图形即可，因此可以提高光栅化效率，节省设备资源；解决了相同图形一致性问题，使得线宽一致性得到了保证。

上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1是本申请一个实施例提供的图形光栅化方法的流程图；

图2是本申请一个实施例提供的待光栅化目标的示意图；

图3是本申请一个实施例提供的确定目标图形的流程图；

图4是本申请一个实施例提供的封闭多边形的特征信息的示意图；

图5是本申请一个实施例提供的圆形的特征信息的示意图；

图6是本申请一个实施例提供的矩形的特征信息的示意图；

图7是本申请一个实施例提供的图形特征信息记录表的示意图；

图8是本申请一个实施例提供的获取特征标识的示意图；

图9是本申请一个实施例提供的图形特征信息签名表的示意图；

图10是本申请一个实施例提供的目标图形的光栅化过程的示意图；

图11是本申请一个实施例提供的裁切待光栅化目标的示意图；

图12是本申请一个实施例提供的对待光栅化目标进行光栅化的示意图；

图13是本申请一个实施例提供的图形光栅化装置的框图；

图14是本申请一个实施例提供的图形光栅化装置的框图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本申请的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本申请，但不用来限制本申请的范围。

首先，对本申请涉及的若干名词进行介绍。

光栅化(Rasterization)：是指将图转化为一个个栅格组成的图像的过程。

光栅化规则：用于定义矢量数据如何映射到光栅数据。光栅数据将贴靠到随后会被剔除和剪裁的整数位置(目的是绘制最低数量的像素)，并且每像素属性在传递到像素着色器之前会被内插(从每顶点属性)。现有的光栅化规则包括：三角形光栅化规则、线条光栅化规则、点光栅化规则、多重采样抗锯齿光栅化规则等。

可选地，本申请以各个实施例的执行主体为电子设备为例进行说明，该电子设备可以是终端或者服务器，终端可以是计算机、手机、平板电脑等，本实施例不对电子设备的类型作限定。示意性地，电子设备用于控制光刻系统进行激光无掩模直写光刻。

图1是本申请一个实施例提供的图形光栅化方法的流程图。该方法至少包括以下几个步骤：

步骤101，获取待光栅化目标。

待光栅化目标包括多个待光栅化图形，该待光栅化图形包括圆形、三角形、矩形、线形和/或点形，本实施例不对待光栅化图形的类型作限定。参考图2所示的光栅化目标21，该光栅化目标21包括3个三角形、2个圆形和1个矩形。

步骤102，确定待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形。

由于待光栅化目标可能包括尺寸相同、形状形同只是位置不同的目标图形，若对每个目标图形均进行一次光栅化，则会浪费电子设备的资源，降低图形的光栅化效率。

可选地，参考图3，确定待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形，至少包括步骤31-33：

步骤31，遍历待光栅化目标中的各个图形，得到每个图形对应的特征信息。

图形的特征信息包括位置描述信息和形状描述信息和尺寸描述信息。

参考图4，待光栅化目标中的各个图形包括封闭多边形(比如：图2中的三角形)，位置描述信息包括：目标节点的坐标位置41；形状描述信息包括：图形标识42和节点数量43(三角形的节点数量为3)；尺寸描述信息包括：其它节点相对于目标节点的距离44。

其中，图形标识用于标识具有相同特征信息的图形，该图形标识可以是随机生成的字符串；或者是按顺序生成的编码，本实施例不对图形标识的生成方式作限定。

目标节点为封闭多边形上的任意一个节点(或称拐点、节点等)。其它节点是指封闭多边形上除目标节点之外的各个节点。

其它节点相对于目标节点的距离通过其它节点的x轴坐标与目标节点的x轴的坐标之间的差值，和其它节点的y轴坐标与目标节点的y轴的坐标之间的差值表示。

和/或，参考图5，待光栅化目标中的各个图形包括圆形，位置描述信息包括：圆心坐标位置51；形状描述信息包括：图形标识52；尺寸描述信息包括圆形的半径53。

和/或，参考图6，待光栅化目标中的各个图形包括矩形，位置描述信息包括：目标顶点的坐标位置61；形状描述信息包括：图形标识62；尺寸描述信息包括矩形的宽度63和矩形的高度64。

其中，矩形的目标顶点为矩形上的任意一个顶点，比如：左顶点。

步骤32，统计具有相同特征信息的图形的个数。

对于待光栅化目标中的每个图形，在获取到图形对应的特征信息之后生成特征信息的特征标识；确定是否已存储有特征标识；在未存储特征标识时，建立特征标识、签名计数、特征信息之间的关联关系；在已存储有特征标识时，在特征标识所属的关联关系中将签名计数的值加1。

其中，签名计数初始化值为1，签名计数的值为具有相同特征信息的图形的个数；不同特征信息对应的特征标识的长度相同。生成特征信息的特征标识，包括：基于签名算法对特征信息中的形状描述信息和尺寸描述信息进行计算，得到特征信息对应的特征标识。

签名算法用于将不同特征信息转换为具有相同字符长度的字符串。签名算法包括但不限于MD5信息摘要算法、SHA算法等，本实施例不对签名算法的类型作限定。

由于签名算法对相同信息进行计算得到的字符串相同，对不同信息进行计算得到的字符串不同，而待光栅化目标中重复图形的形状描述信息和尺寸描述信息相同、位置描述信息不同，因此，本实施例中通过仅对形状描述信息和尺寸描述信息进行计算，可以得到相同的字符串，从而保证重复图形具有相同的特征标识。

可选地，电子设备在获取到图形对应的特征信息后将该特征信息存储至预设的图形特征信息记录表，比如：参考图7，将图4所示的特征信息存储至图形特征信息记录表中的位置71，得到图形3的特征信息；将图5所示的特征信息存储至图形特征信息记录表中的位置72，得到图形2的特征信息；将图6所示的特征信息存储至图形特征信息记录表中的位置73，得到图形1的特征信息。此时，图形的特征信息还包括对应的特征标识在图形特征信息记录表中的存储位置，参考图4中的46；图5中的54和图6中的65。

对于每个图形的特征信息，电子设备检测是否存在该特征信息对应的特征标识；若不存在，则计算该特征信息对应的特征标识。参考图8所示的计算特征信息对应的特征标识的过程。图8中以三角形的特征信息为例，电子设备将三角形的各个特征信息首尾相连得到字符串81，使用MD5算法对字符串81中的形状描述信息和尺寸描述信息进行计算，即除三角形中目标节点的坐标(96，254)之外的其它信息进行计算，得到特征标识82。此时，特征信息对应的签名计数为1。若存在特征信息对应的特征标识，则电子设备将特征信息所属的关联关系中的签名计数加1。

可选地，电子设备在获取到特征标识和签名计数之后，将特征标识、签名计数和特征信息的存储位置存储至预设的图形特征信息签名表中，得到特征标识、签名计数和特征信息之间的关联关系。比如：参考图9，将图8所示的特征标识82、签名计数83和特征信息的存储位置84存储至图形特征信息签名表的位置91中。位置91还包括光栅化图形存储地址，该光栅化图形存储地址用于指示对应的图形光栅化后的存储位置。光栅化图形存储位置初始化为空。

假设基于上述步骤对图2所示的待光栅化目标进行遍历，得到的图形特征信息记录表和图形特征信息签名表如图10所示，三角形对应的签名计数为3、圆形的签名计数为2、矩形的签名计数为1。

步骤33，在个数大于或等于预设个数时，确定具有相同特征信息的图形为目标图形。

预设个数为2、3等整数，本实施例不对预设个数的取值作限定。

以预设个数为2为例，按照图10所示的签名计数可知，三角形和圆形均为目标图形。

步骤103，对目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形。

可选地，由于目标图形的重复个数较多，在对目标图形进行光栅化时，电子设备可以随机选择一个目标图形进行光栅化；或者，选择指定位置的目标图形进行光栅化。

对图10所示的三角形和圆形进行光栅化得到的光栅化图形参考图10中101和102。

步骤104，对光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域。

假设对图2所示的光栅化目标进行裁切得到的多个裁切区域如图11所示。

裁切区域可以为矩形、多边形等规则图形；或者也可以是不规则图形；不同的裁切区域尺寸相同或不同，本实施例不对电子设备的裁切方式作限定。

步骤105，对于每个裁切区域，在裁切区域包括目标图形时读取目标图形对应的光栅化图形。

可选地，对于每个裁切区域，在裁切区域未包括目标图形时对裁切区域中的图形进行光栅化。

比如：图11所示的矩形框1含有图形3-1，通过签名表可查明图形3-1已经被预光栅化，因此无需对图形3-1执行光栅化过程，直接拷贝属于该矩形框内的内存数据实现光栅化，如图12所示。对于1-1图形由于未被预光栅化，因此需调用光栅化过程完成该图形的光栅化。

综上所述，本实施例提供的图形光栅化方法，通过获取待光栅化目标；确定待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；对目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；对光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；对于每个裁切区域，在裁切区域包括目标图形时读取目标图形对应的光栅化图形；可以解决对重复的目标图形均进行一次光栅化会浪费电子设备的资源，降低图形光栅化效率的问题；同时对于目标图形不进行裁切，而是读取对应的光栅化图形，解决了应裁切而存在的计算数值误差，避免了相同的图形因裁切位置的不同，而出现像素大小不一致现象，解决了相同图形线宽不一致的问题。由于对于重复的目标图形只需要进行一次光栅化过程，后续只需要调用光栅化图形即可，因此可以提高光栅化效率，节省设备资源；解决了相同图形一致性问题，使得线宽一致性得到了保证。

图13是本申请一个实施例提供的图形光栅化装置的框图。该装置至少包括以下几个模块：目标获取模块1301、图形确定模块1302、光栅化模块1303、目标裁切模块1304和数据读取模块1305。

目标获取模块1301，用于获取待光栅化目标；

图形确定模块1302，用于确定所述待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；

光栅化模块1303，用于对所述目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；

目标裁切模块1304，用于对所述光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；

数据读取模块1305，用于对于每个裁切区域，在所述裁切区域包括所述目标图形时读取所述目标图形对应的光栅化图形。

可选地，所述图形确定模块1302，用于：

遍历所述待光栅化目标中的各个图形，得到每个图形对应的特征信息；

统计具有相同特征信息的图形的个数；

在所述个数大于或等于预设个数时，确定具有所述相同特征信息的图形为所述目标图形。

相关细节参考上述方法实施例。

需要说明的是：上述实施例中提供的图形光栅化装置在进行图形光栅化时，仅以上述各功能模块的划分进行举例说明，实际应用中，可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能模块完成，即将图形光栅化装置的内部结构划分成不同的功能模块，以完成以上描述的全部或者部分功能。另外，上述实施例提供的图形光栅化装置与图形光栅化方法实施例属于同一构思，其具体实现过程详见方法实施例，这里不再赘述。

图14是本申请一个实施例提供的图形光栅化装置的框图。该装置至少包括处理器1401和存储器1402。

处理器1401可以包括一个或多个处理核心，比如：4核心处理器、8核心处理器等。处理器1401可以采用DSP(Digital Signal Processing，数字信号处理)、FPGA(Field－Programmable Gate Array，现场可编程门阵列)、PLA(Programmable Logic Array，可编程逻辑阵列)中的至少一种硬件形式来实现。处理器1401也可以包括主处理器和协处理器，主处理器是用于对在唤醒状态下的数据进行处理的处理器，也称CPU(Central ProcessingUnit，中央处理器)；协处理器是用于对在待机状态下的数据进行处理的低功耗处理器。

存储器1402可以包括一个或多个计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质可以是非暂态的。存储器1402还可包括高速随机存取存储器，以及非易失性存储器，比如一个或多个磁盘存储设备、闪存存储设备。在一些实施例中，存储器1402中的非暂态的计算机可读存储介质用于存储至少一个指令，该至少一个指令用于被处理器1401所执行以实现本申请中方法实施例提供的图形光栅化方法。

在一些实施例中，图形光栅化装置还可选包括有：外围设备接口和至少一个外围设备。处理器1401、存储器1402和外围设备接口之间可以通过总线或信号线相连。各个外围设备可以通过总线、信号线或电路板与外围设备接口相连。示意性地，外围设备包括但不限于：射频电路、触摸显示屏、音频电路、和电源等。

当然，图形光栅化装置还可以包括更少或更多的组件，本实施例对此不作限定。

可选地，本申请还提供有一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有程序，所述程序由处理器加载并执行以实现上述方法实施例的图形光栅化方法。

可选地，本申请还提供有一种计算机产品，该计算机产品包括计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有程序，所述程序由处理器加载并执行以实现上述方法实施例的图形光栅化方法。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种图形光栅化方法，其特征在于，所述方法包括：

获取待光栅化目标；

确定所述待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；

对所述目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；

对所述光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；

对于每个裁切区域，在所述裁切区域包括所述目标图形时读取所述目标图形对应的光栅化图形。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定所述待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形，包括：

遍历所述待光栅化目标中的各个图形，得到每个图形对应的特征信息；

统计具有相同特征信息的图形的个数；

在所述个数大于或等于预设个数时，确定具有所述相同特征信息的图形为所述目标图形。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述统计具有相同特征信息的图形的个数，包括：

对于所述待光栅化目标中的每个图形，在获取到所述图形对应的特征信息之后生成所述特征信息的特征标识，不同特征信息对应的特征标识的长度相同；

确定是否已存储有所述特征标识；

在未存储所述特征标识时，建立所述特征标识、签名计数、所述特征信息之间的关联关系，所述签名计数初始化值为1；

在已存储有所述特征标识时，在所述特征标识所属的关联关系中将签名计数的值加1；

其中，所述签名计数的值为具有相同特征信息的图形的个数。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述特征信息包括位置描述信息和形状描述信息和尺寸描述信息，所述生成所述特征信息的特征标识，包括：

基于签名算法对所述特征信息中的所述形状描述信息和所述尺寸描述信息进行计算，得到所述特征信息对应的特征标识。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

所述待光栅化目标中的各个图形包括封闭多边形，所述位置描述信息包括：目标节点的坐标位置；所述形状描述信息包括：图形标识、节点数量；所述尺寸描述信息包括：其它节点相对于所述目标节点的距离；和/或，

所述待光栅化目标中的各个图形包括圆形，所述位置描述信息包括：圆心坐标位置；所述形状描述信息包括：图形标识；所述尺寸描述信息包括圆形的半径；和/或，

所述待光栅化目标中的各个图形包括矩形，所述位置描述信息包括：目标顶点的坐标位置；所述形状描述信息包括：图形标识；所述尺寸描述信息包括矩形的宽度和矩形的高度。

6.根据权利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

对于每个裁切区域，在所述裁切区域未包括所述目标图形时对所述裁切区域中的图形进行光栅化。

7.一种图形光栅化装置，其特征在于，所述装置包括：

目标获取模块，用于获取待光栅化目标；

图形确定模块，用于确定所述待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；

光栅化模块，用于对所述目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；

目标裁切模块，用于对所述光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；

数据读取模块，用于对于每个裁切区域，在所述裁切区域包括所述目标图形时读取所述目标图形对应的光栅化图形。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述图形确定模块，用于：

遍历所述待光栅化目标中的各个图形，得到每个图形对应的特征信息；

统计具有相同特征信息的图形的个数；

在所述个数大于或等于预设个数时，确定具有所述相同特征信息的图形为所述目标图形。

9.一种图形光栅化装置，其特征在于，所述装置包括处理器和存储器；所述存储器中存储有程序，所述程序由所述处理器加载并执行以实现如权利要求1至6任一项所述的图形光栅化方法。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述存储介质中存储有程序，所述程序被处理器执行时用于实现如权利要求1至6任一项所述的图形光栅化方法。

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